JPS63108509A - 磁気ヘツドの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、薄膜形成技術を用いた磁気ヘッドの製造法に
関する。

従来の技術 従来、一対の磁気コア半対を合わせて磁気ギャップを形
成する磁気ヘッドにおいて、例えばＶＴＲ用ヘッド等は
、一対の直方体ブロックの片方のギャップ形成面にコイ
ル巻線用の溝を形成し、又高精度の狭ギャップを形成す
るために、一対の直方体ブロックの少なくとも一方のギ
ャップ形成面にスパッタリング等の真空薄膜形成技術を
用いて非磁性薄膜を形成し、この一対の直方体ブロック
を突き合わせ、更にガラス等にて融着接合して一体化し
たコアに巻線を施し磁気ヘッドを作製している０ 発明が解決しようとする問題点 上記作製法の様に、ギャップ形成用の非磁性薄膜層を形
成した後、一対の磁気コア半休を突き合わせ、更に補強
するためにガラス等にて融着するため熱処理するとギャ
ップ長の精度が悪くなる。

又、巻線工程作業工程も多く複雑なこともあり磁気ヘッ
ド作製の歩留まりが低くなっている。

問題点を解決するだめの手段 磁性基板表面に非磁性膜を形成した表面もしくは非磁性
基板表面上に、薄膜状の磁気回路を磁気コア材料のスパ
ッタやメッキ等の薄膜作成法により形成し、磁気回路の
一部に磁気ギャップを形成するとともに、積層工程によ
り巻線を形成する。

作用 磁気ヘッドの製造法に於いて、巻き線を積層工程により
作成すると、巻線の断線や巻線の巻く回数の間違い等が
発生せず、巻線作成工程に起因する製造歩留まシの低下
を著しく改善することができる。又、積層工程と薄膜作
成法を採用することにより、低コストで量産性の良いビ
ルドアップ方式の製造法を確立することが出来る。

実施例 第１図〜第６図に本発明の磁気ヘッドの製造法の一例を
示す。まず第１図のように、Ｍｎ−Ｚｎフェライト単結
晶から２０×３０Ｘ１．５ｍｍの大きさの基板を切シ出
し、その２０Ｘ３０Ｍの表面を鏡面研摩し、鏡面研摩面
にスパッタ法にて０．１μｍの厚さの５ｉｎ２薄膜（図
示省略）を形成する。第１図の基板１はこのようにして
準備した基板である。尚、非磁性の基板を用いた場合は
、ＳｉＯ，、の薄膜を基板表面上に形成しなくてもよい
。この基板表面に電気導体のアルミニウムをスパッタも
しくはメッキ等の薄膜作成法とフォトリングラフ等の技
術により巻線用の導体２を作成する。次に、第２図に示
した様に、基板１０表面に前述と同様な絶縁薄膜３を形
成する。磁気コア材４をＦａ　−３ｉ−Ａ１合金（セン
ダスト）やＧｏ−Ｚｒ−Ｎｂ系のアモルファス合金を用
いて、第３図に示される様な形状で、前述の基板１上に
１０／ｊｍの厚さの薄膜として形成する。ここで同図の
絶縁薄膜３は、金属磁気コア材で覆われていない部分が
示されている。更に、磁気ギャップ形成用の非磁性薄膜
、例えば前述のＳｉＯ２とかＡｌ２Ｏ３等の薄膜を第４
図に６で示される様に、磁気回路を遮断する様に、磁気
回路上に形成する。非磁性薄膜５の厚さは磁気ギャップ
の長さに相当する。例えば、０．３μｍの磁気ギャップ
が必要ならば薄膜の厚さは０．３μｍとなる。次に第６
図に６で示される様に、前述と同様の金属磁性材料を非
磁性薄膜６の表面を覆う様に薄膜作成法により形成し、
磁気ギャップを持つ磁気回路をする。その膜厚は９．７
μｍとする。更に第６図に示すように、導体７を前述と
同様に第１図に示される導体２と一体化し巻線を完成さ
せ、巻線の最終端子部分を形成する。

第７図に本発明に於ける磁気ヘッドのテープしゅう動面
の方向から見た拡大図を示す。本発明では磁気コア材４
の膜厚がトラック幅に相当し、且つ、磁気コア材を遮断
する非磁性薄膜６の厚みが磁気ギャップ長に相当する。

更に、第１図に於いて作成された磁気ヘッドの磁気コア
材表面及び、非磁性薄膜６の表面を保護するため、第８
図に示す様に、それぞれの表面に熱処理温度が２００’
Ｃ以下の接着剤８を塗布し、その上から保護基板９を接
着し、磁気ヘッドを完成した。

参考のため、従来の製造方法で磁気ヘッドを同様に作成
し、製造コストや歩留まシ等を本発明の製造法によるも
のと比較した。本発明では従来の磁気ヘッドの製造法の
様に、一対の磁気コア半対を突き合わせて磁気ギャップ
を形成するのではないため、磁気ギャップずれが生じた
り、又、磁気ギャップ長さがバラついたりして歩留まり
が低下する事が著しく改善され、９０〜９６％の良品歩
留まりを達成した。

尚、本発明では、上記製造法に於いて、２ないしそれ以
上の工法を同時に用いてもなんら問題が無いことは言う
までもない。

発明の効果 以上述べた様に、本発明では、巻線工程を積層工程に置
き換え、また、磁気コア材の膜厚がトラック幅に相当し
、且つ、磁気コア材を遮断する非磁性層の厚みが磁気ギ
ャップ長に相当する。そのため、従来の磁気ヘッドの製
造法によって作成される物に比べ、製造工程が薄膜作成
法と積層法及びリソグラフィー等の工法により終始一貫
して製造されるため精密な磁気ヘッドが高い歩留まりで
製造出来る。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第６図における（２Ｌ）　、　（ｂ）および（
Ｃ）は各々、本発明による磁気ヘッド製造法の一実施例
を示す平面図、正面図および側面図、第７図および第８
図は同実施例の要部断面図である。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名（ｂ
）　　ロ：；；；；；；＝コ ｔｂ）；；；；； （ｂ） 一ミーョ＋ 臼；；ごテ→ 第７図 １基４叉 １基板

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）磁性基板表面に非磁性膜を形成した表面もしくは
   非磁性基板表面上に、薄膜状の磁気回路を磁気コア材料
   のスパッタやメッキ等の薄膜作成法により形成し、磁気
   回路の一部に磁気ギャップを設けるとともに、積層工程
   により巻線を形成することを特徴とする磁気ヘッドの製
   造法。
2. （２）磁気ギャップ長さに相当する厚さを有する非磁性
   膜を、薄膜作成法により磁気回路の一部を遮断するよう
   に形成し、磁気ギャップとすることを特徴とする特許請
   求の範囲第１項記載の磁気ヘッドの製造法。
3. （３）薄膜状の磁気回路もしくはその上に形成した保護
   膜の表面に熱処理温度が２００℃以下の接着剤を塗布し
   た後に、磁気ヘッド保護用の基板を接着することを特徴
   とする特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドの製造法
   。