JPS6272547A - 磁気記録用グラス・セラミツク基体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は磁気記録、再生装置、特に磁気記録装置の貯蔵
素子となるメモリーティスフ、ソフト及び固定ハードデ
ィスク、光ディスク、光磁気ディスク、磁気ディスク基
板に関する。

従来の技術 磁気記録用ディスク基材としてはアルミニウム基合金、
樹脂材料及びグラス・セラミック（結晶化ガラス）等が
知られている。

結晶化ガラスからなる基体の研磨面には、周知の如く、
塗布又はスノクツタリング等により、ニッケル・コバル
ト合金の磁性皮膜または鉄−アルミニウム系磁性膜の下
地をメッキ処理ののち、磁性メッキを施している。勿論
高速回転により使用が可能な条件をそなえ、研磨表面に
単一種の酸化物からなる非磁性材料が熱反応により被着
され、さらにその上に磁性材料の皮膜が焼成され１回転
軸に支持されるもの、又は基体の情態表面に酸化スズが
被着されて、平滑面が形成され、その上に磁性材料の皮
膜が被着され、回転自在に支持されると云った種々の装
置及び寸法が発表されている。

発明が解決しようとする問題点 従来公知のこの種方式、特にハードディスク基体につい
ては、ソフトディスクで使用されている磁気記録装置と
してのアルミニウム合金とかＲｅ　ａ　ｓ　ｎ基体はア
ルミニウム合金の場合表面をアルマイト処理をしても粒
塊とか表面硬度が低い為、強度、而荒さ及び平滑性が出
にくい、その為、特に高密度化に必要な垂直磁気方式に
よる固定ハードディスクの絶対条件を満さない。

又、磁気極の特性がアルミニウム合金とか樹脂基体では
その線膨張係数が大きく、適性範囲は５０〜ｌ　６０　
Ｘ　Ｉ　Ｏｄｅｇ　　である。これは幌自体の密着強度
にも関係する事柄である。ディスク又はドラムの回転数
は今後３０．０００　ｒ、ｐ、ｍ　に向うと考えられ、
磁気極とヘッドとの間の空気圧に工ってヘッドを浮かせ
る方法が採られ、この間隙・は２５μ以゛下である。こ
の工うな微小間隙でディスク又はドラムが回転される為
、その表面にごくわずか歪を生じても（機械的及び熱的
強度）ヘッドは磁気面に接触し、磁気面の摩耗により磁
気信号が消失する。

又、面積度を上げるには、基体自体に気泡、脈理等が皆
無でなければならない。

従って、溶融が容易なガラス系でなければならない。又
結晶化ガラスは結晶粒子が細かくなければ研磨によって
充分平滑な面をうろことが出来ない口金後高密度化に伴
う画面磁気方式の固定ノ・−ドディスク装置に使用され
る基体とすれば面荒さとして５０Ａ以下の必要を生ずる
。その粒径はおそらくα２μ以下が必要条件となる。又
、結晶化ガラスにおいては従来よりグラスセラミックス
類は素材の溶融温度が高いために、微小な気泡を残し易
い。又、残存する脈理も多い、表面硬度に「４う」を生
ずるため・ストリークその他の面異常を生ずると云った
事柄がある。基体として、結晶化ガラスを用い、かつ特
定の表面処理を施す必要のない極めて平滑な磁気表面が
えられる。

アルミニウム合金はそれ自体粒塊が大きく、研磨におい
ても表面のアルマイト処理においても。

これに相当する大きさの凹凸を生ずることは避けられな
い。

又、樹脂基体においても、アルミニウム合金基体におい
ても表面強度が小さく、それ自体「キズ」を残し易い。

今後の課題として、高密度固定ハードディスクがハード
ディスク用ブランク、即ち、結晶化がラス基体として、
アルミ合金ディスクブランクより優れていると考えられ
る項目を示すと、＋１１　　表面平滑性が得やすい、 （２）　　硬くて変形しにくい（回転等に対して）（３
：　　表面が硬いので各神前処理が不要（４）　　高密
度化のためリノッドディスクとして使用出来る と云った結論になる。

問題点を解決するための手段 本発明者は種々検討、実験の結果本発明の開発に成肋し
た本のであり１本発明の要旨にするところは前記特許請
求の範囲各項に明記したとおりであるが、本発明を更に
詳細に説明する。

５ｉｎ２．　　Ｌｉ２Ｏ及び入１２０３　　は結晶化ガ
ラスの基本成分として周知の酸化物であり、他の添加成
分。

即ちＰ２Ｏ５，Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、ＺｒＯ２，Ａｓ２Ｏ
，及び５ｂ２０３等との含有量との関係から前述の組成
範囲に限定したものであり、前記範囲外の添加では本発
明所期の目的は達成され得ない。

前述の添加成分も上記基本成分の含有量との関係から前
述の組成範囲に限定したものであり、各成分が前記の組
成範囲内にある場合に、本発明所期の目的が達成され、
溶融温度を下げ、気泡、脈理を包含かつ発生しない。上
記組成範囲とすることによシ、本発明グラス・セラミッ
クの耐融温度ｉｄ１．４００℃以下となった（この種グ
ラス・セラミック、例えば「・９イク七ラム」の溶融温
度は１．６００〜１．６５０℃である）。

本発明グラス・セラミックの結晶体はＬｉ２Ｏ・２Ｓｉ
Ｏ□、　　Ｌｉ２Ｏ・ＳｉＯ２と少食のクリストバライ
ト及びβ−スボノユーメン等からなる複合結晶体であり
、前述の如き少量の添加成分を加えることにより多成分
系とすることにより、前述の結晶体をとりまくグラスマ
トリックスの組織自体を安定化、即ち、結晶粒径を微細
化の調整上からも前述の網目修飾イオン（Ｎｅｔｗｏｒ
ｋ　−ｍｏｄｉｆｉｅｒ　）　　を添加して、種々の所
望特性を発揮せしめるものである。

本発明グラス・セラミックは更に核材質としてＣｕＯ、
Ｃｕ　Ｏ、ＣｅＯ２，Ａｇ　及びＡｕ　の少なくとも１
種を常圧下における作業範囲で成形、製造可能のプラス
化範囲内の少量含有せしめ、紫外線照射により金属粒子
（中性金属イオン）を析出させ。

それらを核として熱処理することにより結晶化を促進さ
せることもできる。

本発明グラスセラミック基体の組成例を表■及び■に示
す。

本発明グラス・セラミック基体で核材質を添加した組成
例を表■に示す。尚、表■においてＣａＯｌＡｇ、Ａｕ
及びＣｕＯは数量添加であり、外掛で表示しである。

グラス・セラミック基体の面精度の向上を検討するため
、耐摩耗特性な比較した。この方法は大越式迅速摩耗試
験機で行ない、回転する円板状試料を平板試料に押圧し
、その摩耗痕の形状から摩耗体積を求めた。尚１回転円
板はホットプレス法により製作したＳ　ｉ　３Ｎ、を用
いた。比摩耗量ＷＳ　　と摺動速度（ｍ／　８　Ｘ　Ｉ
　Ｏ−’ｍ５２７に９　）との関係を添付図面Ｋ　示す
。このテストにおいて摺動距離（Ｌ）は２００ｍ、Ｉｊ
ｋ終荷重荷重）は２．０　ｋｇ　（一定）とした口笛１
図図示のグラフから明らかな工うに、摩耗自体の次元が
全く異な）、アルき合金基体では研磨初期より硬度が低
いため摩耗が早く、すぐにその表面にスリップ現象が現
われる。この場合基体デスクの中心部と周辺部との厚み
が不均一となり基体デスク表面の平行度が出ないことに
なる。

これに対し、本発明のグラスセラミックはそれ自体摩耗
量が少なく、第１図に示す如くガラス的な特性を示すゆ
るやかなカーブとなり、面精度をラスの諸物件を示す。

【図面の簡単な説明】

添付図面は本発明のグラスセラミック基体とアルミ合金
ディスク基体の摩耗テスト結果を示すグラフである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ＳｉＯ＿２　６８〜８４重量％、Ｌｉ＿２Ｏ　３〜
   ２０重量％、Ａｌ＿２Ｏ＿３　３〜１２重量％、Ｐ＿２
   Ｏ＿５　０．５〜３．０重量％、８重量％以下のＮａ＿
   ２Ｏ及びＫ＿２Ｏ、２．０重量％以下のＺｒＯ＿２及び
   Ａｓ＿２Ｏ＿３、１．５重量％以下のＳｂ＿２Ｏ＿３か
   らなる１００〜３００℃の温度範囲において５０〜１６
   ０×１０＾−＾７ｄｅｇ＾−＾１の線膨張係数を有する
   磁気記録用グラス・セラミック基体。 ２、添加成分として、７重量％以下のＣａＯ、８重量％
   以下のＢａＯ、５重量％以下のＰｂＯ及びＺｎＯ、２重
   量％以下のＳｒＯの少なくとも１種を含有する特許請求
   の範囲第１項記載の磁気記録用グラスセラミック基体。 ３、核材質として、０．２重量％以下のＣｕＯ又はＣｕ
   ＿２Ｏ、０．１重量％以下のＣｅＯ＿２、０．０５重量
   ％以下のＡｇ、０．０３重量％以下のＡｕの少なくとも
   １種を含有する特許請求の範囲第１項記載の磁気記録用
   グラス・セラミック基体。