JPS63119490A - 第４ホスホニウム化合物の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は防腐剤、除草剤、植物成長制御剤、殺菌剤、帯
電防止剤、樹脂改質剤等として使用される第４ホスホニ
ウム化合物の製造方法に関するものである。さらに詳し
くは、第４ホスホニウム基を含有することを特徴とする
カチオン系化合物の製造方法に関するものである。即ち
、本発明は、 一般式、 ［Ｒｚ　　Ｐ−Ｒ４］ＯＡＱ・・・　（１）［但し、式
中Ｒｘ、Ｒ２，Ｒｚは炭素数１〜２２のアルキル基、炭
素数１〜２２のアルキル基を有するアルキルアリール基
、炭素数２〜２２のアルケニル基、アリール基、アラル
キル基、ヒドロキシプロピル基、シアノエチル基、シク
ロヘキシル基、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２０Ｒ５（式中Ｒ２
は−（ＢＯ）ｎＨ１但し式中Ｂは炭素数１〜４のフルキ
レン基、スチリル基、ｎは１〜５０の整数または非整数
）、Ｒ４は炭素数１〜２２のアルキル基、ベンジル基、
シアノエチル基、フェネチル基、アルリル基、Ｒ６０（
ＭＯ）ｍＭ−（式中Ｒ６は炭素数１〜２２のフルキル基
、アルケニル基、炭素数１〜２２のアルキル基を有する
アルキルアリール基、アリール基１Ｍは炭素数１〜４の
フルキレン基、フェネチル基、ｍは１〜１００の整数ま
たは非整数。

ＡｏｌｆＲ７Ｓ　ＯｚＯ（式中Ｒ７はＨＯＣＨ２ＣＨ２
−１ＣＨ２＝　ＣＨ−ＣＨ２−１ ＣＨ２＝ＣＨ−１ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−１炭素数１
〜２２のアルキル基、炭素数１〜２２のアルキル基を有
するアルキルベンゼン、２のフルコキシ基、 （ＯＨ）２ 式中Ｒ？は炭素数１〜１３のアルキル基）である］ で示されるオキシアルキル化第４ホスホニウム化合物を
製造するに際して。

一般式。

［Ｒ１−Ｐ−Ｒ４］ｅＹＯ・・・・　（２）［但し、式
中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は一般式（１）と同じ、Ｙは
Ｃ１，Ｂｒ、工、Ｆから選択される］で示される第４ホ
スホニウム化合物と。

一般式、 Ｒ７５０３Ｍ・・・・　（３） ［但し１式中Ｒ？はＨＯＣＨ２ＣＨ２−１ＣＨ２＝　Ｃ
Ｈ−ＣＨ２−１ＣＨ２＝　ＣＨ−１ＨＯＣＨ２ＣＨ２Ｃ
Ｈｚ　　。

、Ｒａ−（Ｒｅは炭素数１〜２２のアルキル基、炭素数
１〜２２のアルキル基を有するアルキルベンゼン、炭素
数１〜２２のフルコキシ基）（ＯＨ）２ 、もしくは ３のアルキル基）、Ｍはアルカリ金属原子もしくはアル
カリ土類金属原子である］ で示される化合物を、炭素数１〜６の直鎖または分岐ア
ルコール、メチルエチルケトン、ジメチルスルホオキサ
イド、ジメチルホルムアミド、ジオキサン、酢醜エチル
、およびシクロヘキサノールから選らばれた少なくとも
１種以上の溶媒中で、一般式（１）で示される第４ホス
ホニウム化合物の少量の存在下、もしくは不存在下で反
応を行なうことを特徴とする一般式（１）で示される第
４ホスホニウム化合物の製造方法を提供するものである
・ 木発明における反応条件としては、一般的に反応溶媒の
種類によっても異なるが、３０°Ｃ〜１００℃の温度で
３〜２４時間攪拌反応した後。

生成するアルカリ金属ハライドもしくはアルカリ土類ハ
ライドを除去した後、濾液を濃縮することにより一般式
（１）で示される化合物を得ることができる。

なお、木発明の反応の際、反応生成物の１０重量％以下
の量の一般式（１）の化合物を添加して反応を行なうこ
とも可能である。

本発明において、使用する一般式（２）で示される化合
物は、例えば、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムブロマ
イド、テトラエチルホスホニウムクロライド、トリーｎ
−ブチルアリルホスホニウムブロマイド、トリーｎ−ブ
チルベンジルホスホニウムクロライド、トリーｎ−ブチ
ルヘキサデシルホスホニウムブロマイド、テトラフェニ
ルホスホニウムブロマイド、トリーｎ−オクチルエチル
ホスホニウムアイオダイド、トリーフェニルブチルホス
ホニウムブロマイド、トリス−２−シアノエチル７リル
ホスホニウムクロライド、トリス−２−ヒドロキシプロ
ピルラウリルホスホニウムブロマイド、ジシクロへキシ
ル−２−ヒドロキシプロピルアリルホスホニウムクロラ
イド、トリフェネチルベンジルホスホニウムクロティド
、ラウリルブチルジ（ヒドロキシトリエトキシ）プロピ
ルホスホニウムクロライド、ステアリルプロピルヒドロ
キシプロビルヒドロキシエチルホスホニウムアイオダイ
ド、オクチルフェニルプロピルヒドロキシプロビルヒド
ロキシエチルホスホニウムブロマイド、プロビルジヒド
ロキシプロピルオレイルホスホニウムブロマイド等を挙
げることができる。　また、一般式（３）で示される化
合物としては、例えば、ヒドロキシェタンスルホン酸ナ
トリウム、フェノールスルホン酸ナトリウム、パラトル
エンスルホン酸カリウム、アリルスルホン酸カリウム、
ビニルスルホン酸カリウム、オクチルフェノールスルホ
ン酸カリウム、フェノールスルホン酸マグネシウム、レ
ゾルシンスルホン酸カルシウム、スチレンスルホン酸ナ
トリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸カリウム、ラウ
リル硫酸エステルカリウム塩、クレゾールスルホン酸カ
リウム等を挙げることができる。　本発明に使用する一
般式（２）の化合物と一般式（３）の化合物の量的な関
係は、−般式（２）の化合物１モルに対して、一般式（
３）の化合物１〜１．５モルが好ましい、また、一般式
（２）の化合物と一般式（３）の化合物の合計量に対し
て１０重量％以下の水分量を含有しても、何等さしつか
えない、　本発明に使用する溶媒は、一般式（２）の化
合物、あるいは一般式（３）の化合物の両方、もしくは
何れか一方を溶解するものであれば、使用することがで
きる。

溶媒としては、炭素数１〜６の直鎖、もしくは分岐アル
コール、酢酸エチル、ジオキサン、メチルエチルケトン
、シクロヘキサノール、ジメチルスルホオキシド、ジメ
チルホルムアルデヒド等が使用できるが、溶媒の使用量
は一般式（２）の化合物と一般式（３）の化合物の合計
量と等量ないし１０倍量が適当である。

前述の通り、反応時間は３〜２４時間で充分、反応が達
成され、反応終了後、反応系から溶媒に溶解している反
応生成物を濾別し、生成したアルカリ金属もしくはアル
カリ土類金属ハライドより分離し、溶媒を除去すること
により、目的とする化合物を得ることができる。

さらに精製を必要とする場合は、反応生成物を炭素数１
〜６の直鎖または分岐アルコールに溶解した後、濾別し
、濃縮するか、アセトンに溶解した後、濾別し、濃縮す
るか、冷却して結晶として析出させる方法により、目的
とする化合物を得ることができる。

また、本発明の方法において、反応系内に相当する一般
式（１）の化合物を一般式（２）および一般式（３）の
化合物の合計量の１０ｖｒｔ、％以下を添加するか、ま
たは一般式（２）の化合物において、クロライド、ブロ
マイドを使用する場合、一般式（２）の化合物のｌＯ＋
ｒｔ、％以下の沃化アルカリを添加してもよい、又反応
時着色防止のため少量の窒素ガスを通入してもよい。

次に本発明を実施例により具体的に説明する。

実施例１ テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムブロマイド３３．９ｇ
、パラトルエンスルホン酸カリウム２２ｇ、インブタノ
ール２００ｇを攪拌機、冷却コンデンサー付四ツロフラ
スコに入れ少量の窒素ガスを通人しつつ、４０〜５０℃
、６時間反応させた。そして生成した沈澱物を濾別後、
沈Ｓ物を３０ｍ１のインブタノールで洗浄後、濾液を減
圧濃縮する。その濃縮物を７七トン２００ｍ１に溶解し
て不溶解物を濾別し、アセトンを濃縮留去した。

濃縮物の収量４０ｇ［計算値４ｚ、９ｇｌテトラ−ｎ−
ブチルホスホニウムパラトルエンスルホン酸としての分
析値 Ｂｒ：０．０５％ Ｓ０３　（結合）：　　７．４０％ ［計算値　７．４５］ Ｃ：６４．１３％ ［計算値６４．２９］ Ｈ：１０．０５％ ［計算値１０．１１］ ０：１０．９８％ ［計算値１１．１８］ Ｐ：　　　７．１０％ ［計算値　７．２２１ 実施例２ トリーｎ−オクチルエチルホスホニウムブロマイド４７
．９ｇ、フェノールスルホン酸カリウム２０．８ｇ、イ
ンプロパツール２００　ｇ、沃化カリ３．５ｇを攪拌機
、冷却コンデンサー付、四ツロフラスコに入れ少量の窒
素ガスを通し、５０℃、４時間反応する。生成する沈澱
物を濾別技、沈澱物を３０ｍ１のインプロパツールで洗
浄後、濾液を減圧濃縮し、インプロパツールを留去する
。

濃縮物を再度インプロパツールに溶解し、不溶解物を濾
別し、インプロパツール溶液からインプロパツールを減
圧留去する。

濃縮物の収量５２ｇ［計算値５５．７ｇ］トリオクチル
エチルホスホこラムフェノールスルホン酸としての分析
値 Ｂｒ：０．０１％ ＳＯｓ　　　　　　：１４．０％ ［計算値１４．３］ Ｃ：６８．１％ ［計算値６８．９］ Ｈ：１０．５％ ［計算値１０　、９］ ０：　　ａ、ｏ％ ［計算値　８．６］ Ｐ：　　５．３％ ［計算値　５．６］ 実施例３ トリフェニルブチルホスホニウムクロライド３５．４．
イセチオン酸ナトリウム１４．８ｇ、インプロパツール
１００ｇ、沃化ナトリウム３ｇを撹拌機、冷却コンデン
サー付四ツロフラスコに入れ６０℃にて８時間反応した
。１夜間放置後、沈澱物を濾別し、インプロパツール２
００ｇにより沈澱物を洗浄して、インプロパツール溶液
を′ｆＲ縮する。′１ｊａ縮物をインプロパツール１０
０ｇにて、加熱溶解し、冷却後、不溶解物を濾別して、
濾液を濃縮した。

濃縮物の収量４１ｇ ［計算値４ｔ、４ｇ］ トリフェニルブチルホスホニウムイセチオン酸としての
分析値 Ｃ１：０．１％ ＳＯコ　（結合）：１７．５％ ［計算値１８．０］ Ｃ：６４．３％ ［計算値６４．８］ Ｈ：　　６．１％ ［計算値　６．３］ ０：１０．５％ ［計算値１０　、８］ Ｐ：　　７．０％ ［計算値　６．９］ 実施例４ ５％含水クり−ゾールスルホン醜カリウム２２゜１ｇ、
トリスヒドロキシプロピルオレイルホスホニウムクロラ
イド４８．０ｇ、イソブタノール２００ｇを攪拌機、冷
却コンデンサー付四ツロフラスコに入れ少量の窒素ガス
を通入しつつ、４０〜５０℃、６時間反応させた。そし
て、生成した沈殿物をは別技、沈殿物を３０ｍ１のイン
ブタノールで洗浄後、濾液を減圧濃縮する。その濃縮物
をアセトン２００ｍ１に溶解して不溶解物を濾別し、ア
セトンを９Ｍ縮留去した。

濃縮物の収量６０．５ｇ ［計算値ｓｔ、７ｇ１ 分析値 Ｃ１：０．２％ Ｓ０３　（結合）：１２．２％ ［計算値１３　、　Ｏｌ Ｃ：６２．９％ ［計算値６４．２］ Ｈ：９．７％ ［計算値　９．９］ ０：１４．８％ ［計算値１５　、６］ Ｐ：　　５．２％ ［計算値　５．０］ 実施例５ トリーｎ−ブチルヘキサデシルホスホニウムブロマイド
５０．８ｇ、イセチオン酸ナトリウム１４．８ｇ、メチ
ルエチルケトン２９０ｇ、トリーｎ−ブチルヘキサデシ
ルホスホニウムイセチオン酸５．５ｇを攪拌機、冷却コ
ンデンサー付四ツロフラスコに入れ８０℃にて４時間反
応させた。１夜間放置後、沈澱物を濾別し、メチルエチ
ルケトン２０ｇにより沈澱物を洗浄し、メチルエチルケ
トン溶液を減圧濃縮した。

濃縮物の収量５２．０ｇ ［計算値ｓｓ、３ｇ］ トリーｎ−ブチルヘキサデシルホスホニウムイセチオン
酸としての分析値 Ｂｒ：０．１％ ＳＯ２（結合）：１４．１％ ［計算値１４．５］ Ｃ二６４．７％ ［計算値６５．１］ Ｈ：１１．５％ ［計算値１１　、８］ ０：１１．３％ ［計算値１１　、６］ Ｐ：　　５．５％ ［計算値　５．６〕

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式、 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（１） ［但し、式中Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３は炭素数１〜２２
   のアルキル基、炭素数１〜２２のアルキル基を有するア
   ルキルアリール基、炭素数２〜２２のアルケニル基、ア
   リール基、アラルキル基、ヒドロキシプロピル基、シア
   ノエチル基、シクロヘキシル基、−ＣＨ＿２ＣＨ＿２Ｃ
   Ｈ＿２ＯＲ＿５（式中Ｒ＿５は−（ＢＯ）ｎＨ、但し式
   中Ｂは炭素数１〜４のアルキレン基、スチリル基、ｎは
   １〜５０の整数または非整数）、Ｒ＿４は炭素数１〜２
   ２のアルキル基、ベンジル基、シアノエチル基、フェネ
   チル基、アルリル基、Ｒ＿６Ｏ（ＭＯ）ｍＭ−（式中Ｒ
   ＿６は炭素数１〜２２のアルキル基、アルケニル基、炭
   素数１〜２２のアルキル基を有するアルキルアリール基
   、アリール基、Ｍは炭素数１〜４のアルキレン基、フェ
   ネチル基、ｍは１〜１００の整数または非整数、Ａ＾■
   はＲ＿７ＳＯ＿３＾■（式中Ｒ＿７はＨＯＣＨ＿２ＣＨ
   ＿２−、ＣＨ＿２＝ＣＨ−ＣＨ＿２−、ＣＨ＿２＝ＣＨ
   −、ＨＯＣＨ＿２ＣＨ＿２ＣＨ＿２−、▲数式、化学式
   、表等があります▼、Ｒ＿９−（式中Ｒ＿６は炭素数１
   〜２２のアルキル基、炭素数１〜２２のアルキル基を有
   するアルキルベンゼン、▲数式、化学式、表等がありま
   す▼、▲数式、化学式、表等があります▼、炭素数１〜
   ２２のアルコキシ基、 ▲数式、化学式、表等があります▼、もしくは▲数式、
   化学式、表等があります▼（式中Ｒ＿７は炭素数１〜１
   ３のアルキル基）である］ で示されるオキシアルキル化第４ホスホニウム化合物を
   製造するに際して、 一般式、 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・（２） ［但し、式中Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４は一般式
   （１）と同じ、ＹはＣｌ、Ｂｒ、Ｉ、Ｆから選択される
   ］で示される第４ホスホニウム化合物と、 一般式、 Ｒ＿７ＳＯ＿３Ｍ・・・・（３） ［但し、式中Ｒ＿７はＨＯＣＨ＿２ＣＨ＿２−、ＣＨ＿
   ２＝ＣＨ−ＣＨ＿２−、ＣＨ＿２＝ＣＨ−、ＨＯＣＨ＿
   ２ＣＨ＿２ＣＨ＿２−、▲数式、化学式、表等がありま
   す▼、Ｒ＿８−（Ｒ＿８は炭素数１〜２２のアルキル基
   、炭素数１〜２２のアルキル基を有するアルキルベンゼ
   ン、炭素数１〜２２のアルコキシ基）▲数式、化学式、
   表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
   、▲数式、化学式、表等があります▼、もしくは ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｒ＿９は炭素数１
   〜１３のアルキル基）、Ｍはアルカリ金属原子もしくは
   アルカリ土類金属原子である］ で示される化合物を、炭素数１〜６の直鎖または分岐ア
   ルコール、メチルエチルケトン、ジメチルスルホオキサ
   イド、ジメチルホルムアミド、ジオキサン、酢酸エチル
   、およびシクロヘキサノールから選らばれた少なくとも
   １種以上の溶媒中で、一般式（１）で示される第４ホス
   ホニウム化合物の少量の存在下、もしくは不存在下で反
   応を行なうことを特徴とする一般式（１）で示される第
   ４ホスホニウム化合物の製造方法。