JPS628495B2 - - Google Patents

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JPS628495B2
JPS628495B2 JP58047153A JP4715383A JPS628495B2 JP S628495 B2 JPS628495 B2 JP S628495B2 JP 58047153 A JP58047153 A JP 58047153A JP 4715383 A JP4715383 A JP 4715383A JP S628495 B2 JPS628495 B2 JP S628495B2
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JP
Japan
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alloy
amorphous
present
electrode
alloys
Prior art date
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Expired
Application number
JP58047153A
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English (en)
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JPS59173235A (ja
Inventor
Masaaki Naga
Hiroyasu Fujimori
Ikuo Okamoto
Yoshiaki Arata
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Metal Industry Co Ltd
Original Assignee
Nippon Metal Industry Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Metal Industry Co Ltd filed Critical Nippon Metal Industry Co Ltd
Priority to JP58047153A priority Critical patent/JPS59173235A/ja
Publication of JPS59173235A publication Critical patent/JPS59173235A/ja
Publication of JPS628495B2 publication Critical patent/JPS628495B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、クロム−炭素合金CraCb、(ただし
aとbは原子パーセント)で表示できるアモルフ
アス合金およびその製造法に関する。 在来の普通の合金は、その成分元素が固溶体を
または化合物を形成し、一定の結晶質組成を有す
る合金をなしている。そして、その合金化温度か
ら、すなわち、合金化状態から凝固させ、さらに
適当な冷却速度で処理する。処理の方法として
は、鋳造型内で凝固させて成形した合金を変形加
工し、所要の熱処理を施し、その利用に供する。 また、成分元素を粉状にし均一に混合し、次に
適当な温度で加圧焼結して成形し、その利用に供
する。こうして、長い期間、きわめて多数の合金
が発明され。今日では、多くの用途に有効に利用
されている。これらの結晶質の合金に対し、最初
から非晶質の組織から成る状態の合金を製造する
方法が、古くからないことはなかつたが、その製
造が容易でなく、量産ができなく、得られる製品
の品質維持について確実保証性が十分でないなど
の理由から、実用化するに到らなかつた。また、
現在ある結晶質合金を、その組成のままアモルフ
アス(以下非晶質とも呼ぶ)に変えるだけでは、
そして在来のその合金が適するとされている同じ
用途に利用するだけでは、その利用は無意味であ
る。アモルフアス合金自体が新規なものであつ
て、その新しい特性が確実に得られ、その特性が
全く新しい利用分野に適する場合に、実用化開拓
をされ、新しい需要が次第に増大し進展される。
また在来の結晶質合金に関する学問的基礎ができ
上つているのに比較して、アモルフアス合金に関
しては未知の分野が広く、この領域についての実
用化とともに学問的基礎も進展しよう。 一般的に、アモルフアス合金としては、多数の
成分の組合せが考えられる。多くの製造法も考え
られる。その新しい組成の一つの合金とその合金
の製造法とを確立することが、当面の重要な事項
である。アモルフアス合金として、すでに実用に
供されようとしているものがある。例えば、磁性
体、超電導材料、触媒、水素貯蔵材として、リボ
ン、細線、粉粒その他の形状で製造し適当な成形
をして用いられている。これらの大部分は、融体
急冷法または蒸着法で製造されている。融体急冷
法は溶融合金を金属板上に落下させ、急冷固化さ
せ、金属板の温度変化や雰囲気の温度を調節し
て、全体的には高い冷却速度を与えてアモルフア
ス固体を製造する。このための冷却システムにヘ
リウム流体または液体窒素を用いるものが開発さ
れている。蒸着法は、蒸着速度が遅いという欠点
がある。こうして製造したアモルフアス合金の特
性は、結晶質の合金と比較して、硬度が高いが、
脆く、加工変形が困難であり、使用中に突然に破
壊するとか、耐食性が不良であるとかの欠点があ
る。耐食性の点では、応力腐食割れ、孔食、アル
カリもしくは酸脆性が発生しやすい。また疲労損
傷を生じやすい。これらの原因は、アモルフアス
合金は、金属内部の結合力が弱く、また全体を均
一に組織にすることが困難であり、生れつきの組
織を加工で改良することができないからといわれ
ている。このように、アモルフアス合金は、結晶
合金とは違つた特性を有し、多くの適用分野で新
しく有効であると期待されながら、その内在する
欠点と、特性の確実性維持の困難さのために、ま
だ十分に実用化されるに到つていない。 本発明は、前記の現状にかんがみ、高硬度であ
り且つ耐食性の高いアモルフアス合金として、式
CraCbで表わされ、aとbとはそれぞれの合金成
分の原子パーセントで、aが80〜50、bが20〜50
である合金(以下A合金と呼ぶ。)およびその製
造法の提供を目的とする。そして、本発明の前記
のA合金は、これらを気体状態から金属を凝集さ
せて、すなわち、融体状態を経ないでガス状金属
から直接に固体合金を基板上に形成させて製造す
る。こうして、直線に、気体から合金固体を形成
することにより、一種の凍結作用を及ぼし、従来
の公知の結晶質の規則的な原子配列をとることな
く、合金内部が均一な結合力を有する原子配列が
無秩序なアモルフアス合金が形成される。 次に、本発明について実施例を示して説明す
る。第1表は本発明の代表的組成表である。第2
表は本発明の組成物及びこれと比較するための純
金属、チタン、クロム、鉄、銅の硬さを示す表で
ある。第1図は本発明の合金を製造するための装
置の一実施例を示す一部断面側面図である。第2
図は本発明の合金(第1表No.2)のX線回折のモ
デルグラフである。第3図は本発明の合金の代表
例のINの塩酸中における分極線を示す。第3表
は本発明の合金の代表例のINの塩酸30℃中にお
ける腐食速度を示す。
【表】
【表】 ビツカース硬さ(Hv)の測定は、本発明の第
2表に代表例を示した各試料につき、最小5個
所、最多10個所で行つた。いずれも均一な硬さを
示し、第2表の純金属Ti、Cr、Fe、Cuに比べて
高い硬さを示す。このような高い硬さを示す本発
明合金は、いずれも、耐摩耗性もきわめて良好で
あつた。また、第3表に示すように、塩酸耐食性
もきわめて良好であつた。そのうちの代表的な
Cr70C30について第3図に分極曲線Dを示したが
純Cr Cとほぼ同一の陽極電流密度を示す。すな
わち、純Crに匹敵する高い耐食性を示す。また
他の組成のものも、図示を省略したが全く同様な
曲線を示した。
【表】 第1図に一例示を一部断面側面図で示した装置
を用いて行う本発明のアモルフアス合金の製造法
を説明する。第1図の装置で、左側壁2と右側壁
3と、容器の周壁1とで囲つた空間4Aを有する
室4は密封することができる。室4は、最初は減
圧し10-8トルにし、高純度アルゴンのような中性
または合金に不活性の気体を充填し10-2トルを維
持する。10-2トル以上に高い圧力にすると基板温
度が上昇しアモルフアスが得られなくなり、圧力
を低くしすぎると析出速度が遅くなり実用性に不
向になる。10-3〜10-1トルの範囲が適当である。
室4の右側壁3にはタングステン・フイラメント
から成るコイル8を、左側壁には水冷するステン
レス鋼製アノード電極7を密封して装着支持す
る。コイル8に、電源9から回路18,12と1
4を通し約10V、40Aの通電をし、プラズマを点
線で図中に示した領域78内で発生させる。 室4内に、下周壁1に支持される母合金材の表
層を固着した水冷する一方のターゲツト電極6
と、この電極6にプラズマ領域78内でともに対
向して配置した他方の銅製基板を表層に固着した
冷却する他方の電極5を備え上周壁1で支持す
る。電極6の面をスパツターし合金組成原子を放
出させ、プラズマ中に発生したイオンを、1〜
2KV、最大約300mAの強い電界をかけて加速さ
せ、電極5の銅基板面に付着させ、堆積して、堆
積アモルフアス合金を前記の基板5面上に製造す
る。母合金材は、所定の組成を含有するようにア
ーク溶解で予め所定の形状、例えばボタン状円板
に形成してターゲツトホルダー上に保持してスパ
ツターする。ターゲツト6と銅製基板5とは、水
冷してあり、基板を冷却することで、合金の冷却
速度を高め、凍結効果を上げる。 10時間の連続スパツタリングを行い、アモルフ
アス合金の堆積層は、直径が約40mm、厚さが約50
μmであつた。第1表の例示組成合金Cr70C30
金のスパッター前の結晶質母合金Cr70C30は、第
2図に示す点線で表わすX線回析強度曲線Bを呈
し、基板上に形成したアモルフアス合金Cr70C30
(第1表、No.2)は、アモルフアス特有の散漫な
X線回析強度曲線Aを呈する。他の組成の本発明
の合金も、図示しないが、同様なX線回析強度曲
線を示す。 アモルフアス合金であることを確認するのに
は、X線回析強度線を作成して行う。普通の結晶
質合金は、通常、特定の角度をもつた回析線を示
すが、アモルフアス合金は、ゆるやかな回析像を
示す。また、この合金は、第2表に示すように、
ビツカース硬度が著しく高い。純金属と比較して
も、顕著に差があることが認められる。 このように、結晶質合金を母材として、ブラズ
マ中でスパツターして、気体状態合金として放出
し、冷却基板上に堆積層を形成して製造したアモ
ルフアス合金は、前記の実施例に限らず、本発明
のすべての組成のA合金について結論できること
を確認した。また、本発明の合金はプラズマ中で
スパツターして堆積層を形成して、良好な純度と
均一性を有し、介在物や内在転位を含まない。こ
の結果として、原子結合を均一に且つ良好にし、
破壊発生の起点となり、また腐食発生の源となる
ものを内在しない。したがつて、高硬度を呈する
と同時に、高い強度、高い耐食性および使用上の
確実保証性を有する。 また、前記の実施例で行つた基板上に堆積層と
して形成したアモルフアス合金の形状は、比較的
大で、広く利用されている銅製円板の外周上に吹
きつけて急冷する融体急冷法で製造することがで
きるものに比較して、幅、厚さなど、その形状が
制限されることはない。 前記の本発明の例示組成のアモルフアス合金が
高硬度を呈するのは、金属と半金属との間の結合
と固溶が良好であることによる。また、その耐食
性は、第3図にINの塩酸中における分極曲線D
で、同液中における純クロムの分極曲線Cと比較
して示したように、ほぼ同等の高い耐食性を表わ
している。第3表に他の組成の本発明の合金の30
℃のINのHCl中の腐食速度を示した。これらも図
示しないが第3図と同様な分極曲線を示した。す
でに説明したように、本発明は、式CraCb(aは
80〜50、bは20〜50原子%)の組成から成るアモ
ルフアス合金であつて、良好な内部組織を有し、
介在物または転位も含むことがなく、全体にわた
り均一である。各合金原子は均一固溶し金属と半
金属との結合も良好である結果として、高硬度で
高耐食性を有し強度が大である。 また、合金をガス状態から直接に固化し堆積層
を形成する本発明のアモルフアス合金の製造法
は、広く用いられる融体急冷法と比較して、比較
的大きな幅と厚さの形状を付したアモルフアス合
金を形成する。この本発明の製造法は、密封室内
でアルゴンのような中性気体または本発明の合金
と反応しない不活性気体中で、プラズマ領域を形
成し、その領域内でスパツターする電極ターゲツ
トに一定組成の結晶質合金を用い、対向する冷却
銅製基板上にアモルフアス合金を堆積層として製
造するものである。 こうして製造した本発明の合金は、高硬度、高
強度、高耐食性を有する。また、内部が均一で原
子間結合がきわめて良好であり、使用時の確実保
証性が著しく顕著に向上する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のアモルフアス合金の製造法を
適用するための装置の一例示、一部断面側面図。
第2図は、本発明の合金の一例示組成のもののX
線回析強度曲線と同組成の結晶質合金のそれとの
比較図、第3図は、本発明の一例示組成合金
Cr70C30の塩酸中の分極曲線Dと純クロムのそれ
Cとの比較図。 1,2,3,10,11……周壁、4……密封
室、4A……空間、5……冷却基板、6……ター
ゲツト電極、7……アノード、78……プラズマ
冷域、9……電源、12,13,14……回路。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式CraCbで表わされ、aが80〜50原子パーセ
    ントでbが20〜50原子パーセントである組成であ
    ることを特徴とする高硬度と高耐食性を有するア
    モルフアス合金。 2 製造しようとする合金と反応しない気体を充
    填した密封室内でプラズマ領域を形成し該領域内
    に対向する電極を設けてアモルフアス合金を製造
    するものにおいて、所要の減圧下に維持した密封
    室内に前記のプラズマ領域を設け該領域内で一方
    のターゲツト電極の面に母材合金を固着し該電極
    に対向する冷却基板を備えた他方の電極の面を配
    置し、ターゲツト電極面の母材合金に通電スパツ
    ターして生成する気体状態の合金を前記のプラズ
    マ中で前記の冷却基板面に集め固化しアモルフア
    ス合金堆積層を形成して得ることを特徴とする式
    CraCbで表わされ、aが80〜50原子パーセントで
    bが20〜50原子パーセントである組成である高硬
    度と高耐食性を有するアモルフアス合金の製造
    法。
JP58047153A 1983-03-23 1983-03-23 高硬度と高耐食性を有するアモルフアス合金およびその合金の製造法 Granted JPS59173235A (ja)

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