JPS6311673A - Ｃｖｄ装置におけるレ−ザ平行度調整装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ 本発明は、ＣＶＤ　（化学気相成長）装置におけるレー
ザ平行度調整装置に関するものである。

［従来の技術］ 反応容器内で原料ガスにレーザビームを照射し、光化学
反応により試料基板に成膜するレーザＣＶＤ装置におい
て、レーザビームをシート状の平行ビームに整形し、試
料基板に対し水平に照射することにより一括に均一な成
膜を行う方法は、既に知られている。

しかしながら、この方法では、シート状に整形したレー
ザビームと、試料基板面との平行度の確認が、レーザビ
ームを可視化する蛍光板の目視等により行われるため、
光学系の調整によりレーザビームと試料基板面との平行
度を正確に合わせることは困難で、成膜が不均一になる
という問題があった。

［発明が解決しようとする問題点］ 木発明の目的は、成膜のために用いるレーザビームを利
用し、そのレーザビームと試料基板面との平行度確認を
、簡易且つ容易に行うようにした装置を提供することに
ある。

［問題点を解決するための手段］ 上記目的を達成するため、本発明のレーザ平行度調整装
置は１反応容器内で原料ガスにレーザビームを照射し、
光化学反応により試料基板に成膜するレーザＣＶＤ装置
において２反応容器内の試料基板の前後にそれぞれ上記
レーザビームを通過させる程度に細い左右一対のスリッ
トを設置すると共に、試料基板の前後のスリットを通過
したレーザビームの出力を測定するパワーメータを設け
、且つ反応容器内に照射するレーザビームの上下位置及
び角度を上記スリットに対して相対的に調整するための
手段を設けている。

［作　用］ レーザビームを前後のスリット内に通過させた場合のレ
ーザ出力がパワーメータにおいて最大値を採るように、
レーザビームの位置及び角度を調整し、さらにこの調整
を左右２組のスリットを使用して行うことにより、レー
ザビームが試料基板に対して平行であることを確認する
ことができる。

［実施例］ 第１図及び第２図は１本発明に係るレーザ平行度調整装
置を備えたレーザＣＶＤ装置の実施例を示すもので、こ
のレーザＣＶＤ装置においては。

レーザ発振器１から出たレーザビーム２を反応容器３内
で原料ガスに照射し、光化学反応により試料基板に成膜
するように構成している。

即ち、上記レーザ発振器ｌから出たレーザビーム２は、
ミラー４で反射させた後、レンズ５．８により平行ビー
ムに整形し、ビーム透過窓７を通して反応容器３内の原
料ガスに照射される。また、反応容器３のビーム透過窓
８を通して導出したレーザビームは、パワーメータ９に
よって検出される。

上記反応容器３は、真空装置に連通ずる排気口１１及び
原料ガスを導入するガス入口１２を備え、またその反応
容器３内には、移動ステージ１３上において、ヒータ１
４により加熱される試料基板１５をサセプタ１６上に取
付は可能に構成している。上記移動ステージ１３は、第
２図かられかるように、ステージ台１７上において、ス
テージ用モータ１８により矢印方向に駆動されるもので
ある。

前記レーザビーム２は、反応容器３内において試料基板
１５に対して平行に投射するものであり、このレーザビ
ームを試料基板１５とどのような位置的関係において投
射しているかを確認するため、反応容器３内における試
料基板１５の前後において、サセプタ１６上にそれぞれ
上記レーザビームを通過させる程度に細いスリブ）　２
１．２２を設置し。

しかも、第２図かられかるように、これらのスリット２
１．２２の２組を試料基板１５の左右に配置している。

なお、上記スリブ）　２１．２２は、必ずしもサセプタ
１１３上に設置する必要はなく、例えば移動ステージ１
３等の上に配置することもできる。

萌述のレンズ５．６により平行ビームに整形したレーザ
ビームが、試料基板１５の前後に配置した一対の細いス
リット２１．２２を通過するように、レーザビームとス
リブ）２１．２２の位置的関係を調整するため、前記ミ
ラー４は上下調整機構２３上に、またｉｉｊ記レンズ５
．８は上下及び角度調整用のゴニオステージ２４上に配
置し、それらによってスリット２１．２２に対するレー
ザビームの上下位置及び角度を調整可能に構成している
。しかしながら、例えば上下調整機構２３及びゴニオス
テージ２４側でレーザビームの角度を調整し、スリブ）
　２１．２２を備えたサセプタ１８を載置している移動
ステージ１３等の位置を上下に調整するなど、ｒ４者に
レーザビームの上下位置及び角度を相対的に調整するた
めの適宜手段を設けることができる。

王だ、上記レーザビームは、試料基板１５の左右に位置
する２組の各スリットに対して透過させる必要があるた
め、レンズ５，８により平行ビームニ整形したし・−ザ
ビームを左右のスリットの位置に対して相対的に移動さ
せるための手段を設けることが必要である。具体的には
、ステージ用モータ１８により移動ステージ１３の位置
を移動させるとか、適宜レンズ系によってレーザビーム
の位置を移動させるなどの手段が採用される。

一方、前記パワーメータ９は、試料基板１５の前後のス
リッ）　２１．２２を通過したレーザビームの出力を測
定し、その出力により試料基板１５上におけるレーザビ
ームの投射状態を確認するものである。二の場合に、試
料基板１５の左右に設けた２組のスリットを通過したレ
ーザビームの出力を個別的に測定する必要があり、従っ
て、パワーメータ９はサセプタ１８に対して相対的に左
右に移動可能にするか、左右のそれぞれのスリットを通
過したレーザビームの出力を選択的に切替測定可能にす
る必要がある。

なお、上記レンズ５，８により平行ビームに整形したレ
ーザビームは、それを他のレンズ系によって試料基板１
５に平行なシート状の平行ビームに整形子ることもでき
る。

上記構成を有するレーザ平行度ｙＲ整装置は、第１図に
おいて　移動ステージ１３を紙面に垂直に移動させるこ
とにより、レーザビームがスリットの無い位置を通過す
るようにして、その場合のレーザ出力をパワーメータ９
で予め測定しておき。

レーザビームを向後のスリット２１．２２内に通過させ
た場合のレーザ出力が、予め測定したレーザ出力に近い
最大値を採るように、上下ｊ！！整機構２３によるミラ
ー４の位置と、ゴニオステージ２４によるレンズ５．８
の位置及び角度を調整し、それによってレーザ平行度の
調整を行うものである。

この調整を、移動ステージ１３の移動等により、左右２
組のスリッ）　２１．２２を使用して行うと、レーザビ
ームが試料基板に対して２次元的に平行であることを確
認することができる。

なお、上述したレーザビームが不可視光の場合、Ｈｅ−
Ｍｅの赤色レーザビーム等を重畳したものとし、パワー
メータ９による上記計測と目視を併用することもできる
。

［発明の効果］ 以上に詳述したように、本発明のレーザ平行度調整装置
によれば、レーザビームと試料基板面の平行度検知を、
友応容器内で原料ガスに照射するレーザビームを利用し
、簡単な装置により、精度良く、且つ容易に行うことが
できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係るレーザ平行度調整装置を備えたレ
ーザＣＶＤ装置の構成図、第２ｒｌ！Ｊはその要部の斜
視図である。 ２・・レーザビーム、３・拳反応容器、９　・・パワー
メータ、１５φ・試料基板。 ２１．２２　・・スリット、２３・・上下調整機構、２
４１ゴニオステージ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、反応容器内で原料ガスにレーザビームを照射し、光
   化学反応により試料基板に成膜するレーザＣＶＤ装置に
   おいて、反応容器内の試料基板の前後にそれぞれ上記レ
   ーザビームを通過させる程度に細い左右一対のスリット
   を設置すると共に、試料基板の前後のスリットを通過し
   たレーザビームの出力を測定するパワーメータを設け、
   且つ反応容器内に照射するレーザビームの上下位置及び
   角度を上記スリットに対して相対的に調整するための手
   段を設けたことを特徴とするＣＶＤ装置におけるレーザ
   平行度調整装置。