JPS6281388A - 新規なペナム誘導体およびその塩 - Google Patents
新規なペナム誘導体およびその塩Info
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- JPS6281388A JPS6281388A JP60220907A JP22090785A JPS6281388A JP S6281388 A JPS6281388 A JP S6281388A JP 60220907 A JP60220907 A JP 60220907A JP 22090785 A JP22090785 A JP 22090785A JP S6281388 A JPS6281388 A JP S6281388A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、新規なペナム誘導体およびその塩。
さらに詳しくは、一般式
〔式中、R1は水素原子、アミノ保護基またはアシル基
を;R2は水素原子、低級アルキル基またはアリール基
を;およびTzはテトラゾリルペナム窒素保護基で保農
されていてもよい5−テトラゾリル基をそれぞれ示す。
を;R2は水素原子、低級アルキル基またはアリール基
を;およびTzはテトラゾリルペナム窒素保護基で保農
されていてもよい5−テトラゾリル基をそれぞれ示す。
]で表わされるペナム誘導体およびその塩に関する。
〔従来の技術]
従来知られているペナム誘導体は比較的広範囲な抗菌ス
ペクトルを有しているが、耐性菌に対する効果が弱く必
ずしも満足すべきものではない。
ペクトルを有しているが、耐性菌に対する効果が弱く必
ずしも満足すべきものではない。
このような状況下において、広範囲な抗菌スペクトルを
有し、かつβ−ラクタマーゼに対し安定で、耐性菌に対
しても強い抗菌活性を示すペナム誘導体の開発が望まれ
ていた。
有し、かつβ−ラクタマーゼに対し安定で、耐性菌に対
しても強い抗菌活性を示すペナム誘導体の開発が望まれ
ていた。
本発明者らは、上記問題点を解決すべく鋭意研究を行っ
た結果、一般式〔I〕で表わされるペナム誘導体および
その塩が広範囲な抗菌スペクトルを有し、グラム陽性菌
、グラム陰性菌に対し優れた抗菌活性を示し、かつβ−
ラクタマーゼに対し安定な性質を有すると同時に、低毒
性であって人および動物の疾病に対し優れた治療効果を
発揮すること並びに他のベナム誘導体へ導く中間体とし
ても有用であることを見出し1本発明を完成するに至っ
た。
た結果、一般式〔I〕で表わされるペナム誘導体および
その塩が広範囲な抗菌スペクトルを有し、グラム陽性菌
、グラム陰性菌に対し優れた抗菌活性を示し、かつβ−
ラクタマーゼに対し安定な性質を有すると同時に、低毒
性であって人および動物の疾病に対し優れた治療効果を
発揮すること並びに他のベナム誘導体へ導く中間体とし
ても有用であることを見出し1本発明を完成するに至っ
た。
本発明の一般式[I]で表わされるベナム誘導体および
その塩はそのテトラゾリル基がペナム環の2位に直接結
合しているところに構造上の特徴を有する。
その塩はそのテトラゾリル基がペナム環の2位に直接結
合しているところに構造上の特徴を有する。
以下、さらに本発明の詳細な説明する。
本発明において特にことわらない限り、“低級アルキル
”とは、直鎖または分枝鎖状C1〜5アルキル、たとえ
ば、メチル、エチル、n−プロピル。
”とは、直鎖または分枝鎖状C1〜5アルキル、たとえ
ば、メチル、エチル、n−プロピル。
イソブチルなど、′アリール”とは、たとえば。
フェニル、ナフチル、インダニルなどを意味する。
770スポリン分野で通常使用されているもの。
たとえば、ホルミル、α−アミノ−α−フェニルアセチ
ル、α−フェニルアセチル、α−フェノキシアセチル、
α−(2−チェニル)アセチル、α−(3−7’ロモフ
エニル)アセチル、α−カルボキシ−α−フェニルアセ
チル、α−(1−テトラゾリル)アセチル、α−(5−
メトキシ−2−チェニル)アセチル、α−シアンメチル
チオアセチル、αイ2−カルボキシエチル)チオアセチ
ル、α−フロモーα−(2−チェニル)アセチル、α−
スルフェニル−α−フェニルアセチル、α−ヒドロキシ
−α−フェニルアセチル、α−ヒドロキシアセチル、α
−(4−エチル−2,3−ジオキン−1−ピペラジノカ
ルボニルアミノ)−α−(4−ヒドロキシフェニル)ア
セチル、α−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピ
ペラジノカルボニルアミノ)−α−(3,4−ジヒドロ
キシフェニル)アセチル、α−(4−エチル−2,3−
ジオキソ−1−ピペラジノカルボニルアミノ)−α−フ
ェニルアセチル、α−(4−エチル−2,3−ジオキソ
−1−ピペラジノカルボニルアミノ)−α−(3゜4−
ジアセトキシフェニル)アセチル、α−(4−オキソ−
4H−チオビランー3−イルカルボキサミド)−α−フ
ェニルアセチルなどが挙げられる。これらのアシル基が
アミン基、ヒドロキシル基またはカルボキシル基を有し
ている場合、これらの基は後述する各保護基で保砕され
ていてもよい。アミノ基の保護基としては、たとえば、
ホルミル、tert、−ブトキシカルボニル+ te
rt、−アミルオキシ力ルボニル、トリチル、トリメチ
ルシリルなと、ヒドロキシル基の保護基としては、たと
えば、テトラヒドロピラニル、ベンジルオキシカルボニ
ル、トリメチルシリルなど、カルボキシル基の保護基と
しては、たとえば、低級アルキル;ベンジル、4−メト
キシベンジル、p−ニトロベンジル、フェネチル、ベン
ズヒドリル、3.4−ジメトキシベンジル、ビス(メト
キシフェニル)メチル、3,5−ジーtart、−ブチ
ルー4−ヒドロキシベンジルなどのアルアルキル;フタ
リジル;2−ヨードエチル、 2.2.2− トIJク
ロロエチルなどの八−低級アルキルなどが挙げられる。
ル、α−フェニルアセチル、α−フェノキシアセチル、
α−(2−チェニル)アセチル、α−(3−7’ロモフ
エニル)アセチル、α−カルボキシ−α−フェニルアセ
チル、α−(1−テトラゾリル)アセチル、α−(5−
メトキシ−2−チェニル)アセチル、α−シアンメチル
チオアセチル、αイ2−カルボキシエチル)チオアセチ
ル、α−フロモーα−(2−チェニル)アセチル、α−
スルフェニル−α−フェニルアセチル、α−ヒドロキシ
−α−フェニルアセチル、α−ヒドロキシアセチル、α
−(4−エチル−2,3−ジオキン−1−ピペラジノカ
ルボニルアミノ)−α−(4−ヒドロキシフェニル)ア
セチル、α−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピ
ペラジノカルボニルアミノ)−α−(3,4−ジヒドロ
キシフェニル)アセチル、α−(4−エチル−2,3−
ジオキソ−1−ピペラジノカルボニルアミノ)−α−フ
ェニルアセチル、α−(4−エチル−2,3−ジオキソ
−1−ピペラジノカルボニルアミノ)−α−(3゜4−
ジアセトキシフェニル)アセチル、α−(4−オキソ−
4H−チオビランー3−イルカルボキサミド)−α−フ
ェニルアセチルなどが挙げられる。これらのアシル基が
アミン基、ヒドロキシル基またはカルボキシル基を有し
ている場合、これらの基は後述する各保護基で保砕され
ていてもよい。アミノ基の保護基としては、たとえば、
ホルミル、tert、−ブトキシカルボニル+ te
rt、−アミルオキシ力ルボニル、トリチル、トリメチ
ルシリルなと、ヒドロキシル基の保護基としては、たと
えば、テトラヒドロピラニル、ベンジルオキシカルボニ
ル、トリメチルシリルなど、カルボキシル基の保護基と
しては、たとえば、低級アルキル;ベンジル、4−メト
キシベンジル、p−ニトロベンジル、フェネチル、ベン
ズヒドリル、3.4−ジメトキシベンジル、ビス(メト
キシフェニル)メチル、3,5−ジーtart、−ブチ
ルー4−ヒドロキシベンジルなどのアルアルキル;フタ
リジル;2−ヨードエチル、 2.2.2− トIJク
ロロエチルなどの八−低級アルキルなどが挙げられる。
Tzはテトラゾリルペナム窒素保護基で保護されてい毛
もよい5−テトラゾリル基を示すが、ここにおけるテト
ラゾリルベナム窒素保護基とは、ペナム化合物の分野で
知られたものが挙げられ、たとえば、特開昭50−64
295号に記載されたものが挙げられる。好ましいもの
としては、2−(メトキシカルボニル)エチルなどのア
ルコキシカルボニルアルキル基、2.4−ジメトキシベ
ンジルナトのアルアルキル基などが挙げられる。
もよい5−テトラゾリル基を示すが、ここにおけるテト
ラゾリルベナム窒素保護基とは、ペナム化合物の分野で
知られたものが挙げられ、たとえば、特開昭50−64
295号に記載されたものが挙げられる。好ましいもの
としては、2−(メトキシカルボニル)エチルなどのア
ルコキシカルボニルアルキル基、2.4−ジメトキシベ
ンジルナトのアルアルキル基などが挙げられる。
一般式[I]の化合物υ)塩としては1通常知られてい
るアミノ基などの塩基性基または5−モノ置換テトラゾ
ール基、カルボキシル基、ヒドロキシル基などの酸性基
における塩を挙げることができる。塩基性基における塩
としては、たとえば、塩酸、硫酸などの鉱酸との塩;ギ
酸、クエン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸など
の有機カルボン酸との塩;メタンスルホン酸、p−トル
エンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、メシチレンス
ルホン酸などのスルホン酸との塩を、酸性基における塩
としては、たとえば、ナトリウム、カリウムなどのアル
カリ金属との塩;カルシウム、マグネシウムなどのアル
カリ土類金属との塩;アンモニウム塩;フロ力イン、ジ
ベンジルアミン、N−ベンジル−β−フェネチルアミン
、1−エフエナミン、N、N−ジベンジルエチレンジア
ミン、トペリジン、N−メチルモルホリン、ジエチルア
ミン、ジシクロヘキシルアミンなどの含窒素有機塩基と
の塩を挙げることができる。
るアミノ基などの塩基性基または5−モノ置換テトラゾ
ール基、カルボキシル基、ヒドロキシル基などの酸性基
における塩を挙げることができる。塩基性基における塩
としては、たとえば、塩酸、硫酸などの鉱酸との塩;ギ
酸、クエン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸など
の有機カルボン酸との塩;メタンスルホン酸、p−トル
エンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、メシチレンス
ルホン酸などのスルホン酸との塩を、酸性基における塩
としては、たとえば、ナトリウム、カリウムなどのアル
カリ金属との塩;カルシウム、マグネシウムなどのアル
カリ土類金属との塩;アンモニウム塩;フロ力イン、ジ
ベンジルアミン、N−ベンジル−β−フェネチルアミン
、1−エフエナミン、N、N−ジベンジルエチレンジア
ミン、トペリジン、N−メチルモルホリン、ジエチルア
ミン、ジシクロヘキシルアミンなどの含窒素有機塩基と
の塩を挙げることができる。
一般式[I]で表わされる本発明化合物において好まし
いものとしては一般式 〔式中 R1およびR2は前記と同じ意味を有する。〕
で表わされる立体配置を有する化合物およびその塩が挙
げられる。
いものとしては一般式 〔式中 R1およびR2は前記と同じ意味を有する。〕
で表わされる立体配置を有する化合物およびその塩が挙
げられる。
なお、一般式CI&〕において、5−テトラゾリル基に
は、つぎに示す互変異性体が存在し1本発明はそれらの
いずれをも包含する。
は、つぎに示す互変異性体が存在し1本発明はそれらの
いずれをも包含する。
また、一般式[I]の化合物およびその塩において、異
性体(たとえば、光学異性体、幾何異性体。
性体(たとえば、光学異性体、幾何異性体。
互変異性体など)が存在する場合1本発明は、それらす
べての異性体を包含し、またすべての結晶形および水和
物におよぶものである。
べての異性体を包含し、またすべての結晶形および水和
物におよぶものである。
つぎに本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は、たとえば、以下の製造ルートに従って
製造することができる。
製造することができる。
〔上記式中、RlaはR1で説明したと同様のアシlb
ル基を、Rはアミン保護基を、R3はT2で説明したと
同様のテトラゾリルベナム窒素保護基を示し、Rは前記
したと同様の意味を有する。〕gtbにおけるアミノ保
護基としては当該分野で知られたもの(たとえば、特開
昭51−54581号に記載されているもの)、具体的
には、2.2.2−トリハロエトキシカルボニル基、置
換されていてもよいトリチル基などが挙げられ、とりわ
けトリチル基が好ましい。
同様のテトラゾリルベナム窒素保護基を示し、Rは前記
したと同様の意味を有する。〕gtbにおけるアミノ保
護基としては当該分野で知られたもの(たとえば、特開
昭51−54581号に記載されているもの)、具体的
には、2.2.2−トリハロエトキシカルボニル基、置
換されていてもよいトリチル基などが挙げられ、とりわ
けトリチル基が好ましい。
(1)環化
一般式〔■〕または■〕で表わされる化合物にアジドイ
オン発生剤を反応させることにより一般式[Id′3ま
たは〔Ie〕で表わされる化合物を得ることができる。
オン発生剤を反応させることにより一般式[Id′3ま
たは〔Ie〕で表わされる化合物を得ることができる。
ここで用いられるアジドイオン発生剤としては、たとえ
ば、トリメチルシリルアジド、トリエチルシリルアジド
などのトリ低級アルキルシリルアジド;カリウムアジド
、ナトリウムアジド、トリブチルアンモニウムアジド、
N、N−ジメチルアニリニウムアジド、N−メチルモ
ルホリニウムアジド、ピリジニウムアジド、テトラメチ
ルグアニジニウムアジドなどのアジドの塩が挙げられ、
特にトリメチルシリルアジドが好ましい。この反応を溶
媒中で行う場合1反応に不活性なものであれば特に限定
されないが、具体的には、塩化メチレン、クロロホルム
、1.2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭素;N−
メチルピロリジンなどの双極性中性溶媒が挙げられる。
ば、トリメチルシリルアジド、トリエチルシリルアジド
などのトリ低級アルキルシリルアジド;カリウムアジド
、ナトリウムアジド、トリブチルアンモニウムアジド、
N、N−ジメチルアニリニウムアジド、N−メチルモ
ルホリニウムアジド、ピリジニウムアジド、テトラメチ
ルグアニジニウムアジドなどのアジドの塩が挙げられ、
特にトリメチルシリルアジドが好ましい。この反応を溶
媒中で行う場合1反応に不活性なものであれば特に限定
されないが、具体的には、塩化メチレン、クロロホルム
、1.2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭素;N−
メチルピロリジンなどの双極性中性溶媒が挙げられる。
アジドイオン発生剤の使用量は一般式[11〕またはQ
’II:lで表わされる化合物に対して1. Q〜1.
1倍モル程度である。この反応は10〜35℃で、30
分〜24時間実施すればよい。
’II:lで表わされる化合物に対して1. Q〜1.
1倍モル程度である。この反応は10〜35℃で、30
分〜24時間実施すればよい。
(2)アミン保護基の脱離およびテトラゾリルベナム窒
素保握基の脱離 一般式[Id〕または〔Ie〕で表わされる化合物より
、それぞれ一般式〔Iglまたは[If]で表わされる
化合物へ導くアミン保護基の脱離並びに一般式1:Id
)または〔IO3で表わされる化合物よりそれぞれ一般
式CI!〕または〔Ib〕で表わされる化合物へ導くテ
トラゾリルペナム窒素保護基の脱離は。
素保握基の脱離 一般式[Id〕または〔Ie〕で表わされる化合物より
、それぞれ一般式〔Iglまたは[If]で表わされる
化合物へ導くアミン保護基の脱離並びに一般式1:Id
)または〔IO3で表わされる化合物よりそれぞれ一般
式CI!〕または〔Ib〕で表わされる化合物へ導くテ
トラゾリルペナム窒素保護基の脱離は。
たとえば、特開昭50−64295号に記載の条件また
はそれに準じた条件で実施される。
はそれに準じた条件で実施される。
(3) アシル化
一般式〔If〕または〔Iglの化合物もしくはそれら
の塩あるいはそれらのアミン基における反応性誘導体に
、一般式[[V]のカルボン酸またはその反応性誘導体
を反応させれば、それぞれ一般式[1blまたは〔lc
〕の化合物もしくはそれらの塩に銹導することができる
。
の塩あるいはそれらのアミン基における反応性誘導体に
、一般式[[V]のカルボン酸またはその反応性誘導体
を反応させれば、それぞれ一般式[1blまたは〔lc
〕の化合物もしくはそれらの塩に銹導することができる
。
また、一般式[If)または〔し〕の化合物もしくはそ
れらの塩のアミン基における反応性誘導体としては、た
とえば、イソシアネート、一般式[If〕または[Ig
lの化合物もしくはそれらの塩とアルデヒド、ケトンな
どのカルボニル化合物との反応により生成するシッフの
塩基(イミノ型もしくはそのエナミン型の異性体)、一
般式QDまたはCIg〕の化合物もしくはそれらの塩と
ビス(トリメチルシリル)アセトアミド、トリメチルシ
リルアセトアミド、トリメチルシリルクロライドなどの
シリル化合物、三塩化リン。
れらの塩のアミン基における反応性誘導体としては、た
とえば、イソシアネート、一般式[If〕または[Ig
lの化合物もしくはそれらの塩とアルデヒド、ケトンな
どのカルボニル化合物との反応により生成するシッフの
塩基(イミノ型もしくはそのエナミン型の異性体)、一
般式QDまたはCIg〕の化合物もしくはそれらの塩と
ビス(トリメチルシリル)アセトアミド、トリメチルシ
リルアセトアミド、トリメチルシリルクロライドなどの
シリル化合物、三塩化リン。
〔CH3CH20)2PC1,(CH3CH2)2P0
1 などのリン化合物または(C4H0)3SnCI
などのスズ化合物との反応により生成するシリル誘導
体、リン誘導体−またはスズ誘導体などのアシル化反応
において繁用されるものはすべて包含される。
1 などのリン化合物または(C4H0)3SnCI
などのスズ化合物との反応により生成するシリル誘導
体、リン誘導体−またはスズ誘導体などのアシル化反応
において繁用されるものはすべて包含される。
一般式[[V]の化合物の反応性誘導体としては。
具体的には、酸ハロゲン化物、酸無水物、混合酸無水物
、活性酸アミド、活性エステルならびに一般式[[V]
の化合物のビルスマイヤー試薬トの反応性誘導体などが
挙げられる。その混合酸無水物としては、たとえば、炭
酸モノエチルエステル、炭酸モノイソブチルエステルな
どの炭酸モノアルキルエステルとの混合酸無水物、ピバ
リン酸やトリクロロ酢酸などのハロゲンで置換されてい
てもよい低級アルカン酸との混合酸無水物などが用いら
れる。活性酸アミドとしては、たとえば、N−アシルサ
ッカリン、N−アシルイミダゾール、N−アシルベンゾ
イルアミ)’ 1l−NUN’ ”’シクロヘキシル
ーN−アシル尿素。
、活性酸アミド、活性エステルならびに一般式[[V]
の化合物のビルスマイヤー試薬トの反応性誘導体などが
挙げられる。その混合酸無水物としては、たとえば、炭
酸モノエチルエステル、炭酸モノイソブチルエステルな
どの炭酸モノアルキルエステルとの混合酸無水物、ピバ
リン酸やトリクロロ酢酸などのハロゲンで置換されてい
てもよい低級アルカン酸との混合酸無水物などが用いら
れる。活性酸アミドとしては、たとえば、N−アシルサ
ッカリン、N−アシルイミダゾール、N−アシルベンゾ
イルアミ)’ 1l−NUN’ ”’シクロヘキシル
ーN−アシル尿素。
N−アシルスルホンアミドなどが用いられる。
つぎに活性エステルとしては、たとえば、シアンメチル
エステル、置換フ土ニルエステル、置換ベンジルエステ
ル、置換チェニルエステルなどが用いられる。
エステル、置換フ土ニルエステル、置換ベンジルエステ
ル、置換チェニルエステルなどが用いられる。
また、ビルスマイヤー試薬との反応性誘導体としては、
N、N−ジメチルホルムアミド、 N、N−ジメチル
アセトアミドなどの酸アミドに、ホスゲン、塩化チオニ
ル、三塩化リン、三臭化リン、オキシ塩化リン、五塩化
リン、トリクロロメチルクロロホルメート、塩化オキザ
リルなどのハロゲン化剤を作用させて得られるビルスマ
イヤー試薬との反応性誘導体などが挙げられる。
N、N−ジメチルホルムアミド、 N、N−ジメチル
アセトアミドなどの酸アミドに、ホスゲン、塩化チオニ
ル、三塩化リン、三臭化リン、オキシ塩化リン、五塩化
リン、トリクロロメチルクロロホルメート、塩化オキザ
リルなどのハロゲン化剤を作用させて得られるビルスマ
イヤー試薬との反応性誘導体などが挙げられる。
一般式[IV)の化合物を遊離酸または塩の状態で使用
する場合は、適当な縮合剤を用いる。このような縮合剤
としては、たとえば、 N、N’−ジシクロへキシルカ
ルボジイミドのようなN、N’−ジ置換カルボジイミド
、N、N’−チオニルジイミダゾールのようなアゾライ
ド化合物、N−エトキシカルボニル−2−エトキシ−X
、Z−ジヒドロキシキノリン、オキシ塩化リン、アルコ
キシアセチレンなどの脱水剤、2−ハロゲノピリジニウ
ム塩(たとえば、2−クロロピリジニウムメチルアイオ
ダイド、2−フルオロピリジニウムメチルアイオダイド
)などが好ましい。
する場合は、適当な縮合剤を用いる。このような縮合剤
としては、たとえば、 N、N’−ジシクロへキシルカ
ルボジイミドのようなN、N’−ジ置換カルボジイミド
、N、N’−チオニルジイミダゾールのようなアゾライ
ド化合物、N−エトキシカルボニル−2−エトキシ−X
、Z−ジヒドロキシキノリン、オキシ塩化リン、アルコ
キシアセチレンなどの脱水剤、2−ハロゲノピリジニウ
ム塩(たとえば、2−クロロピリジニウムメチルアイオ
ダイド、2−フルオロピリジニウムメチルアイオダイド
)などが好ましい。
このアシル化反石は、一般に適当な溶媒中、塩基の存在
下または不存在下で実施される。溶媒としては、たとえ
ば、クロロホルム、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化
水素、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル
類、N、N−ジメチルホルムアミド、 N、N−ジメチ
ルアセトアミド、アセトン、水またはこれらの混合物な
どが使用できる。ここで用いられる塩基としては、水酸
化アルカリ、炭酸水素アルカリ、炭酸アルカリまたは酢
酸アルカリなどの無機塩基またはトリメチルアミン、ト
リエチルアミン。
下または不存在下で実施される。溶媒としては、たとえ
ば、クロロホルム、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化
水素、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル
類、N、N−ジメチルホルムアミド、 N、N−ジメチ
ルアセトアミド、アセトン、水またはこれらの混合物な
どが使用できる。ここで用いられる塩基としては、水酸
化アルカリ、炭酸水素アルカリ、炭酸アルカリまたは酢
酸アルカリなどの無機塩基またはトリメチルアミン、ト
リエチルアミン。
トリブチルアミン、ピリジン、N−メチルピペリジン、
N−メチルモルホリン、ルチジン、コリジンなどの第3
級アミンあるいはジシクロヘキシルアミン、ジエチルア
ミンなどの第2級アミンが挙げられる。
N−メチルモルホリン、ルチジン、コリジンなどの第3
級アミンあるいはジシクロヘキシルアミン、ジエチルア
ミンなどの第2級アミンが挙げられる。
なお、一般式[IV ]の化合物の使用量は、一般式[
If〕またbt [Ig)の化合物に対し1通常約1.
0〜1.5倍モル程変である。この反応は1通常−50
〜40℃で、10分〜48時間実施すればよい。
If〕またbt [Ig)の化合物に対し1通常約1.
0〜1.5倍モル程変である。この反応は1通常−50
〜40℃で、10分〜48時間実施すればよい。
以上のようにして得られた本発明の一般式[I]の化合
物またはその塩は、常法によって単離1−ることかでき
る。
物またはその塩は、常法によって単離1−ることかでき
る。
本発明における原料である一般式[II]または〔■]
で表わされる化合物は、たとえば、以下の製造ルートに
従りて製造することができる。
で表わされる化合物は、たとえば、以下の製造ルートに
従りて製造することができる。
(7)脱アシル化
一般式〔■で表わされる化合物もしくはその塩または一
般式〔M〕で表わされる化合物を脱アシル化してそれぞ
れ一般式[Vl]で表わされる化合物もしくはその塩ま
たは一般式〔■〕で表わされる化合物を得るには1通常
ペニシリンおよびセフ10スポリン分野で用いられる脱
アシル化と同様の条件で実施され、たとえば、ラキエエ
・デ・トラボ・シミクφデ・ベイバ(Rec l 、T
rav。
般式〔M〕で表わされる化合物を脱アシル化してそれぞ
れ一般式[Vl]で表わされる化合物もしくはその塩ま
たは一般式〔■〕で表わされる化合物を得るには1通常
ペニシリンおよびセフ10スポリン分野で用いられる脱
アシル化と同様の条件で実施され、たとえば、ラキエエ
・デ・トラボ・シミクφデ・ベイバ(Rec l 、T
rav。
(:him、Pays−Baa ) $89巻、第10
81頁(1970年)噛たは特公昭55−38954号
などに記載の方法もしくはそれらに準じた方法によって
行うことができる。
81頁(1970年)噛たは特公昭55−38954号
などに記載の方法もしくはそれらに準じた方法によって
行うことができる。
(イ)アミン基の保護
一般式[VI]で表わされる化合物もしくはその塩また
は一般式CXIIIで表わされる化合物の6位アミン基
を保護してそれぞれ一般式〔℃で表わされる化合物もし
くはその塩または一般式〔■〕で表わされる化合物を得
るには1通常ペニシリンおよびセフ10スポリン分野で
用いられる反応と同様の条件で実施され、たとえば、ト
リチル基を用いて保護する場合、ザ・ジャーナル・オブ
ーアメリカン・ケミカル・ソサエティー(The Jo
urnal of AmerieanGhemiCal
Society)第84巻、第2983貞(1962年
)などに記載の方法またはそれに準じた方法によって行
うことができる。
は一般式CXIIIで表わされる化合物の6位アミン基
を保護してそれぞれ一般式〔℃で表わされる化合物もし
くはその塩または一般式〔■〕で表わされる化合物を得
るには1通常ペニシリンおよびセフ10スポリン分野で
用いられる反応と同様の条件で実施され、たとえば、ト
リチル基を用いて保護する場合、ザ・ジャーナル・オブ
ーアメリカン・ケミカル・ソサエティー(The Jo
urnal of AmerieanGhemiCal
Society)第84巻、第2983貞(1962年
)などに記載の方法またはそれに準じた方法によって行
うことができる。
り) アミド化
一般式[■〕で表わされる化合物もしくはその塩または
それらのカルボキシル基における反応性銹導体と、一般
式[V111]で表わされる化合物またはその塩を反応
させ、一般式[IX]で表わされる化合物またはその塩
を得るには、当該分野で用いられるアミド化と同様の条
件で実施され。
それらのカルボキシル基における反応性銹導体と、一般
式[V111]で表わされる化合物またはその塩を反応
させ、一般式[IX]で表わされる化合物またはその塩
を得るには、当該分野で用いられるアミド化と同様の条
件で実施され。
たとえば、特開昭50−64295号などに記載の方法
またはそれに準じた方法によって行うことができる。
またはそれに準じた方法によって行うことができる。
に)イミノクロル化
一般式[IX]で表わされる化合物に塩基の存在下で、
ハロゲン化剤を反応させることにより。
ハロゲン化剤を反応させることにより。
一般式〔■〕で表わされる化合物を得ることができる。
ここで用いられるノ・ロゲイ化剤としては。
たとえば、ホスゲン、トリクロロメチルクロロホルメー
ト、塩化チオニル、五塩化リンなどが挙げられ、ホスゲ
ンまたはトリクロロメチルクロロホルメートが特に好ま
しい。また使用される塩基としては、たとえば、トリメ
チルアミン。
ト、塩化チオニル、五塩化リンなどが挙げられ、ホスゲ
ンまたはトリクロロメチルクロロホルメートが特に好ま
しい。また使用される塩基としては、たとえば、トリメ
チルアミン。
トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N*
N−#メチルアニリン、N−メチルモルホリン、ピリジ
ンなどが挙げられ、特にピリジンが好ましい。この反応
を溶媒中で行う場合、反応に不活性なものであれば特に
限定されないが、具体的には、塩化メチレン、クロロホ
ルム。
N−#メチルアニリン、N−メチルモルホリン、ピリジ
ンなどが挙げられ、特にピリジンが好ましい。この反応
を溶媒中で行う場合、反応に不活性なものであれば特に
限定されないが、具体的には、塩化メチレン、クロロホ
ルム。
四塩化炭素、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどが挙
げられ、特に塩化メチレンが好ましい。
げられ、特に塩化メチレンが好ましい。
ハロゲン化剤の使用量は一般式(IX)で表わされる化
合物に対して1〜3倍モル程度、塩基の使用量はハロゲ
ン化剤に対して1.0〜1.2倍モル程度である。この
反応は一20〜30℃、好ましくは25℃で2〜5時間
実施すればよい。
合物に対して1〜3倍モル程度、塩基の使用量はハロゲ
ン化剤に対して1.0〜1.2倍モル程度である。この
反応は一20〜30℃、好ましくは25℃で2〜5時間
実施すればよい。
このようにして得られた一般式〔■〕で表わされる化合
物は単離せずにつぎの反応に付すことができる。
物は単離せずにつぎの反応に付すことができる。
これを脱水反応に付して一般式[XI]で表わされる化
合物を得るには1通常のカルバミル化および脱水反応を
用いることができ、たとえば、ザ・ジャーナル・オブ・
アメリカン・ケミカル・ソサエティー(The Jou
rnal of AmericanChemical
5ociety )第75巻、第3637頁(1953
年)または特開昭51−54581号などに記載の条件
もしくはそれらに準じた方法によって行うことができる
。
合物を得るには1通常のカルバミル化および脱水反応を
用いることができ、たとえば、ザ・ジャーナル・オブ・
アメリカン・ケミカル・ソサエティー(The Jou
rnal of AmericanChemical
5ociety )第75巻、第3637頁(1953
年)または特開昭51−54581号などに記載の条件
もしくはそれらに準じた方法によって行うことができる
。
以上説明した各工程において得られる化合物またはそれ
らの塩に異性体などが存在する場合1通常の方法でそれ
ぞれ単離および精製することができる。
らの塩に異性体などが存在する場合1通常の方法でそれ
ぞれ単離および精製することができる。
また、アシル化反応において−R1&の基中に反応に活
性な基が存在するときは、反応に際し1通常の保冷基で
任意に保護しておくこともでき1反応後宮法によりその
保冷基を脱離させることもできる。
性な基が存在するときは、反応に際し1通常の保冷基で
任意に保護しておくこともでき1反応後宮法によりその
保冷基を脱離させることもできる。
一般式〔■〕および[lII]で表わされる化合物の原
料である一般式〔V〕で表わされる化合物またはその塩
は、リースント・アドバンシズ・イン・ザ・ケミストリ
ー・オブ・ベーターラクタム・アンチバイオティックス
(ザ・ケミカル・ソサエティ。
料である一般式〔V〕で表わされる化合物またはその塩
は、リースント・アドバンシズ・イン・ザ・ケミストリ
ー・オブ・ベーターラクタム・アンチバイオティックス
(ザ・ケミカル・ソサエティ。
パーリントンハウス) [Recent Advanc
es in theChemisty ofβ−1ac
tam Ant 1biot ics (The Ch
emicalSociety、Burlington
Houae ) ]第214〜230頁(1977年)
に記載の方法またはそれに準じた方法によって製造する
ことができる。
es in theChemisty ofβ−1ac
tam Ant 1biot ics (The Ch
emicalSociety、Burlington
Houae ) ]第214〜230頁(1977年)
に記載の方法またはそれに準じた方法によって製造する
ことができる。
つぎに1本発明の代表的化合物についての条理作用の結
果を示す。
果を示す。
1)抗菌作用
試験方法−
日本化学療法学会標準法〔ケモセラピー(C)IEMO
THERAPY )第29巻、第1号、第76〜79頁
(1981年)〕に従いペプトンプロス(Pepton
e broth ) (栄研化学社製)で37℃。
THERAPY )第29巻、第1号、第76〜79頁
(1981年)〕に従いペプトンプロス(Pepton
e broth ) (栄研化学社製)で37℃。
20時間培養した菌液を薬剤を含むハート インフユー
ジm7 アガー(Heart Infusionag
ar )培地(栄研化学社製)VC接種し、37℃で2
0時間培養した後、菌の発育の有無を観察し、菌の発育
が阻止された最小0度をもってMIC(μt/Il!7
りとした。ただし、接種菌量は104個/プレート(1
06個/w )とした。その結果を表−1に示す。
ジm7 アガー(Heart Infusionag
ar )培地(栄研化学社製)VC接種し、37℃で2
0時間培養した後、菌の発育の有無を観察し、菌の発育
が阻止された最小0度をもってMIC(μt/Il!7
りとした。ただし、接種菌量は104個/プレート(1
06個/w )とした。その結果を表−1に示す。
試験化合物
に2115
C以下余白)
表−1
抗1作用
MIC(μW)
)1#:接種菌量106個/プレート(10個/−)2
)急性毒性 試験化合物AAについてマウス(ICR,t4週令;一
群3匹)に、静脈内投与した際の急性毒性は2.5f/
#以上であった。
)急性毒性 試験化合物AAについてマウス(ICR,t4週令;一
群3匹)に、静脈内投与した際の急性毒性は2.5f/
#以上であった。
本発明化合物を医薬として使用する場合1通常製剤化に
使用される担体な適宜用い、常法に従って1錠剤、カプ
セル剤、散剤、シロップ剤、顆粒剤、坐剤、軟こう剤、
注射剤などに調製する。また、投与方法、投与量および
投与回数は患者の症状に応じて適宜選択することができ
1通常成人に対しては、経口または非経口(たとえば、
注射投与1点滴、直腸部位への投与など)的投与により
。
使用される担体な適宜用い、常法に従って1錠剤、カプ
セル剤、散剤、シロップ剤、顆粒剤、坐剤、軟こう剤、
注射剤などに調製する。また、投与方法、投与量および
投与回数は患者の症状に応じて適宜選択することができ
1通常成人に対しては、経口または非経口(たとえば、
注射投与1点滴、直腸部位への投与など)的投与により
。
0、1〜100η/に9/日を1〜数回に分割して投与
すればよい。
すればよい。
つぎに1本発明を参考例および実施例を挙げて説明する
が1本発明はこれに限定されるものではない。
が1本発明はこれに限定されるものではない。
参考例1
(1) (3S 、 5 R、6R’) −3−(p
−ニトロベンジルオキシカルボニル)−7−オキソ−6
−フェニルアセタミド−4−チア−1−アザビシクロ[
3,2,0]へブタン14.10tを塩化メチレフ28
2m1Vc@濁させ、N、N−ジメチルアニリン12.
16−を加え一60℃に冷却する。この中に。
−ニトロベンジルオキシカルボニル)−7−オキソ−6
−フェニルアセタミド−4−チア−1−アザビシクロ[
3,2,0]へブタン14.10tを塩化メチレフ28
2m1Vc@濁させ、N、N−ジメチルアニリン12.
16−を加え一60℃に冷却する。この中に。
五塩化リン9.99fを加え−40〜−30℃で1時間
反応させる。ついで1反応液を一50’Cまで冷却し、
無水メタノール90−を加え0℃まで昇温させ、30分
間反応させた後、水100m1を加え、同温度で30分
間攪拌する。析出晶を炉腹し、塩化メチレン42wjお
よび水28m/で順次洗浄した後、乾燥させれば、融点
99〜100℃(分解)を示す(38,5R,6R)−
6−アミノ−3−(p−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル)−7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ[3,
2,O]ヘプタンの塩酸塩10.102(収率87.8
係)を得る。
反応させる。ついで1反応液を一50’Cまで冷却し、
無水メタノール90−を加え0℃まで昇温させ、30分
間反応させた後、水100m1を加え、同温度で30分
間攪拌する。析出晶を炉腹し、塩化メチレン42wjお
よび水28m/で順次洗浄した後、乾燥させれば、融点
99〜100℃(分解)を示す(38,5R,6R)−
6−アミノ−3−(p−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル)−7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ[3,
2,O]ヘプタンの塩酸塩10.102(収率87.8
係)を得る。
(21(3S 、 51 、6 R) −6−アミノ−
3−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−7−オ
キソ−4−チア−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプ
タンの塩酸塩9.9Ofを酢酸エチル100mおよび水
75dに懸濁させ、炭酸水素ナトリウムでpH7,0に
調整する。有機層を分取し、飽和食塩水30IR1で洗
浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下
に溶媒を留去し。
3−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−7−オ
キソ−4−チア−1−アザビシクロ[3,2,0]ヘプ
タンの塩酸塩9.9Ofを酢酸エチル100mおよび水
75dに懸濁させ、炭酸水素ナトリウムでpH7,0に
調整する。有機層を分取し、飽和食塩水30IR1で洗
浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下
に溶媒を留去し。
得られた残留物を塩化メチレン100dに溶解させ、0
℃に冷却する。この中に、トリエチルアミン5.46−
を加えた後、トリチルクロリド11.40fを加え、0
℃で3時間反応させる。ついで1反応液に水5011t
を加え、有機層を分取した後、飽和食塩水40mで洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。ついで、減圧
下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマトグ
ラフィー〔メルク製シリカゲル60.ム7734、溶出
溶媒;ベンゼン:酢酸エチル=100 : 1〜50:
1(容量比)〕で精製すれば。
℃に冷却する。この中に、トリエチルアミン5.46−
を加えた後、トリチルクロリド11.40fを加え、0
℃で3時間反応させる。ついで1反応液に水5011t
を加え、有機層を分取した後、飽和食塩水40mで洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。ついで、減圧
下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマトグ
ラフィー〔メルク製シリカゲル60.ム7734、溶出
溶媒;ベンゼン:酢酸エチル=100 : 1〜50:
1(容量比)〕で精製すれば。
アモルファス状の(38,5R,6R)−6−ドリチル
アミノー3−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)
−7−オキノー4−チア−1−アザビシクロ[3,2,
0]へブタン10.40f(収率67.51 )を得る
。
アミノー3−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)
−7−オキノー4−チア−1−アザビシクロ[3,2,
0]へブタン10.40f(収率67.51 )を得る
。
I R(KB r )CIll−1ニジc=o 17
80.174ONMR(CDC] a)δ値: 2.97〜3.37(2H,m)、 3.92〜4.
72(4H,m)。
80.174ONMR(CDC] a)δ値: 2.97〜3.37(2H,m)、 3.92〜4.
72(4H,m)。
5.13(2H,s)、 7.04〜7.62(17
H,m)。
H,m)。
8.14(2H,d、J=9Hz)
(31(3S 、 5 R、6R) −3−(p−ニト
ロベンジルオキシカルボニル)−7−オキソ−4−チア
−6−ドリチルアミノー1−アザビシクロ[3,2,O
]ヘプタン8.5 Ofをテトラヒドロフラン170m
に溶解させ、0℃に冷却し、この溶液に硫化ナトリウム
・9水和物2.9Ofを水52dに溶解させた溶液を加
え、0℃で30分間反応させる。ついで1反応液をIN
塩酸でp H7,0に調整し、減圧下に溶媒を留去する
。得られた残留物に水170mおよびジエチルエーテル
43−を加え、水層を分取した後、酢酸エチル170d
を加え、IN塩酸でpH2,0に調整する。有機層を分
取し、水50−および飽和食塩水4゜dで順次洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。ついで、減圧
下に溶媒を留去すれば、m点159〜165℃(分解)
を示す(3s。
ロベンジルオキシカルボニル)−7−オキソ−4−チア
−6−ドリチルアミノー1−アザビシクロ[3,2,O
]ヘプタン8.5 Ofをテトラヒドロフラン170m
に溶解させ、0℃に冷却し、この溶液に硫化ナトリウム
・9水和物2.9Ofを水52dに溶解させた溶液を加
え、0℃で30分間反応させる。ついで1反応液をIN
塩酸でp H7,0に調整し、減圧下に溶媒を留去する
。得られた残留物に水170mおよびジエチルエーテル
43−を加え、水層を分取した後、酢酸エチル170d
を加え、IN塩酸でpH2,0に調整する。有機層を分
取し、水50−および飽和食塩水4゜dで順次洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。ついで、減圧
下に溶媒を留去すれば、m点159〜165℃(分解)
を示す(3s。
5R,6R)−3−カルボキシ−7−オキソ−4−チア
−6−トリチルアミノ−1−アザビシク0[3,2,0
]へブタ/4.0Of(収率61,8憾)を得る。
−6−トリチルアミノ−1−アザビシク0[3,2,0
]へブタ/4.0Of(収率61,8憾)を得る。
IR(KBr)cWt−x ニジe判1780.173
ONMR(da−DMSO)δ値: 2.75〜3.50(2)(、m)、 3.75〜4
.65(4H,rn)。
ONMR(da−DMSO)δ値: 2.75〜3.50(2)(、m)、 3.75〜4
.65(4H,rn)。
7.00〜?、60 (15H、m )(4) (3
S 、 5 R、6R) −3−カルボキシ−7−オキ
ソ−4−チア−6−ドリチルアミノー1−アザビシクロ
〔3,2,0〕へブタン4.Ofを塩化メチレン40d
に溶解させ、N−メチルモルホリフ 1.08 a+j
を加え、 −30〜−20’Cに冷却する。この溶液に
クロル炭酸エチル0.93adを加え、同温度で1時間
反応させる。ついで、β−アラニンメチルエステル1.
10−を加え0℃まで昇温させ、1時間反応させた後、
水20dを加え、有機J−を分取する。さらに、有機層
を水15−および飽和食塩水1o−で順次洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。っム7734.溶
出溶媒:ベンゼン:酢酸エチル=20:1〜10:1(
容量比)〕で精製すれば、(3S、SR,6R)−3−
[N−(2−メトキシカルボニルエチル)カルバモイル
〕−7−オキンー4−チア−6−ドリチルアミノー1−
アザビシクロ(3,2,0]へブタン4.Of(収率8
3.596)を得る。
S 、 5 R、6R) −3−カルボキシ−7−オキ
ソ−4−チア−6−ドリチルアミノー1−アザビシクロ
〔3,2,0〕へブタン4.Ofを塩化メチレン40d
に溶解させ、N−メチルモルホリフ 1.08 a+j
を加え、 −30〜−20’Cに冷却する。この溶液に
クロル炭酸エチル0.93adを加え、同温度で1時間
反応させる。ついで、β−アラニンメチルエステル1.
10−を加え0℃まで昇温させ、1時間反応させた後、
水20dを加え、有機J−を分取する。さらに、有機層
を水15−および飽和食塩水1o−で順次洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。っム7734.溶
出溶媒:ベンゼン:酢酸エチル=20:1〜10:1(
容量比)〕で精製すれば、(3S、SR,6R)−3−
[N−(2−メトキシカルボニルエチル)カルバモイル
〕−7−オキンー4−チア−6−ドリチルアミノー1−
アザビシクロ(3,2,0]へブタン4.Of(収率8
3.596)を得る。
融点:165〜166℃(再結溶媒:メタノール)IR
(KBr)信−xニジNH3300We=xo 178
0,1740゜66O NMR(CDCl2)δ値: 2.47(2H,t、J=6Hz)、2.90〜4.7
0(’8H,m)。
(KBr)信−xニジNH3300We=xo 178
0,1740゜66O NMR(CDCl2)δ値: 2.47(2H,t、J=6Hz)、2.90〜4.7
0(’8H,m)。
3.68(3H,s)、6.84(IH,t、J=6H
z)。
z)。
7.10〜7.70 (15H、m )同様にして次の
化合物を得る。
化合物を得る。
o (3S、SR,6R)−3−[N−(2,4−ジ
メートキシペンジル)カルバモイル〕−7−オキソー4
−チア−6−ドリチルアミノー1−アザビシクロ[3,
2,0]へブタン(アモルファス状) IR(KBr)m−1ニジc=o 1770.165O
NMR(CDCla)δ値: 3.00〜4.70(8H,m)、 3.76(3H,
s)。
メートキシペンジル)カルバモイル〕−7−オキソー4
−チア−6−ドリチルアミノー1−アザビシクロ[3,
2,0]へブタン(アモルファス状) IR(KBr)m−1ニジc=o 1770.165O
NMR(CDCla)δ値: 3.00〜4.70(8H,m)、 3.76(3H,
s)。
3.79(3H,s)、 6.30〜7.65(19H
,m)参考例2 +11 (3R、5R、6R) −3−(p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル)−7−オキソ−6−フェニ
ルアセタミド−4−チア−1−アザビシクロ(3,2,
0]へブタン8.66 fを塩化メチレン200−に溶
解させ、−65℃に冷却する。これにN、N−ジメチル
アニリン9゜94mおよび五塩化リン5.31fを41
1次添加し、−60〜−50℃で1時間反応させた後、
無水メタノール48dを加え、1.5時間を要して室温
まで昇温する。
,m)参考例2 +11 (3R、5R、6R) −3−(p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル)−7−オキソ−6−フェニ
ルアセタミド−4−チア−1−アザビシクロ(3,2,
0]へブタン8.66 fを塩化メチレン200−に溶
解させ、−65℃に冷却する。これにN、N−ジメチル
アニリン9゜94mおよび五塩化リン5.31fを41
1次添加し、−60〜−50℃で1時間反応させた後、
無水メタノール48dを加え、1.5時間を要して室温
まで昇温する。
ついで、水冷下で反応液に水100dを加え。
10分間攪拌した後、炭酸水素ナトリウムでI)H7,
0に調整する。有機層を分取し、飽和食塩水100mで
洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。この
溶液に水冷下、ピリジン159mを加え、ついで、トリ
チルクロリド5.479を10分間を要して分割添加し
、同温度で20分間攪拌する。反応液を水80−および
飽和食塩水60−で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残
留物をカラムクロマトグラフィー〔和光シリカゲルC−
200,溶出溶媒;ベンゼン:酢酸エチノl/!50:
1〜30 : 1 (容量比)〕で精製すれば、アモル
ファス状の(3R95R,6R)−3−(p−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル)−7−オキソ−4−チア−6
−ドリチルアミノー1−アザビシクロ[3,2,O]ヘ
プタン7、85 f (収率70.74)を得る。
0に調整する。有機層を分取し、飽和食塩水100mで
洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。この
溶液に水冷下、ピリジン159mを加え、ついで、トリ
チルクロリド5.479を10分間を要して分割添加し
、同温度で20分間攪拌する。反応液を水80−および
飽和食塩水60−で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残
留物をカラムクロマトグラフィー〔和光シリカゲルC−
200,溶出溶媒;ベンゼン:酢酸エチノl/!50:
1〜30 : 1 (容量比)〕で精製すれば、アモル
ファス状の(3R95R,6R)−3−(p−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル)−7−オキソ−4−チア−6
−ドリチルアミノー1−アザビシクロ[3,2,O]ヘ
プタン7、85 f (収率70.74)を得る。
IR(KBr)cm−’ニジcmo 1780.173
5NMR(CDCla )δ値: 2.86(IH,dd、J=6.5Hz、J=13Hz
)、 3.33〜4.70(5H,m)+ 5.20(
2H,a)、 7.00〜7.70(17H,m)、
8.09(2H,d、J=9Hz)+2) (3R
、5R、6R) −3−(p−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル)−7−オキソ−4−チアー6−トリチルアミ
ノー1−アザビシクロ[3,2,O)ヘプタン6.0O
fを70−のテトラヒドロ7ランに溶解させ、水24m
を加える。
5NMR(CDCla )δ値: 2.86(IH,dd、J=6.5Hz、J=13Hz
)、 3.33〜4.70(5H,m)+ 5.20(
2H,a)、 7.00〜7.70(17H,m)、
8.09(2H,d、J=9Hz)+2) (3R
、5R、6R) −3−(p−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル)−7−オキソ−4−チアー6−トリチルアミ
ノー1−アザビシクロ[3,2,O)ヘプタン6.0O
fを70−のテトラヒドロ7ランに溶解させ、水24m
を加える。
これに硫化ナトリウム・9水和物2.42tを水15d
に溶解させた溶液を添加し、0〜5℃で1時間反応させ
る。6N塩酸で反応液をpH7,0に調整し、減圧下に
溶媒を留去する。残留物をジエチルエーテル50I11
tで洗浄した後、酢酸工f−ル100−を加え6N塩酸
テpH2,0に!c調整する。有機層を分取し、水40
−および飽和食塩水30−で順次洗浄した後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去すれば
。
に溶解させた溶液を添加し、0〜5℃で1時間反応させ
る。6N塩酸で反応液をpH7,0に調整し、減圧下に
溶媒を留去する。残留物をジエチルエーテル50I11
tで洗浄した後、酢酸工f−ル100−を加え6N塩酸
テpH2,0に!c調整する。有機層を分取し、水40
−および飽和食塩水30−で順次洗浄した後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去すれば
。
アモルファス状の(3R,5R,6R)−3−カルボキ
シ−7−オキソ−4−チア−6−ドリチルアミノー1−
アザビシクロ[3,2,0]へブタン3.20t(収率
90.2係)を得る。
シ−7−オキソ−4−チア−6−ドリチルアミノー1−
アザビシクロ[3,2,0]へブタン3.20t(収率
90.2係)を得る。
IR(KBr)3−1ニジc−o 1780.1735
NMR(CDC1a)δ値: 2.86(IH,dd、J=6.5Hz、J=13Hz
)、 3.83〜4.83(5H,m)、 7.0
0〜7.70(15H,m)(3) (3R,5R,6
R)−3−カルボキシ−7−オキソ−4−チア−6−ド
リチルアミノー1−アザビシクロ[3,2,O]へブタ
ン4.09fを50mの塩化メチレンに溶解させ、−2
0℃に冷却する。N−メチルモルホリン1.15−およ
びクロル炭酸エチル1.09mを加え、−15〜−10
℃で1.5時間攪拌した後、β−アラニンメチルエステ
ル1.23 mを添加し、同温度で30分間反応させる
。反応液を水30−および飽和食塩水20−で順次洗浄
した後無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶
媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィ
ー〔和光シリカゲルC−200,溶出溶媒;ベンゼン:
酢酸エチA45 : 1 (容量比)〕で精製すれば、
(3R。
NMR(CDC1a)δ値: 2.86(IH,dd、J=6.5Hz、J=13Hz
)、 3.83〜4.83(5H,m)、 7.0
0〜7.70(15H,m)(3) (3R,5R,6
R)−3−カルボキシ−7−オキソ−4−チア−6−ド
リチルアミノー1−アザビシクロ[3,2,O]へブタ
ン4.09fを50mの塩化メチレンに溶解させ、−2
0℃に冷却する。N−メチルモルホリン1.15−およ
びクロル炭酸エチル1.09mを加え、−15〜−10
℃で1.5時間攪拌した後、β−アラニンメチルエステ
ル1.23 mを添加し、同温度で30分間反応させる
。反応液を水30−および飽和食塩水20−で順次洗浄
した後無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶
媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィ
ー〔和光シリカゲルC−200,溶出溶媒;ベンゼン:
酢酸エチA45 : 1 (容量比)〕で精製すれば、
(3R。
5R,6R)−3−(N−(2−メトキシカルボニルエ
チル)カルバモイル〕−7−オキソー4−チア−6−ド
リチルアミノー1−アザビシクロC3,2,0]へブタ
ン3.48f(収率71.0係)を結晶として得る。
チル)カルバモイル〕−7−オキソー4−チア−6−ド
リチルアミノー1−アザビシクロC3,2,0]へブタ
ン3.48f(収率71.0係)を結晶として得る。
融点:196〜197℃(分解)(再結溶媒:メタノー
ル)I R(KB r ) (:m−1ニジNH333
0,νc=o 1770.1?30.166ONMR(
CDCla )δ値: 2.55(2H,t、J=6Hz)、 2.91(I
H,dd、J−6,5Hz、J=13Hz)、 3.
20〜4.70(7H,m)。
ル)I R(KB r ) (:m−1ニジNH333
0,νc=o 1770.1?30.166ONMR(
CDCla )δ値: 2.55(2H,t、J=6Hz)、 2.91(I
H,dd、J−6,5Hz、J=13Hz)、 3.
20〜4.70(7H,m)。
7.00〜7.70(16H,m)、 3.69(3
’H,s)同様にして、つぎの化合物を得る。
’H,s)同様にして、つぎの化合物を得る。
○ (3R,5R,6R)−3−[N−(2,4−ジメ
トキシベンジル)カルバモイル]−7−、t−キン−4
−チア−6−ドリチルアミノーl−アザビシクロ[3,
z、o〕ヘプタン 1点:169〜170℃(再結溶媒:クロロホルム)I
R(KBr)cm−1ニジc=o 1770. 166
ONMR(CDCIa )δ値: 2.83(II−i、dd、J=6.5Hz、J=13
HzL 3.30〜4.67(7H,m)、3.70
(3H,a)、3.74(3)4゜11)、 6.25
〜7.70(19H,m)参考例3 (1) (3R、5R、6R) −3−カルボキシ−
7−オキソ−6−フェニルアセタミド−4−チア−1−
アザビシクロ[3,2,03へブタン4.31を塩化メ
チレン60mgK@!濁させ、N−メチルモルホリン1
.62dを加え溶解させる。次いでこの溶液を一30℃
に冷却しクロル炭酸エチル1.40mAを加え−10〜
−15℃で1.5時間反応させたのち、4.37 Nの
アンモニアのエタノール溶液4.80attを10分間
で滴下する。滴下後、−10〜−5℃で1時間、−5〜
0℃で30分間、0〜20℃で30分間反応させる。つ
いで1反応液に水15a/を加えたのち、2N塩酸でp
H2,0に調整する。有機層を分取し、飽和食塩水1
0−で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる
。減圧下に溶媒を留去し、得られ九残留物に酢酸エチル
20mを加え30分間攪拌した後、結晶を炉腹すれば、
融点159〜160℃(分解)を示す(3R,5R,6
R)−3−カルバモイル−7−オキソ−6−フェニルア
セタミド−4−チア−1−アザビシクロ[3,2,03
ヘプタン2.5tC収率58.34)を得る。
トキシベンジル)カルバモイル]−7−、t−キン−4
−チア−6−ドリチルアミノーl−アザビシクロ[3,
z、o〕ヘプタン 1点:169〜170℃(再結溶媒:クロロホルム)I
R(KBr)cm−1ニジc=o 1770. 166
ONMR(CDCIa )δ値: 2.83(II−i、dd、J=6.5Hz、J=13
HzL 3.30〜4.67(7H,m)、3.70
(3H,a)、3.74(3)4゜11)、 6.25
〜7.70(19H,m)参考例3 (1) (3R、5R、6R) −3−カルボキシ−
7−オキソ−6−フェニルアセタミド−4−チア−1−
アザビシクロ[3,2,03へブタン4.31を塩化メ
チレン60mgK@!濁させ、N−メチルモルホリン1
.62dを加え溶解させる。次いでこの溶液を一30℃
に冷却しクロル炭酸エチル1.40mAを加え−10〜
−15℃で1.5時間反応させたのち、4.37 Nの
アンモニアのエタノール溶液4.80attを10分間
で滴下する。滴下後、−10〜−5℃で1時間、−5〜
0℃で30分間、0〜20℃で30分間反応させる。つ
いで1反応液に水15a/を加えたのち、2N塩酸でp
H2,0に調整する。有機層を分取し、飽和食塩水1
0−で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる
。減圧下に溶媒を留去し、得られ九残留物に酢酸エチル
20mを加え30分間攪拌した後、結晶を炉腹すれば、
融点159〜160℃(分解)を示す(3R,5R,6
R)−3−カルバモイル−7−オキソ−6−フェニルア
セタミド−4−チア−1−アザビシクロ[3,2,03
ヘプタン2.5tC収率58.34)を得る。
IR(KBr )crl ニジc−o 1770.16
70.164ONMR(do−DMSO)δ値: 3.10(IH,dd、J=7Hz、J=13Hz)、
3.54(2H。
70.164ONMR(do−DMSO)δ値: 3.10(IH,dd、J=7Hz、J=13Hz)、
3.54(2H。
s ) 、 3.92〜4.40(2H,m) 、
5.20〜5.60(2H,m)。
5.20〜5.60(2H,m)。
6.93〜7.41(6H,m)、 7.71(IH
,ba)、 8.39(lH,d、J=8Hz) f2+ (3R、5R、6R) −3−カルバモイル
−7−オキソ−6−フェニルアセタミド−4−チア−1
−アザビシクロ[3,2,0]へブタン2.852を塩
化メチレン30−に懸濁させ、ピリジン3.10mを加
えたのち、水冷下無水トリフルオロ酢酸2.70a1t
を15分間を要して滴下する。滴下後1反応液を室温ま
で昇温し、水15dを加える。ついで有機層を分取し飽
和食塩水10mで洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物を
カラムクロマトグラフィー〔和光シリカゲルC−200
,溶出溶媒;ベンゼン:酢酸エチル=10:1(容喰比
)〕で精製すれば、油状の(3R,5R,6R)−3−
シアノ−7−オキソ−6−フエニルアセタミ・ビー4−
チア−1−アザビシクロ(3,2,0]へブタ72.2
0fCIll率82.04)を得る。
,ba)、 8.39(lH,d、J=8Hz) f2+ (3R、5R、6R) −3−カルバモイル
−7−オキソ−6−フェニルアセタミド−4−チア−1
−アザビシクロ[3,2,0]へブタン2.852を塩
化メチレン30−に懸濁させ、ピリジン3.10mを加
えたのち、水冷下無水トリフルオロ酢酸2.70a1t
を15分間を要して滴下する。滴下後1反応液を室温ま
で昇温し、水15dを加える。ついで有機層を分取し飽
和食塩水10mで洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物を
カラムクロマトグラフィー〔和光シリカゲルC−200
,溶出溶媒;ベンゼン:酢酸エチル=10:1(容喰比
)〕で精製すれば、油状の(3R,5R,6R)−3−
シアノ−7−オキソ−6−フエニルアセタミ・ビー4−
チア−1−アザビシクロ(3,2,0]へブタ72.2
0fCIll率82.04)を得る。
IR(:−ト)ctrl:に′C=N2230.シc=
o 1780,1665NMR(CDC1a)δ1直: 3.00(IH,dd、J=6Hz、J=13Hz)、
3.58(2H,s)、 4.11(IH,d、J
=6Hz)、 4.43(IH,d、J=13Hz)
、 5.29(IH,d、J=4Hz)C5,54(
IH,dd、J−4Hz、J=8Hz)、 6.81
(II(。
o 1780,1665NMR(CDC1a)δ1直: 3.00(IH,dd、J=6Hz、J=13Hz)、
3.58(2H,s)、 4.11(IH,d、J
=6Hz)、 4.43(IH,d、J=13Hz)
、 5.29(IH,d、J=4Hz)C5,54(
IH,dd、J−4Hz、J=8Hz)、 6.81
(II(。
d、J=8Hz)、 7.27(5H,a)(31(
3R、5R、6R) −3−シアノ−7−オキソ−6−
フェニルアセタミド−4−チア−1−アザビシクロ[3
,2,O]ヘプタン4.1Ofを塩化メチレン82dK
懸濁させ、N、N−ジメチルアニリン5.43st7t
を加え一60℃に冷却する。
3R、5R、6R) −3−シアノ−7−オキソ−6−
フェニルアセタミド−4−チア−1−アザビシクロ[3
,2,O]ヘプタン4.1Ofを塩化メチレン82dK
懸濁させ、N、N−ジメチルアニリン5.43st7t
を加え一60℃に冷却する。
さらに五塩化リン4.46fを加え、−60〜−50℃
で1時間反応させる。ついで、無水メタノ−” 25
Jを一50℃で加、t、o’cまで昇mさt、1時間反
応させる。水2o−を加え曵炭酸水素すトリウムでpH
1,0に調整し、水層を分取する。
で1時間反応させる。ついで、無水メタノ−” 25
Jを一50℃で加、t、o’cまで昇mさt、1時間反
応させる。水2o−を加え曵炭酸水素すトリウムでpH
1,0に調整し、水層を分取する。
さらに、有機層に水5.0−を加え水層を分取し。
これを先の水層と合し、これに塩化メチレン2〇−を加
え、炭酸水素ナトIJウムでpH7,5に調整する。有
機層を分取し、さらに1水層を塩化メチレン10dずつ
で10回、抽出操作を繰り返す。抽出液と先の有機I−
を合し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧下
KB媒を留去する。得られた残留物にジエチルエーテル
を加え、結晶化させれば、融点117〜121℃(分解
)を示すr3R,5R,6R)−6−アミノ−3−シア
ノ−7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ[3,2
,0]へブタン1.30t(収率544)を得る。
え、炭酸水素ナトIJウムでpH7,5に調整する。有
機層を分取し、さらに1水層を塩化メチレン10dずつ
で10回、抽出操作を繰り返す。抽出液と先の有機I−
を合し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧下
KB媒を留去する。得られた残留物にジエチルエーテル
を加え、結晶化させれば、融点117〜121℃(分解
)を示すr3R,5R,6R)−6−アミノ−3−シア
ノ−7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ[3,2
,0]へブタン1.30t(収率544)を得る。
IR(KBr)cylニジc=N2240 tシc=o
1755+41 (3R、5R、6R) −6−アミ
ノ−3−シアノ−7−オキソ−4−チア−1−アザビシ
クロ[3,2,01へブタン1.3Ofを塩化メチレン
26mに懸濁させ、0℃に冷却する。トリエチルアミン
1.18−およびトリチルクロリド2.34tを順次加
え、室温で30分間反応させる。反応液を、水1:Ja
I/および飽和食塩水13dで順次洗浄した後、有機層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物にベンゼン10−を加え、結晶
化させれば、融点198〜200℃(分解)を示す(3
R,5R,6R)−3−シアノ−7−オキソ−4−チア
−6−ドリチルアミノー1−アザビシクロ[3,2,0
]へブタン2.88?(収率91俤)を得る。
1755+41 (3R、5R、6R) −6−アミ
ノ−3−シアノ−7−オキソ−4−チア−1−アザビシ
クロ[3,2,01へブタン1.3Ofを塩化メチレン
26mに懸濁させ、0℃に冷却する。トリエチルアミン
1.18−およびトリチルクロリド2.34tを順次加
え、室温で30分間反応させる。反応液を、水1:Ja
I/および飽和食塩水13dで順次洗浄した後、有機層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物にベンゼン10−を加え、結晶
化させれば、融点198〜200℃(分解)を示す(3
R,5R,6R)−3−シアノ−7−オキソ−4−チア
−6−ドリチルアミノー1−アザビシクロ[3,2,0
]へブタン2.88?(収率91俤)を得る。
IR(KBr )ctn−1ニジC!N 2220.シ
c=o1770実施例1 (38,5R,6R)−3−[N−(2−メトキシカル
ボニルエチル)カルノくモイル]−7−オキソー4−チ
ア−6−トリチルアミノ−1−アザビシクロ[3,2,
O]ヘプタン5.2Ofを塩化メチレン52dに溶解さ
せ、−5℃まで冷却し、ピリジン2.45−およびトリ
クロロメチルクロロホルメイト1.21 sljを加え
、室温まで昇温し、4時間反応させる。ついで、減圧下
に各線を留去した後、得られた残留物を塩化メチレン5
2−に溶解させ、水冷下、トリメチルシリルアジド1.
43dを加え、室温で1時間反応させる。その後、水2
6dを加え、IN塩酸でpH2,5に調整し、有機層を
分取し、さらに、有機層を水201m1および飽和食塩
水10dで順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させる。
c=o1770実施例1 (38,5R,6R)−3−[N−(2−メトキシカル
ボニルエチル)カルノくモイル]−7−オキソー4−チ
ア−6−トリチルアミノ−1−アザビシクロ[3,2,
O]ヘプタン5.2Ofを塩化メチレン52dに溶解さ
せ、−5℃まで冷却し、ピリジン2.45−およびトリ
クロロメチルクロロホルメイト1.21 sljを加え
、室温まで昇温し、4時間反応させる。ついで、減圧下
に各線を留去した後、得られた残留物を塩化メチレン5
2−に溶解させ、水冷下、トリメチルシリルアジド1.
43dを加え、室温で1時間反応させる。その後、水2
6dを加え、IN塩酸でpH2,5に調整し、有機層を
分取し、さらに、有機層を水201m1および飽和食塩
水10dで順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させる。
ついで、減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラ
ムクロマトグラフィー〔メルク製シリカゲル60.A7
734.溶出溶媒:ベンゼン:酢酸エチ〜=20:1〜
15:1(容量比)〕で精製すれば、(38,5R,6
R)−3−(1−C2−メトキシカルボニルエチル)テ
トラゾール−5−イル〕−7−オキソー4−チア−6−
ドリチルアミノー1−アザビシクロC3,2,。
ムクロマトグラフィー〔メルク製シリカゲル60.A7
734.溶出溶媒:ベンゼン:酢酸エチ〜=20:1〜
15:1(容量比)〕で精製すれば、(38,5R,6
R)−3−(1−C2−メトキシカルボニルエチル)テ
トラゾール−5−イル〕−7−オキソー4−チア−6−
ドリチルアミノー1−アザビシクロC3,2,。
0]ヘプタン4.98tC収率93.4憾)を得る。
融点:190℃(再結溶媒:メタノール)IR(KBr
)m−1ニジc=o 17’15.173ONMR(C
DC1a)δ値: 2.84〜3.80(4H,m)、3.64(3H,s
)、4.20〜4.75(5H,m)、 4.95(
IH,t、J=8Hz)。
)m−1ニジc=o 17’15.173ONMR(C
DC1a)δ値: 2.84〜3.80(4H,m)、3.64(3H,s
)、4.20〜4.75(5H,m)、 4.95(
IH,t、J=8Hz)。
7.05〜7.63(15H,m)
同様にして次の化合物を得る。
0 (3S、5R,6R)−3−(1−(2,4−ジ
メトキシベンジル)テトラゾール−5−イル〕−7−オ
キソー4−チア−6−ドリチルアミノー1−アザビシク
ロ[3,2,O]ヘプタン融点:178〜179℃(再
結溶媒:酢酸エチル)IR(KB r )cWL−1ニ
ジc−o 177ONMR(CDCla )δ値: 3.00〜4.90(6H,m)、 3.68(3H
,s)、 3.77(3H,a)、5.32(2H,
a)、 6.30〜7.70(18H。
メトキシベンジル)テトラゾール−5−イル〕−7−オ
キソー4−チア−6−ドリチルアミノー1−アザビシク
ロ[3,2,O]ヘプタン融点:178〜179℃(再
結溶媒:酢酸エチル)IR(KB r )cWL−1ニ
ジc−o 177ONMR(CDCla )δ値: 3.00〜4.90(6H,m)、 3.68(3H
,s)、 3.77(3H,a)、5.32(2H,
a)、 6.30〜7.70(18H。
m)
実施例2
(38,SR,6R)−3−[1−(2−メトキシカル
ボニルエチル)テトラゾール−5−イル〕−7−オキソ
ー4−チア−6−ドリチルアミノー1−アザビシクロ[
3,2,O]ヘプタン6.5Ofを塩化メチレン65m
に溶解させ、1゜8−ジアザビシクロ[5,4,O)ウ
ンデセー7−エン1.84 dを加え、室温で一夜反応
させる。
ボニルエチル)テトラゾール−5−イル〕−7−オキソ
ー4−チア−6−ドリチルアミノー1−アザビシクロ[
3,2,O]ヘプタン6.5Ofを塩化メチレン65m
に溶解させ、1゜8−ジアザビシクロ[5,4,O)ウ
ンデセー7−エン1.84 dを加え、室温で一夜反応
させる。
ついで1反応液から減圧下に溶媒を留去し、得られた残
留物に水200−および酢酸エチル100dを加えlj
IN塩酸でpH8,0に調整し。
留物に水200−および酢酸エチル100dを加えlj
IN塩酸でpH8,0に調整し。
水層を分取する。さらに、水層に酢酸エチル150−を
加え、IN塩酸でpH2,0に調整し。
加え、IN塩酸でpH2,0に調整し。
有機層を分取する。有機層を水70dおよび飽和食塩水
50mで順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
させる。ついで、減圧下に溶媒を留°去すれば、融点1
30℃(分解)を示す(38,5R,6R)−3−(5
−テトラゾリル)−7−オキソ−4−チア−6−ドリチ
ルアミノー1−アザビシクロC3,2,0〕ヘプタン4
、33 t (収率77.5憾)を得る。
50mで順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
させる。ついで、減圧下に溶媒を留°去すれば、融点1
30℃(分解)を示す(38,5R,6R)−3−(5
−テトラゾリル)−7−オキソ−4−チア−6−ドリチ
ルアミノー1−アザビシクロC3,2,0〕ヘプタン4
、33 t (収率77.5憾)を得る。
IR(KBr )ctn−1ニジc!=o 178
ONMR(da−DMSO)δ値: 2.95〜3.70(2H,m)、 4.18〜4.
80(3H,m)。
ONMR(da−DMSO)δ値: 2.95〜3.70(2H,m)、 4.18〜4.
80(3H,m)。
5.16(IH,t、J=8Hz)、 7.00〜7
.65(15H。
.65(15H。
m)
実施例3
(3S、5R,6R)−3−(5−テトラゾ・:4;ヱ
1/ リル)−7−オキソ−6−ドリチルアミノー1−’7f
ヒ’/l I”+ [3,2,0]へj174.o O
fを酢酸エチル20dに溶解させ、p−トルエンスルホ
ン酸・1水和物の酢酸エチル溶液(p−)ルエンスルホ
ン酸・1水和物1.67Fを酢酸エチル8、Oldに溶
解させて調製)を加え、室温で15分間攪拌した後、ジ
エチルエーテ#28mを加え、さらに同温度で30分間
攪拌する。析出晶をF取し、ジエチルエーテル15−で
洗浄した後、結晶を水10dおよび酢酸エチル5−に溶
解させ、炭酸水素ナトリウムで1)H4,Oに調整し、
水冷下、30分間攪拌する。析出晶を戸数し、水2dお
よびアセトン5dで順次洗浄した後、乾燥はせ−れば、
融点170〜175℃(分解)を示す(3S、5R,6
R)−6−アミノ−3−(5−テトラゾリル)−7−オ
キソ−4−チア−1−アザビシクロ[3,2,0)へブ
タン1.05F(56,11)を得る。
1/ リル)−7−オキソ−6−ドリチルアミノー1−’7f
ヒ’/l I”+ [3,2,0]へj174.o O
fを酢酸エチル20dに溶解させ、p−トルエンスルホ
ン酸・1水和物の酢酸エチル溶液(p−)ルエンスルホ
ン酸・1水和物1.67Fを酢酸エチル8、Oldに溶
解させて調製)を加え、室温で15分間攪拌した後、ジ
エチルエーテ#28mを加え、さらに同温度で30分間
攪拌する。析出晶をF取し、ジエチルエーテル15−で
洗浄した後、結晶を水10dおよび酢酸エチル5−に溶
解させ、炭酸水素ナトリウムで1)H4,Oに調整し、
水冷下、30分間攪拌する。析出晶を戸数し、水2dお
よびアセトン5dで順次洗浄した後、乾燥はせ−れば、
融点170〜175℃(分解)を示す(3S、5R,6
R)−6−アミノ−3−(5−テトラゾリル)−7−オ
キソ−4−チア−1−アザビシクロ[3,2,0)へブ
タン1.05F(56,11)を得る。
IR(KB r )cm−1ニジc=o 1785NM
R(D20−IMsO−NaHCO:i)δ1直:3.
16(IH,dd、J=8Hz、J=13Hz)、
4.19(IH,dd、J=6Hz、J=13Hz)、
4.47(IH。
R(D20−IMsO−NaHCO:i)δ1直:3.
16(IH,dd、J=8Hz、J=13Hz)、
4.19(IH,dd、J=6Hz、J=13Hz)、
4.47(IH。
d、J=4Hz)、 5−01(IH,dd、J=6
Hz、J=8Hz)、 5.31(IH,d、J=4
Hz)実施例4 (38,5R,6R)−6−アミノ−3−(5−テトラ
ゾリル)−7−オ中ソー4−チア−1−アザビシクロ[
3,2,01へブタン40m9をN、N−ジメチルホル
ムアミド1.5−に懸濁させ、トリエチルアミン0.0
26−を加えた後。
Hz、J=8Hz)、 5.31(IH,d、J=4
Hz)実施例4 (38,5R,6R)−6−アミノ−3−(5−テトラ
ゾリル)−7−オ中ソー4−チア−1−アザビシクロ[
3,2,01へブタン40m9をN、N−ジメチルホル
ムアミド1.5−に懸濁させ、トリエチルアミン0.0
26−を加えた後。
−10℃まで冷却する。一方、D−α−C4−エチル−
2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド)フ
ェニル酢e1160 aFを塩化メチレン2、0 dに
m濁させ、−20℃でN−メチルモルホリン0.023
dおよびクロル炭酸エチル0.018−を加え、−30
〜−20℃で1時間反応させる。
2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド)フ
ェニル酢e1160 aFを塩化メチレン2、0 dに
m濁させ、−20℃でN−メチルモルホリン0.023
dおよびクロル炭酸エチル0.018−を加え、−30
〜−20℃で1時間反応させる。
−10〜−5℃でこの反応液を先に調製したN、N−ジ
メチル小ルムアミド溶液中へ滴下する。滴下終了後、同
温度で1時間反応させた後、メタノール1.0−を加え
、室温まで昇温させ、同温度で30分間攪拌する。つい
で、減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物に水5.O
m、酢酸エチル5.0dを加え、1N塩酸でpH2,0
に調整し。
メチル小ルムアミド溶液中へ滴下する。滴下終了後、同
温度で1時間反応させた後、メタノール1.0−を加え
、室温まで昇温させ、同温度で30分間攪拌する。つい
で、減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物に水5.O
m、酢酸エチル5.0dを加え、1N塩酸でpH2,0
に調整し。
有機層を分取する。さらに水層な酢酸エチル3−で3回
抽出し、抽出液を先の有機層と合わせ。
抽出し、抽出液を先の有機層と合わせ。
これに水5.0−を加え、炭酸水素ナトリウムでPH7
,5に調整する。水層を分取し、酢酸エチル10dを加
え、1N塩酸でpH2,0に調整し。
,5に調整する。水層を分取し、酢酸エチル10dを加
え、1N塩酸でpH2,0に調整し。
有機層を分取する。さらに水層を酢酸エチル5.0−で
2回抽出し、抽出液を先の有機層と合わせ。
2回抽出し、抽出液を先の有機層と合わせ。
これを飽和食塩水5−で洗浄し九後、無水硫酸−r/ネ
シクムで乾燥する。ついで、減圧下に溶媒を留去し、得
られた残留物にジエチルエーテルを加え、結晶なP取す
れば、(38,5R。
シクムで乾燥する。ついで、減圧下に溶媒を留去し、得
られた残留物にジエチルエーテルを加え、結晶なP取す
れば、(38,5R。
6R)−6−CD−α−(4−エチル−2,3−ジオキ
ソ−1−ピペラジンカルボキサミド)フェニルアセタミ
ド〕−7−オキソ−4−チア−3−C5−テトラゾリル
)−1−アザビシクロ(3,2,0)へブタン509(
収率499係)を得る。
ソ−1−ピペラジンカルボキサミド)フェニルアセタミ
ド〕−7−オキソ−4−チア−3−C5−テトラゾリル
)−1−アザビシクロ(3,2,0)へブタン509(
収率499係)を得る。
IR(KBr )cm−1: Wc=o 1780.
1720.1675トキシカルボニルエチル)カルバモ
イル〕−7−オキソー4−チア−6−ドリチルアミノー
1−アザビシクロ[3,2,01へブタン3.6Ofを
塩化メチレン50−に溶解させ、ピリジン2.08mを
加え一10℃に冷却する。トリクロロメチルクロロホル
メート0.84 tRtを5111の塩化メチレンで希
釈し、これを−5℃以下で滴下した後。
1720.1675トキシカルボニルエチル)カルバモ
イル〕−7−オキソー4−チア−6−ドリチルアミノー
1−アザビシクロ[3,2,01へブタン3.6Ofを
塩化メチレン50−に溶解させ、ピリジン2.08mを
加え一10℃に冷却する。トリクロロメチルクロロホル
メート0.84 tRtを5111の塩化メチレンで希
釈し、これを−5℃以下で滴下した後。
室温まで昇温し、4時間攪拌する。減圧下に溶媒を留去
し、得られた残留物を50mの塩化メチレンに溶解させ
、水冷下2.31−のトリメチルシリルアジドを加えた
後、室温で1時間灰石させる。反応液に水20m/を加
え、3Nm酸でpH2,5に調整する。有機層を分取し
、水2゜dおよび飽和食塩水301ntで順次洗浄した
東無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を
留去し、得られ九残留物をカラムクロマトグラフィー〔
和光シリカゲルc−200.!出溶媒;ベンゼン:酢酸
エチル=9=1〜7:1〜5:1(容量比)]で梢製す
れば−(3R。
し、得られた残留物を50mの塩化メチレンに溶解させ
、水冷下2.31−のトリメチルシリルアジドを加えた
後、室温で1時間灰石させる。反応液に水20m/を加
え、3Nm酸でpH2,5に調整する。有機層を分取し
、水2゜dおよび飽和食塩水301ntで順次洗浄した
東無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を
留去し、得られ九残留物をカラムクロマトグラフィー〔
和光シリカゲルc−200.!出溶媒;ベンゼン:酢酸
エチル=9=1〜7:1〜5:1(容量比)]で梢製す
れば−(3R。
5R,6R)−3−[1−(2−メトキシカルボニルエ
チル)テトラゾール−5−イルコーマ−オキソ−4−チ
ア−6−ドリチル アミノー1−アザビシクロ(3,2,(lヘプタン3.
41?(収率92.6%)を結晶として得る。
チル)テトラゾール−5−イルコーマ−オキソ−4−チ
ア−6−ドリチル アミノー1−アザビシクロ(3,2,(lヘプタン3.
41?(収率92.6%)を結晶として得る。
融点:192℃C分解)(再結溶媒:メタノール)IR
(KBr )、、1 ニジc=o 1770. 173
ONMR(CDC13)δ値: 2.80〜3.40(3H,m)、 3.59(3H
,a)、 4.00〜5.00(7H,m)、7.0
0−7.80(15H,m)同様にして次の化合物を得
る。
(KBr )、、1 ニジc=o 1770. 173
ONMR(CDC13)δ値: 2.80〜3.40(3H,m)、 3.59(3H
,a)、 4.00〜5.00(7H,m)、7.0
0−7.80(15H,m)同様にして次の化合物を得
る。
0 (3R,5R,6R)−3−(1−(2,4−ジ
メトキシベンジル)テトラゾール−5−イル〕−7−オ
キソー4−チア−6−ドリチルアミノー1−アザビシク
ロ[3,2,01へブタンI R(KB r )crn
−1ニジe=o 178ONMR(CDC1a)δ値: 2.94(IH,dd、J=45Hz、J=13Hz)
、 3.70(3H,a)、 3−74(3H,a
)、 3.50〜4.69(5H。
メトキシベンジル)テトラゾール−5−イル〕−7−オ
キソー4−チア−6−ドリチルアミノー1−アザビシク
ロ[3,2,01へブタンI R(KB r )crn
−1ニジe=o 178ONMR(CDC1a)δ値: 2.94(IH,dd、J=45Hz、J=13Hz)
、 3.70(3H,a)、 3−74(3H,a
)、 3.50〜4.69(5H。
−m)、5.29(2H,s)、6.25〜7.68(
18H,m)実施例6 (3R,5R,6R)−3−[1−(2−メトキシカル
ボニルエチル)テトラゾール−5−イル〕−7−オキソ
ー4−チア−6−ドリチルアミノー1−アザビシクロ[
3,2,0]へブタン2.50tを塩化メチレン30−
に溶解させ、1゜8−ジアザビシクロ〔5,4,0〕ウ
ンデセ−7−二ン0.71Mtを水冷下加え死後、室温
で1夜反応させる。反応液に水20mを加え3N−塩酸
でpH2,(lcfJ!4整し、有機層を分取する。水
層な20adの塩化メチレンで2回抽出し有機層を合し
水50−および飽和食塩水30mで順次洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去
すれば、(3B、5R。
18H,m)実施例6 (3R,5R,6R)−3−[1−(2−メトキシカル
ボニルエチル)テトラゾール−5−イル〕−7−オキソ
ー4−チア−6−ドリチルアミノー1−アザビシクロ[
3,2,0]へブタン2.50tを塩化メチレン30−
に溶解させ、1゜8−ジアザビシクロ〔5,4,0〕ウ
ンデセ−7−二ン0.71Mtを水冷下加え死後、室温
で1夜反応させる。反応液に水20mを加え3N−塩酸
でpH2,(lcfJ!4整し、有機層を分取する。水
層な20adの塩化メチレンで2回抽出し有機層を合し
水50−および飽和食塩水30mで順次洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去
すれば、(3B、5R。
6R)−7−オキソ−3−(5−テトラゾリル)−4−
チア−6−ドリチルアミノー1−アザビシクロ[3,2
,0]へブタン2.0Of(収率93.。
チア−6−ドリチルアミノー1−アザビシクロ[3,2
,0]へブタン2.0Of(収率93.。
%)を結晶として得る。
融点=130℃(分解)(再結溶媒:塩化メチレン)I
R(KB r ) crl 二 シe−0 17
70実施例7 (3R,5R,6R)−7−オキソ−3−(5−テトラ
ゾリル)−4−チア−6−ドリチルアミノー1−アザビ
シクロ[3,2,O]ヘプタン2.15tを酢酸エチル
10dに溶解させ、p−トルエンスルホン酸・1水和物
の酢酸エチル溶液(p−トルエンスルホンts8s (
lyi酢酸エチル51m1に溶解させて調製)を加え室
温で15分間反応させる。ジエチルエーテル15−を反
応液に加え、同温度でさらに30分間攪拌した後析出晶
をp取し、ジエチルエーテルlO−で洗浄する。この結
晶を水10m1に溶解させ、酢酸エチル10adを加ζ
氷冷下、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH4,1に
eJ@整する。析出晶を戸数し、さらに水5−、メタノ
ール3ml!およびジエチルエーテル5IItで順次洗
浄すれば、融点180〜183℃を示す(3R,5R,
6R)−6−アミツーツーオキソ−3−(5−テトラゾ
リル)−4−チア−1−アザビシクロ[3,2,01ヘ
プノン420η(収率41.8%)を得る。
R(KB r ) crl 二 シe−0 17
70実施例7 (3R,5R,6R)−7−オキソ−3−(5−テトラ
ゾリル)−4−チア−6−ドリチルアミノー1−アザビ
シクロ[3,2,O]ヘプタン2.15tを酢酸エチル
10dに溶解させ、p−トルエンスルホン酸・1水和物
の酢酸エチル溶液(p−トルエンスルホンts8s (
lyi酢酸エチル51m1に溶解させて調製)を加え室
温で15分間反応させる。ジエチルエーテル15−を反
応液に加え、同温度でさらに30分間攪拌した後析出晶
をp取し、ジエチルエーテルlO−で洗浄する。この結
晶を水10m1に溶解させ、酢酸エチル10adを加ζ
氷冷下、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH4,1に
eJ@整する。析出晶を戸数し、さらに水5−、メタノ
ール3ml!およびジエチルエーテル5IItで順次洗
浄すれば、融点180〜183℃を示す(3R,5R,
6R)−6−アミツーツーオキソ−3−(5−テトラゾ
リル)−4−チア−1−アザビシクロ[3,2,01ヘ
プノン420η(収率41.8%)を得る。
I R(KB r )cm−1ニジc=o 178ON
MR(D20−DMSO−NaHCO3)δ値:3.3
1(IH,dd、J=6Hz、J=13Hz)、 3
.87〜4.02(2H,m)、 4.99(IH,
m)、 5.24(IH。
MR(D20−DMSO−NaHCO3)δ値:3.3
1(IH,dd、J=6Hz、J=13Hz)、 3
.87〜4.02(2H,m)、 4.99(IH,
m)、 5.24(IH。
d 、 J−4Hz )
実施例8
(3R,5R,6R)−6−アミツーフーオキンー3−
〔5−テトラゾリル)−4−チア−1−アザビシクロ[
3,2,0)へブタン100qにN、N−ジメチルホル
ムアミド2d、メタノール1.5献およびトリエチルア
ミン98μ党を順次加え溶解させた後、−15℃に冷却
する。一方、D−α−(4−エチル−2,3−ジオキン
−1−ピペラジンカルボキサミド)フェニル酢酸tso
岬な塩化メチレン2dに懸濁させ、−20℃でN−メチ
ルモルホリン54μ見およびクロル炭酸エチル47μ皇
を加え、−20〜−15℃で1時間攪拌する。この反応
液を先の溶液中へ−15〜−1θ℃で滴下した後1反応
液を30分間を要して室温まで昇温する。減圧下にf8
謀を留去し、得られた残留物に酢酸エチル20−および
水10Intを加え、I N塩酸でpH2,5に調整し
、有機層を分取する。この有機層に水10m1を加え、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH6,5に調整し。
〔5−テトラゾリル)−4−チア−1−アザビシクロ[
3,2,0)へブタン100qにN、N−ジメチルホル
ムアミド2d、メタノール1.5献およびトリエチルア
ミン98μ党を順次加え溶解させた後、−15℃に冷却
する。一方、D−α−(4−エチル−2,3−ジオキン
−1−ピペラジンカルボキサミド)フェニル酢酸tso
岬な塩化メチレン2dに懸濁させ、−20℃でN−メチ
ルモルホリン54μ見およびクロル炭酸エチル47μ皇
を加え、−20〜−15℃で1時間攪拌する。この反応
液を先の溶液中へ−15〜−1θ℃で滴下した後1反応
液を30分間を要して室温まで昇温する。減圧下にf8
謀を留去し、得られた残留物に酢酸エチル20−および
水10Intを加え、I N塩酸でpH2,5に調整し
、有機層を分取する。この有機層に水10m1を加え、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH6,5に調整し。
水層を分取する。これを凍結乾燥させ、(3R。
5R,6R)−6−CD−α−(4−エチル−2,3−
ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド)フェニルア
セタミド]−7−オキソ−3−(5−テトラゾリル)−
4−チア−1−7ザビシクロ[:3.2.0:]へブタ
ンのナトリウム塩170y(収率70.0憾)を得る。
ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド)フェニルア
セタミド]−7−オキソ−3−(5−テトラゾリル)−
4−チア−1−7ザビシクロ[:3.2.0:]へブタ
ンのナトリウム塩170y(収率70.0憾)を得る。
IR(KBr)−@−1ニジc=Q 1780.172
0.1675NMR(da−DMSO)δ値: 1.08(aH,t、J==7Hz)、 2.80〜
4.10(8H,m)。
0.1675NMR(da−DMSO)δ値: 1.08(aH,t、J==7Hz)、 2.80〜
4.10(8H,m)。
5.00(IH,m)、 5.32〜5.70(3H
,m)、 7.10〜7.70(5H,m) 同様にして表−2に示す化合物を得る。
,m)、 7.10〜7.70(5H,m) 同様にして表−2に示す化合物を得る。
表 −2
C;O
2H5
秦 この化合物は炭酸水素す) Uラムで処理せず。
有機層から採取したものである。
実施例9
(3R,5R,6R)−3−[1−(2,4−ジメトキ
シベンジル)テトラゾール−5−イル]−7−オキソー
4−チア−6−ドリチルアミノー1−アザビシクロ〔3
,2,0]ヘプタン1.002を酢酸エチル5艷に溶解
させ、水冷下で、p−トルエンスルホン酸・1水和物1
.57 ttf加りる。室温でさらに1時間攪拌した後
、ジエチルエーテル5dを加える。析出晶を十分はぐし
た後、濾過し、ジエチルエーテル2dで2回洗浄すれば
、融点160〜165℃(分解)を示す(3R,5R,
6R)−3−〔1−(2,4−ジメトキシベンジル)テ
トラゾール−5−イル〕−7−オキソー4−チア−6−
アミノ−1−アザビシクロ[3,2,0]へブタンのp
−)ルエンスルホン酸塩84011q(収率95.0%
)を得る。
シベンジル)テトラゾール−5−イル]−7−オキソー
4−チア−6−ドリチルアミノー1−アザビシクロ〔3
,2,0]ヘプタン1.002を酢酸エチル5艷に溶解
させ、水冷下で、p−トルエンスルホン酸・1水和物1
.57 ttf加りる。室温でさらに1時間攪拌した後
、ジエチルエーテル5dを加える。析出晶を十分はぐし
た後、濾過し、ジエチルエーテル2dで2回洗浄すれば
、融点160〜165℃(分解)を示す(3R,5R,
6R)−3−〔1−(2,4−ジメトキシベンジル)テ
トラゾール−5−イル〕−7−オキソー4−チア−6−
アミノ−1−アザビシクロ[3,2,0]へブタンのp
−)ルエンスルホン酸塩84011q(収率95.0%
)を得る。
I R(KB r )、y−1: 1765NMR(d
a−DMSO)δ値: 2.30(3H,s)、 3.34(IH,dd、J=
6Hz、J=13Hz)、 3.78(6H,a)、
3.60〜4.30(2H。
a−DMSO)δ値: 2.30(3H,s)、 3.34(IH,dd、J=
6Hz、J=13Hz)、 3.78(6H,a)、
3.60〜4.30(2H。
m)、 4.88(IH,d、J−4)(z)、
5.33〜5.60(3H,m)、 6.43〜7.
70(7H,m)実施例10 11) (3R,SR,6R)−3−[1−(2,4
−ジメトキシベンジル)−テトラゾール−5−イル〕−
7−オキソー4−チア−6−7ミノー1−アザビシクロ
[3,2,0]へブタンのp−トルエンスルホン酸塩7
00qを塩化メチレン15dおよび水10mの混合溶媒
に懸濁させ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でp)I7
.0に調整し、有機層を分取する。有機層をさらに飽和
食塩水5−で洗浄した東無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せ、F遇すれば反応液を得る。
5.33〜5.60(3H,m)、 6.43〜7.
70(7H,m)実施例10 11) (3R,SR,6R)−3−[1−(2,4
−ジメトキシベンジル)−テトラゾール−5−イル〕−
7−オキソー4−チア−6−7ミノー1−アザビシクロ
[3,2,0]へブタンのp−トルエンスルホン酸塩7
00qを塩化メチレン15dおよび水10mの混合溶媒
に懸濁させ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でp)I7
.0に調整し、有機層を分取する。有機層をさらに飽和
食塩水5−で洗浄した東無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せ、F遇すれば反応液を得る。
(2)一方、D−α−(4−エチル−2,3−ジオキン
−1−ピペラジンカルボキサミド)フェニル酢酸440
#を塩化メチレン4.5dに懸濁させ。
−1−ピペラジンカルボキサミド)フェニル酢酸440
#を塩化メチレン4.5dに懸濁させ。
−20℃でN−メチルモルホリン0.17−およびクロ
ル炭酸エチル0.14mを加え、−20〜−15℃で1
時間攪拌する。、−15〜−10℃でこの反応液を(1
)の反応液中へ滴下した後、この混合液を30分間を要
して室温まで昇温する。ついで、水1゜dを加え、飽和
炭酸水素ナトリクム水溶液でpH7、0に調整し、有機
層を分取する。この有機層に水10dを加え、I N塩
酸でpH2,5に調整し。
ル炭酸エチル0.14mを加え、−20〜−15℃で1
時間攪拌する。、−15〜−10℃でこの反応液を(1
)の反応液中へ滴下した後、この混合液を30分間を要
して室温まで昇温する。ついで、水1゜dを加え、飽和
炭酸水素ナトリクム水溶液でpH7、0に調整し、有機
層を分取する。この有機層に水10dを加え、I N塩
酸でpH2,5に調整し。
有機層を分取する。水10dおよび飽和食塩水10mで
順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減
圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をカラムクロマ
トグラフィー〔和光シリカゲルC−200,溶出溶媒;
ベンゼンニ酢酸エチル=1:2(容量比)〕で精製すれ
ば、(3R,5R,6R)−6−〔D−α−(4−エチ
ル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド
)フェニルアセタミド]−3−[1−(2,4−ジメト
キシベンジル)テトラソール−5−イル〕−7−オキン
ー4−チア−1−アザビシクロ[3,2,0]へブタン
650W9(収率74、El)を得る。
順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減
圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をカラムクロマ
トグラフィー〔和光シリカゲルC−200,溶出溶媒;
ベンゼンニ酢酸エチル=1:2(容量比)〕で精製すれ
ば、(3R,5R,6R)−6−〔D−α−(4−エチ
ル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド
)フェニルアセタミド]−3−[1−(2,4−ジメト
キシベンジル)テトラソール−5−イル〕−7−オキン
ー4−チア−1−アザビシクロ[3,2,0]へブタン
650W9(収率74、El)を得る。
融点=172〜175℃(分解)(再結溶媒:塩化メチ
レン)IR(KB r )an−1: 1785. 1
720. 1685NMR(CDCIs )δ値: 1.15(3H,t、J=7Hz)、 2.90〜4
.10(8H*tn)。
レン)IR(KB r )an−1: 1785. 1
720. 1685NMR(CDCIs )δ値: 1.15(3H,t、J=7Hz)、 2.90〜4
.10(8H*tn)。
3.78(3H,s)、 3.80(3H,s)、4
.85(IH,m)。
.85(IH,m)。
5.25〜5.80(5H,m)、6.30〜7.60
(8H,m)。
(8H,m)。
8.77(LH,d、J=9Hz)、9.95(LH,
d、J=6Hz)実施例11 (3R,5R,6R)−6−CD−α−(4−エチル−
2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド)フ
ェニルアセタミド]−3−[:1−(2,4−ジメトキ
シベンジル)テトラゾール−5−イル〕−7−オキソー
4−チアーl−アザビシク’[3,2,0]へブタン5
00M9を。
d、J=6Hz)実施例11 (3R,5R,6R)−6−CD−α−(4−エチル−
2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド)フ
ェニルアセタミド]−3−[:1−(2,4−ジメトキ
シベンジル)テトラゾール−5−イル〕−7−オキソー
4−チアーl−アザビシク’[3,2,0]へブタン5
00M9を。
あらかじめIN塩酸および1M酢酸ナトリウムにてpH
3,0に調整した緩衝溶液1dとアセトニトリル9−の
混合溶媒に溶解させる。室温で硝酸セリウム(IV)ア
ンモニウム1.24fを加え、炭酸水素ナトリウム水溶
液でpH0,7〜1.0に調整し、10分間反応させる
。ついで、酢酸エチル30mおよび水15MItを順次
加え、IN塩酸でp)I 2.OKm整し、有機層を分
取する。さらに水層な酢酸エチル5mで2回抽出し、抽
出液を先の有機層と合し、これに水10−を加え、炭酸
水素ナトリウムでpH7,51c調整する。水層を分取
し、酢酸エチル10dを加え、IN塩酸でpH2,0に
調整し、有機層を分取する。さらに、水層を酢酸エチル
5−で2@抽出し、抽出液を先の有機層と合し。
3,0に調整した緩衝溶液1dとアセトニトリル9−の
混合溶媒に溶解させる。室温で硝酸セリウム(IV)ア
ンモニウム1.24fを加え、炭酸水素ナトリウム水溶
液でpH0,7〜1.0に調整し、10分間反応させる
。ついで、酢酸エチル30mおよび水15MItを順次
加え、IN塩酸でp)I 2.OKm整し、有機層を分
取する。さらに水層な酢酸エチル5mで2回抽出し、抽
出液を先の有機層と合し、これに水10−を加え、炭酸
水素ナトリウムでpH7,51c調整する。水層を分取
し、酢酸エチル10dを加え、IN塩酸でpH2,0に
調整し、有機層を分取する。さらに、水層を酢酸エチル
5−で2@抽出し、抽出液を先の有機層と合し。
これを飽和食塩水10m1で洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥させる。ついで、減圧下に溶媒を留去し
、得られた残留物に酢酸エチル2dを加え、結晶化させ
た後、p取すれば、(3R。
ネシウムで乾燥させる。ついで、減圧下に溶媒を留去し
、得られた残留物に酢酸エチル2dを加え、結晶化させ
た後、p取すれば、(3R。
5R,6R)−6−[D−α−(4−エチル−2,3−
ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド)フェニルア
セタミド]−7−オキソ−3−(5−テトラゾリル)−
4−チア−1−アザビシクロ[3,2,0]へブタン9
7jv(収率25憾)を得る。
ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド)フェニルア
セタミド]−7−オキソ−3−(5−テトラゾリル)−
4−チア−1−アザビシクロ[3,2,0]へブタン9
7jv(収率25憾)を得る。
この化合物を等量の重炭酸水素ナトリクム水溶液に溶解
させ1.凍結乾燥すれば、(38,5R。
させ1.凍結乾燥すれば、(38,5R。
6R)−6−[D−α−(4−エチル−2,3−ジオキ
ソ−1−ピペラジンカルボキサミド)フェニルアセタミ
ド]−7−オキソ−3−(5−テトラゾリル)−4−チ
ア−1−アザビシクロ[3,2,0]へブタンのナトリ
ウム塩な得る。
ソ−1−ピペラジンカルボキサミド)フェニルアセタミ
ド]−7−オキソ−3−(5−テトラゾリル)−4−チ
ア−1−アザビシクロ[3,2,0]へブタンのナトリ
ウム塩な得る。
なお、この化合物の物性1’IR値)は、実施例8で得
られたものと一致した。
られたものと一致した。
実施例12
(3R,SR,6R)−3−シアノ−7−オキソ−4−
チア−6−ドリチルアミノー1−アザビシクロ[3,2
,01へブタン1.O2をクロロホルム20−に溶解さ
せ、N−メチルピペリジン塩酸塩0.65f、N−メチ
ルピペリジン0.90dおよびナトリウムアジド0.3
1Fを順次添加し、30分間加熱還流する。ついで、室
温まで冷却した後1反応液に水10mを加え、IN塩酸
でpH1,0に調整し、有機層を分取する。さらに、有
機層を水10adおよび飽和食塩水5−で順次洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。
チア−6−ドリチルアミノー1−アザビシクロ[3,2
,01へブタン1.O2をクロロホルム20−に溶解さ
せ、N−メチルピペリジン塩酸塩0.65f、N−メチ
ルピペリジン0.90dおよびナトリウムアジド0.3
1Fを順次添加し、30分間加熱還流する。ついで、室
温まで冷却した後1反応液に水10mを加え、IN塩酸
でpH1,0に調整し、有機層を分取する。さらに、有
機層を水10adおよび飽和食塩水5−で順次洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。
減圧下に溶媒を留去すれば、(3R,5R,6R)−7
−オキンー3−(5−テトラゾリル)−4−チア−6−
トリチルアミノ−l−アザビシクロ[3,2,O]ヘプ
タン1.Of(収率91チ)を結晶として得る。
−オキンー3−(5−テトラゾリル)−4−チア−6−
トリチルアミノ−l−アザビシクロ[3,2,O]ヘプ
タン1.Of(収率91チ)を結晶として得る。
この化合物の物性値(融点、IR)は、実施例6で得ら
れた化合物と一致した。
れた化合物と一致した。
Claims (1)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1は水素原子、アミノ保護基またはアシル
基を;R^2は水素原子、低級アルキル基またはアリー
ル基を;およびTzはテトラゾリルペナム窒素保護基で
保護されていてもよい5−テトラゾリル基をそれぞれ示
す。〕で表わされるペナム誘導体およびその塩。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60220907A JPS6281388A (ja) | 1985-10-03 | 1985-10-03 | 新規なペナム誘導体およびその塩 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60220907A JPS6281388A (ja) | 1985-10-03 | 1985-10-03 | 新規なペナム誘導体およびその塩 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6281388A true JPS6281388A (ja) | 1987-04-14 |
JPH0578559B2 JPH0578559B2 (ja) | 1993-10-29 |
Family
ID=16758400
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60220907A Granted JPS6281388A (ja) | 1985-10-03 | 1985-10-03 | 新規なペナム誘導体およびその塩 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6281388A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0370699U (ja) * | 1989-11-08 | 1991-07-16 | ||
JPH0539933U (ja) * | 1991-09-12 | 1993-05-28 | 光洋精工株式会社 | 合成樹脂製容器の溶接構造 |
-
1985
- 1985-10-03 JP JP60220907A patent/JPS6281388A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0370699U (ja) * | 1989-11-08 | 1991-07-16 | ||
JPH0539933U (ja) * | 1991-09-12 | 1993-05-28 | 光洋精工株式会社 | 合成樹脂製容器の溶接構造 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0578559B2 (ja) | 1993-10-29 |
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