JPS62860B2 - - Google Patents
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- JPS62860B2 JPS62860B2 JP54094590A JP9459079A JPS62860B2 JP S62860 B2 JPS62860 B2 JP S62860B2 JP 54094590 A JP54094590 A JP 54094590A JP 9459079 A JP9459079 A JP 9459079A JP S62860 B2 JPS62860 B2 JP S62860B2
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Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
- C23C16/4481—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by evaporation using carrier gas in contact with the source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
-
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
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- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
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- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はガラス強化用に用いられる有機金属
化合物混合ガスを発生させる装置に関する。
化合物混合ガスを発生させる装置に関する。
ガラス製品の表面に金属酸化膜を生成させる
と、ガラス表面のフローが埋められてガラス強度
が増大し同時に耐擦傷性が向上することがよく知
られている。上記のガラス強化の目的で２塩化ジ
メチル錫や３塩化メチル錫などの有機金属化合物
をガス化して空気との混合ガスを得、これをガラ
スびん等に吹きつけて酸化錫被膜を形成させるこ
とがおこなわれている。ところが上記有機金属化
合物と空気との混合ガス（以下単に混合ガスと称
する。）を得るには、一般に第１図に示すように
粉末状の有機金属化合物１を収容したタンク２内
に吹込管３から加熱空気を吹込み、有機金属化合
物の昇華性を利用して気化させ流出管４から流出
させていたので、次の理由により一定濃度の混合
ガスを得ることが困難であつた。すなわち有機金
属化合物が部分的に溶触して加熱空気と接触する
表面積が時間と共にかわること、および有機金属
化合物の気化に伴いその表面（上面）は第１図に
破線５で示すように降下し、加熱空気吹出口６と
有機金属化合物表面との距離が変ること等のため
気化量が変化する。またガラスびんへの蒸着など
使用側における連続操業に応じるためには、別に
有機金属化合物を収容した予備タンクを用意して
タンクの切換により混合ガスを連続供給していた
ので、このタンク切換の際にも混合ガスの濃度が
変化するのである。このように混合ガスの濃度が
変化するとガラスの強化の程度が変動し好ましく
ない。この発明は上記従来の欠点を解消するもの
で、混合ガスの濃度の変動が小さくかつ濃度の調
整も容易であるガラス強化用有機金属化合物混合
ガスの発生装置を提供しようとするものである。
と、ガラス表面のフローが埋められてガラス強度
が増大し同時に耐擦傷性が向上することがよく知
られている。上記のガラス強化の目的で２塩化ジ
メチル錫や３塩化メチル錫などの有機金属化合物
をガス化して空気との混合ガスを得、これをガラ
スびん等に吹きつけて酸化錫被膜を形成させるこ
とがおこなわれている。ところが上記有機金属化
合物と空気との混合ガス（以下単に混合ガスと称
する。）を得るには、一般に第１図に示すように
粉末状の有機金属化合物１を収容したタンク２内
に吹込管３から加熱空気を吹込み、有機金属化合
物の昇華性を利用して気化させ流出管４から流出
させていたので、次の理由により一定濃度の混合
ガスを得ることが困難であつた。すなわち有機金
属化合物が部分的に溶触して加熱空気と接触する
表面積が時間と共にかわること、および有機金属
化合物の気化に伴いその表面（上面）は第１図に
破線５で示すように降下し、加熱空気吹出口６と
有機金属化合物表面との距離が変ること等のため
気化量が変化する。またガラスびんへの蒸着など
使用側における連続操業に応じるためには、別に
有機金属化合物を収容した予備タンクを用意して
タンクの切換により混合ガスを連続供給していた
ので、このタンク切換の際にも混合ガスの濃度が
変化するのである。このように混合ガスの濃度が
変化するとガラスの強化の程度が変動し好ましく
ない。この発明は上記従来の欠点を解消するもの
で、混合ガスの濃度の変動が小さくかつ濃度の調
整も容易であるガラス強化用有機金属化合物混合
ガスの発生装置を提供しようとするものである。
しかしてこの発明は上部に加熱空気の流入口を
そなえ下部に混合ガスの流出口をそなえた容器内
に、ガス体が流通自在な仕切板を上記流入口と上
記流出口との間に設け、上記仕切板上に複数個の
球状体を積層し、上記仕切板上の上記球状体の攪
拌をおこなう攪拌翼と該攪拌翼駆動用の駆動装置
を設けるとともに、有機金属化合物の水溶液の供
給管を上記容器内の上記球状体の上方に開口させ
たガラス強化用有機金属化合物混合ガスの発生装
置である。
そなえ下部に混合ガスの流出口をそなえた容器内
に、ガス体が流通自在な仕切板を上記流入口と上
記流出口との間に設け、上記仕切板上に複数個の
球状体を積層し、上記仕切板上の上記球状体の攪
拌をおこなう攪拌翼と該攪拌翼駆動用の駆動装置
を設けるとともに、有機金属化合物の水溶液の供
給管を上記容器内の上記球状体の上方に開口させ
たガラス強化用有機金属化合物混合ガスの発生装
置である。
以下第２図乃至第４図によりこの発明をさらに
詳しく説明する。
詳しく説明する。
図中、７は空気供給口で、図示しない送風機な
どの外部の空気圧供給源に接続されている。８は
減圧弁、９は流量計、１０は流量調節弁で加熱空
気流量を調節するためのものである。１１は空気
加熱器で、電気ヒータ１２あるいは蒸気等他の形
式の加熱源をそなえたものである。１３は撹拌槽
で、有機金属化合物の水溶液（以下、単に水溶液
と称する。）を得るためのものであり、多数の散
気孔を穿設した撹拌用の散気管１４をそなえ、１
５は空気供給用の開閉弁、１６は水溶液流出管路
の開閉弁である。１７は水溶液の貯槽、１８はポ
ンプ、１９はこのポンプ駆動用のモータ、２０は
流量調節弁、２１は流量計である。２２は混合ガ
ス発生装置で、２３はその加熱空気流入口、２４
は水溶液流入口、２５は混合ガス流出口、２６は
加熱用の電気ヒータ、２７は混合ガス発生装置内
部撹拌用（後述）の揺動式アクチユエータであ
る。２８はこのアクチユータの制御用の電磁式切
換弁、２９は同じく流量調節弁である。混合ガス
発生装置２２の内部構造は第３図および第４図に
示す通りで、２段形の筒状の容器本体３０内に内
筒３１を挿脱自在に挿入して蓋３２を被着し、底
部には蓋３３をそなえたダスト取出管３４を取付
けてある。内筒３１の底には多数の小穴３５を穿
設した仕切板３６が固着され、この仕切板上には
アルミナ製の球３７が複数個積層されている。３
８はこの球を撹拌するための撹拌翼で、仕切板３
６および蓋３２に設けた軸受３９および４０によ
り回転自在に支承された軸４１に固着され、この
軸の上端部は揺動式アクチユエータ２７の出力軸
にカツプリング４２を介して連結されている。揺
動式アクチユエータ２７はブラケツト４３を介し
て蓋３２に取付けられている。４４は水溶液供給
管で、その下端は球３７の上方に開口している。
どの外部の空気圧供給源に接続されている。８は
減圧弁、９は流量計、１０は流量調節弁で加熱空
気流量を調節するためのものである。１１は空気
加熱器で、電気ヒータ１２あるいは蒸気等他の形
式の加熱源をそなえたものである。１３は撹拌槽
で、有機金属化合物の水溶液（以下、単に水溶液
と称する。）を得るためのものであり、多数の散
気孔を穿設した撹拌用の散気管１４をそなえ、１
５は空気供給用の開閉弁、１６は水溶液流出管路
の開閉弁である。１７は水溶液の貯槽、１８はポ
ンプ、１９はこのポンプ駆動用のモータ、２０は
流量調節弁、２１は流量計である。２２は混合ガ
ス発生装置で、２３はその加熱空気流入口、２４
は水溶液流入口、２５は混合ガス流出口、２６は
加熱用の電気ヒータ、２７は混合ガス発生装置内
部撹拌用（後述）の揺動式アクチユエータであ
る。２８はこのアクチユータの制御用の電磁式切
換弁、２９は同じく流量調節弁である。混合ガス
発生装置２２の内部構造は第３図および第４図に
示す通りで、２段形の筒状の容器本体３０内に内
筒３１を挿脱自在に挿入して蓋３２を被着し、底
部には蓋３３をそなえたダスト取出管３４を取付
けてある。内筒３１の底には多数の小穴３５を穿
設した仕切板３６が固着され、この仕切板上には
アルミナ製の球３７が複数個積層されている。３
８はこの球を撹拌するための撹拌翼で、仕切板３
６および蓋３２に設けた軸受３９および４０によ
り回転自在に支承された軸４１に固着され、この
軸の上端部は揺動式アクチユエータ２７の出力軸
にカツプリング４２を介して連結されている。揺
動式アクチユエータ２７はブラケツト４３を介し
て蓋３２に取付けられている。４４は水溶液供給
管で、その下端は球３７の上方に開口している。
４５は加熱空気供給管で、内筒３１に穿設した
穴４６を経て内筒３１内に連通している。４７は
加熱空気流入温度検出用の温度検出器である。ま
た４８は混合ガス流出管であり、４９は混合ガス
流出温度検出用の温度検出器である。なお図示を
省略したが容器本体３０の外周部は電気ヒータ
（第２図における２６）および保温材で囲繞され
ている。
穴４６を経て内筒３１内に連通している。４７は
加熱空気流入温度検出用の温度検出器である。ま
た４８は混合ガス流出管であり、４９は混合ガス
流出温度検出用の温度検出器である。なお図示を
省略したが容器本体３０の外周部は電気ヒータ
（第２図における２６）および保温材で囲繞され
ている。
上記構成の装置を用いて混合ガスの発生は次の
ようにしておこなう。先ず撹拌槽１３内に予め定
めた量の水と粉末状の有機金属化合物を投入して
撹拌をおこない所定の濃度の水溶液をバツチ式に
調製する。この水溶液を貯槽１７内に常に所定レ
ベル以上貯え、ポンプ１８を運転して一定流量の
水溶液を水溶液流入口２４から混合ガス発生装置
２２内に連続的に供給する。一方所定流量の空気
を空気加熱器１１によりたとえば200〜250℃に加
熱して加熱空気流入口２３から混合ガス発生装置
２２内に供給する。電磁式切換弁２８の断続通電
により揺動式アクチユエータ２７を運転し撹拌翼
３８を間欠的あるいは連続的に180゜乃至360゜往
復回動させて球３７の撹拌をおこなう。水溶液供
給管４４から球３７上に滴下された水溶液は、球
３７の表面を濡らして加熱空気との充分な接触面
積が得られるので短時間で確実に気化し、この水
溶液の気化ガスは加熱空気と共に仕切板３６を流
過して、混合ガス流出管４８を経て混合ガス流出
口２５から所定の濃度の混合ガスとして外部に供
給されるのである。加熱空気の温度および混合ガ
スの温度は温度検出器４７および４９の検出値を
もとに電気ヒータ１２，２６のオンオフ制御等を
おこなつて所定の温度に制御する。混合ガス発生
装置２２に供給される加熱空気の温度と流量、お
よび水溶液の濃度と流量を一定に維持することに
より一定濃度の混合ガスが連続的に得られるとと
もに、これらの諸量を変えることにより混合ガス
の濃度を容易に調整できるのである。
ようにしておこなう。先ず撹拌槽１３内に予め定
めた量の水と粉末状の有機金属化合物を投入して
撹拌をおこない所定の濃度の水溶液をバツチ式に
調製する。この水溶液を貯槽１７内に常に所定レ
ベル以上貯え、ポンプ１８を運転して一定流量の
水溶液を水溶液流入口２４から混合ガス発生装置
２２内に連続的に供給する。一方所定流量の空気
を空気加熱器１１によりたとえば200〜250℃に加
熱して加熱空気流入口２３から混合ガス発生装置
２２内に供給する。電磁式切換弁２８の断続通電
により揺動式アクチユエータ２７を運転し撹拌翼
３８を間欠的あるいは連続的に180゜乃至360゜往
復回動させて球３７の撹拌をおこなう。水溶液供
給管４４から球３７上に滴下された水溶液は、球
３７の表面を濡らして加熱空気との充分な接触面
積が得られるので短時間で確実に気化し、この水
溶液の気化ガスは加熱空気と共に仕切板３６を流
過して、混合ガス流出管４８を経て混合ガス流出
口２５から所定の濃度の混合ガスとして外部に供
給されるのである。加熱空気の温度および混合ガ
スの温度は温度検出器４７および４９の検出値を
もとに電気ヒータ１２，２６のオンオフ制御等を
おこなつて所定の温度に制御する。混合ガス発生
装置２２に供給される加熱空気の温度と流量、お
よび水溶液の濃度と流量を一定に維持することに
より一定濃度の混合ガスが連続的に得られるとと
もに、これらの諸量を変えることにより混合ガス
の濃度を容易に調整できるのである。
なお球３７を濡らした水溶液の蒸発に伴い、球
３７の表面には水溶液中の不揮発分がスケール状
に付着するが、撹拌翼３８による撹拌作用により
該不揮発分は球３７から剥離されてダスト取出管
３４内に溜まり、球３７の表面は常に良好な状態
に維持され、加熱空気の流通および水溶液の蒸発
に支障をきたすことがない。ダスト取出管３４に
蓄積した不揮発分は適当な時期に蓋３３を開いて
外部へ排出すればよい。なお本実施例では混合ガ
ス流出管４８は容器本体３０の二重筒部３０ａに
設けられ、混合ガスは下降流から反転して上昇後
混合ガス流出管４８に流入するようにされている
ので、球３７の表面から剥離し混合ガス中に混入
した不揮発分の分離が充分におこなわれる。
３７の表面には水溶液中の不揮発分がスケール状
に付着するが、撹拌翼３８による撹拌作用により
該不揮発分は球３７から剥離されてダスト取出管
３４内に溜まり、球３７の表面は常に良好な状態
に維持され、加熱空気の流通および水溶液の蒸発
に支障をきたすことがない。ダスト取出管３４に
蓄積した不揮発分は適当な時期に蓋３３を開いて
外部へ排出すればよい。なお本実施例では混合ガ
ス流出管４８は容器本体３０の二重筒部３０ａに
設けられ、混合ガスは下降流から反転して上昇後
混合ガス流出管４８に流入するようにされている
ので、球３７の表面から剥離し混合ガス中に混入
した不揮発分の分離が充分におこなわれる。
なお上記実施例において、球３７としてはアル
ミナ球以外にガラス、陶磁器あるいは金属などの
球を用いてもよい。
ミナ球以外にガラス、陶磁器あるいは金属などの
球を用いてもよい。
またこの発明は水溶性を有するガラス強化用の
有機金属化合物全般に適用できるものである。
有機金属化合物全般に適用できるものである。
以上説明したように、この発明によれば、水溶
液と加熱空気との接触面積を広げる手段として容
器内の仕切板上に積層した複数個の球状体を用い
ているので、小形の装置により充分な接触面積が
得られ、またこの球状体の攪拌装置は小形小動力
のもので済む。またこの攪拌装置の攪拌作用によ
り球状体表面から剥離したスケール状の不揮発分
は、混合ガス流と共に迅速に仕切板下方に落下す
るので、球状体の表面は常に清浄状態に維持され
蒸発速度の変動や加熱空気流過量の変動が少な
く、従つて容器内に供給する加熱空気の温度と流
量、および水溶液の濃度と流量を一定に維持する
ことにより、濃度変動の少ない混合ガスが連続的
に得られるとともに、これらの諸量を変えること
により混合ガスの濃度を容易に調整できるのであ
る。
液と加熱空気との接触面積を広げる手段として容
器内の仕切板上に積層した複数個の球状体を用い
ているので、小形の装置により充分な接触面積が
得られ、またこの球状体の攪拌装置は小形小動力
のもので済む。またこの攪拌装置の攪拌作用によ
り球状体表面から剥離したスケール状の不揮発分
は、混合ガス流と共に迅速に仕切板下方に落下す
るので、球状体の表面は常に清浄状態に維持され
蒸発速度の変動や加熱空気流過量の変動が少な
く、従つて容器内に供給する加熱空気の温度と流
量、および水溶液の濃度と流量を一定に維持する
ことにより、濃度変動の少ない混合ガスが連続的
に得られるとともに、これらの諸量を変えること
により混合ガスの濃度を容易に調整できるのであ
る。
第１図は従来の有機金属化合物混合ガス発生装
置の縦断面図、第２図はこの発明の一実施例を示
す機器系統図、第３図は第２図における混合ガス
発生装置の拡大縦断面図、第４図は第３図のＡ―
Ａ線断面図である。 １１……空気加熱器、１２……電気ヒータ、１
３……撹拌槽、１７……貯槽、１８…ポンプ、２
２……混合ガス発生装置、２３……加熱空気流入
口、２４……水溶液流入口、２５……混合ガス流
出口、２６……電気ヒータ、２７……揺動式アク
チユエータ、３０……容器本体、３１……内筒、
３５……小穴、３６……仕切板、３７……球、３
８……撹拌翼、４１……軸、４２……カツプリン
グ、４４……水溶液供給管、４５……加熱空気供
給管、４６……穴、４８……混合ガス流出管。
置の縦断面図、第２図はこの発明の一実施例を示
す機器系統図、第３図は第２図における混合ガス
発生装置の拡大縦断面図、第４図は第３図のＡ―
Ａ線断面図である。 １１……空気加熱器、１２……電気ヒータ、１
３……撹拌槽、１７……貯槽、１８…ポンプ、２
２……混合ガス発生装置、２３……加熱空気流入
口、２４……水溶液流入口、２５……混合ガス流
出口、２６……電気ヒータ、２７……揺動式アク
チユエータ、３０……容器本体、３１……内筒、
３５……小穴、３６……仕切板、３７……球、３
８……撹拌翼、４１……軸、４２……カツプリン
グ、４４……水溶液供給管、４５……加熱空気供
給管、４６……穴、４８……混合ガス流出管。
Claims (1)
- １ 上部に加熱空気の流入口をそなえ下部に混合
ガスの流出口をそなえた容器内に、ガス体が流通
自在な仕切板を上記流入口と上記流出口との間に
設け、上記仕切板上に複数個の球状体を積層し、
上記仕切板上の上記球状体の攪拌をおこなう攪拌
翼と該攪拌翼駆動用の駆動装置を設けるととも
に、有機金属化合物の水溶液の供給管を上記容器
内の上記球状体の上方に開口させたガラス強化用
有機金属化合物混合ガスの発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9459079A JPS5617946A (en) | 1979-07-24 | 1979-07-24 | Method and apparatus for generating gaseous mixture containing organometallic compound for tempering glass |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9459079A JPS5617946A (en) | 1979-07-24 | 1979-07-24 | Method and apparatus for generating gaseous mixture containing organometallic compound for tempering glass |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5617946A JPS5617946A (en) | 1981-02-20 |
| JPS62860B2 true JPS62860B2 (ja) | 1987-01-09 |
Family
ID=14114483
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9459079A Granted JPS5617946A (en) | 1979-07-24 | 1979-07-24 | Method and apparatus for generating gaseous mixture containing organometallic compound for tempering glass |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5617946A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010066533A (ko) * | 1999-12-31 | 2001-07-11 | 정종순 | 안정한 코팅용 기화물 생성방법 및 장치 |
| JP4638693B2 (ja) * | 2004-05-31 | 2011-02-23 | Ｊｘ日鉱日石エネルギー株式会社 | 液体燃料気化装置、液体燃料処理装置および燃料電池発電システム |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS498012A (ja) * | 1972-05-12 | 1974-01-24 | ||
| JPS5141643A (ja) * | 1974-10-05 | 1976-04-08 | Daito Kiko Kk | Metsukyokaitenkago |
| JPS5357176A (en) * | 1976-11-04 | 1978-05-24 | Hitachi Ltd | Solidifying method for salts in wase liquid |
-
1979
- 1979-07-24 JP JP9459079A patent/JPS5617946A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS498012A (ja) * | 1972-05-12 | 1974-01-24 | ||
| JPS5141643A (ja) * | 1974-10-05 | 1976-04-08 | Daito Kiko Kk | Metsukyokaitenkago |
| JPS5357176A (en) * | 1976-11-04 | 1978-05-24 | Hitachi Ltd | Solidifying method for salts in wase liquid |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5617946A (en) | 1981-02-20 |
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