JPS6276610A - プラスチツク磁石の製造方法 - Google Patents
プラスチツク磁石の製造方法Info
- Publication number
- JPS6276610A JPS6276610A JP21476285A JP21476285A JPS6276610A JP S6276610 A JPS6276610 A JP S6276610A JP 21476285 A JP21476285 A JP 21476285A JP 21476285 A JP21476285 A JP 21476285A JP S6276610 A JPS6276610 A JP S6276610A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic flux
- resin
- gate
- molded product
- weld
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、オーバーショット部を設ける事により１磁石
の表面磁束密度が均一でかっ、２次的な効果とし、てウ
ェルド部の樹脂の接着が強い磁石を得る磁石の製造方法
に関するものであり、センサー、モータ等に利用できる
ものである。
の表面磁束密度が均一でかっ、２次的な効果とし、てウ
ェルド部の樹脂の接着が強い磁石を得る磁石の製造方法
に関するものであり、センサー、モータ等に利用できる
ものである。
従来は、強磁性体を含有した熱可塑性樹脂を射出成形す
る金型には、成形品のキャビティ及びスプールランナー
等成形品を得るに必要なギャビティしか堀られておらず
、成形品の他にオーバーショット部を設ける事は、材料
のロスを生ずるため、なされていなかった。しかしこの
ような従来の金型で２極に配向磁化した成形品は、ゲー
ト部及びウェルド部附近で磁束に乱れが生じ、電気機器
に実装した場合、誤動作を生ずるという欠点があった。
る金型には、成形品のキャビティ及びスプールランナー
等成形品を得るに必要なギャビティしか堀られておらず
、成形品の他にオーバーショット部を設ける事は、材料
のロスを生ずるため、なされていなかった。しかしこの
ような従来の金型で２極に配向磁化した成形品は、ゲー
ト部及びウェルド部附近で磁束に乱れが生じ、電気機器
に実装した場合、誤動作を生ずるという欠点があった。
また樹脂の接着強度が最やも弱いウェルド部で、磁石が
割れてしまうという事故が起っている。第４図に従来の
方法で作成した２極に配向磁化したリング磁石の表面磁
束密度分布を示す。
割れてしまうという事故が起っている。第４図に従来の
方法で作成した２極に配向磁化したリング磁石の表面磁
束密度分布を示す。
点線で囲んだ所がちょうどウェルド部とゲート部にあた
シ、磁束の乱れが生じているのがわかる。
シ、磁束の乱れが生じているのがわかる。
本発明は、成形品のゲート部及びウェルド部に磁束の乱
れがなく、且つウェルド部の樹脂の接着強度の強い２極
に配向磁化した成形品を得んとして研究した結果、成形
品のゲート部及びウェルド部に成形品の厚みの７０チ以
上の厚みを有する樹脂が充填できるオーバーショット部
を設け、この部分に樹脂をオーバーショットさせておき
、冷却後オーバーショット部を目的とする成形品から除
去する事により、目的とする成形品が得られる事を見い
出し本発明に至ったものである。
れがなく、且つウェルド部の樹脂の接着強度の強い２極
に配向磁化した成形品を得んとして研究した結果、成形
品のゲート部及びウェルド部に成形品の厚みの７０チ以
上の厚みを有する樹脂が充填できるオーバーショット部
を設け、この部分に樹脂をオーバーショットさせておき
、冷却後オーバーショット部を目的とする成形品から除
去する事により、目的とする成形品が得られる事を見い
出し本発明に至ったものである。
本発明は、熱可塑性樹脂中に強磁性体を含有させた成形
材料を一方向に強磁性体粉末を配向させえる磁場中に設
置された金型のキャビティ部に射出成形１７．２極に配
向磁化した成形品を得る際、成形品のゲート部及びウェ
ルト部に成形品の厚みの７０チ以上の厚みを有する、樹
脂が充填できるオーバーショット部を設け、この部分に
樹脂をオーパージコツトさせておき、冷却後オーバー／
ヨツト部を、目的とする成形品から除去する事によシゲ
ート及びウェルド部附近でも磁束の乱れのない均一な表
面磁束密度を持ち且つウェルド部の樹脂の接着が強い磁
石の製造方法に関するものである。
材料を一方向に強磁性体粉末を配向させえる磁場中に設
置された金型のキャビティ部に射出成形１７．２極に配
向磁化した成形品を得る際、成形品のゲート部及びウェ
ルト部に成形品の厚みの７０チ以上の厚みを有する、樹
脂が充填できるオーバーショット部を設け、この部分に
樹脂をオーパージコツトさせておき、冷却後オーバー／
ヨツト部を、目的とする成形品から除去する事によシゲ
ート及びウェルド部附近でも磁束の乱れのない均一な表
面磁束密度を持ち且つウェルド部の樹脂の接着が強い磁
石の製造方法に関するものである。
本発明に用いられる熱可塑性樹脂とは、塩化ビニル系、
ポリアミド系、ポリオレフィン系等の汎用樹脂から、ポ
リオレフィン系等の耐熱性エンプラと呼ばれるものなど
、射出成形できるものであれば、何ら限定されるもので
はない。強磁性体粉末ハ、サマリウムコバルト系などの
希土類、ストロンチュームフエライトなどのフェライト
類、ネオジウム系等々なんら本発明を限定するものでは
ない。もちろん樹脂との結合性を向上させる目的で第３
の物質を添加したものでもなんらさしつかえはない。ま
た本発明により製造した磁石を脱磁後多極に再着磁して
も本発明の効果を損なう事なく、ゲート部、ウェルド部
で磁束の乱れを生ずる事のない多極磁石が得られるので
ある。第１図及び第２図は、本発明の実施例における金
型構造で成形したリング磁石の概略を示したものである
。
ポリアミド系、ポリオレフィン系等の汎用樹脂から、ポ
リオレフィン系等の耐熱性エンプラと呼ばれるものなど
、射出成形できるものであれば、何ら限定されるもので
はない。強磁性体粉末ハ、サマリウムコバルト系などの
希土類、ストロンチュームフエライトなどのフェライト
類、ネオジウム系等々なんら本発明を限定するものでは
ない。もちろん樹脂との結合性を向上させる目的で第３
の物質を添加したものでもなんらさしつかえはない。ま
た本発明により製造した磁石を脱磁後多極に再着磁して
も本発明の効果を損なう事なく、ゲート部、ウェルド部
で磁束の乱れを生ずる事のない多極磁石が得られるので
ある。第１図及び第２図は、本発明の実施例における金
型構造で成形したリング磁石の概略を示したものである
。
第１図、第２図に示す１が本発明によるオーバー／ヨツ
ト部であり、オーバーショット部の厚みは成形品厚みと
同じにしである。２は目的とするリング磁石である。
ト部であり、オーバーショット部の厚みは成形品厚みと
同じにしである。２は目的とするリング磁石である。
第３図は本発明により作成した２極に配向磁化させた磁
石の表面磁束密度の分布曲線である。これからも、均一
な表面磁束密度分布を有する磁石が得られている事がわ
かる。
石の表面磁束密度の分布曲線である。これからも、均一
な表面磁束密度分布を有する磁石が得られている事がわ
かる。
第５図はオーバーショット部の厚みを成形品の厚みの７
０チ及び４０％にした時の磁石の表面磁束密度分布を示
している。実線が７０係、波線が４０チの時の表面磁束
密度分布である。オーバー／ヨツト部の厚みが薄い方が
ゲート部及びウェルド部の磁束の乱れが大きく、４０チ
では満足のいく表面磁束密度は得られなかった。オーバ
ー／ヨツト部の厚みが成形品の厚みの７０％のところで
、はぼフラットな表面磁束密度分布が得られる事がわか
った。また従来の方法であったオーバーショット部を設
けずに作成したリング磁石と、本発明により作成したリ
ング磁石で９０°Ｘ ４ ）１−＋ ７４Ｑ Ｘ４Ｈを
２０サイクルくり返すヒートショックテストを行った所
、従来の方法で作成した成形品はウェルド部にクラック
が生じたが、本発明によるオーバーショット部を設ける
事で、ウェルド部の樹脂の接着を強固にし、且つ成形に
よる残留応力を少なくした成形品にはクラックが認めら
れなかった。この事からも本発明による成形品は、表面
磁束密度分布が均一で且つウェルド部の樹脂の接着が強
く、残留応力の少ない成形品といえる。
０チ及び４０％にした時の磁石の表面磁束密度分布を示
している。実線が７０係、波線が４０チの時の表面磁束
密度分布である。オーバー／ヨツト部の厚みが薄い方が
ゲート部及びウェルド部の磁束の乱れが大きく、４０チ
では満足のいく表面磁束密度は得られなかった。オーバ
ー／ヨツト部の厚みが成形品の厚みの７０％のところで
、はぼフラットな表面磁束密度分布が得られる事がわか
った。また従来の方法であったオーバーショット部を設
けずに作成したリング磁石と、本発明により作成したリ
ング磁石で９０°Ｘ ４ ）１−＋ ７４Ｑ Ｘ４Ｈを
２０サイクルくり返すヒートショックテストを行った所
、従来の方法で作成した成形品はウェルド部にクラック
が生じたが、本発明によるオーバーショット部を設ける
事で、ウェルド部の樹脂の接着を強固にし、且つ成形に
よる残留応力を少なくした成形品にはクラックが認めら
れなかった。この事からも本発明による成形品は、表面
磁束密度分布が均一で且つウェルド部の樹脂の接着が強
く、残留応力の少ない成形品といえる。
本発明に従えば成形品のゲート部及びウェルド部にオー
バーショット部を設ける事によシ均一な表面磁束密度分
布を持つ磁石が得られ、同時にウェルド部の樹脂の接着
強度が強いものが得られる。
バーショット部を設ける事によシ均一な表面磁束密度分
布を持つ磁石が得られ、同時にウェルド部の樹脂の接着
強度が強いものが得られる。
第１図、第２図は本発明により作成したリング磁石の正
面図及び側面図である。 第３図は本発明によシ作成した２極に配向磁化させた磁
石の表面磁束密度の分布曲線である。 第４図は従来の方法によりオーバーショット部を設けず
に作成した２極に配向磁化させた磁石の表面磁束密度の
分布曲線である。 第５図はオーバーショット部の厚みをかえて作°成した
、２極に配向磁化させた磁石の表面磁束密度の分布曲線
である。 ′
面図及び側面図である。 第３図は本発明によシ作成した２極に配向磁化させた磁
石の表面磁束密度の分布曲線である。 第４図は従来の方法によりオーバーショット部を設けず
に作成した２極に配向磁化させた磁石の表面磁束密度の
分布曲線である。 第５図はオーバーショット部の厚みをかえて作°成した
、２極に配向磁化させた磁石の表面磁束密度の分布曲線
である。 ′
Claims (1)
- 熱可塑性樹脂中に強磁性体を含有させた成形材料を、一
方向に強磁性体粉末を配向させえる磁場中に設置された
金型のキャビティ部に射出成形し、２極に配向磁化した
成形品を得る際、成形品のゲート部及びウエルド部に、
成形品の厚みの７０％以上の厚みを有する、樹脂が充填
できるオーバーショット部を設け、この部分に樹脂をオ
ーバーショットさせておき、冷却後オーバーショット部
を、目的とする成形品から除去する事により、ゲート部
、ウエルド部附近でも均一な表面磁束密度を有する磁石
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21476285A JPS6276610A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | プラスチツク磁石の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21476285A JPS6276610A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | プラスチツク磁石の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6276610A true JPS6276610A (ja) | 1987-04-08 |
Family
ID=16661117
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21476285A Pending JPS6276610A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | プラスチツク磁石の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6276610A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58213410A (ja) * | 1982-06-04 | 1983-12-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラスチツク磁石の製造方法 |
-
1985
- 1985-09-30 JP JP21476285A patent/JPS6276610A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58213410A (ja) * | 1982-06-04 | 1983-12-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラスチツク磁石の製造方法 |
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