JPS63110212A - 封止用樹脂組成物 - Google Patents

封止用樹脂組成物

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Publication number
JPS63110212A
JPS63110212A JP25386386A JP25386386A JPS63110212A JP S63110212 A JPS63110212 A JP S63110212A JP 25386386 A JP25386386 A JP 25386386A JP 25386386 A JP25386386 A JP 25386386A JP S63110212 A JPS63110212 A JP S63110212A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin composition
resin
silica powder
coupling agent
moisture resistance
Prior art date
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Pending
Application number
JP25386386A
Other languages
English (en)
Inventor
Masayuki Kochiyama
河内山 誠幸
Shinji Murakami
信二 村上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Chemical Corp
Original Assignee
Toshiba Chemical Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Chemical Corp filed Critical Toshiba Chemical Corp
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Publication of JPS63110212A publication Critical patent/JPS63110212A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野〉 本発明は、耐湿性、半田耐熱性に優れた、半導体集積回
路などの封止用樹脂組成物に関する。
(従来の技術) 近年、半導体集積回路の分野において、高集積化、高信
頼性化の技術開発と同時に配線板への半導体装置組立工
程の自動化が推進されている。
例えばフラットパッケージ型の半導体装置を回路基板に
取り付ける場合、従来はリードビン毎に半田付けを行っ
ていたが、最近は半導体装置全体を250℃以上に加熱
した半田浴に浸漬して半田付けを行う方法が採用されて
いる。
(発明が解決しようとする問題点) しかし、従来のエポキシ樹脂、ノボラック型フェノール
樹脂およびシリカ粉末からなる樹脂組成物で封止した半
導体装置は、装置全体の半田浸漬を行うと耐湿性が低下
するという欠点があった。
特に吸湿した半導体装置を半田浸漬すると封止用樹脂と
半導体チップおよびリードフレームとの間に剥がれが生
じ、著しい耐湿性劣化を生じ、電極の腐食による断線や
水分によるリーク電流を生じ、長時間の信頼性を保証す
ることができないという欠点がある。 このため、吸湿
の影響が少なく、半導体装置全体の半田浴浸漬をしても
耐湿性劣化の少ない封止用樹脂の開発が強く要望されて
いた。
本発明はこの欠点を解消し、要望に応えるためになされ
たもので、吸湿の影響が少なく、特に半田浸漬後の耐湿
性および半田耐熱性に優れた封止用樹脂組成物を提供す
ることを目的としている。
[発明の構成] く問題点を解決するための手段と作用)本発明者らは、
上記の目的を達成しようと鋭意研究を重ねた結果、特定
のカップリング剤を配合し、かつ特定借のシリカ粉末を
配合すれば耐湿性および半田耐熱性が向上することを見
いだし、本発明を完成したものである。 即ち、本発明
は、(A)エポキシ樹脂 (B)ノボラック型フェノール樹脂 (C)一般式(I)で示されるカップリング剤および (但し、Rはメチル基又はエチル基を表す)(D)シリ
カ粉末 を必須成分とし、前記(D)のシリカ粉末を樹脂組成物
に対して65〜85垂發%含有することを特徴とする封
止用樹脂組成物である。
本発明に使用する<A)エポキシ樹脂は、その分子中に
エポキシ基を少なくとも2個有する化合物である限り、
分子構造、分子量などに特に制限はなく、一般に使用さ
れているものを広く包含することができる。 例えばビ
スフェノール型の芳香族系、シクロヘキサン誘導体等の
脂環族系、さらに次の一般式で示されるエポキシノボラ
ック系等の樹脂が挙げられる。
(式中、R1は水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基
を、R2は水素原子又はアルキル基を、nは1以上の整
数をそれぞれ表す)。 これらのエポキシ樹脂は単独又
は2種以上混合して用いることができる。
本発明に用いる([3)ノボラック型フェノール樹脂と
しては、フェノール、アルキルフェノール等のフェノー
ル類と、ホルムアルデヒドあるいはパラホルムアルデヒ
ドとを反応させて得られるノボラック型フェノール樹脂
、およびこれらの変性樹脂、例えばエポキシ化もしくは
ブチル化ノボラック型フェノール樹脂、シリコーン変性
フェノール樹脂等が挙げられ、ノボラック型フェノール
樹脂である限り特に制限はなく広く使用することができ
る。 そしてこれらのノボラック型フェノール樹脂は、
単独もしくは2種以上混合して用いることができる。
本発明に用いる(C)カップリング剤は次式で示される
もので、一般に市販されているものを使用する。
(但し、Rはメチル基又はエチル基を表す)市販されて
いるものとして例えば日本ユニカー社製商品名A−11
60等が挙げられる。
本発明において上記のカップリング剤を用いると封止用
樹脂と半導体チップとの密着性や、封止樹脂とリードフ
レームとの密着性が向上し、半田浴に浸漬しても耐湿性
の劣化が少なくなるという効果がある。
本発明に用いる(D)シリカ粉末としては、−般に市販
されているものが使用されるが、それらの中でも不純物
含量が低く、平均粒径の30μm以下のものが好ましい
。 平均粒径が30μmを超えると耐湿性および成形性
に好ましくない。 シリカ粉末の配合割合は、樹脂組成
物に対して68〜85重世%含有することが好ましい。
 その割合が68重量%未満では、樹脂組成物の吸湿量
が多くなり、半田浸漬後の耐湿性に劣り好ましくない。
 また、85重量%を超えると極端に流動性が悪くなっ
て成形性に劣り好ましくない。 従って上記範囲内に限
定される。
以上の(A)〜(D)を必須成分とする封止用樹脂組成
物を使用すれば半田耐熱性、すなわち、半田浸a後の耐
湿性を改善することができる。
本発明における樹脂組成物は、(A)エポキシ樹脂、(
B)ノボラック型フェノール樹脂、(C)カップリング
剤、(D)シリカ粉末を必須成分とするが、必要に応じ
て、例えば天然ワックス類、合成ワックス類、直鎖脂肪
酸の金属塩、酸アミド、エステル類、パラフィンなどの
離型剤、三酸化アンチモンなどの難燃剤、カーボンブラ
ックなどの着色剤、種々の硬化促進剤等を適宜添加・配
合することができる。
本発明の封止用樹脂組成物を成形材料として調製する場
合の一般的方法は、エポキシ樹脂、ノボラック型フェノ
ール樹脂、カップリング剤、シリカ粉末、その他を配合
し、ミキサー等によって十分均一に混合した後、史に熱
ロールによる溶融混合処理又はニーダ等による混合処理
を行い、次いで冷却固化させ適当な大きさに粉砕して成
形材料とすることができる。 そして、この成形材料を
電子部品あるいは電気部品の封止、被覆、絶縁などに適
用し、優れた特性と信頼性を付与することができる。
(実施例) 以下本発明の実施例を比較例とともに説明するが、本発
明は以下の実施例に限定されるものではない。
実施例 第1表に示した組成によってエポキシ樹脂、ノボラック
型フェノール樹脂、カップリング剤、シリカ粉末および
硬化促進剤、離型剤等を常温で混合し、更に90〜95
℃で混練し冷却した後、粉砕して成形材料を得た。 得
られた成形材料を170℃に加熱した金型内にトランス
ファー注入し、硬化させ、封止した成形品を作った。 
この成形品について吸水率、ガラス転移温度および耐湿
性を試験したので第1表に示した。 本発明の顕著な効
果が認められた。
比較例1および2 実施例のカップリング剤をγ−グリシドキシプロビルト
リメトキシシランに変えた第1表組成により、実施例と
同様な方法で比較例1および2の成形材料および封止し
た成形品を作った。 また実施例と同様にして諸試験を
行い、その結果を第1表に示した。
実施例および比較例について行った吸水率、ガラス転移
温度、半田浸漬後の耐湿性は次のようにして試験した。
 吸水率は、トランスファー成形によって直径50mm
、厚さ3Il1mの成形品を作成し、これを127℃、
2.5気圧の飽和水蒸気中に24時間放置し、増加した
型組によって求めた。 ガラス転移温度は、吸水率試験
と同じ成形品を作成し、これを175℃で8時間の後硬
化を行い、適当な大きさのテストピースとし、熱橢械分
析装置を用いて測定した。 また耐湿性は、封止用樹脂
組成物を用いて、2本以上のアルミニウム配線を有する
シリコン製チップ(テスト用素子)を通常の4270イ
フレームに接着し、175℃で2分間トランスファー成
形して5X IOX 1,5mlのフラットパッケージ
型成形品を得て、その後175℃で8時間の後硬化を行
った。 その成形品20個について予め40℃、90%
RH1100時間の吸湿処理をした後、250℃の半田
浴に10秒間浸漬した。 その後に、127℃、2.5
気圧の飽和水蒸気中でプレッシャー・クツカー・テスト
(Pc1)を行い、アルミニウムの腐食による断線を起
した不良数として評価した。
第1表 *1 :γ−ウレイドプロピルトリメトキシシラン*2
 :γ−グリシドロキシプロビルトリメトキシシラン[
発明の効果] 本発明の封止用樹脂組成物は、密着性が良く、かつ吸湿
の影響が少なく、半田浴に浸油した後でも耐湿性に優れ
、電極の腐食による断線や水分によるリーク電流の発生
などを著しく低減することができ、しかも長時間にわた
って信頼性を保証することができる。 また250℃以
上の半田浴1fiにもかかわらず優れた耐熱性を示した

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 (A)エポキシ樹脂 (B)ノボラック型フェノール樹脂 (C)一般式( I )で示されるカップリン グ剤および ▲数式、化学式、表等があります▼・・・( I ) (但し、Rはメチル基又はエチル基を表す) (D)シリカ粉末を必須成分とし、前記(D)のシリカ
    粉末を樹脂組成物に対して65〜85重量%含有するこ
    とを特徴とする封止用樹脂組成物。
JP25386386A 1986-10-27 1986-10-27 封止用樹脂組成物 Pending JPS63110212A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0384707A2 (en) * 1989-02-20 1990-08-29 Toray Industries, Inc. Semiconductor device encapsulating epoxy resin composition
JPH04211967A (ja) * 1990-09-11 1992-08-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薄膜回路素子

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59197421A (ja) * 1983-04-26 1984-11-09 Shin Etsu Chem Co Ltd 硬化性エポキシ樹脂組成物
JPS61136548A (ja) * 1984-12-06 1986-06-24 Hitachi Chem Co Ltd 半導体封止用熱硬化性樹脂組成物
JPS61264044A (ja) * 1985-05-17 1986-11-21 Hitachi Chem Co Ltd エポキシ樹脂組成物

Patent Citations (3)

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