JPH0234737A - 耐食、耐熱性アルミニウム基合金薄膜とその製造法 - Google Patents
耐食、耐熱性アルミニウム基合金薄膜とその製造法Info
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 38
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 21
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims abstract description 21
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 title claims abstract description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 9
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 claims abstract description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 19
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 abstract 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- 238000001659 ion-beam spectroscopy Methods 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000002294 plasma sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 229910018131 Al-Mn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018461 Al—Mn Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C45/00—Amorphous alloys
- C22C45/08—Amorphous alloys with aluminium as the major constituent
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
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- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、硬度及び強度が高く、高耐摩耗性を杓°シ、
かつ耐食性、耐熱性に優れたアルミニウム基合金薄膜お
よびその製造法に関する。
かつ耐食性、耐熱性に優れたアルミニウム基合金薄膜お
よびその製造法に関する。
［従来の技術］
従来のアルミニウム基合金薄膜には、純Ａｔ系、Ａ ｌ
−Ｍｇ系、Ａｌ−Ｍｎ系等の成分系の合金が知られてお
り、その材料特性に応じて、例えば電子材料、パッケー
ジ材料、装飾材料等として、薄膜圧延及び薄膜ラミネー
ト、真空蒸着、スパッタ蒸着等の手法により製造され、
広範囲の用途に供されている。
−Ｍｇ系、Ａｌ−Ｍｎ系等の成分系の合金が知られてお
り、その材料特性に応じて、例えば電子材料、パッケー
ジ材料、装飾材料等として、薄膜圧延及び薄膜ラミネー
ト、真空蒸着、スパッタ蒸着等の手法により製造され、
広範囲の用途に供されている。
［発明が解決しようとする課題］
従来のアルミニウム基合金薄膜は一般に硬度が低く、ま
た耐熱性も低く耐食性も十分ではない。
た耐熱性も低く耐食性も十分ではない。
本発明は上記に鑑み、高硬度、高耐摩耗性ををし、かつ
耐食性、耐熱性に優れ、また大きな曲げ加工にも耐える
新規なアルミニウム基合金を比較的安価に提供するもの
である。
耐食性、耐熱性に優れ、また大きな曲げ加工にも耐える
新規なアルミニウム基合金を比較的安価に提供するもの
である。
［課題を解決するための手段］
本発明（１）は、
一般式： Ａ ｌ 、 Ｎ ｉｂ Ｘ ｃ Ｎ ａただ
し、Ｘ：Ｙ、Ｚｒから選ばれる一種の金属元素、ａＳｂ
、ａＳｄは原子パ ーセントで ７０≦ａ≦９３ ０．５≦ｂ≦７，５ ０．５≦ｃ≦１２ １≦ｄ≦１８ で示される組成を有し、少くとも５０パーセント（体積
率）の非晶質を有する複合体からなる耐食、耐熱アルミ
ニウム基合金薄膜である。
し、Ｘ：Ｙ、Ｚｒから選ばれる一種の金属元素、ａＳｂ
、ａＳｄは原子パ ーセントで ７０≦ａ≦９３ ０．５≦ｂ≦７，５ ０．５≦ｃ≦１２ １≦ｄ≦１８ で示される組成を有し、少くとも５０パーセント（体積
率）の非晶質を有する複合体からなる耐食、耐熱アルミ
ニウム基合金薄膜である。
上記一般式で示される本発明のアルミニウム基合金薄膜
において、原子％でａｓ ｂｓ ＣＳｄをそれぞれ上記
のように限定したのは、おのおのその範囲から外れると
アモルファス化しにくくなったり、脆弱になって曲げ加
工がしにくくなり、スパッタ蒸着等の工業的な手段では
、少くとも５０パーセント（体積比）のアモルファス相
からなる複合体を得ることができなくなるからである。
において、原子％でａｓ ｂｓ ＣＳｄをそれぞれ上記
のように限定したのは、おのおのその範囲から外れると
アモルファス化しにくくなったり、脆弱になって曲げ加
工がしにくくなり、スパッタ蒸着等の工業的な手段では
、少くとも５０パーセント（体積比）のアモルファス相
からなる複合体を得ることができなくなるからである。
Ｘ元素はＺｒ５Ｙより選ばれる金属元素であり、アモル
ファス形成能を向上させる効果を持ち、併せて耐食性を
向上させ、又、硬度と強度を向上させる。
ファス形成能を向上させる効果を持ち、併せて耐食性を
向上させ、又、硬度と強度を向上させる。
Ｎｉ元元素アモルファス形成能を向上させる効果を持つ
が、他の重要な効果としてはアモルファス構造を持ちな
がら展延性を付与する効果を持つ。
が、他の重要な効果としてはアモルファス構造を持ちな
がら展延性を付与する効果を持つ。
Ｎ元素は合金中に分散し、特にアルミニウムと化学的に
強固に結合することにより、アモルファス相を安定化さ
せる効果を持ち、又、結晶化温度を著しく向上させる効
果を持つ。
強固に結合することにより、アモルファス相を安定化さ
せる効果を持ち、又、結晶化温度を著しく向上させる効
果を持つ。
本発明のアルミニウム基合金薄膜は、組成によっては高
度の粘さを持ち、１８０°の密着曲げを行っても亀裂を
発生したり、基体からの剥離を生じないものもある。
度の粘さを持ち、１８０°の密着曲げを行っても亀裂を
発生したり、基体からの剥離を生じないものもある。
本発明（２）は、耐食、耐熱性アルミニウム基合金薄膜
の製造法であって、上記一般式で示される組成になるよ
うに配合した材料あるいは窒素源のみはガス状で供給す
る材料をスパッタ蒸着、真空蒸着、イオンプレーティン
グの如き薄膜形成手段を用いて基体表面に付着させ、上
記組成の薄膜を形成することを特徴とするものである。
の製造法であって、上記一般式で示される組成になるよ
うに配合した材料あるいは窒素源のみはガス状で供給す
る材料をスパッタ蒸着、真空蒸着、イオンプレーティン
グの如き薄膜形成手段を用いて基体表面に付着させ、上
記組成の薄膜を形成することを特徴とするものである。
上記において、基体としては、板、ワイヤーフィラメン
ト、パイプまたは異形の金属材料、樹脂材料が用いられ
る。
ト、パイプまたは異形の金属材料、樹脂材料が用いられ
る。
スパッタ蒸着法には、２極スパツタ法、３極・４極スパ
ツタ法、マグネトロンスパッタ法、対向ターゲット式ス
パッタ法、イオンビームスパッタ法、デュアルイオンビ
ームスパッタ法等があり、史に前者４方式には直流印加
式と高周波印加式かある。本発明（２）ではいずれの方
法も適用できる。又、スパッタ蒸着法によらず、真空蒸
着法、イオンプレーティング法によっても本発明は実施
することができる。
ツタ法、マグネトロンスパッタ法、対向ターゲット式ス
パッタ法、イオンビームスパッタ法、デュアルイオンビ
ームスパッタ法等があり、史に前者４方式には直流印加
式と高周波印加式かある。本発明（２）ではいずれの方
法も適用できる。又、スパッタ蒸着法によらず、真空蒸
着法、イオンプレーティング法によっても本発明は実施
することができる。
スパッタ蒸着法について説明すると、スパッタ蒸着法と
はイオンガンまたはプラズマ等により発生させたイオン
源を、形成させようとする薄膜物質と同一組成からなる
ターゲットに衝突させ、その衝撃によりターゲットから
発生した原子状、分子状またはクラスター状の中性粒子
またはイオン粒子を基板上に沈着させることにより製造
するものである。ただし本発明における窒素元素につい
ては、ターゲット内に他の元素との窒化物の形で存在せ
しめておいてもよいし、スパッタ雰囲気中にガスとして
混入しておいてもよい。
はイオンガンまたはプラズマ等により発生させたイオン
源を、形成させようとする薄膜物質と同一組成からなる
ターゲットに衝突させ、その衝撃によりターゲットから
発生した原子状、分子状またはクラスター状の中性粒子
またはイオン粒子を基板上に沈着させることにより製造
するものである。ただし本発明における窒素元素につい
ては、ターゲット内に他の元素との窒化物の形で存在せ
しめておいてもよいし、スパッタ雰囲気中にガスとして
混入しておいてもよい。
そして例えば、イオンビームスパッタ法、プラズマスパ
ッタ法等が特に有効であり、これらの方法では１０５〜
１０’ ｋ／ｓｅｃ程度の冷却速度が得られる。かかる
冷却速度により、少くとも５０パーセント（体積比）の
アモルファス相からなる合金薄膜を製造することができ
る。また、薄膜の厚さは処理時間の長さにより制御する
ことができ、通常は１時間当り ２〜７μｍの形成速度
である。
ッタ法等が特に有効であり、これらの方法では１０５〜
１０’ ｋ／ｓｅｃ程度の冷却速度が得られる。かかる
冷却速度により、少くとも５０パーセント（体積比）の
アモルファス相からなる合金薄膜を製造することができ
る。また、薄膜の厚さは処理時間の長さにより制御する
ことができ、通常は１時間当り ２〜７μｍの形成速度
である。
さらにマグネトロンプラズマスパッタ法を用いて本発明
を実施する場合について具体的に説明すると、スパッタ
ガスを １〜ＩＯＸ １０−３ｍｂａｒの低圧に保った
容器内に電極（電極）と窒素を除く上記組成からなるタ
ーゲット（−極）を電極間距離４０〜８００１１１で対
向させ、電極間に２００〜５００Ｖを印加し電極間にプ
ラズマを発生させる。
を実施する場合について具体的に説明すると、スパッタ
ガスを １〜ＩＯＸ １０−３ｍｂａｒの低圧に保った
容器内に電極（電極）と窒素を除く上記組成からなるタ
ーゲット（−極）を電極間距離４０〜８００１１１で対
向させ、電極間に２００〜５００Ｖを印加し電極間にプ
ラズマを発生させる。
このプラズマ領域内またはプラズマ領域近傍に薄膜を沈
着させようとする基体を配置し薄膜を形成させる。 ス
パッタガスは基本的にはアルゴンガスであり、目的とす
る薄膜の窒素成分の濃度に応じて窒素ガスを５〜２０パ
ーセント（容量比）の範囲で変化させて、アルゴンガス
に混入することにより薄膜中の窒素成分を制御する。
着させようとする基体を配置し薄膜を形成させる。 ス
パッタガスは基本的にはアルゴンガスであり、目的とす
る薄膜の窒素成分の濃度に応じて窒素ガスを５〜２０パ
ーセント（容量比）の範囲で変化させて、アルゴンガス
に混入することにより薄膜中の窒素成分を制御する。
基本的にはスパッタガスを封じ込めた密閉系でスパッタ
蒸着が可能であるがスパッタガス応力及びアルゴンガス
と窒素ガスの分圧を一定に保つため、真空ポンプによる
排気と同時に一定量（５０〜２００ ｓｅｃｍ）のスパ
ッタガスを系内に注入する手法が好ましい。前述のとお
りターゲット中に窒素成分を含有させておけば窒素ガス
の導入を省略できる場合もある。
蒸着が可能であるがスパッタガス応力及びアルゴンガス
と窒素ガスの分圧を一定に保つため、真空ポンプによる
排気と同時に一定量（５０〜２００ ｓｅｃｍ）のスパ
ッタガスを系内に注入する手法が好ましい。前述のとお
りターゲット中に窒素成分を含有させておけば窒素ガス
の導入を省略できる場合もある。
［実施例］
つぎに実施例並びに比較例について説明する。
実施例１
第１図に示すとおり、真空アーク溶解炉によりＮ成分を
除く他は、本発明の範囲内にある所定成分組成を有する
ターゲット ２を溶製し、これをスパッタ蒸着装置１内
の電極３（電極）に対向させて配置し、電極３とターゲ
ット ２の間に、ターゲット２と４０１１ｍの間隔て披
蒸＠基体（ガラス板）４を配置した。スパッタ蒸着装置
１内を真空ポンプ（図示しない）にて１Ｏ−ｓＩＩｂａ
ｒに排気した後、同装置内にアルゴンガスを１５０５ｃ
ａｎの定量で供給し、生成薄膜にＮ成分を添加するため
に、アルゴンガスに併せて５．１０．１５．１８．２０
および２３の各５Ｃｅｌｌｌの条件で窒素ガスを供給し
、真空ポンプと連動させて装置内の圧力を７〜７．４
Ｘ １０−３ｍｂａｒに保ち、その状態で電極間に２０
０Ｖ 〜４００ Ｖ、 １．５ｖ／ａｍ２を印加し、
６０分間スパッタ蒸着を行った。
除く他は、本発明の範囲内にある所定成分組成を有する
ターゲット ２を溶製し、これをスパッタ蒸着装置１内
の電極３（電極）に対向させて配置し、電極３とターゲ
ット ２の間に、ターゲット２と４０１１ｍの間隔て披
蒸＠基体（ガラス板）４を配置した。スパッタ蒸着装置
１内を真空ポンプ（図示しない）にて１Ｏ−ｓＩＩｂａ
ｒに排気した後、同装置内にアルゴンガスを１５０５ｃ
ａｎの定量で供給し、生成薄膜にＮ成分を添加するため
に、アルゴンガスに併せて５．１０．１５．１８．２０
および２３の各５Ｃｅｌｌｌの条件で窒素ガスを供給し
、真空ポンプと連動させて装置内の圧力を７〜７．４
Ｘ １０−３ｍｂａｒに保ち、その状態で電極間に２０
０Ｖ 〜４００ Ｖ、 １．５ｖ／ａｍ２を印加し、
６０分間スパッタ蒸着を行った。
又、比較のため窒素ガス供給量Ｏｓｃｃｍと多過ぎる例
として３０ｓｅｃｍの条件でもスパッタ蒸着を行った。
として３０ｓｅｃｍの条件でもスパッタ蒸着を行った。
なお、第１図の符号５は電源である。
上記製造条件により、ターゲットの組成を変えて、１４
種の組成（原子％）を有する合金薄膜（厚さ：約３μｍ
）を得て、それぞれＸ線回折に付した結果を表に示す。
種の組成（原子％）を有する合金薄膜（厚さ：約３μｍ
）を得て、それぞれＸ線回折に付した結果を表に示す。
各合金薄膜について硬度（Ｈｖ）を測定し、表に示した
。硬度（Ｈｖ）は、ｌＯｇ加重の微小ビッカース硬度計
による測定値である。
。硬度（Ｈｖ）は、ｌＯｇ加重の微小ビッカース硬度計
による測定値である。
又、５０℃のステップで５０〜８００℃、１時間の熱処
理を行い熱安定性を調べ、Ｘ線回折によりアモルファス
構造特有のハローパターンを示す熱処理温度の上限を結
晶化温度（Ｔｘ ）として表に示した。
理を行い熱安定性を調べ、Ｘ線回折によりアモルファス
構造特有のハローパターンを示す熱処理温度の上限を結
晶化温度（Ｔｘ ）として表に示した。
さらに、塩酸溶液（ＩＮ ＭＣＩ、５０℃）中への浸
漬による耐食試験および粘さの試験も行い、これらも表
中に示した。
漬による耐食試験および粘さの試験も行い、これらも表
中に示した。
なお、表中の薄膜組成は、スパッタ蒸着後にＸ線マイク
ロアナライザーにより定量分析を行ったものである。
ロアナライザーにより定量分析を行ったものである。
表に示すように、本発明のアルミニウム基合金薄膜の硬
度は、通常のアルミニウム基合金がＨｖ：５０〜１００
ＤＰＮ程度であるのに対し、約２００〜ｆｌＯＧＤＰＮ
と極めて高い硬度を示している。又、Ｎ成分を含まない
Ｎｏ、１．８（比較例）に比較して、本発明実施例の場
合は硬度か七−しく改泌されていることが判る。
度は、通常のアルミニウム基合金がＨｖ：５０〜１００
ＤＰＮ程度であるのに対し、約２００〜ｆｌＯＧＤＰＮ
と極めて高い硬度を示している。又、Ｎ成分を含まない
Ｎｏ、１．８（比較例）に比較して、本発明実施例の場
合は硬度か七−しく改泌されていることが判る。
一方、本発明の範囲を超えるＮ成分を含むＮｏ、４．１
１は、硬度は改浮されるが展延性を失うことが判る。た
だし、表に示すように、Ｎｏ。
１は、硬度は改浮されるが展延性を失うことが判る。た
だし、表に示すように、Ｎｏ。
４の試料はＮ成分がアモルファス形成領域を超えて結晶
化している。さらに注目すべきは、アモルファスである
合金薄膜か結晶化温度ＴＸが４００℃以上と高く、耐熱
性を示し、Ｎ成分の添加によりＴＸが著しく改善される
ことである。
化している。さらに注目すべきは、アモルファスである
合金薄膜か結晶化温度ＴＸが４００℃以上と高く、耐熱
性を示し、Ｎ成分の添加によりＴＸが著しく改善される
ことである。
又、同様に耐食性も著しく改善されていることが判る。
実施例２
実施例１の表中のＮｏ、１０と同様の条件で、被蒸む基
体にポリエステルのモノフィラメント（１ｍｍ径）を使
用してスパッタ蒸着し、Ａ １７ｇ、５Ｎ ｌ ３．２
Ｙ４，３ Ｎ１３，１＋の薄膜を得た。
体にポリエステルのモノフィラメント（１ｍｍ径）を使
用してスパッタ蒸着し、Ａ １７ｇ、５Ｎ ｌ ３．２
Ｙ４，３ Ｎ１３，１＋の薄膜を得た。
１８０’の密着曲げをおこなった結果、スパッタ薄膜内
には亀裂の発生や剥離は全く認められなかった。これは
スパッタ薄膜が優れた展延性を持つことを示すもので、
モノフィラメントにアモルファス合金薄膜を蒸希後種々
の加工に耐えられることを示すものである。
には亀裂の発生や剥離は全く認められなかった。これは
スパッタ薄膜が優れた展延性を持つことを示すもので、
モノフィラメントにアモルファス合金薄膜を蒸希後種々
の加工に耐えられることを示すものである。
［発明の効果］
本発明によれば高硬度、高耐摩耗性を有し、かつ耐食性
、耐熱性に優れ、また、大きな曲げ加工にも耐える新規
なアルミニウム基合金薄膜を比較的安価に提供すること
ができる。
、耐熱性に優れ、また、大きな曲げ加工にも耐える新規
なアルミニウム基合金薄膜を比較的安価に提供すること
ができる。
第１図は本発明の製法の一例の説明図である。
１・・・スパッタ蒸着装置、 ２・・・ターゲット、３
・・・電極、４・・・被蒸着基体。 第 図 手続ネ…正書 （自発） 明細書第７頁第９行のｒｋ／５ｅｃＪを［）（／５ｅｃ
Ｊと訂正する。
・・・電極、４・・・被蒸着基体。 第 図 手続ネ…正書 （自発） 明細書第７頁第９行のｒｋ／５ｅｃＪを［）（／５ｅｃ
Ｊと訂正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）一般式：Ａｌ＿ａＮｉ＿ｂＸ＿ｃＮ＿ｄただし、
Ｘ：Ｙ、Ｚｒから選ばれる一種の金属元素、ａ、ｂ、ｃ
、ｄは原子パーセントで ７０≦ａ≦９３ ０．５≦ｂ≦７．５ ０．５≦ｃ≦１２ １≦ｄ≦１８ で示される組成を有し、少くとも５０パーセント（体積
率）の非晶質を有する複合体か らなる耐食、耐熱アルミニウム基合金薄膜。 （２）一般式：Ａｌ＿ａＮｉ＿ｂＸ＿ｃＮ＿ｄただし、
Ｘ：Ｙ、Ｚｒから選ばれる一種の金属元素、ａ、ｂ、ｃ
、ｄは原子パーセントで ７０≦ａ≦９３ ０．５≦ｂ≦７．５ ０．５≦ｃ≦１２ １≦ｄ≦１８ で示される組成になるように配合した材料あるいは窒素
源のみはガス状で供給する材料を、スパッタ蒸着、真空
蒸着、イオンプレーティングの如き薄膜形成手段を用い
て、基体表面に付着させ上記組成の薄膜を形成すること
を特徴とする耐食、耐熱性アルミニウム基合金薄膜の製
造法。 （３）基体が板、ワイヤー、フィラメント、パイプまた
は異形の金属材料、樹脂材料である特許請求の範囲第（
２）項記載の耐食、耐熱性アルミニウム基合金薄膜の製
造法。
Priority Applications (11)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63181625A JPH0234737A (ja) | 1988-07-22 | 1988-07-22 | 耐食、耐熱性アルミニウム基合金薄膜とその製造法 |
| US07/378,169 US5015308A (en) | 1988-07-22 | 1989-07-11 | Corrosion-resistant and heat-resistant amorphous aluminum-based alloy thin film and process for producing the same |
| NZ229940A NZ229940A (en) | 1988-07-22 | 1989-07-14 | Corrosion- and heat-resistant aluminium-based alloy thin film and process for the formation thereof |
| NO892945A NO177013C (no) | 1988-07-22 | 1989-07-18 | Korrosjonsbestandig og varmebestandig aluminium-basert tynn legeringsfilm på et underlag og fremgangsmåte for fremstilling derav |
| AU38196/89A AU605990C (en) | 1988-07-22 | 1989-07-18 | Corrosion-resistant and heat resistant aluminum-based alloy thin film and process for producing the same |
| EP89113231A EP0354391B1 (en) | 1988-07-22 | 1989-07-19 | Corrosion-resistant and heatresistant aluminum-based alloy thin film and process for producing the same |
| DE198989113231T DE354391T1 (de) | 1988-07-22 | 1989-07-19 | Duenner, korrosions- und hitzefester film aus einer aluminiumlegierung sowie verfahren zu dessen herstellung. |
| DE8989113231T DE68903073T2 (de) | 1988-07-22 | 1989-07-19 | Duenner, korrosions- und hitzefester film aus einer aluminiumlegierung sowie verfahren zu dessen herstellung. |
| CA000606247A CA1324928C (en) | 1988-07-22 | 1989-07-20 | Corrosion-resistant and heat-resistant aluminum-based alloy thin film and process for producing the same |
| BR898903732A BR8903732A (pt) | 1988-07-22 | 1989-07-21 | Pelicula delgada de liga a base de aluminio,resistente ao calor e a corrosao,e processo para a producao de pelicula delgada de liga a base de aluminio,resistente ao calor e a corrosao |
| KR1019890010372A KR910009840B1 (ko) | 1988-07-22 | 1989-07-21 | 내식성 및 내열성을 갖는 알루미늄 합금 박막 및 이의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63181625A JPH0234737A (ja) | 1988-07-22 | 1988-07-22 | 耐食、耐熱性アルミニウム基合金薄膜とその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0234737A true JPH0234737A (ja) | 1990-02-05 |
| JPH0541694B2 JPH0541694B2 (ja) | 1993-06-24 |
Family
ID=16104055
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63181625A Granted JPH0234737A (ja) | 1988-07-22 | 1988-07-22 | 耐食、耐熱性アルミニウム基合金薄膜とその製造法 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5015308A (ja) |
| EP (1) | EP0354391B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0234737A (ja) |
| KR (1) | KR910009840B1 (ja) |
| BR (1) | BR8903732A (ja) |
| CA (1) | CA1324928C (ja) |
| DE (2) | DE68903073T2 (ja) |
| NO (1) | NO177013C (ja) |
| NZ (1) | NZ229940A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9351802B2 (en) | 2009-12-10 | 2016-05-31 | Yugen Kaisha Siesta | Ultrasonic scaler tip |
| JP2016166392A (ja) * | 2015-03-10 | 2016-09-15 | 株式会社神戸製鋼所 | 光吸収導電膜および光吸収導電膜形成用スパッタリングターゲット |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| DE4034034A1 (de) * | 1990-10-26 | 1992-05-14 | Leybold Ag | Verfahren zum beschichten eines wenig korrosionsbestaendigen substrats |
| US5407548A (en) * | 1990-10-26 | 1995-04-18 | Leybold Aktiengesellschaft | Method for coating a substrate of low resistance to corrosion |
| JP3053267B2 (ja) * | 1991-09-05 | 2000-06-19 | ワイケイケイ株式会社 | アルミニウム基合金集成固化材の製造方法 |
| EP0584596A3 (en) * | 1992-08-05 | 1994-08-10 | Yamaha Corp | High strength and anti-corrosive aluminum-based alloy |
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| DE69406963T2 (de) * | 1993-03-15 | 1998-05-20 | Inoue, Akihisa, Sendai, Miyagi | Hochharte Dünnschicht, sowie Verfahren zu deren Herstellung |
| EP0657562B1 (en) * | 1993-11-12 | 2001-09-12 | PPG Industries Ohio, Inc. | Durable sputtered metal oxide coating |
| DE19615242A1 (de) * | 1996-04-18 | 1997-10-23 | Daimler Benz Ag | Verfahren zur Herstellung von Schichtsystemen auf Kunststoffoberflächen |
| DE19859477B4 (de) | 1998-12-22 | 2005-06-23 | Mtu Aero Engines Gmbh | Verschleißschutzschicht |
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| TW503449B (en) * | 2000-04-18 | 2002-09-21 | Ngk Insulators Ltd | Halogen gas plasma-resistive members and method for producing the same, laminates, and corrosion-resistant members |
| US7026057B2 (en) | 2002-01-23 | 2006-04-11 | Moen Incorporated | Corrosion and abrasion resistant decorative coating |
| JP4579709B2 (ja) | 2005-02-15 | 2010-11-10 | 株式会社神戸製鋼所 | Ａｌ−Ｎｉ−希土類元素合金スパッタリングターゲット |
| CN101962742B (zh) * | 2010-10-29 | 2012-05-23 | 北京科技大学 | 一种含Li和Ca的轻质Al基非晶合金 |
| TWI471445B (zh) * | 2010-12-30 | 2015-02-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | 殼體及其製造方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2719988C2 (de) * | 1977-05-04 | 1983-01-05 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Amorphe, Tantal enthaltende mindestens bis 300 Grad C temperaturstabile Metallschicht und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| FR2529909B1 (fr) * | 1982-07-06 | 1986-12-12 | Centre Nat Rech Scient | Alliages amorphes ou microcristallins a base d'aluminium |
| DE3545636A1 (de) * | 1985-12-21 | 1987-06-25 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Hartstoffbeschichtung auf grundkoerpern |
-
1988
- 1988-07-22 JP JP63181625A patent/JPH0234737A/ja active Granted
-
1989
- 1989-07-11 US US07/378,169 patent/US5015308A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-07-14 NZ NZ229940A patent/NZ229940A/xx unknown
- 1989-07-18 NO NO892945A patent/NO177013C/no not_active IP Right Cessation
- 1989-07-19 DE DE8989113231T patent/DE68903073T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-07-19 EP EP89113231A patent/EP0354391B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-07-19 DE DE198989113231T patent/DE354391T1/de active Pending
- 1989-07-20 CA CA000606247A patent/CA1324928C/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-07-21 KR KR1019890010372A patent/KR910009840B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1989-07-21 BR BR898903732A patent/BR8903732A/pt not_active IP Right Cessation
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| JP2016166392A (ja) * | 2015-03-10 | 2016-09-15 | 株式会社神戸製鋼所 | 光吸収導電膜および光吸収導電膜形成用スパッタリングターゲット |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE68903073T2 (de) | 1993-04-15 |
| EP0354391B1 (en) | 1992-09-30 |
| NO177013B (no) | 1995-03-27 |
| KR910009840B1 (ko) | 1991-11-30 |
| NO177013C (no) | 1995-07-05 |
| DE354391T1 (de) | 1990-07-05 |
| AU3819689A (en) | 1990-01-25 |
| DE68903073D1 (de) | 1992-11-05 |
| NO892945L (no) | 1990-01-23 |
| EP0354391A1 (en) | 1990-02-14 |
| BR8903732A (pt) | 1990-03-20 |
| NZ229940A (en) | 1990-08-28 |
| JPH0541694B2 (ja) | 1993-06-24 |
| NO892945D0 (no) | 1989-07-18 |
| CA1324928C (en) | 1993-12-07 |
| US5015308A (en) | 1991-05-14 |
| AU605990B2 (en) | 1991-01-24 |
| KR910003140A (ko) | 1991-02-27 |
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