JPS6297110A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS6297110A JPS6297110A JP23673185A JP23673185A JPS6297110A JP S6297110 A JPS6297110 A JP S6297110A JP 23673185 A JP23673185 A JP 23673185A JP 23673185 A JP23673185 A JP 23673185A JP S6297110 A JPS6297110 A JP S6297110A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- thin film
- core pattern
- high permeability
- gap depth
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/3113—Details for improving the magnetic domain structure or avoiding the formation or displacement of undesirable magnetic domains
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気ヘッドに関する。
本発明は基板上に薄膜素子を積層することによって成る
磁気ヘッドにおいて、その高透磁率磁性薄膜からなるコ
アパターン形状にギャップ深さＯ位置から磁性体高さの
５分の２までの間に折れ線の節点を持たせることにより
、高透磁率磁性薄膜の磁歪電数、異方性定数等の物性に
関係なくコアパターンの磁区、構造を再生出力波形の歪
が低減するべく制御できるようにしたものである０〔従
来技術〕 従来の基板上に薄膜素子を積層することによって成る磁
気ヘッドの高透磁率磁性薄膜コアパターン形状として市
販きれているマグネックス社とサイバネックス社の例を
第２図（ａ）および（ｂ）にそれぞれ示す。いずれのコ
アパターンも先端（第２図（ａ）（ｂ）では下）にトラ
ック幅を規定する矩形の部分が一存在する。さらにそこ
よりコア接合穴へ効率よく磁束が流れかつクロストーク
の影響も小さいとさく１） れる４５°の側面角？とって、磁性体高さの２分の１以
上までｒ１１本の直線で形成されている。
磁気ヘッドにおいて、その高透磁率磁性薄膜からなるコ
アパターン形状にギャップ深さＯ位置から磁性体高さの
５分の２までの間に折れ線の節点を持たせることにより
、高透磁率磁性薄膜の磁歪電数、異方性定数等の物性に
関係なくコアパターンの磁区、構造を再生出力波形の歪
が低減するべく制御できるようにしたものである０〔従
来技術〕 従来の基板上に薄膜素子を積層することによって成る磁
気ヘッドの高透磁率磁性薄膜コアパターン形状として市
販きれているマグネックス社とサイバネックス社の例を
第２図（ａ）および（ｂ）にそれぞれ示す。いずれのコ
アパターンも先端（第２図（ａ）（ｂ）では下）にトラ
ック幅を規定する矩形の部分が一存在する。さらにそこ
よりコア接合穴へ効率よく磁束が流れかつクロストーク
の影響も小さいとさく１） れる４５°の側面角？とって、磁性体高さの２分の１以
上までｒ１１本の直線で形成されている。
〔発明が解決しようとする問題点及び目的〕しかし、前
述の従来技術では高透磁率磁性薄膜の磁歪定数や異方性
定数等の物性値が変わることにより、同じコアパターン
形状にあってもその磁区構造は大きく変化する。特にコ
アパターンに現れる磁区の数が少なくなったり、実効的
な異方性定数が小さくなることによってギャップ深さ０
位置近傍の１８０°磁壁の長さが短かくなると磁気抵（
り 抗が大きくなるうえに環流磁区の面積が大きくな（５す るから再生出力波形に歪を生じさせる原因となるという
”問題点ケ有する。
述の従来技術では高透磁率磁性薄膜の磁歪定数や異方性
定数等の物性値が変わることにより、同じコアパターン
形状にあってもその磁区構造は大きく変化する。特にコ
アパターンに現れる磁区の数が少なくなったり、実効的
な異方性定数が小さくなることによってギャップ深さ０
位置近傍の１８０°磁壁の長さが短かくなると磁気抵（
り 抗が大きくなるうえに環流磁区の面積が大きくな（５す るから再生出力波形に歪を生じさせる原因となるという
”問題点ケ有する。
ソコで本発明はこのような問題点を解決するもので、そ
の目的とすることは再生出力波形に生じる歪を低減でき
る磁気ヘッドｆ提供するところにある。
の目的とすることは再生出力波形に生じる歪を低減でき
る磁気ヘッドｆ提供するところにある。
本発明の磁気ヘッドは高透磁率磁性薄膜から成るコアパ
ターン形状がギャップ深さ０位置から磁性体高さの５分
の２までの間に折れ線の節点を有することｆ％徴とする
。
ターン形状がギャップ深さ０位置から磁性体高さの５分
の２までの間に折れ線の節点を有することｆ％徴とする
。
第１図は本発明の実施例における高透磁率磁性薄膜コア
パターン形状図である。コアパターンに生じる磁区構造
は磁歪定数によって大きく異なる第３図には磁歪定数を
変えた場合の本発明によるコアパターン形状と従来のコ
アパターン形状に現れる磁区構造を示す。高透磁率磁性
薄膜材料はＦｅ−Ｎｉ合金を用い、磁歪定数はＦｅとＮ
ｉの組成比によって変え友。本発明によるコアパターン
形状ではギャップ深さ０位置から磁性体高さの５分の２
までの間にある折れ線の節点に磁壁がピンニングされ、
同組成の高透磁率磁性薄膜を用いた従来のコアパターン
形状のものに比ベギャップ深さ０位置付近の１８０°磁
壁の長さが長くなっている。
パターン形状図である。コアパターンに生じる磁区構造
は磁歪定数によって大きく異なる第３図には磁歪定数を
変えた場合の本発明によるコアパターン形状と従来のコ
アパターン形状に現れる磁区構造を示す。高透磁率磁性
薄膜材料はＦｅ−Ｎｉ合金を用い、磁歪定数はＦｅとＮ
ｉの組成比によって変え友。本発明によるコアパターン
形状ではギャップ深さ０位置から磁性体高さの５分の２
までの間にある折れ線の節点に磁壁がピンニングされ、
同組成の高透磁率磁性薄膜を用いた従来のコアパターン
形状のものに比ベギャップ深さ０位置付近の１８０°磁
壁の長さが長くなっている。
第３図（ａ） 、 （ｃ）は磁歪定数−１，０Ｘ１０
のＮ ｉ Ｆ ｅ合金で（ａ） ｎ従来パター７例％
（ｃ）ｆ１本発明例である。
のＮ ｉ Ｆ ｅ合金で（ａ） ｎ従来パター７例％
（ｃ）ｆ１本発明例である。
また同図ら）（ｄ）は磁歪定数＋〇、５Ｘ１０ のＮ
ｉＦｅ合金で（ｂ）は従来パターン例、（ｄ）ｉ本発明
例である。
ｉＦｅ合金で（ｂ）は従来パターン例、（ｄ）ｉ本発明
例である。
ｗｃ４図は磁歪定数−１，０Ｘ１０ の場合の本発明
によるコアパターン形状と従来のコアパターン形状をそ
れぞれ用いた磁気ヘッドの再生出力波形の１例を示す。
によるコアパターン形状と従来のコアパターン形状をそ
れぞれ用いた磁気ヘッドの再生出力波形の１例を示す。
第４図（ａ）は従来のコアパターン形状音用いた場合、
＠４図（ト））は本発明によるコアパターン形状を用い
几場合の再生出力波形である。
＠４図（ト））は本発明によるコアパターン形状を用い
几場合の再生出力波形である。
本発明のコアパターン形状を用いた磁気ヘッドの再生出
力波形の万には一般にウィグルと呼ばれる波形歪が少な
い。
力波形の万には一般にウィグルと呼ばれる波形歪が少な
い。
ここで本発明でギャップ深さ０位置から磁性体高さ５分
の２までの間に折れ線の節点を有すると規定した理由に
ついて簡単に述べる。折れ線の節点を設けたというのけ
次のような理由による。同一コアパターン形状であって
もそれを形成する高透磁率磁性薄膜の物性値によって現
れる磁区構造が異なるわけだが、本発明ではコアパター
ンのギャップ深さ０位置から磁性体高さの５分の２まで
、の間に折れ線の節点を設けることによってその節点に
磁壁をピンニングする。そう−することにより高透磁率
磁性薄膜の物性値が変化してもギャップ深さ０位置に最
も近い１８０°磁壁の長さは極端に変化しない◇磁区を
考慮した磁気抵抗ＲはＲ＝Ｃ（Ｈｘ／ａＩｓ ）と書け
る。ここでｃｈ定数、ＨｘＴｆｉ高透磁率磁性薄膜の異
方性磁界、 Ｉｓは高透磁率磁性薄膜の自発磁化、ａ
はギャップ深さ０位置に最も近い１８０°磁壁（第３図
の６）の長さである。
の２までの間に折れ線の節点を有すると規定した理由に
ついて簡単に述べる。折れ線の節点を設けたというのけ
次のような理由による。同一コアパターン形状であって
もそれを形成する高透磁率磁性薄膜の物性値によって現
れる磁区構造が異なるわけだが、本発明ではコアパター
ンのギャップ深さ０位置から磁性体高さの５分の２まで
、の間に折れ線の節点を設けることによってその節点に
磁壁をピンニングする。そう−することにより高透磁率
磁性薄膜の物性値が変化してもギャップ深さ０位置に最
も近い１８０°磁壁の長さは極端に変化しない◇磁区を
考慮した磁気抵抗ＲはＲ＝Ｃ（Ｈｘ／ａＩｓ ）と書け
る。ここでｃｈ定数、ＨｘＴｆｉ高透磁率磁性薄膜の異
方性磁界、 Ｉｓは高透磁率磁性薄膜の自発磁化、ａ
はギャップ深さ０位置に最も近い１８０°磁壁（第３図
の６）の長さである。
つまりａが長い方が磁気抵抗Ｒは小さくなる。またａが
長くなることによってその両端に現れる環流磁区の面積
は小さくなり磁区構造は安定し再生出力波形に歪が現れ
ないという結果を生む。つまり周波数特性の良好な磁気
ヘッドを提供できる。
長くなることによってその両端に現れる環流磁区の面積
は小さくなり磁区構造は安定し再生出力波形に歪が現れ
ないという結果を生む。つまり周波数特性の良好な磁気
ヘッドを提供できる。
またコアパターンに折れ線の節点を設ける位置をギャッ
プ深さ０位置から磁性体高さの５分の２″！での間と規
定した理由について述べる。高透磁率磁性薄膜の物性値
によってコアパターン形状に現れる磁区構造が変化する
ことは何回も述べたが、磁歪定数の異なるＦｅ−Ｎｉ合
金で折れ線の節点の位置を変えることによってギャップ
深さ０位置に最も近い１８０°磁壁（第３図の６）の長
さがどう変化するか第５図に示す。折れ線の節点の位置
によって１８０°磁壁ａの長さは変化している。しかも
磁歪定数大が変わった場合でその変化の仕方は多少異な
っている。しかし第５図に示したようにａが最大値をと
るのは磁性体高ざの５分の２以下に折れ線の節点がある
場合である。このような理由から本発明ではコアパター
ン形状のギャップ深さ０から磁性体高さの５分の２まで
の間に折れ線の節点を設けることとした。
プ深さ０位置から磁性体高さの５分の２″！での間と規
定した理由について述べる。高透磁率磁性薄膜の物性値
によってコアパターン形状に現れる磁区構造が変化する
ことは何回も述べたが、磁歪定数の異なるＦｅ−Ｎｉ合
金で折れ線の節点の位置を変えることによってギャップ
深さ０位置に最も近い１８０°磁壁（第３図の６）の長
さがどう変化するか第５図に示す。折れ線の節点の位置
によって１８０°磁壁ａの長さは変化している。しかも
磁歪定数大が変わった場合でその変化の仕方は多少異な
っている。しかし第５図に示したようにａが最大値をと
るのは磁性体高ざの５分の２以下に折れ線の節点がある
場合である。このような理由から本発明ではコアパター
ン形状のギャップ深さ０から磁性体高さの５分の２まで
の間に折れ線の節点を設けることとした。
以上述べたように本発明によれば、高透磁率磁性薄膜の
磁歪定数を変えてもギャップ深さ０位置から磁性体高さ
の５分の２までの間に存在する折ｔｌＡＩの節点に磁壁
がピンニングされるためにギャップ深さ０位置近傍の１
８０°磁壁の長さに大きな変化はなく、高透磁率磁性薄
膜の物性を変化させてもコアパターン形状に現れる磁区
構造上再生出力波形に生じる歪を低減できるように制御
できるという効果がある。また本実施例では高透磁率磁
性薄膜にＦｅ−Ｎｉ合合金用用たが、同様の効果がｃｏ
系アモルファス合金、センダスト合金においても期待で
きる。
磁歪定数を変えてもギャップ深さ０位置から磁性体高さ
の５分の２までの間に存在する折ｔｌＡＩの節点に磁壁
がピンニングされるためにギャップ深さ０位置近傍の１
８０°磁壁の長さに大きな変化はなく、高透磁率磁性薄
膜の物性を変化させてもコアパターン形状に現れる磁区
構造上再生出力波形に生じる歪を低減できるように制御
できるという効果がある。また本実施例では高透磁率磁
性薄膜にＦｅ−Ｎｉ合合金用用たが、同様の効果がｃｏ
系アモルファス合金、センダスト合金においても期待で
きる。
第１図はコアパターン図
第２図（ａ）、（ｂ）はコアパターン形状図Ｍ ３ 図
（ａ）〜（ｄ）はコアパターンに現れる磁区構造図 ′ｔ、４図（ａ） 、 （ｂ）は再生出力波形図第５図
は折れ線の節点位置と１８０°磁壁の長さの相関図、で
ある。 １・・・・・・折れ線の節点 ２・・・−・・・磁性体高ζ ３・・・・・・ギャップ深さ０位置 ４・・・・・・コア接合穴 ５・・・・・・ウィグル ６・・・・・・１８０°磁壁の長さ８ 以上
（ａ）〜（ｄ）はコアパターンに現れる磁区構造図 ′ｔ、４図（ａ） 、 （ｂ）は再生出力波形図第５図
は折れ線の節点位置と１８０°磁壁の長さの相関図、で
ある。 １・・・・・・折れ線の節点 ２・・・−・・・磁性体高ζ ３・・・・・・ギャップ深さ０位置 ４・・・・・・コア接合穴 ５・・・・・・ウィグル ６・・・・・・１８０°磁壁の長さ８ 以上
Claims (1)
- 基板上に薄膜素子を積層することによって成る磁気ヘッ
ドにおいて高透磁率磁性薄膜から成るコアパターン形状
の、ギャップ深さ０位置から磁性体高さの５分の２まで
の間に折れ線の節点を有することを特徴とする磁気ヘッ
ド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23673185A JPS6297110A (ja) | 1985-10-23 | 1985-10-23 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23673185A JPS6297110A (ja) | 1985-10-23 | 1985-10-23 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6297110A true JPS6297110A (ja) | 1987-05-06 |
Family
ID=17004949
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23673185A Pending JPS6297110A (ja) | 1985-10-23 | 1985-10-23 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6297110A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0580027A2 (en) * | 1992-07-20 | 1994-01-26 | Read-Rite Corporation | Thin film magnetic head |
-
1985
- 1985-10-23 JP JP23673185A patent/JPS6297110A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0580027A2 (en) * | 1992-07-20 | 1994-01-26 | Read-Rite Corporation | Thin film magnetic head |
| EP0580027A3 (ja) * | 1992-07-20 | 1994-08-03 | Read Rite Corp |
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