JPS63102047A - 光情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明はレーザ特に半導体レーザによる書込み記録に適
した光情報記録媒体さらに詳しくはポリメチン色素を主
成分とする有機薄膜記録層の改良に関する。

〔従来技術〕

従来、回転しているディスク状の情報記録媒体にレーザ
光を照射して情報の記録再生を行なう情報記録再生装置
が知られている。そして、この種の情報記録装置に用い
られる情報記録媒体としては基板上に低融点金属または
低融点金属と誘電体とからなる記録層を設けたものなど
が提案されている。しかし、これらは保存性が悪い、分
解能が低い、記録密度が低い、コスト高になるなどの欠
点を有する。

そこで、本発明者等は種々検討の結果基板上にポリメチ
ン色素を主成分とする有機色素薄膜を設けた場合に書き
込み感度および反射率が向上し読み出しのＳ／Ｎ比が高
い光情報記録媒体が得られることを見出し既にそれを提
案している。

しかしながら、かかる記録媒体は光および熱に対する安
定性、記録後の再生光に対する保存性などがまだ充分で
ないのが現状である。

〔目　的〕

本発明は上記現状に鑑みてなされたものであって、その
主な目的は光情報記録媒体の耐光性の改良および再生劣
化の防止にある。

〔構　成〕

本発明者は上記目的につき種々検討した結果、ポリメチ
ン色素の耐光性を改良しかつアルコール系溶媒に可溶で
射出成形基板上に直接塗布可能な化合物を見出し本発明
をなすに至った。すなわち、本発明においてポリメチン
色素を主成分とする記録層中に含有させて上記目的を達
成する化合物は一般式 （式中、Ｍはニッケル、・９ラジウム、白金または銅を
表わし、Ｒ４、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれシアン
、芳香族基または複素環式基を表わしそして該芳香族基
および複素環式基は他の芳香族環と縮合していてもよく
あるいはアルキル基、アリール基、水酸基、アルコキシ
基、八日ｒンまたはアミノ基によって置換されていても
よいが、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４のうちの少くとも
１つはり、ｇまたはりを表わし、Ａはカチオンを表わし
そしてｎは０または１〜２の整数を表わす）で表わされ
る。

本発明による光情報記録媒体の基本的構成は基板上にポ
リメチン色素と上記一般式の化合物を含む記録層を直接
設けたものであるが、必要に応じて基板と記録層との間
に下引き層を設けてもよいしあるいは記録層の上に保護
層を設けることもできる。また、同一構成の２枚の記録
媒体（場合によシその１枚を基板のみとして）を用い記
録層を内側に配置して密封したいわゆるエアーサンドイ
ンチ構造にしてもよいしあるいは保護層を介して接着し
たいわゆる密着サンドイッチ構造（貼シ合せ構造）にし
てもよい。

本発明における記録層はレーザ光の照射により何らかの
光学的変化を生じさせその変化によ多情報を記録できる
ものであってその主成分はポリメチン色素からなりそし
てこの色素の耐光性、長期保存性などを改良するために
上記一般式の化合物を含有することを特徴としている。

ポリメチン色素の代表例としてはシアニン色素、メロシ
アニン色素、クロコニウム色素、ビリリウム色素などを
あげることができる。

記録層はポリメチン色素を主成分とするものであるが記
録特性および安定性向上のために前記化合物を２種以上
組合せてもよくまた他の色素例えばフタロシアニン系、
テトラヒＰロコリン系、ジオキサジン系、トリフエッチ
アジン系、Ｉｎ、　Ｓｎ、　Ｔｅ、　Ｂｉ、ＡＬ、　Ｓ
ｅ、　Ａｇ、　Ｃｕなどまたは金属化合物例えばＴｅＯ
２、ＳｎＯなどと混合分散しても積層してもよい。また
、記録層はその他に高分子材料、保存安定剤（例えば、
金属錯体、フェノール系化合物々と）、分散剤、難燃剤
、滑剤、帯電防止剤、可塑剤などを含有していてもよい
。さらに、本発明の上記化合物は記録層のみならず他の
層例えば下引き層または保膜層あるいは両方の層にも添
加してその効果を増強することができる。

本発明における上記一般式の化合物を記録層に含有させ
る場合はポリメチ／色素と前記化合物との重量比を３０
／７０〜９？／１好ましくは６０／４０〜９５１５とす
る必要がある。

記録層の形成は蒸着、ス・ぐツタリング、ＣＶＤまたは
溶液塗布などの通常の手段によって行なうことができる
。溶液塗布による場合には有機溶媒例えばアルコール類
、ケトン類、アミド類、エーテル類、スルホキシＰ類、
エステル類、脂肪族ハロゲン化炭化水素類、芳香族類中
にポリメチン色素と上記化合物を溶解してスプレー、ス
ピンナー、ディップ、ブレード、ローラーなどの慣用の
コーティング法によって行なわれる。

記録層の膜厚は１００Ｘ〜１０μｍ好ましくは２００Ｘ
〜２μｍである。

また本発明において記録層に添加される上記一般式の化
合物の代表例をあげれば次の通りであるがこれらのみに
限定されないことはもちろんである。

ｏｌ　　　　　、−ロ　　　　　　、　　　　　　−〇
割−ＰＬ−ｆ−Ｉ　　　　　　　　づ　　　　　　　−
−２２１１１１、２２’ −ベ　　　　　　−イ　　　　　唖 −句　　　　　　　−−づ　　　　　　　−二　　　　
　　　−χ　　　　　　　２　　　　　　　代　　　　
　　　山喝　　　　　　　Ｎ　　　　　　　−ぴ　　　
　　　　ｄ　　　　　　　−また、本発明における記録
層を支持する基板の必要特性としては基板側より記録再
生を行う場合のみ使用レーザ光に対して透明でなければ
ならず、記録側から行う場合は透明である必要はない。

基板材料としては例えばポリエステル、アクリル樹脂、
ポリアミＰ１ポリオレフィン樹脂、フェノール樹脂、エ
ポキシ樹脂、ポリイミドなどのプラスチック、ガラス、
セラミックあるいは金属を用いることができる。

なお、基板の表面にはアドレス信号などのプレフォーマ
ットや案内溝のプレグルーブが形成されていてもよい。

また、本発明の上記化合物とポリメチン色素はアルコー
ル系溶媒のような基板に影響を与えない溶媒に溶解して
塗布することができるので射出成型プラスチック基板を
用いることがコスト的に最も好ましい。

本発明における記録層に必要に応じて投げられる下引き
層および保護層については、下引き層は（ａ）接着性の
向上、（ｂ）水またはガスなどのバリヤー、（ｃ）記録
層の保存安定性の向上および（ａ）反射率の向上、（ｅ
）溶剤からの基板の保護、（ｊプレグルーブの形成など
を目的として使用される。

（−の目的に対しては高分子材料例えばアイオノマー樹
脂、ポリアミド樹脂、ビニル系樹脂、天然高分子、シリ
コーン、液状ゴムなどの種々の高分子物質およびシラン
カップリング剤などを用いることができ、（ｂ）および
（ｃ）の目的に対しては上記高分子材料以外に無機化合
物例えば５ｉ０２、ＭｇＦ２、ＳｉＯ、ＴｉＯ２、Ｚｎ
Ｏ、ＴｉＮ　１ＳｉＮなど、金属または半金属例えばＺ
ｎ、　Ｃｕ、　Ｓ、　Ｎｉ、Ｃｒ、Ｇｅ。

Ｓｓ　、　Ａｕ　、　Ａｇ　１Ａ１．などを用いること
ができ、（ｄ）の目的に対しては金属例えば鰭、Ｍ１金
属光沢を有する色素例えばメチン系色素、キサンチン系
色素などを用いることができる。上記（ｅ）および（り
の目的に対しては紫外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、熱可
塑性樹脂などを用いることができる。下引き層の膜厚は
０１〜３０縮好ましくは０．２〜１０趣が適当である。

保護層は記録層をキズ、ホコリ、汚れなどから保護する
こと、記録層の保存安定性および反射率の向上を目的と
して設けられ、その材料としては下引き層と同じ材料を
使用することができる。保護層の膜厚は０．０５μｍ以
上好ましくは５μｍ以下が適当である。

なお、下引き層と保護層中には安定剤、分散。

剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、可塑剤な
どが含有されていてもよい。

〔効　果〕

上述のようにして構成された本発明の光情報記録媒体に
よれば、熱および光に対する安定性が高く、保存性にす
ぐれかつ再生劣化の少い記録媒体が得られる。また、長
波長レーザ（半導体レーザ）を用いても高感度に記録で
き、良好な形状でビットを形成することができしかも高
いＣ／Ｎが得られる。さらに、射出成形プラスチック基
板上に直接塗布による記録層が形成でき大幅にコストを
低減できる。

〔実施例〕

以下に比較例と共に実施例をあげて本発明をさらに説明
するが本発明はこれら実施例のみに限定されるものでは
ない。

実施例１ 厚さ１．２ｍ、直径２００簡のポリメチルメタクリレ−
）　（ＰＭＭＡ）基板上に紫外線硬化樹脂を用いてピッ
ｆ　１．６　ｔｗｎ、溝幅０．４　ｔｔｍ　、深さ９５
０Ｘの案内溝を有するメタン・ヤーより溝を転写した。

この上に前掲例示化合物１と下記式の色素を重量比２０
／８０で１．２−ジクロルエタンに溶解させた溶液をス
ピナー塗布して厚さ６５０Ｘの記録層を形成し記録媒体
を作製した。

実施例２ 実施例１において前掲例示化合物１の代シに前掲例示化
合物８を用いかつ色素として下記式の色素を用い混合比
を１５／８５とした以外は実施例１と同様にして記録媒
体を作製した。

実施例３ 実施例１において前掲例示化合物１の代シに前掲例示化
合物６を用いかつ色素として下記式の色素を用い混合比
を１５／８５とした以外は実施例１と同様にして記録媒
体を作製した。

実施例４ 実施例１における基板上に厚さ１００Ｘのテルル蒸着膜
を設けさらにその上に実施例１の記録層を設けて記録媒
体を作製した。

実施例５ 実施例１で形成した記録層上にさらに下記式の色素を厚
さ１５０Ｘで蒸着した。

○○ 実施例６Ｉ イ 実施例１と同様の溝形状を有するスタン・々−から射出
成形されたポリカーボネート基板上に、前掲例示化合物
９と下記式の色素を混合比１５７８５でメタノール／シ
タノール／１，４−ジクロルブタン（９／１／２重量比
）に溶解させた溶液をスピナー塗布して厚さ７００Ｘの
記録層を形成し記録媒体を作製した。

実施例７ 実施例乙において前掲例示化合物９の代シに前掲例示化
合物１を用いかつ色素として下記式の色素を用いかつ混
合比を１０／９０としさらに溶剤としてメタノール／Ｉ
ＰＡ／メチル！チルケトン（８／３／２　）を用いた以
外は実施例６と同様にして記録媒体を作製した。

実施例８ 実施例６において前掲例示化合物９の代りに前掲例示化
合物１０を用いかつ色素として下記式の色素を用いた以
外には実施例６と同様にして記録媒体を作製した。

実施例９ 実施例１で用いたＰＭＭＡ基板上に、ケイ素アルコレー
ト組成物（コルコー）　Ｎ１０５Ｘ、太陽物産製）を塗
布した後硬化させて厚さ６００Ｘの下引き層を形成した
。この上に実施例１と同様にして記録層を設けて記録媒
体を作製した。

比較例１〜３ 実施例１．２および６においてそれぞれ色素のみを用い
て各記録媒体を作製した。

比較例４ 実施例乙における前掲例示化合物９０代シに下記式の化
合物を用いて記録媒体を作製した。

比較例５ 実施例６における前掲例示化合物９の代りに下記式の化
合物を用いて記録媒体を作製した。

上記実施例および比較例で作製した各記録媒体に波長７
９０ｎｍの半導体レーデ光を用いて基板側よシ、記録周
波数０．５　ＭＨｚ　、線速１．５　ｍ／ｓｅｃで情報
を書込み再生し、その再生波形をスペクトル解析（スキ
ャニングフィルター、バンド幅３０ＫＨｚ）してＣ／Ｎ
を測定した。さらに、同じ記録媒体に５４０００ルツク
スのタングステン光を２０時間照射して再生劣化加速実
験を行なった後の反射率およびＣＡを測定した。なお、
反射率は基板側より測定した。その結果を下記の表にま
とめて示す。なお、反射率は溝部ではなく平坦面での値
である。

実施例 １　　２７．２　５３　２０．９　４９２　　２７．７
　５３　２１．１　４９３　　２８．６　５４　２２．
３　４９４　　４ｔ８　４９　３９．５　４４ ５　　２７．６　５２　２Ｑ、７　４７６　　２６．０
　５５　２０．５　５０７２α７　５２　１６．６　４
６ ８　　１９．７　５２　１５．９　４５９　　２７．８
　５５　２ｔ３　５０ 初　期　値　　光照射２０時間後 反射＊　　ｃ／Ｎ　　反射率　い 比較例

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 基板上に直接または下引き層を介してポリメチン色素を
   主成分とする記録層を設けさらにその上に必要に応じて
   保護層を設けてなる記録媒体において、前記記録層が一
   般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｍはニッケル、パラジウム、白金または銅を表
   わし、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３およびＲ＿４はそれぞれ
   シアン、芳香族基または複素環式基を表わしそして該芳
   香族基および複素環式基は他の芳香族環と縮合していて
   もよくあるいはアルキル基、アリール基、水酸基、アル
   コキシ基、ハロゲンまたはアミノ基によつて置換されて
   いてもよいが、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３およびＲ＿４の
   うちの少くとも１つは▲数式、化学式、表等があります
   ▼、▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、
   化学式、表等があります▼を表わし、Ａはカチオンを表
   わしそしてｎは０または１〜２の整数を表わす）で表わ
   される化合物を含有することを特徴とする、光情報記録
   媒体。