JPS63106916A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPS63106916A JPS63106916A JP61290883A JP29088386A JPS63106916A JP S63106916 A JPS63106916 A JP S63106916A JP 61290883 A JP61290883 A JP 61290883A JP 29088386 A JP29088386 A JP 29088386A JP S63106916 A JPS63106916 A JP S63106916A
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- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、磁気テープ、磁気ディスク等の磁気記録媒体
に関するものである。
に関するものである。
（従来の技術）
磁気記録において、現在、用いられている長手記録方式
を越えると高密度記録として、垂直磁気記録方式が、提
案され、精力的に研究開発が進められている。
を越えると高密度記録として、垂直磁気記録方式が、提
案され、精力的に研究開発が進められている。
この垂直磁気記録を実現するには、記録媒体として、磁
性膜面に対して垂直方向の磁化容易軸を有する媒体が必
要である。現在、そのような磁気特性を持つ磁性膜とし
ては、スパッタ法あるいは真空蒸着法で作成したＣｏ−
Ｃｒ、Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｖ、Ｃｏ−Ｍｏ、Ｃｏ−Ｗ、
Ｃｏ−Ｍｎ、Ｃｏ−Ｒｕ等が知られている印本応用磁気
学会誌、Ｖｏｌ、８．Ｎｏ−１，１９８４，１７ｐ）。
性膜面に対して垂直方向の磁化容易軸を有する媒体が必
要である。現在、そのような磁気特性を持つ磁性膜とし
ては、スパッタ法あるいは真空蒸着法で作成したＣｏ−
Ｃｒ、Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｖ、Ｃｏ−Ｍｏ、Ｃｏ−Ｗ、
Ｃｏ−Ｍｎ、Ｃｏ−Ｒｕ等が知られている印本応用磁気
学会誌、Ｖｏｌ、８．Ｎｏ−１，１９８４，１７ｐ）。
（発明が解決しようとする問題点）
このような垂直磁気媒体は、いずれも、Ｃｏを主成分と
している。しかし、Ｃｏはコストならびに安定供給上に
問題があった。
している。しかし、Ｃｏはコストならびに安定供給上に
問題があった。
（問題点を解決するための手段）
基板上に、ＦｅとＴｉとの合金から成る磁性膜又は、主
成分としてＦｅとＴｉ並びに他の元素を含む合金から成
る磁性膜で構成される垂直磁気記録媒体ならびに、基板
上に軟磁性膜とＦｅと、Ｔｉとの合金から成る垂直磁性
膜又は、軟磁性膜と主成分としてＦｅとＴｉ並びに他の
元素を含む合金から成る垂直磁性膜で構成される垂直磁
気記録二層媒体を特徴とする。
成分としてＦｅとＴｉ並びに他の元素を含む合金から成
る磁性膜で構成される垂直磁気記録媒体ならびに、基板
上に軟磁性膜とＦｅと、Ｔｉとの合金から成る垂直磁性
膜又は、軟磁性膜と主成分としてＦｅとＴｉ並びに他の
元素を含む合金から成る垂直磁性膜で構成される垂直磁
気記録二層媒体を特徴とする。
（作用）
資源が豊富で安価であるＦｅを主成分とし、耐食性に強
く、安価なＴｉを適度に含んだＦｅとＴｉとの合金から
成る磁性膜又は、前記Ｆｅ Ｔｉに更に他の元素を含ん
だ合金から成る磁性膜で、垂直磁気記録媒体、ならびに
、垂直磁気記録二層媒体を作製することにより、量産性
に優れ、安価であり、かつ良好な磁気特性を有する垂直
磁気記録媒体が提供される。
く、安価なＴｉを適度に含んだＦｅとＴｉとの合金から
成る磁性膜又は、前記Ｆｅ Ｔｉに更に他の元素を含ん
だ合金から成る磁性膜で、垂直磁気記録媒体、ならびに
、垂直磁気記録二層媒体を作製することにより、量産性
に優れ、安価であり、かつ良好な磁気特性を有する垂直
磁気記録媒体が提供される。
（実施例１）
基板上に、ＦｅとＴｉとの合金から成る磁性膜で構成さ
れる垂直磁気記録媒体について実施例を第１図〜第６図
を参照して説明する。本実施例において、Ｆｅ Ｔｉ合
金から成る磁性膜は、ＲＦマグネトロンスパッタ法によ
り、次に示す様に作製した。スパッタターゲットとして
４インチファイの純度９９．９％の純Ｆｅを用いた。そ
こで、Ｆｅ Ｔｉ合金を作製するために、純度９９．９
％の８ｍｍ角のＴｉチップを前記純Ｆｅターゲット上に
、リング形状に所定の個数を置いた。
れる垂直磁気記録媒体について実施例を第１図〜第６図
を参照して説明する。本実施例において、Ｆｅ Ｔｉ合
金から成る磁性膜は、ＲＦマグネトロンスパッタ法によ
り、次に示す様に作製した。スパッタターゲットとして
４インチファイの純度９９．９％の純Ｆｅを用いた。そ
こで、Ｆｅ Ｔｉ合金を作製するために、純度９９．９
％の８ｍｍ角のＴｉチップを前記純Ｆｅターゲット上に
、リング形状に所定の個数を置いた。
Ｆｅ Ｔｉ合金から成る磁性膜を作製するスパッタ条件
は、到達真空度（以下記号Ｐｉで示す）７．０Ｘ１０−
７）−ル以下において、投入電力（以下、記号Ｐｗで示
す）３００Ｗ、アルゴン圧力（以下記号ＰＡｒで示す）
５Ｘ１０−３ ）−ル基板温度（以下、記号ｔｓで示す
）室温（実際には、基板ホルダーを水冷している）で、
１０ｍｍ角の２００ｐｍ厚のガラス基板上に、膜厚０．
８ｐｍとなる様に、スパッタ時間を決めて（ここでは１
０分）作製した。次に、作製した、Ｆｅ Ｔｉ合金から
成る磁性膜の評価手段として、磁気特性については、試
料振動型磁力計（以下ＶＳＭと略す）、ＦｅとＴｉの組
成分析については、Ｘ線マイクロアナライザー（以下Ｘ
ＭＡと略す）、結晶構造については、Ｘ線回折（２θ−
θ連動）を用いた。
は、到達真空度（以下記号Ｐｉで示す）７．０Ｘ１０−
７）−ル以下において、投入電力（以下、記号Ｐｗで示
す）３００Ｗ、アルゴン圧力（以下記号ＰＡｒで示す）
５Ｘ１０−３ ）−ル基板温度（以下、記号ｔｓで示す
）室温（実際には、基板ホルダーを水冷している）で、
１０ｍｍ角の２００ｐｍ厚のガラス基板上に、膜厚０．
８ｐｍとなる様に、スパッタ時間を決めて（ここでは１
０分）作製した。次に、作製した、Ｆｅ Ｔｉ合金から
成る磁性膜の評価手段として、磁気特性については、試
料振動型磁力計（以下ＶＳＭと略す）、ＦｅとＴｉの組
成分析については、Ｘ線マイクロアナライザー（以下Ｘ
ＭＡと略す）、結晶構造については、Ｘ線回折（２θ−
θ連動）を用いた。
第２図は、上記純Ｆｅターゲット上に、Ｔｉチップの置
く個数を変えた時、作製されるＦｅ Ｔｉ合金から成る
磁性膜をＸＭＡにより組成分析を行なった結果を示した
図である。第２図には、Ｆｅ及びＴｉの原子存在比（記
号ａｔ％で表す）が、示しである。
く個数を変えた時、作製されるＦｅ Ｔｉ合金から成る
磁性膜をＸＭＡにより組成分析を行なった結果を示した
図である。第２図には、Ｆｅ及びＴｉの原子存在比（記
号ａｔ％で表す）が、示しである。
第３図は、上記により、作製された、種々の組成をもつ
Ｆｅ Ｔｉ合金から成る磁性膜について、ＶＳＭ測定に
より求められる飽和磁化Ｍｓの変化を示した図である。
Ｆｅ Ｔｉ合金から成る磁性膜について、ＶＳＭ測定に
より求められる飽和磁化Ｍｓの変化を示した図である。
第４図は、垂直異方性磁界ＨｋとＴｉ混合比（ａｔ％）
との関係を示したものであり、Ｔｉが（５ａｔ％〜２１
ａｔ％のときＨｋは１ｋＯｅ以上の大きな値を示す。
との関係を示したものであり、Ｔｉが（５ａｔ％〜２１
ａｔ％のときＨｋは１ｋＯｅ以上の大きな値を示す。
第５図は、上記Ｆｅ Ｔｉ合金から成る垂直磁性膜をＸ
線回折（２θ−θ連動）により、αＦｅ（１１０）面の
解説ピーク強度の変化を示した図である。Ｘ線回折で、
２θを１０から１２０度の範囲でスキャンした。主にα
Ｆｅ（１１０）面と（２１１）面の回折ピークが得られ
たが、（１１０）面の強度を１００とした時の（２１１
）面の強度は、１０程度であったので、回折ピークは、
（１１０）面で代表させた。第５図で、Ｔｉの組成比が
増加すれば、αＦｅ（１１０）面の回折ピーク強度Ｉ（
１１０）は、下がっている。ここで、第４図で示された
垂直磁性膜として望ましい、Ｔｉの組成比の範囲（１５
ａｔ％〜２１ａｔ％）での、Ｉ（１１０）の強度は、小
さく、（ここでは、約５００ｃｐｓ以下）、また半値幅
を求めるとブロードであり、結晶構造は、非晶質である
ことがわかった。（第６図参照）第１図は、Ｆｅ Ｔｉ
合金が、垂直磁性膜として最適なスパッタ条件（Ｐｗ＝
３００Ｗ、ＰＡｒ＝５ｍ ）−ル、ｔｓ＝室温）及び最
適なＴｉの個数で作成した一例について、ＶＳＭ測定に
よるＢ−Ｈ曲線（面内及び垂直方向磁場印加）を示した
ものである。これから、飽和磁化Ｍｓ２６０ｅｍｕ／ｃ
ｃ、垂直異方性磁界Ｈｋ２．７ｋＯｅ、垂直保磁力Ｈｃ
２７１００ｅ、面内保磁力Ｈｅｎ １６００ｅという、
垂直磁性膜として、良好な磁気特性が得られた。
線回折（２θ−θ連動）により、αＦｅ（１１０）面の
解説ピーク強度の変化を示した図である。Ｘ線回折で、
２θを１０から１２０度の範囲でスキャンした。主にα
Ｆｅ（１１０）面と（２１１）面の回折ピークが得られ
たが、（１１０）面の強度を１００とした時の（２１１
）面の強度は、１０程度であったので、回折ピークは、
（１１０）面で代表させた。第５図で、Ｔｉの組成比が
増加すれば、αＦｅ（１１０）面の回折ピーク強度Ｉ（
１１０）は、下がっている。ここで、第４図で示された
垂直磁性膜として望ましい、Ｔｉの組成比の範囲（１５
ａｔ％〜２１ａｔ％）での、Ｉ（１１０）の強度は、小
さく、（ここでは、約５００ｃｐｓ以下）、また半値幅
を求めるとブロードであり、結晶構造は、非晶質である
ことがわかった。（第６図参照）第１図は、Ｆｅ Ｔｉ
合金が、垂直磁性膜として最適なスパッタ条件（Ｐｗ＝
３００Ｗ、ＰＡｒ＝５ｍ ）−ル、ｔｓ＝室温）及び最
適なＴｉの個数で作成した一例について、ＶＳＭ測定に
よるＢ−Ｈ曲線（面内及び垂直方向磁場印加）を示した
ものである。これから、飽和磁化Ｍｓ２６０ｅｍｕ／ｃ
ｃ、垂直異方性磁界Ｈｋ２．７ｋＯｅ、垂直保磁力Ｈｃ
２７１００ｅ、面内保磁力Ｈｅｎ １６００ｅという、
垂直磁性膜として、良好な磁気特性が得られた。
なお、該磁性膜について、ＸＭＡにより組成を分析した
ところ、Ｆｅ８３ａｔ％に対しＴｉ１７ａｔ％であった
。さらに、該磁性膜について、Ｘ線回折（２θ−θ連動
）により結晶構造を調べたところ、（第６図参照）、非
晶質であることがわかった。（第６図には比較のため、
純Ｆｅの回折パターンも示しである。） 前述したようにＦｅ Ｔｉ合金から成る磁性膜は、垂直
磁性膜として、良好な磁気特性を示した。そして、該Ｆ
ｅ Ｔｉ合金から成る磁性膜を垂直磁気記録媒体として
用いることにより、（ここでは、基板として有機フィル
ムを用いた。）を産性に優れ、安価でありかつ優れた記
録再生特性が得られるという効果が得られた。
ところ、Ｆｅ８３ａｔ％に対しＴｉ１７ａｔ％であった
。さらに、該磁性膜について、Ｘ線回折（２θ−θ連動
）により結晶構造を調べたところ、（第６図参照）、非
晶質であることがわかった。（第６図には比較のため、
純Ｆｅの回折パターンも示しである。） 前述したようにＦｅ Ｔｉ合金から成る磁性膜は、垂直
磁性膜として、良好な磁気特性を示した。そして、該Ｆ
ｅ Ｔｉ合金から成る磁性膜を垂直磁気記録媒体として
用いることにより、（ここでは、基板として有機フィル
ムを用いた。）を産性に優れ、安価でありかつ優れた記
録再生特性が得られるという効果が得られた。
なお、本実施例において、Ｆｅ Ｔｉ合金から成る磁性
膜の作製に際して、ＲＦマグネトロンスパッタ法のみを
示したが、Ｕスパッタ法、ＤＣスパッタ法イオンビーム
スパッタ法更には、他の成膜法（例えば、電子ビーム蒸
着法、抵抗加熱蒸着法、ＭＢＥ法ＣＶＤ法メッキ法等）
など、従来周知のいずれの薄膜形成技術も使用可能であ
る。また、本実施例において、ターゲットとして純Ｆｅ
上に、Ｔｉチップを置く複合ターゲットを用いたが、Ｆ
ｅ Ｔｉ合金のターゲットでも使用可能である。
膜の作製に際して、ＲＦマグネトロンスパッタ法のみを
示したが、Ｕスパッタ法、ＤＣスパッタ法イオンビーム
スパッタ法更には、他の成膜法（例えば、電子ビーム蒸
着法、抵抗加熱蒸着法、ＭＢＥ法ＣＶＤ法メッキ法等）
など、従来周知のいずれの薄膜形成技術も使用可能であ
る。また、本実施例において、ターゲットとして純Ｆｅ
上に、Ｔｉチップを置く複合ターゲットを用いたが、Ｆ
ｅ Ｔｉ合金のターゲットでも使用可能である。
（実施例２）
基板上に、軟磁性とＦｅとＴｉとの合金から成る垂直磁
性膜で構成される垂直磁気記録二層媒体について実施例
を述べる。まず、基板は、実施例１と同様に有機フィル
ムを用いた。そして、ＲＦマグネトロンスパッタ法によ
り、軟磁性膜としてＮｉ Ｆｅ合金から成る磁性膜を０
．５ｐｍ成膜する。次に、垂直磁性膜として、同ＲＦマ
グネトロンスパッタ法により、ＦｅＢ５Ｔｉ１７合金（
Ｆｅ８３ａｔ％、Ｔｉ１７ａｔ％の組成比のＦｅ Ｔｉ
合金）から成る磁性膜を０．３ｐｍ成膜した。このよう
にして、作製した垂直磁気記録二層媒体は、現在、活発
に研究開発が行われている、ＮｉＦｅ合金とＣｏＣｒ合
金から成る垂直磁気記録二層媒体と、同程度の磁気特性
が得られた。なお、本実施例において、ＦｅＴｅ合金か
ら成る垂直磁性膜は、上記組成で作製したが、実施例１
で述べた、他の最適な組成でもよい。また、ＮｉＦｅ合
金及びＦｅＴｉ合金から成る磁性膜について成膜法も本
実施例では、ＲＦマグネトロンスパッタ法を用いたが、
実施例１で述べた、他の成膜法でもよい。また、ＮｉＦ
ｅ合金及びＦｅＴｉ合金のターゲットも、複合ターゲッ
ト、合金ターゲットいずれでもよい。さらに、軟磁性膜
として、本実施例では、ＮｉＦｅ合金から成る磁性膜を
用いたが、他の磁性膜を用いたが、他の磁性膜（例えば
、センダスト、Ｍｏを含んだＮｉＦｅ合金など）でもよ
い。
性膜で構成される垂直磁気記録二層媒体について実施例
を述べる。まず、基板は、実施例１と同様に有機フィル
ムを用いた。そして、ＲＦマグネトロンスパッタ法によ
り、軟磁性膜としてＮｉ Ｆｅ合金から成る磁性膜を０
．５ｐｍ成膜する。次に、垂直磁性膜として、同ＲＦマ
グネトロンスパッタ法により、ＦｅＢ５Ｔｉ１７合金（
Ｆｅ８３ａｔ％、Ｔｉ１７ａｔ％の組成比のＦｅ Ｔｉ
合金）から成る磁性膜を０．３ｐｍ成膜した。このよう
にして、作製した垂直磁気記録二層媒体は、現在、活発
に研究開発が行われている、ＮｉＦｅ合金とＣｏＣｒ合
金から成る垂直磁気記録二層媒体と、同程度の磁気特性
が得られた。なお、本実施例において、ＦｅＴｅ合金か
ら成る垂直磁性膜は、上記組成で作製したが、実施例１
で述べた、他の最適な組成でもよい。また、ＮｉＦｅ合
金及びＦｅＴｉ合金から成る磁性膜について成膜法も本
実施例では、ＲＦマグネトロンスパッタ法を用いたが、
実施例１で述べた、他の成膜法でもよい。また、ＮｉＦ
ｅ合金及びＦｅＴｉ合金のターゲットも、複合ターゲッ
ト、合金ターゲットいずれでもよい。さらに、軟磁性膜
として、本実施例では、ＮｉＦｅ合金から成る磁性膜を
用いたが、他の磁性膜を用いたが、他の磁性膜（例えば
、センダスト、Ｍｏを含んだＮｉＦｅ合金など）でもよ
い。
（実施例３）
基板上に、主成分として、ＦｅとＴｉ並びに他の元素を
含む合金から成る磁性膜で構成される垂直磁気記録媒体
についての実施例について述べる。ここで、基板は、実
施例１及び２と同様に有機フィルムを用いた。以下、主
成分として、ＦｅとＴｉ並びに他の元素を含む合金から
成る磁性膜についての作製法を述べる。まず、他の元素
としてＯｒ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｗ。
含む合金から成る磁性膜で構成される垂直磁気記録媒体
についての実施例について述べる。ここで、基板は、実
施例１及び２と同様に有機フィルムを用いた。以下、主
成分として、ＦｅとＴｉ並びに他の元素を含む合金から
成る磁性膜についての作製法を述べる。まず、他の元素
としてＯｒ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｗ。
Ｎａ、Ｈｆ、Ｍｏ、Ｖ、Ｃｕ、Ｎｄ、Ｍｎ、Ｂｉ、Ｓｉ
、ＡＩについて述べる。作製法は他も同様であるので、
以下には、Ｏｒを用いた実施例についてのみ述べる。ま
たこれらの元素を２以上含むものでもよい。
、ＡＩについて述べる。作製法は他も同様であるので、
以下には、Ｏｒを用いた実施例についてのみ述べる。ま
たこれらの元素を２以上含むものでもよい。
基板上に主成分としてＦｅとＴｉ並びにＣｒを含む合金
から成る磁性膜で構成される垂直磁気記録媒体について
の実施例を第１図〜第４図を参照して説明する。本実施
例において、ＦｅＴ１Ｃｒ合金がら成る磁性膜はＲＦマ
グネトロンスパッタ法により以下に示すように作製した
。スパッタターゲットは４インチファイの純度９９．９
％の純Ｆｅを用いた。その上に純度９９．９％の８ｍｍ
角のＴｉチップをリング形状に６個置いた。さらに、純
度９９．９％の５ｍｍ角のＣｒチップをリング形状に所
望の組成となるように適度な個数室いた。そして、到達
真空度（以下記号ｐｉで示す）が７．０Ｘ１０−７）−
ル以下に排気した後、投入電力（以下記号Ｐｗで示す）
３００ｗ、アルゴン圧力（以下記号ＰＡｒで示す）５Ｘ
１０−３）−ル、基板温度（以下記号ｔｓで示す）室温
（尚実際には基板ホルダーを水冷）というスパッタ条件
で１０ｍｍ角の２００ｐｍ厚程度のガラス基板上に膜厚
的０．８ｐｍ成膜した。次に作製したＦｅＴ１Ｃｒ合金
がら成る磁性膜の評価方法を以下に示す。磁気特性は試
料振動型磁力計（以下ＶＳＭと略す）、ＦｅとＴｉ並び
Ｃｒの組成分析はＸ線マイクロアナライザー（以下ＸＭ
Ａと略す）、膜の構造はＸ線回折（２θ−θ連動）でそ
れぞれ評価した。
から成る磁性膜で構成される垂直磁気記録媒体について
の実施例を第１図〜第４図を参照して説明する。本実施
例において、ＦｅＴ１Ｃｒ合金がら成る磁性膜はＲＦマ
グネトロンスパッタ法により以下に示すように作製した
。スパッタターゲットは４インチファイの純度９９．９
％の純Ｆｅを用いた。その上に純度９９．９％の８ｍｍ
角のＴｉチップをリング形状に６個置いた。さらに、純
度９９．９％の５ｍｍ角のＣｒチップをリング形状に所
望の組成となるように適度な個数室いた。そして、到達
真空度（以下記号ｐｉで示す）が７．０Ｘ１０−７）−
ル以下に排気した後、投入電力（以下記号Ｐｗで示す）
３００ｗ、アルゴン圧力（以下記号ＰＡｒで示す）５Ｘ
１０−３）−ル、基板温度（以下記号ｔｓで示す）室温
（尚実際には基板ホルダーを水冷）というスパッタ条件
で１０ｍｍ角の２００ｐｍ厚程度のガラス基板上に膜厚
的０．８ｐｍ成膜した。次に作製したＦｅＴ１Ｃｒ合金
がら成る磁性膜の評価方法を以下に示す。磁気特性は試
料振動型磁力計（以下ＶＳＭと略す）、ＦｅとＴｉ並び
Ｃｒの組成分析はＸ線マイクロアナライザー（以下ＸＭ
Ａと略す）、膜の構造はＸ線回折（２θ−θ連動）でそ
れぞれ評価した。
第８図は作製したＦｅＴ１Ｃｒ合金から成る磁性膜につ
いてＴｉ組成１２ａｔ％（厚子存在比）と一定で、種々
のＣｒ組成とＶＳＭ測定により求められる飽和磁化Ｍｓ
との関係を示した図である。
いてＴｉ組成１２ａｔ％（厚子存在比）と一定で、種々
のＣｒ組成とＶＳＭ測定により求められる飽和磁化Ｍｓ
との関係を示した図である。
第９図は上記と同様な°磁性膜について、種々のＣｒ組
成とＶＳＭ測定により求められる垂直異方性磁界Ｈｋと
の関係を示した図である。Ｃｒ組成が５〜１５ａｔ％の
範囲でＨｋが１ｋＯｅ以上の良好な垂直異方性が得られ
た。
成とＶＳＭ測定により求められる垂直異方性磁界Ｈｋと
の関係を示した図である。Ｃｒ組成が５〜１５ａｔ％の
範囲でＨｋが１ｋＯｅ以上の良好な垂直異方性が得られ
た。
第１０図は上記と同様な磁性膜についてＸ線回折により
膜の構造を調べたものである。この図で、Ｘ線回折強度
工（相対値）と２０との関係を示した。第３図で限定さ
れたＣｒ組成５〜１５ａｔ％の範囲では膜の構造はｂｅ
ｅ構造のαＦｅと非晶質との混相であることが推定され
る。
膜の構造を調べたものである。この図で、Ｘ線回折強度
工（相対値）と２０との関係を示した。第３図で限定さ
れたＣｒ組成５〜１５ａｔ％の範囲では膜の構造はｂｅ
ｅ構造のαＦｅと非晶質との混相であることが推定され
る。
第７図に、ＦｅＴ１Ｃｒ合金から成る磁性膜が垂直磁性
膜として最適なＴｉ及びＣｒ組成でかつ最適なスパッタ
条件（Ｐｗ ＝３００Ｗ、ＰＡｒ＝５Ｘ１０−３）−ル
、ｔｓ＝室温）で作製した一例の磁化曲線を示した。こ
れから飽和磁化Ｍｓ３４０ｅｍｕ／ｃｃ、垂直異方性磁
界Ｈｋ３．Ｏｋｏｅ。
膜として最適なＴｉ及びＣｒ組成でかつ最適なスパッタ
条件（Ｐｗ ＝３００Ｗ、ＰＡｒ＝５Ｘ１０−３）−ル
、ｔｓ＝室温）で作製した一例の磁化曲線を示した。こ
れから飽和磁化Ｍｓ３４０ｅｍｕ／ｃｃ、垂直異方性磁
界Ｈｋ３．Ｏｋｏｅ。
垂直保磁力ＨｃＬ８３００ｅ、面内保磁力ＨＣｔ１２４
００ｅである垂直磁性膜として良好な磁気特性が得られ
た。
００ｅである垂直磁性膜として良好な磁気特性が得られ
た。
この磁性膜についてＸＭＡにより組成分析を行なったと
ころ、Ｔｉ１２ａｔ％、Ｃｒ９ａｔ％であった。また、
Ｘ線回折により膜の構造を調べたところ、ｂｅｅ構造の
αＦｅと非晶質と混相であることが推定された。
ころ、Ｔｉ１２ａｔ％、Ｃｒ９ａｔ％であった。また、
Ｘ線回折により膜の構造を調べたところ、ｂｅｅ構造の
αＦｅと非晶質と混相であることが推定された。
以上述べてきたように、本発明のＦｅＴ１Ｃｒ合金から
成る磁性膜は垂直磁性膜として良好な磁気特性を示した
。そしてこのＦｅＴ１Ｃｒ合金から成る磁性膜で基板と
して有機フィルムを用いて垂直磁気記録媒体を作製した
ところ、安価で量産性に優れかつ優れた記録再生特性が
得られた。
成る磁性膜は垂直磁性膜として良好な磁気特性を示した
。そしてこのＦｅＴ１Ｃｒ合金から成る磁性膜で基板と
して有機フィルムを用いて垂直磁気記録媒体を作製した
ところ、安価で量産性に優れかつ優れた記録再生特性が
得られた。
本実施例においてＦｅＴ１Ｃｒ合金から成る磁性膜の作
製はＵマグネトロン法を用いたが他のスパッタ法（たと
えばＲＦスパッタ法、ＤＣスパッタ法、イオンビームス
パッタ法など）でもよい。またターゲットは純Ｆｅター
ゲット上にＴｉ及びＣｒチップを置く複合ターゲットを
用いたがＦｅＴ１Ｃｒ合金から成る合金ターゲットでも
よい。なおここではＴｉ組成を１２ａｔ％に固定したが
１％から２０ａｔ％の範囲のいづれの組成でもよい。さ
らに、別の成膜法（たとえば電子ビーム蒸着法、抵抗加
熱蒸着法、ＭＢＥ法、ＣＶＤ法、メッキ法など）も使用
可能である。
製はＵマグネトロン法を用いたが他のスパッタ法（たと
えばＲＦスパッタ法、ＤＣスパッタ法、イオンビームス
パッタ法など）でもよい。またターゲットは純Ｆｅター
ゲット上にＴｉ及びＣｒチップを置く複合ターゲットを
用いたがＦｅＴ１Ｃｒ合金から成る合金ターゲットでも
よい。なおここではＴｉ組成を１２ａｔ％に固定したが
１％から２０ａｔ％の範囲のいづれの組成でもよい。さ
らに、別の成膜法（たとえば電子ビーム蒸着法、抵抗加
熱蒸着法、ＭＢＥ法、ＣＶＤ法、メッキ法など）も使用
可能である。
以上の効果は、Ｃｒのほか、他の元素Ｔａ、Ｚｒ、Ｗ、
Ｎｂ。
Ｎｂ。
Ｈｆ、Ｍｏ、Ｖ、Ｃｕ、Ｎｄ、Ｍｎ、Ｂｉ、Ｓｉ、ＡＩ
でも同様な結果が得られた。また、ＦｅＴ１Ｃｒ合金（
ここでＣｒは他の元素の１例である以下も同じ）の成膜
法は、本実施例では、ＲＦマグネトロンスパッタ法を用
いたが、実施例１で述べたような他の成膜法でもよい。
でも同様な結果が得られた。また、ＦｅＴ１Ｃｒ合金（
ここでＣｒは他の元素の１例である以下も同じ）の成膜
法は、本実施例では、ＲＦマグネトロンスパッタ法を用
いたが、実施例１で述べたような他の成膜法でもよい。
さらに、ＦｅＴ１Ｃｒ合金のターゲットも、複合ターゲ
ット、合金ターゲットのいづれでもよい。
ット、合金ターゲットのいづれでもよい。
次に、他の元素として、Ｏ，Ｎ、Ｈ，Ｃについて述べる
。ここでも、上記と同様な理由から、以下には、０を用
いた実施例についてのみ述べる。成膜法についても上記
と同様でＲＦマグネトロンスパッタ法を用いたが、０を
含むようスパッタ時の導入ガスは、Ａｒ ＋ ０２（容
量比１０：１）である。１例として、ＦｅＢ３Ｔｔ１７
合金となるような、純Ｆｅターゲット上にＴｉを所定の
置いた複合ターゲットで（詳しくは、実施例１参照）、
前記、導入ガス（Ａｒ＋Ｏ□）を用いて成膜した。そし
て、ＶＳＭにより、作製した酸素を含んだＦｅＴｉ合金
から成る磁性膜を評価したところＨｋが３ｋＯｅ以上の
値が得られ、ＦｅＴｉ合金よりも更に、垂直磁性膜とし
て良好な磁気特性が得られた。以上の効果は、０のほか
、Ｎ、Ｈ，Ｃでも同様な結果が得られた。なお、本実施
例において、Ｔｉの組成は１７ａｔ％であったが、実施
例１で述べた他の最適と思われる組成でもよい。また、
導入ガスの容量比は、ここではＡｒ１０２＝１０／１を
用いたが、他の容量比でもよい。更に、成膜法で、本実
施例では、ＲＦマグネトロンスパッタ法を用いたが、実
施例１で述べたような他の成膜法でもよい。ＦｅＴｉ合
金のターゲットも、複合ターゲット、合金ターゲットで
もよい。また、さらに本実施例において、導入ガスに、
Ｏ，Ｎ、Ｈ，Ｃを含ませたが、ターゲット自身に、たと
えば、酸化鉄（Ｆｅ２０３ｅｔｃ）、窒化鉄Ｆｅ３Ｎな
どで含ませて成膜してもよい。
。ここでも、上記と同様な理由から、以下には、０を用
いた実施例についてのみ述べる。成膜法についても上記
と同様でＲＦマグネトロンスパッタ法を用いたが、０を
含むようスパッタ時の導入ガスは、Ａｒ ＋ ０２（容
量比１０：１）である。１例として、ＦｅＢ３Ｔｔ１７
合金となるような、純Ｆｅターゲット上にＴｉを所定の
置いた複合ターゲットで（詳しくは、実施例１参照）、
前記、導入ガス（Ａｒ＋Ｏ□）を用いて成膜した。そし
て、ＶＳＭにより、作製した酸素を含んだＦｅＴｉ合金
から成る磁性膜を評価したところＨｋが３ｋＯｅ以上の
値が得られ、ＦｅＴｉ合金よりも更に、垂直磁性膜とし
て良好な磁気特性が得られた。以上の効果は、０のほか
、Ｎ、Ｈ，Ｃでも同様な結果が得られた。なお、本実施
例において、Ｔｉの組成は１７ａｔ％であったが、実施
例１で述べた他の最適と思われる組成でもよい。また、
導入ガスの容量比は、ここではＡｒ１０２＝１０／１を
用いたが、他の容量比でもよい。更に、成膜法で、本実
施例では、ＲＦマグネトロンスパッタ法を用いたが、実
施例１で述べたような他の成膜法でもよい。ＦｅＴｉ合
金のターゲットも、複合ターゲット、合金ターゲットで
もよい。また、さらに本実施例において、導入ガスに、
Ｏ，Ｎ、Ｈ，Ｃを含ませたが、ターゲット自身に、たと
えば、酸化鉄（Ｆｅ２０３ｅｔｃ）、窒化鉄Ｆｅ３Ｎな
どで含ませて成膜してもよい。
（実施例４）
基板上に軟磁性膜と主成分としてＦｅとＴｉ並びにＣｒ
を含む合金から成る垂直磁性膜で構成される垂直磁気記
録二層媒体についての実施例を述べる。
を含む合金から成る垂直磁性膜で構成される垂直磁気記
録二層媒体についての実施例を述べる。
基板は有機フィルムを用いた。まずＲＦマグネトロンス
パッタ法により軟磁性膜としてＮｉＦｅ合金から成る磁
性膜を０．５１１ｍ成膜した。次に垂直磁性膜として実
施例１と同様にＲＦマグネトロンスパッタ法によりＦｅ
７ｇＴｉ１２Ｃｒｇ合金（Ｆｅ７９ａｔ％、Ｔｉ１２ａ
ｔ％、Ｃｒ９ａｔ％の組成比から成るＦｅＴ１Ｃｒ合金
）から成る磁性膜を０．３ｐｍ成膜した。このようにし
て作製した垂直磁気記録二層媒体は現在活発に研究開発
が行われているＮｉＦｅ合金とＣｏＣｒ合金から成る垂
直磁気記録二層媒体と同程度の磁気特性及び記録再生特
性が得られた。
パッタ法により軟磁性膜としてＮｉＦｅ合金から成る磁
性膜を０．５１１ｍ成膜した。次に垂直磁性膜として実
施例１と同様にＲＦマグネトロンスパッタ法によりＦｅ
７ｇＴｉ１２Ｃｒｇ合金（Ｆｅ７９ａｔ％、Ｔｉ１２ａ
ｔ％、Ｃｒ９ａｔ％の組成比から成るＦｅＴ１Ｃｒ合金
）から成る磁性膜を０．３ｐｍ成膜した。このようにし
て作製した垂直磁気記録二層媒体は現在活発に研究開発
が行われているＮｉＦｅ合金とＣｏＣｒ合金から成る垂
直磁気記録二層媒体と同程度の磁気特性及び記録再生特
性が得られた。
本実施例においてＦｅＴ１Ｃｒ合金から成る垂直磁性膜
は上記組成で作製したが、実施例で述べた他のＣｒ組成
及びＴｉ組成でもよい。なお、ＮｉＦｅ合金及びＦｅＴ
１Ｃｒ合金のターゲットは複合ターゲット、合金ターゲ
ットいづれでもよい。また、ＮｉＦｅ合金及びＦｅＴ１
Ｃｒ合金から成る磁性膜の成膜法は本実施例ではＲＦマ
グネトロンスパッタ法を用いたが、実施例１で述べた他
の成膜法でもよい。さらに、軟磁性膜として本実施例で
はＮｉＦｅ合金から成る磁性膜を用いたが、他の磁性膜
（たとえばセンダスト、Ｍｏを含んだＮｉＦｅ合金など
）でもよい。
は上記組成で作製したが、実施例で述べた他のＣｒ組成
及びＴｉ組成でもよい。なお、ＮｉＦｅ合金及びＦｅＴ
１Ｃｒ合金のターゲットは複合ターゲット、合金ターゲ
ットいづれでもよい。また、ＮｉＦｅ合金及びＦｅＴ１
Ｃｒ合金から成る磁性膜の成膜法は本実施例ではＲＦマ
グネトロンスパッタ法を用いたが、実施例１で述べた他
の成膜法でもよい。さらに、軟磁性膜として本実施例で
はＮｉＦｅ合金から成る磁性膜を用いたが、他の磁性膜
（たとえばセンダスト、Ｍｏを含んだＮｉＦｅ合金など
）でもよい。
（実施例５）
基板上に、軟磁性膜と主成分としてＦｅとＴｉ並びに他
の元素を含む合金から成る垂直磁性膜で構成される垂直
磁気記録二層媒体について実施例を述べる。まず、基板
は、実施例１〜３と同様な有機フィルムを用いた。次に
、軟磁性膜は、ＮｉＦｅ合金から成る磁性膜を用いたの
で、作製法は、実施例２と同様である。また、主成分と
してＦｅとＴｉ及び他の元素を含む合金から成る垂直磁
性膜も、実施例３と同様な合金、成膜法を用いた。この
ようにして、作製された、垂直磁気記録二層媒体も、良
好な磁気特性を示した。なお、軟磁性膜及び、主成分と
してＦｅとＴｉ並びに他の元素を含む合金から成る垂直
磁性膜について、本実施例以外の使用可能な又は望まし
い材料、製造方法、装置なども、実施例２及び３と同様
である。
の元素を含む合金から成る垂直磁性膜で構成される垂直
磁気記録二層媒体について実施例を述べる。まず、基板
は、実施例１〜３と同様な有機フィルムを用いた。次に
、軟磁性膜は、ＮｉＦｅ合金から成る磁性膜を用いたの
で、作製法は、実施例２と同様である。また、主成分と
してＦｅとＴｉ及び他の元素を含む合金から成る垂直磁
性膜も、実施例３と同様な合金、成膜法を用いた。この
ようにして、作製された、垂直磁気記録二層媒体も、良
好な磁気特性を示した。なお、軟磁性膜及び、主成分と
してＦｅとＴｉ並びに他の元素を含む合金から成る垂直
磁性膜について、本実施例以外の使用可能な又は望まし
い材料、製造方法、装置なども、実施例２及び３と同様
である。
（発明の効果）
本発明において、ＦｅＴｉ合金及びＦｅＴｉと他の元素
を含む合金から成る磁性膜を用いて、垂直磁気記録媒体
、及び垂直磁気記録二層媒体を作製することにより、以
下に示す効果があった。
を含む合金から成る磁性膜を用いて、垂直磁気記録媒体
、及び垂直磁気記録二層媒体を作製することにより、以
下に示す効果があった。
（１）主成分として、安価なＦｅ及びＴｉを使用するの
で、従来のＣｏ系合金から成る垂直磁気記録媒体（二層
媒体も含む、以下同じ）より、安価な垂直磁気記録媒体
の作製が可能となった。
で、従来のＣｏ系合金から成る垂直磁気記録媒体（二層
媒体も含む、以下同じ）より、安価な垂直磁気記録媒体
の作製が可能となった。
（２）ＦｅＴｉ合金及びＦｅＴｉと他の元素を含む合金
から成る磁性膜は、垂直磁性膜として、良好な磁気特性
を示し、良好な垂直磁気記録媒体として適用が可能とな
った。
から成る磁性膜は、垂直磁性膜として、良好な磁気特性
を示し、良好な垂直磁気記録媒体として適用が可能とな
った。
第１図は、本願発明の垂直磁性膜磁気特性を示した図、
第２図は純Ｆｅターゲット上に置＜Ｔｉチップの個数を
変えた時のＦｅ及びＴｉの組成比を示した図、第３図及
び第４図は、ＸＭＡにより求められた種々の組成比をも
つＦｅＴｉ合金から成る磁性膜について、ＶＳＭ測定に
より求められる飽和磁化量Ｍｓ及び垂直異方性磁界Ｈｋ
を示した図、第５図は、ＦｅＴｉ合金から成る、磁性膜
についてＩ（１１０）を示した図、第６図は、Ｘ線回折
強度を示した図。
第２図は純Ｆｅターゲット上に置＜Ｔｉチップの個数を
変えた時のＦｅ及びＴｉの組成比を示した図、第３図及
び第４図は、ＸＭＡにより求められた種々の組成比をも
つＦｅＴｉ合金から成る磁性膜について、ＶＳＭ測定に
より求められる飽和磁化量Ｍｓ及び垂直異方性磁界Ｈｋ
を示した図、第５図は、ＦｅＴｉ合金から成る、磁性膜
についてＩ（１１０）を示した図、第６図は、Ｘ線回折
強度を示した図。
Claims (4)
- （１）基板上に、鉄（以下Ｆｅという記号で示す）とチ
タン（以下Ｔｉという記号で示す）との合金から成る磁
性膜において、Ｔｉの組成が１５ａｔ％から２１ａｔ％
であることを特徴とする磁気記録媒体。 - （２）基板上に、軟磁性膜とＴｉの組成が１５ａｔ％か
ら２１ａｔ％であるＦｅとＴｉとの合金から成る垂直磁
性膜で構成される磁気記録媒体。 - （３）基板上に、主成分としてＦｅとＴｉ並びにＴａ、
Ｃｒ、Ｚｒ、Ｗ、Ｎａ、Ｈｆ、Ｍｏ、Ｖ、Ｃｕ、Ｎｄ、
Ｍｎ、Ｂｉ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｏ、Ｎ、Ｈ、Ｃを少なくとも
１種以上を含む合金から成る磁性膜で構成される磁気記
録媒体。 - （４）基板上に、軟磁性膜と主成分としてＦｅとＴｉ並
びに他の元素Ｔａ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｗ、Ｎｅ、Ｈｆ、Ｍｏ
、Ｖ、Ｃｕ、Ｎｄ、Ｍｎ、Ｂｉ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｏ、Ｎ、
Ｈ、Ｃを少なくとも１請以上含む合金から成る垂直磁性
膜で構成される磁気記録媒体。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13255186 | 1986-06-06 | ||
| JP61-132551 | 1986-06-06 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63106916A true JPS63106916A (ja) | 1988-05-12 |
| JPH0775062B2 JPH0775062B2 (ja) | 1995-08-09 |
Family
ID=15083931
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61290883A Expired - Lifetime JPH0775062B2 (ja) | 1986-06-06 | 1986-12-05 | 磁気記録媒体 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4840845A (ja) |
| JP (1) | JPH0775062B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4635236A (en) * | 1981-09-29 | 1987-01-06 | Chevron Research Company | Submerged marine streamer locator |
| JP2697227B2 (ja) * | 1989-10-20 | 1998-01-14 | 富士電機株式会社 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| US6095765A (en) * | 1998-03-05 | 2000-08-01 | Carrier Corporation | Combined pressure ratio and pressure differential relief valve |
| SG108888A1 (en) * | 2001-12-14 | 2005-02-28 | Hoya Corp | Magnetic recording medium |
| CN100428334C (zh) * | 2004-07-27 | 2008-10-22 | 松下电器产业株式会社 | 磁记录介质及其制造方法、和磁记录介质的记录再生方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5330800A (en) * | 1976-09-01 | 1978-03-23 | Fujitsu Ltd | Peparing magnetic thin film |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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