JPS63104440A - 搬送装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 「産業上の利用分野」 本発明は半導体製造工場における搬送装置に関する。

「従来の技術」 従来、半導体製造工場において例えばシリコンウェハを
搬送するに際して、多数枚のウェハをカセットに収容し
てカセットと共に搬送し、次工程へ送る。搬送途中に清
浄度の比較的低いメインテナンスエリヤ等を通過する必
要のある場合は、ウェハを多数枚収容するカセットをク
リーンなケースに収納し、密封して送り出し、次工程で
その密封を解いて蓋を開はカセットを取り出し、ウェハ
処理装置にセットしている。

密封ケースにウェハを収容して搬送する方法によれば搬
送通路が比較的清浄である必要がない反面ウェハを搬送
する際にウェハな収容するケースに清浄空間でウェハを
収容してから蓋をして密封しなげればならず、又送られ
て来たつエバを収容したケースからウエノ・を出すため
清浄空間で密封を解いて蓋を開けなければならず、工程
が増え所要の労力も必要となる。このため、処理装置間
に外部に対して密閉されたダクトを配して、ダクト中を
クリーンな空間としてウェハを収容したカセットを開放
したまま搬送することが行われている。このような密閉
されたダクト中でウエノ・を搬送する従来例としては米
国特許ｔＪ、８．Ｐ　４，５４０．凭６号明細書、特開
昭５９−２２５５９７号公報等に記載の発明がある。

「発明が解決しようとする問題点」 前記した第１の従来例（米国特許Ｕ、Ｓ、Ｐ　４，５４
０．Ｍ２６号明細書）は発明の背景としてウエノ・を集
積回路へと処理するステーションからステーションへと
移送可能な移送システムに関するとしており、半導体ウ
ニ・・を形成するためシリコンのベースに金属性の導通
材を被覆し、焼付け、写真縮小、マスキング、エツチン
グによってウエノ１上に回路パターンが印刷され、乾燥
領域、前拡散のための清浄領域へ送られるか、又は第１
の回路に第２の回路を重ねるために再び元の領域に戻さ
れて処理されるかする。その後半導体ウェハは金属領域
又は炉装ステーションを通過して加熱されて処理段階を
終了するが、この従来例の移送システム（搬送装置）は
カート（台車）を支持部材に外部カバーを密閉取付けて
清浄空間のダクトを構成し、ダクト中を該台車を走行さ
せ、装置とダクトを直接連結することを前提として説明
されているものと考えられ、具体的にこの従来例を半導
体処理装置間に配した説明がない。又前記した第２の従
来例（特開昭５９−２２５５９７号公報）はトンネル（
ダクト）を用いてトンネル中に設けたトラック（軌道）
中をトロＩＪ　−（台車）を移動させるがこのような移
送装置（搬送装置）は移送装置及び半導体製造装置との
相互連結からなっている。

清浄空気環境を実現したトンネル中をウエノ１を積載し
たトロリーを移動して半導体処理装置に受渡す場合に直
接該移送装置と半導体処理装置を連結すると人は排除さ
れ、人に起因する半導体に対する有害な特に導電性の粒
子が存在しなくなる大きな利点がある。然し乍ら、ウェ
ハの移送装置と半導体処理装置を直接連結するためには
そこにカセットを搬送装置と半導体処理装置間で受渡し
する装置が必要で通常ローディングアンローディングを
行なうローダ、又はロボットが用いられることになり、
これらのカセット受渡しの装置は密閉された空間におか
れること正こなる。即ち、こ＼では搬送装置の台車から
ウェハを収容したカセットを取外し、カセットからウェ
ハを取出す装置、処理されたウェハをカセットに収容し
、ウェハを収容したカセットを搬送装置の台車に積載す
る装置が密閉空間内で作用する。周知のように被搬送物
の搬送においては台車走行中に被搬送物が落下したりす
ることは殆んどなく、被搬送物の取り落しは搬送装置と
ローディング装置、ローディング装置と半導体処理装置
間において生ずることがある。

ウェハを収容したカセットを台車から降し、或は台車に
積載する際、及びカセットからウェハを取出し、処理済
カセットにウェハに収容する際に、カセット或はウェハ
を取り落すことが考えられる。このため、密閉された空
間内に被搬送物を受渡しする装置があるとカセット或は
ウェハを取り落した際、この密閉空間を解放して復元す
る必要がある。又、これらの被搬送物の受渡し装置が故
障した際は、カセットとかウェハを取落した際はこれら
の密閉空間は一部の開放ですむが、場合により、密閉空
間を構成するダクトを殆んど総て分解しないことには修
理ができないという問題点がある。そしてこのような被
搬送物の受渡しを行なう装置が故障した際に備えて前工
程より送られて来るウェハを収容したカセットを台車よ
り荷卸しするポートが必要であり、又次工程ヘウエハを
収容したカセットを送るため台車へ積載するボートが必
要となる。そうしないと、連続してウェハが流れるよう
に構成された製造工場は停止を余儀なくされるに到る。

このような配慮に基ずく附加される装置は上記は最小限
のものであり、従来例の考え方によれば大きな利点と大
きな問題点を有するものである。

又、上記したような半導体処理装置と搬送装置を直結す
ると従来設備されている半導体装置に適合させるには極
めて困難である。

本発明はダクト中をクリーンな空間としてウェハを収容
したカセットを開放したま＼ダクト中を搬送する搬送装
置における上記問題点を解消し、特に半導体処理装置に
手を加えることなく設置し得る融通性の大きな搬送装置
を提供することを目的とするものである。

〔発明の構成〕

「問題点を解決するための手段」 本発明は夫々内部が清浄空間となるクリーンチューブ、
クリーンチューブに密封して内部が通ずるように連結さ
れたクリーンインデックス、クリーンインデックスに密
封して内部が通ずるように連結されたクリーンエレベー
タを有し、これらのクリーンチューブ、クリーンインデ
ックス、クリーンエレベータで組合わされて搬送径路を
構成したものにおいて、クリーンエレベータに外部に対
する開口並びに該開口を開閉する自動扉を備え、該開口
は半導体材料の処理装置を配した清浄度の高い室内に開
口し、りＩＪ−ンチューブ、クリーンインデックス、ク
リーンエレベータからなる搬送径路の全部又はほぼ全部
が前記半導体材料の処理装置を配した清浄度の高い空間
の外側に配されていることを特徴とする搬送装置である
。

「実施例」 以下、本発明の実施例を図面により説明する。

第１図は一般的な半導体製造工場の一部の配置を含む平
面図である。１０１は工程間クリーンチューブであり、
所要工程例えば縮小回路パターンをシリコンウェハの上
に焼付ける工程、その後の乾燥、前拡散のための清浄工
程間等にわたって天井近くに配置されている。１０２は
クリーンインデックスで図示矢印ａのように送られるク
リーンチューブ１０１中の台車５を９０度平面上で回転
して、クリーンチューブｉｏ３に送り出す。１０４はク
リーンインデックスでクリーンチューブ１０３の延長上
のクリーンチューブ１０５、他のクリーンインデックス
１０６とクリーンインデックス１０４を結ぶクリーンチ
ューブ１０７、又は床上との間をつなぐクリーンエレベ
ータ１０８の何れかの方向へ台車の向きを変えて送り出
すものである。同様に１０９〜１１３はクリーンインデ
ックスで、１１４〜１１８はクリーンチューブ、１１９
〜１２３はクリーンエレベータである。これらの搬送装
置は清浄度がクラス１０００〜１００００程度の室１２
４内に配される。室１２４は壁１２５を介して清浄度が
１０〜１００程度の室ｉ２６，１２７に隣接している。

各クリーンエレベータ１．０８．，１１９〜１２６のカ
セット搬出入口は室１２６，１２７に向っている。

室１２６，１２７にはウェハ処理装置（ストッカを含む
）１６１〜１３６が配されている。クリーンチューブ１
０１．１０３．．１０５，１０７，１１４〜１１８（こ
れらを代表する符号を１とする）は何れも同構成で夫々
連通している。このクリーンチューブ１の構成を例えば
第２図の縦断面図に示す。

筒、状ケーシング４１は、外部から独立した清浄空間を
搬送方向に形成するように、角筒状になっている。

上下の隔壁４２および排気整流板６０．６１によりケー
シング４１の内部は、上から給気道４４、フィルター室
５４、搬送空間４５、排気整流室５６、排気道４６を形
成するように分割される。

そして、フィルター室５４の内部には、高性能フィルタ
ー例えばヘパフィルタ−５９が設けられており、その上
方側がフィルター上流室５４ａ１下方側がフィルター下
流室５４ｂとして形成されている。隔壁４２には、搬送
方向に所定の間隔で開口部が形成されており、給気道４
４側の隔壁４２の開口部が給気口４７となり、また排気
道４６側の隔壁４２の開口部が排気口４８となっている
。そして給気道４４には、一端部から中性能フィルター
を通った空気５１が供給され、搬送空間４５が正圧（例
えば６１＋３１１Ｈ２０）になるように、空気５１−２
が排出される。

上記給気口４７および排気口４８の開口面積を調整する
ために、各隔壁４２に調整板４３が摺動自在に取り付け
られている。

そして、搬送対象のウェハは、ウェハカセットの内部に
収納され、それとともに搬送空間４５内の車輪５８を備
えた搬送台車５により自動的に運ばれていく。このため
、搬送空間４５の内部に、案内レール５７や給電路６２
などが組み込まれる。

この間に、給気道４４から給気口４７を通り、空気５１
がへパフイルター５９を通過して搬送空間４５の内部に
供給され、下方の排気口４８を通り、排気道４６に排出
されていく。

クリーンインデックス１０２，１０４，１０９〜１１６
（その代表符号を３とする）は同構成であり、第３図の
縦断面図、第３図の平面図の第４図に示す。この例は例
えばクリーンインデックス１１０を簡単に示すが、他の
クリーンインデックスも同様である。

クリーンインデックス１１０はクリーンチューブ１１４
，１１５に密封して連結されたケーシング９０で囲まれ
ており、上部にクリーンチューブ１１４，１１５のフィ
ルター室５４に連通ずるフィルター室６４に供給された
空気はフィルター室６４に設けたヘパフィルタ−６５を
通じて下部のクリーンチューブ１１４，１１５の搬送空
間４５に台車５がとおりぬける開ロアｏを介してつづい
ている搬送空間６６に清浄な空気を送っており、有孔板
でできている円形のインデックステーブル本体６７を通
じてその下部の排気室６３に流れ、排気室６３に連通ず
るクリーンチューブ１１４，１１５の排気整流室５６に
合流するようになっている。

クリーンインデックス３は半導体処理装置へのウェハを
搬出入する目的で台車５の方向変換を行う位置ではクリ
ーンエレベータ２と接ａする。又台車５の方向変換を行
う目的が搬送径路の変換のために設けられる場合は三方
又は四方がクリーンチューブ１に接続される。クリーン
インデックス１１０は上記クリーンチューブ１１４．１
１５と連通ずる以外にクリーンエレベータ１２０の上部
の垂直ダクト２ａに・開ロアｏを通じて連通している。

クリーンエレベータ１２０、クリーンチューブ１１４．
１１５夫々との間の開ロア０及び何れの方向も利用でき
るように設けた開ロア０″の下面にはインデックステー
ブル本体６７の割出し位置でインデックステーブル本体
６７の案内レール７８、給電路８２と一致するように台
車５用の固定案内レール８３．８５、給電路８４が設け
られている。固定案内レール８３．８３、給電路８４は
クリーンチューブのレール５７、給ｔＭ６２、クリーン
エレベータの固定レール８３ａ、給電路８４ａに一致す
るようになっている。

インデックステーブル本体６７はケーシング９０に対し
て固定された軸受ハウジング６８に収容された軸受６９
により回転自在に支持されている主軸７１に固定されて
いる。主軸７１端に固定したプーリ７２とケーシング９
０に対して固定した減速電動機７６の軸端に固定したプ
ーリ７４との間にはベルト７４ａが巻掛けである。７５
．７６は透過型ホトセンサでインデックステーブル本体
６７の割出しドック８０．８１により遮蔽され割出し信
号を得るものである。７７はインデックステーブル本体
６７に対して台車５の位置決めを行うための無接点スイ
ッチである。

クリーンインデックス１１０の作用は例えば台車５がク
リーンチューブ１１４の案内レール５７　、５７　、イ
ンデックステーブルの該案内レール５７．５７と一直線
となっている固定案内レール８３．８３を通ってインデ
ックステーブルの案内レール７８．７８に入ると無接点
スイッチ７７が台車５の進入を検出して停止信号を制御
装置に送ると台車５に搭載している台車走行用の電動機
は断電されて台車５は停止し、減速電動機７３が附勢さ
れ、プーリ７４が回転し、ベルト７４ａを通じてプーリ
７２を回転して、主軸７１を回転することによりインデ
ックステーブル本体６７は回転するので共に回転する案
内レール７８．７８に載置されている台車５は回転し、
案内レール７８．７８がクリーンチューブ１１５側の固
定案内レール８３．８５又はクリーンエレベータ１２０
用の固定レール８３ａ、８３１！Ｉ・と一致可能な固定
案内レール８３．８３　と一致するとホトセンサ７６が
作動して停止する。停止の瑞認の信号により台車５は固
定案内レール８３．８３をとおりクリーンチューブ１１
５の案内レール５７．５７又は、更に固定レール８３ａ
、８３ａを介してクリーンエレベータ１２０のリフトテ
ーブル４ａへ向って送り出される。台車５の送り出し後
、外部からの指令信号を受けて、減速電動機７５は逆転
し、インデックステーブル本体６７は逆に復元方向に戻
り、ホトセンサ７５の信号により減速電動機７６は停止
してインデックステーブル本体６７はその案内レール７
８，７８がクリーンチューブ１１４の案内レール５７　
、５７と連結した固定案内レール８３．８３と一致して
止まり、次に来る台車５に備える。クリーンエレベータ
２から台車５がインデックステーブル本体６７に送り出
されてくる場合は上記作用より、明らかなので説明を省
略する。

第５図はクリーンエレベータ１０８，１１９〜１２６の
何れか例えばクリーンエレベータ１２０を示す配置図で
ある。クリーンチューブ１１４は天井近くをとおる。ク
リーンエレベータ１２０（以後クリーンチューブ、クリ
ーンエレベータ、クリーンインデックスを代表する符号
を夫々１゜２．６で示す）は室１２４の床上から天井近
くまで配されている。

クリーンチューブ１とクリーンエレベータ２はくい違い
交叉しており、該交叉位置にはクリーンチューブ１にク
リーンインデックス６を介して通ずるようにクリーンエ
レベータ２の上部の開口が設けられている。クリーンチ
ューブ１中を台車５に積載して送られたウェハカセット
２５は該開口の前に設けられた第５図には図示されない
前記クリーンインデックス３により９０度方向を変え、
該開口を通じて搬送装置によりクリーンエレベータ２内
に移送され、クリーンエレベータ２により下方に送られ
、クリーンエレベータ２の上部の開口とは反対側に設け
た下部の開口を開閉する扉８の位置の内側に停止し、該
下部の開口を通じて、クリーンエレベータ２外へ後述の
搬送装置により搬出される。クリーンエレベータ２外へ
搬出されたウェハカセット２５は扉８上に載置される。

扉８上に載置されたウェハカセット２５は作業床６２に
配された走行レール３３上を走行する走行型ロボット３
４により把握され、走行レール５乙に沿って送られ、ウ
ェハの処理装置６５（３５は代表符号で例えば符号１３
３の処理装置）に載量される。或は固定型のロボットに
よりウェハの処理装置３５に載置される。

ウェハの処理装置３５のある室１２６はクリーンエリヤ
で壁１２５により隣の室１２４のメインテナンスエリヤ
とは仕切られている。既述のようにクリーンエリヤは例
えばクラス１０〜１００の清浄度であるがメインテナン
スエリヤはクラス１０００〜１０，０００程度の清浄度
である。

上記のようにしてクリーンエリヤにて処理するウェハを
クリーンエリヤから離れた他のクリーンエリヤから比較
的クリーン度の低いエリヤに配したクリーンチューブ１
を通じてウニ／１カセツトをケースに密閉することなく
運搬できるようになっている。

第６図は側面図、第７図は第６図の正面図であり、主と
して第５図のクリーンエレベータを示している。クリー
ンエレベータ２は内部が密閉された垂直デク１−２ａ中
にリフト４を備えたものである。

クリーンエレベータ２の上部のフィルター室３６はクリ
ーンインデックス３のフィルター室６４に連通していて
清浄空気が送り込まれており、ヘパフィルタ２０を通じ
て下方へ清浄空気が吹出しており、下方の有孔板３８ａ
、３８　を通じてその下方にぬけ排気されるようになっ
ているＯ クリーンチューブ１端にてクリーンインデックス３によ
り方向を９０度変えて台車５はクリーンエレベータ２中
のリフト４のテーブル４ａ上に移送されるようになって
いる。

第８図は第６図の一部拡大図、第９図は第８図のＡ−Ａ
断面図である。リフト４のテーブル４ａの下降限位置の
や＼上方にはクリーンインデックス３とクリーンエレベ
ータ２との接続部とは反対壁面に開口部６が設けである
。この開口部６は清浄度の高い室１２６又は１２７に開
放されている。

開口部６の下縁附近にヒンジ７でもって枢着され、開口
部６を開閉する外開き形式の扉８が設けてあり、扉８の
開放限度位置は水平な方向であり、一端が垂直ダクト２
ａにピン９で枢着されて他端が扉８にピン１１でもって
枢着され、中間をピン１２で連結された二っ折れのステ
ー１３により開放側限度位置が定まるようになっている
。このピン９は上下方向の長孔９ａを通じて垂直ダク）
２ａにねじ込まれるボルトにより上下方向に調節固定さ
れるブラケット９ｂに取り付けられている。１３ａはス
テー１６の一つのリンクと他のリンクの伸張側の限度位
置となるストッパで、両リンクは一直線になって死点を
作らないように死点のすぐ手前で折れ曲った状態となる
。該ストッパ１６ａが作用する位置で扉８が水平となる
ように上記ブラケット９ｂは上下方向に位置を調節後固
定されている。

垂直ダク）２ａの開口部６の下縁の近傍で内側のすぐ下
には開口部６の下縁に平行、即ち水平な回転軸１４が垂
直ダクト２ａの枠に固定された軸受１５により支持され
ている。回転軸１４には駆動プーリ１６、扉開閉用アー
ム１７が固定され、円筒カム１８が軸方向移動自在で回
転を伝えられるように不図示のキー、又はスプラインを
介して嵌入している。扉開閉用アーム１７、円筒カム１
８等は第９図において左右対称に配されるが左側は図で
は見えない。駆動プーリ１６と、垂直ダクト２ａの枠に
固定された減速機付のモータ１９のモータ軸端に固定さ
れたプーリ２１との間にベルト２２が巻掛けである。２
３は垂直ダク）２ａの枠に固定され、円筒カム１８のカ
ム溝に係合するカムフォロアである。

円筒カム１８にはワーク搬送アーム２４が固定されてい
る。

第９ａ図はワーク搬送アーム２４の根本側を第９図の右
側から見る側面図である。ワーク搬送アーム２４の根本
は回転軸１４に回転自在に嵌合し、回転軸１４を中心と
する円孤形長溝２４ａを備えている。この長溝２４ａを
挿通してボルト２４ｂが円筒カム１８の端面にねじ込ま
れており、円筒カム１８に対して角度を調節可能に固定
されている。ワーク搬送アーム２４は開口部乙の下縁に
干渉しないように屈折しており、第８図の図示実線の右
回転限度位置と垂直デク１−２ａ外に二点鎖線で示す左
回転限度位置をとるようになっている。

第１１図は円筒カム１８の展開図で、ワーク搬送アーム
２４が第８図の実線の位置にあるときは、カムフォロア
２３のフォロアローラ２３ａは位置已にあり、第６図、
第８図の垂直ダクト２ａの外側の二点鎖線の位置にある
ときは位置すにあり、作動に際してカムフォロア２５の
フォロアローラ２３ａに対して円筒カム１８が軸方向に
移動する。カムフォロア２３のフォロアローラ２３ａが
位置ａにあるときは、ウェハを納めたカセット２５が台
車５に積載されたま＼リフトのテーブル４ａに載置され
て下降してくる際、該カセット２５に当らない位置に待
避するようにワーク搬送アーム２４端にピン２６により
枢着された支持具２７はカセット２５の上級両側に外向
に設けたフランジ２５ａよりも外方にある。カム１８の
カム溝は軸方向に第１１図に図示の位置ａのある周方向
の短かいカム溝１８Ａからｅだけオフセットした周方向
のカム溝１８Ｃを有し、カム溝１８Ａ、　１８０間は斜
め（円筒面ではスパイラル状）のカム溝１８Ｂとなって
いる。

第１０図は第９図のＢ−Ｂ断面図である。扉開閉用アー
ム１７に半径方向の位置を調節可能に固定された駒１７
ａに一端が枢支されたロープ２８は開口部６の側縁内側
に枢支されているプーリ２９に巻掛けた上、他端は扉８
を閉めた位置でプーリ２９に近い位置のピン１ｏに枢支
されて扉）８・に連結されている。

次にクリーンエレベータ２の作用を説明する。

クリーンインデックス３からクリーンエレベータ２に移
送された台車５はリフトのテーブル４ａに載置されてい
る。リフトのテーブル４ａは下降して第６図の図示実線
位置の開口部６のすぐ下方の下限位置にて停止する。第
８図においてリフトのテーブル４ａが下限位置に来た際
に作動する不図示のスイッチにより制御装置を介してモ
ータ１９は回転し、プーリ２１はその回転をベルト２２
を介して駆動プーリ１６に伝える。

回転軸１４は反時計方向に回転する。扉開閉用アーム１
７、円筒カム１８は共に回転する。扉開閉用アーム１７
はロープ２８を弛める。扉８は自重でヒンジ７を中心に
して外方へ開き始める。第９図において円筒カム１８の
回転によりカム溝はカムフォロア２６のフォロアローラ
２３ａに対し第１１図のカム溝１８Ａで係合していたの
がすぐ斜めのカム溝１８Ｂとの係合に変わり、円筒カム
１８は回転軸１４上を軸方向に互に近よる方向に移動し
、それと共に二本のワーク搬送アーム２４は互に近より
、支持具２７はカセット２５の両側に近よる。同時にワ
ーク搬送アーム２４は第８図で反時計方向に回転してお
り、カムフォロア２６のフォロアローラ２３ａに係合し
ていたカム溝の位置が第１１図のカム溝１８Ｂより、カ
ム溝１８０と会合する点に到ると、支持具２７は第８図
に図示イの二点鎖線で示すようにカセット２５のフラン
ジ２５ａの下面に一致する。続く円筒カッ・１８の回転
では、円筒カムのカム溝はカム溝１８０がカムフォロア
２３のフォロアローラ２３ａと係合しているため、円筒
カム１８は軸方向には移動せず、ワーク搬送アーム２４
は更に反時計方向に回転するので支持具２７はカセット
２５のフランジ２５ａの一定位置でカセット２５を担持
し、ワーク搬送アーム２４はカセット２５を回転軸１４
回りに反時計方向に回転する。支持具２７はピン２６に
より枢支されているのでピン２６よりも下方に重心のあ
るカセット２５は水平な位置を保つ。

か＼るカセット２５の搬出動作に先行して扉８は外方へ
開き、扉８の開放動作に追従してカセット２５は外方へ
向い開口部６を通過する。

扉８はステー１５により開放限度位置において停止し水
平となる。

か＼る扉８が水平位置となった際扉開閉用アーム１７は
第１０図に二点鎖線で示すように回転軸１４の中心とプ
ーリ２９の中心を結ぶ線に近ずいており、これ以上の回
転軸１４の回転によってもロープ２８はわずかにゆるむ
程度となっている。この扉開閉用アーム１７は扉８の開
き始めは回転軸１４の単位回転角に対してロープ２８を
より多くゆるめ、回転軸１４の回転につれて回転軸１４
の単位回転角に対してロープ２８を少なくゆるめるよう
にしてワーク搬送アーム２４に先行させると共に扉８の
開放端でワーク搬送アーム２４を追いつかせるようにな
っている。

扉８が水平になるとすぐ続いてワーク搬送アーム２４は
カセット２５を扉８の裏面に張られたテープスイッチを
包含したクッション３１上に着座せ（支持具２７は口の
位置）、テープスイッチの作動によりカセット２５の扉
８上への着座が確認される。ワーク搬送アーム２４は更
に回転するので支持具２７はカセット２５のフランジ２
５ａから離れ、カセット２５は扉８により支持される。

ワーク搬送アーム２４は先端部が図示二点鎖線で示す略
水平位置となって不図示のスイッチの動作により制御装
置を介してモータ１９を停止させる。

こ＼でカセット２５を扉８上から次の搬送手段例えばロ
ボット６４に引継ぎ、カセット２５が扉８から離れ指定
位置に到達されたことが確認されるとモータ１９は逆転
して、回転軸１４は逆回転し、ワーク搬送アーム２４は
上記と逆の作動をして第８図において回転軸１４を中心
に時計方向に回転し第８図の実線の位置に戻り、戻る限
度位置手前で二本のワーク搬送アーム２４の間隔は開い
て台車５の通過が許されるようになる。扉８は扉開閉用
アーム１７がロープ２８を引張るのでロープ２８に引か
れてヒンジ７を中心に時計方向にワーク搬送アーム２４
に追従して回転し、開口部６を閉める。こ＼でモータ１
９は不図示のスイッチの作動により制御装置を介して停
止せしめられる。第６図の二点鎖線で示す位置までリフ
トのテーブル４ａは上昇し停止して待機する。

実施例は垂直ダクト２ａ内からカセット２５を搬出する
場合を説明したが、カセット２５を垂直ダクト２ａ内に
搬入する場合も同様である。

以上のようにクリーンエレベータ２は上記構成としたか
ら安全に作業を行えるという効果がある。更にはウェハ
を収容したカセットの上位に位置しないような装置構成
にしたことにより、発生すると考えられる微粒子からウ
ェハの汚染を守ることができる。

既にのべたようにこのようにして室１２６，１２７に搬
入されたカセット２５入りのウェハはカセット毎ロボッ
ト又はオートローダ等により夫々ウェハ処理装置１６１
〜１３６に装着される。又ウェハ処理装置１６１〜１３
６で処理されたウェハはカセット２５に収容され、クリ
ーンエレベータ２、クリーンインデックス３を介してク
リーンチューブ１に送り出されるものである。

本発明ではクリーンチューブ１、クリーンエレベータ２
、クリーンインデックス３を備えた清浄空間を有する搬
送装置は比較的清浄度の低い工程間搬送空間及び室１２
４に配されている。

そして清浄度の高い空間へは搬送装置のりＩＪ−ンエレ
ベータ２の開口部６で連通しており、開口部６はウェハ
を積載したカセット２５よりも下になるように開閉する
扉８を備えており、クリーンチューブ１、クリーンエレ
ベータ２、クリーンインデックス３の各装置ではカセッ
ト２５はカセット２５に運動を与えるための各装置はカ
セット２５の下方にある。従ってカセット２５の搬送に
伴なう各装置は搬送手段より発生する導電性異物に曝さ
れるおそれは低い。

搬送装置の保全、修理を行う場合に比較的清浄度の低い
室１２４で行なうことになり、開口部６は扉８を閉めた
ま５の作業が行われる。

〔発明の効果〕

本発明は夫々内部が清浄空間となるクリーンチューブ、
クリーンチューブに密封して内部が通ずるように連結さ
れたクリーンインデックス、クリーンインデックスに密
封して内部が通ずるように連結されたクリーンエレベー
タを有し、これらのクリーンチューブ、クリーンインデ
ックス、クリーンエレベータで組合わされて搬送径路を
構成したものにおいて、クリーンエレベータに外部に対
する開口並びに該開口を開閉する自動扉を備え、該開口
は半導体材料の処理装置を配した清浄度の高い室内に開
口し、りＩＪ−ンチューブ、クリーンインデックス、ク
リーンエレベータからなる搬送径路の全部又はほぼ全部
が前記半導体材料の処理装置を配した清浄度の高い空間
の外側に配されていることを特徴とする搬送装置とした
から、 （１）半導体材料の処理装置を設けた室は無人化し易く
、無人であるため清浄度を良好に保ち得る。

（２）　　搬送装置のクリーンエレベータの開口から半
導体材料の処理装置（ストッカー含む）までの間はロボ
ット、オートローダ等を用いるがこれらは開放された空
間にあるため、万一故障その他保守も直ぢに作業開始が
できる。

又、これらのロボット、オートローダ等の被処理半導体
材料の受渡し不良による落下等の処理には独立した歩行
ロボットを用いることができる。

（３）搬送装置は清浄度の低い空間にあるから、搬送装
置の保守は人の立入りが詐容され、又搬送装置の分解組
立に伴なう微小異物の発生も半導体材料の処理装置に全
く影響がない。

（４）　　半導体材料の処理装置と搬送装置は直接連結
されるものでないので半導体材料の処理装置の入替え、
既設備への搬送装置の適用等は容易であって融通性があ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例の全体を示す平面図、第２図は
クリーンチューブの縦断面図、第３図はクリーンインデ
ックスの縦断面図、第４図は第３図の平面図、第５図は
クリーンエレベータの配置を示す側面図、第６図はクリ
ーンエレベータの側面図、第７図は第６図の正面図、第
８図は第６図の一部拡大図、第９図は第８図のＡ−Ａ断
面図、第９ａ図は第８図のワーク搬送アームの側面図、
第１０図は第９図のＢ−Ｂ断面図、第１１図は円筒カム
のカム面の展開図である。 １・・クリーンチューブ　２・・クリーンエレベータ　
２ａ・・垂直ダクト　３・・クリーンインデックス　４
・・リフト　４　ａ　＠　１１テーブル　５−一台車　
６・・開口部　７・・ヒンジ　８拳・扉　９・ｅビン　
９ａ−・長孔　９ｂ・−ブラケット　１１．１２・・ピ
ン　１６．・ステー　１５ａ−−ストッパ　１４Ｉｌ争
回転軸１５・・軸受　１６・・駆動プーリ　１７・・扉
開閉用アーム　１７ａ・・駒　１８・・円筒カム　１８
Ａ、１８Ｂ、１８０−　、カム溝　１９・―モータ　２
０−・ヘパフィルタ　２１・・プーリ　２２−−ベルト
　２３＠−カムフォロア２５ａ・・フォロアローラ　２
４・・ワーク搬送アーム　２４ａ−―長溝　２４ｂ拳・
ボルト２５−−ウェハカセット　２６・・ピン　２７・
・支持具　２８・・ロープ　２９・・プーリ３１−−ク
ッション　３２−・作業床　３３−・走行レール　３４
・・ロボット　３５・・ウェハの処理装置　３６・・フ
ィルター室　６８゜３８ａ・・有孔板　４１・・ケーシ
ング　４２・・隔壁　４３・・調整板　４４・・給気道
４５・・搬送空間　４６・・排気道　４７・・給気口　
４８・拳排気口　５１　、５１−１．５１−２−−空気
　５４−・フィルター室　５４ａ・−フィルター上Ｒ室
　５４ｂ・・フィルター下流室性＝−４−５６・・排気
整流室 ５７・・案内レール　５８會一車輪　５９・―ヘパフィ
ルター　６０．６１・・排気整流板６２拳・給電路　６
３・・排気室　６４・・フィルター１６５−−ヘパフィ
ルタ−６６・・搬送空間　６７・・インデックステーブ
ル本体６８・・軸受ハウジング　６９・・軸受　７０゜
７０１・・開口　７１・・主軸　７２・・プーリ７６・
・減速電動機　７４・・ブーＩＪ７４ａ・・ベルト　７
５．７６・・ホトセンサ　７７・・無接点スイッチ　７
８・・案内レール　８０゜８１　・・割出しドック　９
０・・ケーシング１０１・・クリーンチューブ　１０２
・・クリーンインデックス　１０６・・クリーンチュー
ブ　１０４・・クリーンインデックス　１０５・・クリ
ーンチューブ　１０６・・クリーンインデックス　１０
７・−クリーンチューブ１０８・・クリーンエレベータ
　１０９，１１０゜１１１．１１２，１１３　・・クリ
ーンインデックス１１４．１１５，１１６，１１７，１
１８・−クリーンチュブ　１１９，１２０，１２１，１
２２，１２５・俸クリーンエレベータ　１２４・ｅ室　
１２５・・壁１２６．１２７・・室　１３１．１３２，
１３３，１３４゜１３５．１！ｉ６・・ウェハ処理装置
。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、夫々内部が清浄空間となるクリーンチューブ、クリ
   ーンチューブに密封して内部が通ずるように連結された
   クリーンインデックス、クリーンインデックスに密封し
   て内部が通ずるように連結されたクリーンエレベータを
   有し、これらのクリーンチューブ、クリーンインデック
   ス、クリーンエレベータで組合わされて搬送径路を構成
   したものにおいて、クリーンエレベータに外部に対する
   開口並びに該開口を開閉する自動扉を備え、該開口は半
   導体材料の処理装置を配した清浄度の高い室内に開口し
   、クリーンチューブ、クリーンインデックス、クリーン
   エレベータからなる搬送径路の全部又はほぼ全部が前記
   半導体材料の処理装置を配した清浄度の高い空間の外側
   に配されていることを特徴とする搬送装置。