JPS63121129A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS63121129A JPS63121129A JP26629086A JP26629086A JPS63121129A JP S63121129 A JPS63121129 A JP S63121129A JP 26629086 A JP26629086 A JP 26629086A JP 26629086 A JP26629086 A JP 26629086A JP S63121129 A JPS63121129 A JP S63121129A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は強磁性金属薄膜層を磁気記録層とする磁気記
録媒体の製造方法に関し、さらに詳しくは、耐久性およ
び耐食性に優れた前記の磁気記録媒体の製造方法に関す
る。
録媒体の製造方法に関し、さらに詳しくは、耐久性およ
び耐食性に優れた前記の磁気記録媒体の製造方法に関す
る。
強磁性金属薄膜層を磁気記録層とする磁気記録媒体は、
通常、金属もしくはそれらの合金などを真空蒸着、スパ
ッタリング等によって基体フィルム上に被着してつくら
れ、高密度記録に適した特性を有するが、反面磁気ヘッ
ドとの摩擦係数が大きくて摩耗や損傷を受は易く、また
空気中で徐々に酸化を受けて最大磁束密度などの磁気特
性が劣化するなどの難点がある。
通常、金属もしくはそれらの合金などを真空蒸着、スパ
ッタリング等によって基体フィルム上に被着してつくら
れ、高密度記録に適した特性を有するが、反面磁気ヘッ
ドとの摩擦係数が大きくて摩耗や損傷を受は易く、また
空気中で徐々に酸化を受けて最大磁束密度などの磁気特
性が劣化するなどの難点がある。
このため、従来から強磁性金属薄膜層上に種々の保護膜
層を設けるなどして耐久性および耐食性を改善すること
が行われており、たとえば、チタン酸エステルを強磁性
金属薄膜層上に被着した後、相対湿度が40%RH以下
の低湿度の条件下で乾燥して、酸化チタンからなる皮膜
を設けることが提案されている。(特開昭57−147
133号) 〔発明が解決しようとする問題点〕 ところが、この種の酸化チタンからなる皮膜は、溶剤を
乾燥させる際にガサガサになってしまって緻密な膜が得
られず、未だ耐久性および耐食性を充分に改善すること
ができない。
層を設けるなどして耐久性および耐食性を改善すること
が行われており、たとえば、チタン酸エステルを強磁性
金属薄膜層上に被着した後、相対湿度が40%RH以下
の低湿度の条件下で乾燥して、酸化チタンからなる皮膜
を設けることが提案されている。(特開昭57−147
133号) 〔発明が解決しようとする問題点〕 ところが、この種の酸化チタンからなる皮膜は、溶剤を
乾燥させる際にガサガサになってしまって緻密な膜が得
られず、未だ耐久性および耐食性を充分に改善すること
ができない。
この発明はかかる現状に鑑み種々検討を行った結果なさ
れたもので、強磁性金属薄膜層の表面にチタン酸エステ
ルを真空蒸着した後、大気中で加水分解することによっ
て、網目構造を有する高分子化された稠密で強靭な二酸
化チタンからなる保護膜層を設け、耐久性および耐食性
を充分に改善したものである。
れたもので、強磁性金属薄膜層の表面にチタン酸エステ
ルを真空蒸着した後、大気中で加水分解することによっ
て、網目構造を有する高分子化された稠密で強靭な二酸
化チタンからなる保護膜層を設け、耐久性および耐食性
を充分に改善したものである。
この発明において、強磁性金属薄膜層上に形成される二
酸化チタシからなる保護膜層は、チタン酸エステルを真
空蒸着した後、大気にさらし、加水分解して形成される
。チタン酸エステルとしては、一般式Ti (OR)
4 (但し、Rはアルキル基またはアリール基である
。)で表されるものが好適なものとして使用され、加水
分解速度、蒸気圧などの点から、特に前記一般式のRが
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル
基、イソプロピル基などの炭素数が7以下のアルキル基
からなるチタン酸エステルが好ましく使用される。
酸化チタシからなる保護膜層は、チタン酸エステルを真
空蒸着した後、大気にさらし、加水分解して形成される
。チタン酸エステルとしては、一般式Ti (OR)
4 (但し、Rはアルキル基またはアリール基である
。)で表されるものが好適なものとして使用され、加水
分解速度、蒸気圧などの点から、特に前記一般式のRが
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル
基、イソプロピル基などの炭素数が7以下のアルキル基
からなるチタン酸エステルが好ましく使用される。
この種のチタン酸エステルは、水または湿った空気にさ
らされると急速に加水分解を起こし、同時に縮合して巨
大分子に成長し、網目構造を有する二酸化チタンとなる
。しかして、強磁性金属薄膜層上に被着された前記のチ
タン酸エステルが、大気中で加水分解されると、チタン
酸エステルの加水分解が速やかに行われて、高分子化さ
れた網目構造を有する二酸化チタンからなる保護膜層が
形成され、このようにして形成された二酸化チタンから
なる保護膜層は、強磁性金属薄膜層との接着性が極めて
よく、さらに緻密で力水効果を有するため、強磁性金属
薄膜層上に強固に被着されて、耐久性および耐食性が充
分に向上される。
らされると急速に加水分解を起こし、同時に縮合して巨
大分子に成長し、網目構造を有する二酸化チタンとなる
。しかして、強磁性金属薄膜層上に被着された前記のチ
タン酸エステルが、大気中で加水分解されると、チタン
酸エステルの加水分解が速やかに行われて、高分子化さ
れた網目構造を有する二酸化チタンからなる保護膜層が
形成され、このようにして形成された二酸化チタンから
なる保護膜層は、強磁性金属薄膜層との接着性が極めて
よく、さらに緻密で力水効果を有するため、強磁性金属
薄膜層上に強固に被着されて、耐久性および耐食性が充
分に向上される。
このようにして、チタン酸エステルを真空蒸着によって
強磁性金属薄膜層上に被着した後、行われる加水分解は
、20〜60℃の温度で、相対湿度が20%RHより高
く80%RHより低い雰囲気下に、数十秒ないし数分間
さらして行うのが好ましく、相対湿度が20%RH以下
の低湿度条件下では、チタン酸エステルの加水分解速度
が遅く生産性が劣る。同様に温度が20℃以下では、チ
タン酸エステルの加水分解速度が遅く生産性が劣る。ま
た相対湿度を90%RH以上にすると、加水分解速度が
速すぎ、アルコール等の加水分解生成物が膜から充分に
脱離する前に架橋が進行して低密度の膜になる。温度を
60℃以上にした場合も同様に、加水分解速度が速すぎ
、アルコール等の加水分解生成物が膜から充分に脱離す
る前に架橋が進行して低密度の膜になる。
強磁性金属薄膜層上に被着した後、行われる加水分解は
、20〜60℃の温度で、相対湿度が20%RHより高
く80%RHより低い雰囲気下に、数十秒ないし数分間
さらして行うのが好ましく、相対湿度が20%RH以下
の低湿度条件下では、チタン酸エステルの加水分解速度
が遅く生産性が劣る。同様に温度が20℃以下では、チ
タン酸エステルの加水分解速度が遅く生産性が劣る。ま
た相対湿度を90%RH以上にすると、加水分解速度が
速すぎ、アルコール等の加水分解生成物が膜から充分に
脱離する前に架橋が進行して低密度の膜になる。温度を
60℃以上にした場合も同様に、加水分解速度が速すぎ
、アルコール等の加水分解生成物が膜から充分に脱離す
る前に架橋が進行して低密度の膜になる。
このようにして形成された二酸化チタンからなる保護膜
層の層厚は、50〜1000人の範囲内にするのが好ま
しく、薄すぎると耐久性および耐食性を充分に向上でき
ず、厚すぎるとスペーシングロスが大きくなって電磁変
換特性が劣化するおそれがある。
層の層厚は、50〜1000人の範囲内にするのが好ま
しく、薄すぎると耐久性および耐食性を充分に向上でき
ず、厚すぎるとスペーシングロスが大きくなって電磁変
換特性が劣化するおそれがある。
強磁性金属薄膜層の形成材料としては、Co。
F e SN i等の金属、Go−NiSCo−Cr。
Fe−Co、、Fe−Co−Cr5 Co−Pt5CO
−Ti等の合金、あるいはこれらの金属および合金の酸
化物、およびC0−PSCo−Ni−Pなどの強磁性材
が使用され、これらの強磁性材からなる強磁性金属薄膜
層は、真空蒸着、イオンブレーティング、スパッタリン
グ、メッキ等の手段によって基体上に被着形成される。
−Ti等の合金、あるいはこれらの金属および合金の酸
化物、およびC0−PSCo−Ni−Pなどの強磁性材
が使用され、これらの強磁性材からなる強磁性金属薄膜
層は、真空蒸着、イオンブレーティング、スパッタリン
グ、メッキ等の手段によって基体上に被着形成される。
また、磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルム、
ポリイミドフィルムなどのプラスチックフィルム等を基
体として用いた磁気テープ、プラスチックフィルム、ア
ルミニウム板およびガラス板などからなる円盤を基体と
して用いた磁気ディスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッド
と摺接する構造の種々の形態を包含する。
ポリイミドフィルムなどのプラスチックフィルム等を基
体として用いた磁気テープ、プラスチックフィルム、ア
ルミニウム板およびガラス板などからなる円盤を基体と
して用いた磁気ディスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッド
と摺接する構造の種々の形態を包含する。
次に、この発明の実施例について説明する。
実施例1
厚さ10μmのポリエステルフィルムを真空蒸着装置に
装填し、lXl0()−ルの真空下でコバルトを加熱蒸
発させ、400人/secの析出速度で斜め入射蒸着し
てポリエステルフィルム上に厚さ1000人のコバルト
からなる強磁性金属薄膜層を形成した。次いで、これを
真空蒸着装置に装填し、3X10−5)−ルの真空下で
、チタン酸イソプロピルを90℃の温度で加熱して蒸発
させ、強磁性金属薄膜層上にチタン酸イソプロピルを真
空蒸着した。しかる後、40℃、80%RHの雰囲気に
50秒間さらして、チタン酸イソプロピルを加水分解し
、強磁性金属薄膜層上に厚さ190人の二酸化チタンか
らなる保護膜層を形成した、。その後、所定の巾に裁断
して第1図に示すようなポリエステルフィルム1上に、
強磁性金属薄膜層2および二酸化チタンからなる保護膜
層3を、順次に積層形成した磁気テープAをつくった。
装填し、lXl0()−ルの真空下でコバルトを加熱蒸
発させ、400人/secの析出速度で斜め入射蒸着し
てポリエステルフィルム上に厚さ1000人のコバルト
からなる強磁性金属薄膜層を形成した。次いで、これを
真空蒸着装置に装填し、3X10−5)−ルの真空下で
、チタン酸イソプロピルを90℃の温度で加熱して蒸発
させ、強磁性金属薄膜層上にチタン酸イソプロピルを真
空蒸着した。しかる後、40℃、80%RHの雰囲気に
50秒間さらして、チタン酸イソプロピルを加水分解し
、強磁性金属薄膜層上に厚さ190人の二酸化チタンか
らなる保護膜層を形成した、。その後、所定の巾に裁断
して第1図に示すようなポリエステルフィルム1上に、
強磁性金属薄膜層2および二酸化チタンからなる保護膜
層3を、順次に積層形成した磁気テープAをつくった。
実施例2
実施例1における保護膜層の形成において、チタン酸イ
ソプロピルに代えて、チタン酸ブチルを同量使用した以
外は、実施例1と同様にして二酸化チタンからなる厚さ
が220人の保護膜層を形成し、磁気テープAをつくっ
た・ 実施例3 実施例1における保護膜層の形成において、チタン酸イ
ソプロピルに代えて、チタン酸ブチルを同量使用し、蒸
発温度を90℃から120℃に変更した以外は、実施例
1と同様にして二酸化チタンからなる厚さが280人の
保護膜層を形成し、磁気テープAをつくった。
ソプロピルに代えて、チタン酸ブチルを同量使用した以
外は、実施例1と同様にして二酸化チタンからなる厚さ
が220人の保護膜層を形成し、磁気テープAをつくっ
た・ 実施例3 実施例1における保護膜層の形成において、チタン酸イ
ソプロピルに代えて、チタン酸ブチルを同量使用し、蒸
発温度を90℃から120℃に変更した以外は、実施例
1と同様にして二酸化チタンからなる厚さが280人の
保護膜層を形成し、磁気テープAをつくった。
比較例1
実施例1と同様にしてポリエステルフィルム上に強磁性
金属薄膜層を形成した後、これを、チタン酸イソプロピ
ルをn−へキサンにIg/fの濃度で溶解した溶液中に
、ディップ法に基づいて浸漬した。しかる後、50℃、
60%RHの雰囲気に50秒間さらして、乾燥すると同
時にチタン酸イソプロピルを加水分解し、強磁性金属薄
膜層上に厚さ180人の二酸化チタンからなる保護膜層
を形成した。しかる後、所定の巾に裁断して磁気テープ
をつくった。
金属薄膜層を形成した後、これを、チタン酸イソプロピ
ルをn−へキサンにIg/fの濃度で溶解した溶液中に
、ディップ法に基づいて浸漬した。しかる後、50℃、
60%RHの雰囲気に50秒間さらして、乾燥すると同
時にチタン酸イソプロピルを加水分解し、強磁性金属薄
膜層上に厚さ180人の二酸化チタンからなる保護膜層
を形成した。しかる後、所定の巾に裁断して磁気テープ
をつくった。
比較例2
実施例1において、保護膜層の形成を省いた以外は、実
施例1と同様にして磁気テープをつくった。
施例1と同様にして磁気テープをつくった。
各実施例および比較例で得られた磁気テープについて、
耐久性および耐食性を試験した。耐久性試験は、スチル
試験を行い、強磁性金属薄膜層が剥離するまでのスチル
耐久時間を測定して行った。また耐食性試験は得られた
磁気テープを60℃、90%RHの条件下に一周間放置
して飽和磁化を測定し、放置前の磁気テープの飽和磁化
を100%とし、これと比較した値でその劣化率を調べ
て行った。
耐久性および耐食性を試験した。耐久性試験は、スチル
試験を行い、強磁性金属薄膜層が剥離するまでのスチル
耐久時間を測定して行った。また耐食性試験は得られた
磁気テープを60℃、90%RHの条件下に一周間放置
して飽和磁化を測定し、放置前の磁気テープの飽和磁化
を100%とし、これと比較した値でその劣化率を調べ
て行った。
下表はその結果である。
表
〔発明の効果〕
上表から明らかなように、実施例1ないし3で得られた
磁気テープは、比較例1および2で得られた磁気テープ
に比し、いずれもスチル耐久時間が長くて、飽和磁化の
劣化率が小さく、このことからこの発明によって得られ
る磁気°記録媒体は、耐久性および耐食性が一段と向上
されていることがわかる。
磁気テープは、比較例1および2で得られた磁気テープ
に比し、いずれもスチル耐久時間が長くて、飽和磁化の
劣化率が小さく、このことからこの発明によって得られ
る磁気°記録媒体は、耐久性および耐食性が一段と向上
されていることがわかる。
第1図はこの発明によって得られた磁気テープの部分拡
大断面図である。 1・・・ポリエステルフィルム(基体)、2・・・強磁
性金属薄膜層、3・・・保護膜層、A・・・磁気テープ
(磁気記録媒体)
大断面図である。 1・・・ポリエステルフィルム(基体)、2・・・強磁
性金属薄膜層、3・・・保護膜層、A・・・磁気テープ
(磁気記録媒体)
Claims (1)
- 1、基体上に金属もしくはそれらの合金からなる強磁性
金属薄膜層を形成し、この強磁性金属薄膜層上にチタン
酸エステルを真空蒸着した後、加水分解して、網目構造
を有する高分子化された二酸化チタンからなる保護膜層
を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26629086A JPS63121129A (ja) | 1986-11-07 | 1986-11-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26629086A JPS63121129A (ja) | 1986-11-07 | 1986-11-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63121129A true JPS63121129A (ja) | 1988-05-25 |
Family
ID=17428890
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26629086A Pending JPS63121129A (ja) | 1986-11-07 | 1986-11-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63121129A (ja) |
-
1986
- 1986-11-07 JP JP26629086A patent/JPS63121129A/ja active Pending
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