JPS63106763U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS63106763U JPS63106763U JP20106486U JP20106486U JPS63106763U JP S63106763 U JPS63106763 U JP S63106763U JP 20106486 U JP20106486 U JP 20106486U JP 20106486 U JP20106486 U JP 20106486U JP S63106763 U JPS63106763 U JP S63106763U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- extraction electrode
- target
- ion
- generation chamber
- extraction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 9
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims 5
- 238000001659 ion-beam spectroscopy Methods 0.000 claims 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
第1図はこの考案の一実施例を示す正断面図、
第2図は引出電極の斜視図、第3図は引出電極の
部分拡大断面図、第4図はこの考案の動作説明用
の正面図、第5図は従来構成の動作説明用の正面
図である。 1……イオン生成室、2……スパツタ室、3…
…引出電極、7……ターゲツト、9……基板、1
1……孔、12……中心線、12……主軸、14
……一点。
第2図は引出電極の斜視図、第3図は引出電極の
部分拡大断面図、第4図はこの考案の動作説明用
の正面図、第5図は従来構成の動作説明用の正面
図である。 1……イオン生成室、2……スパツタ室、3…
…引出電極、7……ターゲツト、9……基板、1
1……孔、12……中心線、12……主軸、14
……一点。
Claims (1)
- イオン生成室と、前記イオン生成室で生成され
たイオンを引出す引出電極と、内部に前記引出電
極により引出されたイオンがスパツタされるター
ゲツトと、スパツタされたことによる前記ターゲ
ツトから発せられるスパツタ粒子が表面に堆積さ
れる基板とを備えたスパツタ室とを備えたイオン
ビームスパツタ装置において、前記引出電極を前
記ターゲツトに向かつて凹面状に湾曲させるとと
もに、この引出電極に設けられるイオン引出用の
複数の孔を、その孔の中心線が、前記引出電極の
凹面の主軸上の一点と交差するように形成してな
るイオンビームスパツタ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20106486U JPS63106763U (ja) | 1986-12-27 | 1986-12-27 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20106486U JPS63106763U (ja) | 1986-12-27 | 1986-12-27 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63106763U true JPS63106763U (ja) | 1988-07-09 |
Family
ID=31164167
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20106486U Pending JPS63106763U (ja) | 1986-12-27 | 1986-12-27 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63106763U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH046272A (ja) * | 1990-04-25 | 1992-01-10 | Hitachi Ltd | イオンビームスパッタリング装置 |
-
1986
- 1986-12-27 JP JP20106486U patent/JPS63106763U/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH046272A (ja) * | 1990-04-25 | 1992-01-10 | Hitachi Ltd | イオンビームスパッタリング装置 |