JPS6270391A - 保護されたオリゴヌクレオチドの製造法 - Google Patents
保護されたオリゴヌクレオチドの製造法Info
- Publication number
- JPS6270391A JPS6270391A JP60211242A JP21124285A JPS6270391A JP S6270391 A JPS6270391 A JP S6270391A JP 60211242 A JP60211242 A JP 60211242A JP 21124285 A JP21124285 A JP 21124285A JP S6270391 A JPS6270391 A JP S6270391A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- residue
- protected
- amino group
- nucleoside base
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Saccharide Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は保護されたオリゴヌクレオチドの製造法に関し
、さらに詳しくは、リン酸部分の水酸基及びヌクレオシ
ド塩基部分のアミン基をそれぞれアリル型残基及びアリ
ルオキシヵルゲニル型残基で保護ｔ７だホスホルアミダ
イド試薬をモノマー成分として使用する保護されたオリ
ゴヌクレオチドの製造法に関する。
、さらに詳しくは、リン酸部分の水酸基及びヌクレオシ
ド塩基部分のアミン基をそれぞれアリル型残基及びアリ
ルオキシヵルゲニル型残基で保護ｔ７だホスホルアミダ
イド試薬をモノマー成分として使用する保護されたオリ
ゴヌクレオチドの製造法に関する。
（従来の技術）
最近の遺伝子工学の発展に伴い、その重要な素材である
ＤＮＡ （デオキシＩＪ ７に核酸）−やＲＮＡ （リ
ゾ核酸）などの、４？リヌクレオチドを化学的に合成す
る方法の研究が盛んに行われており、その其体例として
リン酸ノエステル法、リン酸トリエステル法、ホスファ
イト法などの手法が知られている。
ＤＮＡ （デオキシＩＪ ７に核酸）−やＲＮＡ （リ
ゾ核酸）などの、４？リヌクレオチドを化学的に合成す
る方法の研究が盛んに行われており、その其体例として
リン酸ノエステル法、リン酸トリエステル法、ホスファ
イト法などの手法が知られている。
なかでもモノマー成分としてホスホルアミダイド試薬を
用いるホスファイト法は、他の方法に比較して反応性に
優れており、最近、とくに注目を集めている。
用いるホスファイト法は、他の方法に比較して反応性に
優れており、最近、とくに注目を集めている。
而して、かかるホスファイト法の場合、一般に縮合反応
における副反応を避けるためにリン酸部分の水酸基及び
ヌクレオシド塩基部分のアミノ基を保護したホスポルア
ミダイド試薬がモノマー成分として用いられており、そ
の水酸基の保護基と［７て、例えばメチル基やシアンエ
チル基など、゛またアミノ基の保護基と１〜で例えばペ
ンシイ／ｌ−基、イソブチリル基、アニソイル基などが
知られている（例えば特開昭５７−１７ ｆ５９９８号
、テトラヘドロン・レタース第２４巻、第５２号、 第
５８４３〜５８４６頁など）。
における副反応を避けるためにリン酸部分の水酸基及び
ヌクレオシド塩基部分のアミノ基を保護したホスポルア
ミダイド試薬がモノマー成分として用いられており、そ
の水酸基の保護基と［７て、例えばメチル基やシアンエ
チル基など、゛またアミノ基の保護基と１〜で例えばペ
ンシイ／ｌ−基、イソブチリル基、アニソイル基などが
知られている（例えば特開昭５７−１７ ｆ５９９８号
、テトラヘドロン・レタース第２４巻、第５２号、 第
５８４３〜５８４６頁など）。
１〜かし、これらの従来法で？１、所定のＮ」ｂ後に脱
保護するにあたりチオフェノールを用いたり熱アンモニ
ア水で長時間にわたって処理しなければならないという
問題があり、また水酸基とアミン基を別々の操作で脱保
護１７なければならないために操作が偵雑化するという
問題があった。
保護するにあたりチオフェノールを用いたり熱アンモニ
ア水で長時間にわたって処理しなければならないという
問題があり、また水酸基とアミン基を別々の操作で脱保
護１７なければならないために操作が偵雑化するという
問題があった。
（発明が解決しようとする問題点）
そこで本発明者らを１かかる従来技術の欠点を解決すべ
く鋭意検討の結果、水Ｍ基及びアミノ基の保護基として
そｉｔぞれアリル型残基及びアリルオキシカルボニル型
残基を有するホスホルアミダイド試薬をモノマー成分と
して使用すると、緩和な条件で同時にかつ速やかに脱保
護可能な保護さｆｌ。
く鋭意検討の結果、水Ｍ基及びアミノ基の保護基として
そｉｔぞれアリル型残基及びアリルオキシカルボニル型
残基を有するホスホルアミダイド試薬をモノマー成分と
して使用すると、緩和な条件で同時にかつ速やかに脱保
護可能な保護さｆｌ。
たオリがヌクレオチドが収率よく得られることを見い出
し、本発明を完成するに到った。
し、本発明を完成するに到った。
（問題点を解決するだめの手段）
かくして本発明に１れば、下記一般式ＣＩ］で表わされ
るオリゴヌクレオチド合成用原料と下記一般式口〕で表
わされるホスホルアミダイド試薬を縮合させ、次いで形
成されたホスファイト部分をホスフェートに酸化するこ
とを特徴とする下記一般式［ＩＴＤで表わされる保護さ
れたオリゴヌクレオチドの製造法が提供される。
るオリゴヌクレオチド合成用原料と下記一般式口〕で表
わされるホスホルアミダイド試薬を縮合させ、次いで形
成されたホスファイト部分をホスフェートに酸化するこ
とを特徴とする下記一般式［ＩＴＤで表わされる保護さ
れたオリゴヌクレオチドの製造法が提供される。
Ｒ２
Ｘ−Ｐ−０−Ａ
（式中、Ｒ４け保護基または共有結合を介して結合した
相体の残基を表わし、ｌ（２は水素原子またｔま保護基
を有する水酸基を表わし、Ｒ３は保護基を表わし、Ａは
アリル型残基を表わし、Ｂ ＡＯＣけアミノ基を有さな
いヌクレオシド塩基”またはアミノ基もしくはイミノ基
がアリルオキシカルボニル型残基で保護されたヌクレオ
シド塩基の残基を表わ１２、ｎは０−！たは正の整数を
表わす。） 本発明においては、まず前記一般式〔■〕で示されるオ
リゴヌクレオチド合成用原料と前記一般式〔■〕で示さ
れるホスホルアミダイド試薬による縮合反応が行われる
。
相体の残基を表わし、ｌ（２は水素原子またｔま保護基
を有する水酸基を表わし、Ｒ３は保護基を表わし、Ａは
アリル型残基を表わし、Ｂ ＡＯＣけアミノ基を有さな
いヌクレオシド塩基”またはアミノ基もしくはイミノ基
がアリルオキシカルボニル型残基で保護されたヌクレオ
シド塩基の残基を表わ１２、ｎは０−！たは正の整数を
表わす。） 本発明においては、まず前記一般式〔■〕で示されるオ
リゴヌクレオチド合成用原料と前記一般式〔■〕で示さ
れるホスホルアミダイド試薬による縮合反応が行われる
。
前記式中のＲ１はヌクレオシド化学において一般に用い
られている保謄基またＦｉ指担体残基であればいずれで
もよく、保護基の具体例どして１例えばトリチル基、モ
ノメトキシトリチル基、ジメトギシトリチル基、トリメ
チルシリル基、トリエチルシリル基、）・リフェニルシ
リル基、ｔ−ブチルツメチルシリル基、テトラヒドロピ
ラニル基、４−メトキシテトラヒドロピラニル基、ペン
ソイル基、ベンシル基、テトラヒドロフラニル基、メト
キシメチル基、メトキシエトキシメチル基、フェノキシ
メチル基、メチルチオメチル基、フェニルチオメチル基
などが例示される。
られている保謄基またＦｉ指担体残基であればいずれで
もよく、保護基の具体例どして１例えばトリチル基、モ
ノメトキシトリチル基、ジメトギシトリチル基、トリメ
チルシリル基、トリエチルシリル基、）・リフェニルシ
リル基、ｔ−ブチルツメチルシリル基、テトラヒドロピ
ラニル基、４−メトキシテトラヒドロピラニル基、ペン
ソイル基、ベンシル基、テトラヒドロフラニル基、メト
キシメチル基、メトキシエトキシメチル基、フェノキシ
メチル基、メチルチオメチル基、フェニルチオメチル基
などが例示される。
また担体はエステル結合に代表される共有結合によって
３′−水酸基に結合するものであり、その具体例として
変性シリカデル、ポリエステル、ポリアミド、ポリビニ
ルアルコール、ポリシロリザン、ポリスチレン、ガラス
などが例示される。
３′−水酸基に結合するものであり、その具体例として
変性シリカデル、ポリエステル、ポリアミド、ポリビニ
ルアルコール、ポリシロリザン、ポリスチレン、ガラス
などが例示される。
前記式中のＲ２１Ｊ：水素原子または保護基を有する水
酸基であり、保護基の具体例としてはＲ４と同様のもの
が例示される。
酸基であり、保護基の具体例としてはＲ４と同様のもの
が例示される。
−またＢ はアミノ基を有さないヌクレオシド塩基また
はアミノ基もしくはイミノ基がアリルオキシカルがニル
型残基で保瞳されたヌクレオシド塩基の残基である。ヌ
クレメシト゛塩基を有するヌクレオシドの具体例として
は、例えばデオキシアデノシン、デオキシグアノシン、
デオキシシチジン。
はアミノ基もしくはイミノ基がアリルオキシカルがニル
型残基で保瞳されたヌクレオシド塩基の残基である。ヌ
クレメシト゛塩基を有するヌクレオシドの具体例として
は、例えばデオキシアデノシン、デオキシグアノシン、
デオキシシチジン。
チｉＮン、アデノシン、グアノシン、シチジン。
シ
ウリジン、イノシンなどが例７Ｉヌされ、これらのうち
チミジン、ウリジン、イノシンはアミン基を有さないも
のに属する。
チミジン、ウリジン、イノシンはアミン基を有さないも
のに属する。
塩基部分のアミン基の保循基として用いられるアリルオ
キシカルバζニル型残基は脱保護反応を本質的に損わな
いものであればいずれでもよく、その具体例として、ア
リルオキシカルブニル塙、メタリルオキシカルｔ？ニル
基、クロチルオキシカル？ニル基、プレニルオキシカル
ｒＪ？ニル基、ダラニルオキシ力ルがニル基、シンナミ
ルオキシカルボニル基、クロロアリルオキシカルボニル
、ｔ、ｐ−クロロシンナミルオキシカルノニル基＆トが
例示される。
キシカルバζニル型残基は脱保護反応を本質的に損わな
いものであればいずれでもよく、その具体例として、ア
リルオキシカルブニル塙、メタリルオキシカルｔ？ニル
基、クロチルオキシカル？ニル基、プレニルオキシカル
ｒＪ？ニル基、ダラニルオキシ力ルがニル基、シンナミ
ルオキシカルボニル基、クロロアリルオキシカルボニル
、ｔ、ｐ−クロロシンナミルオキシカルノニル基＆トが
例示される。
アリルオキシカルＭニル型残基の炭素数は反応後に生ず
る副生物の分離や原料入手の容易性などを考慮１〜ご適
宜選択すればよいが、通常は炭素数１２以下のものが用
（＾らｆｌ、る。
る副生物の分離や原料入手の容易性などを考慮１〜ご適
宜選択すればよいが、通常は炭素数１２以下のものが用
（＾らｆｌ、る。
塘たＡで示さ１．るアリル型残基は脱保護反応を本質的
に損わないものであればいずｈでもよく、その具体例と
してアリル基、メタリル基、クロチル基、ツレニル基、
ツレニル基、シンナミル基、ｐ−クロロシンナミル基な
どが例示さｆする。これらの保睦基の炭素数はとくに制
限されないが、通常、１０以下のものが賞月される。
に損わないものであればいずｈでもよく、その具体例と
してアリル基、メタリル基、クロチル基、ツレニル基、
ツレニル基、シンナミル基、ｐ−クロロシンナミル基な
どが例示さｆする。これらの保睦基の炭素数はとくに制
限されないが、通常、１０以下のものが賞月される。
さらにｎの値はＯまたは正の整数であれば格別制限され
るものではなく、１００もしくはそれ以上の値であって
もよい。
るものではなく、１００もしくはそれ以上の値であって
もよい。
前記一般式〔■〕中のＲ２，ＢＡＯＣ及びＡは前記と同
様であり、Ｒ６はヌクレオシド化学において一般的に用
いられている保護基であって、その具体例としてけＲ４
の場合と同様のものが例示される。
様であり、Ｒ６はヌクレオシド化学において一般的に用
いられている保護基であって、その具体例としてけＲ４
の場合と同様のものが例示される。
さらにＸは２級アミノ基を表わし、その具体例としては
ツメチルアミノ基、ジエチルアミン基、ジイソノロビル
アミノ基、ソーｔ−ブチルアミノ基、メチルゾロビルア
ミン基、メチルへキジルアミノ基、メチルシクロへキシ
ルアミノ基、エチルベンジルアミノ−Ｉミ、七ルホリノ
ノ、（、ナオ七ルホリノ基、ピロリジノ基、ピペリジ７
基、２．６−ノメチルビベリゾノ基、ピペラジノ基、イ
ミタ゛ゾリノ基、ピロリノ基などが例示さｈ、炭素数１
０１１下のものが賞月される。
ツメチルアミノ基、ジエチルアミン基、ジイソノロビル
アミノ基、ソーｔ−ブチルアミノ基、メチルゾロビルア
ミン基、メチルへキジルアミノ基、メチルシクロへキシ
ルアミノ基、エチルベンジルアミノ−Ｉミ、七ルホリノ
ノ、（、ナオ七ルホリノ基、ピロリジノ基、ピペリジ７
基、２．６−ノメチルビベリゾノ基、ピペラジノ基、イ
ミタ゛ゾリノ基、ピロリノ基などが例示さｈ、炭素数１
０１１下のものが賞月される。
オリゴヌクレオチド合成用原料とホスホルアミダイド試
薬の縮合反応は１通常、縮合剤を用いて溶剤の存在下に
行われる。
薬の縮合反応は１通常、縮合剤を用いて溶剤の存在下に
行われる。
用いられる縮合剤の具体例としては、例えば１−Ｈ−テ
トラゾール、５−ニトロ−１−１（テトラゾール、トリ
アゾールなどが例示される。
トラゾール、５−ニトロ−１−１（テトラゾール、トリ
アゾールなどが例示される。
また溶剤の具体例としては、ぼりシン、ピコリン、ルチ
ジンなどのビリシン類、キノリン、イソキノリン、オキ
サゾール、デトラヒドロフラン。
ジンなどのビリシン類、キノリン、イソキノリン、オキ
サゾール、デトラヒドロフラン。
ジメチルホルムアミド、ジクロロメタンなどが挙げられ
る。
る。
オリゴヌクレオチＰ合成原料とホスポルアミダイド試薬
の使用比率は適宜選択さｉするが、通常ｔｉｔ前者１当
縦当り後者２〜１０当陵の割合であり、また縮合剤は前
記合成原料１モル当り２〜５モルの割合で用いられる。
の使用比率は適宜選択さｉするが、通常ｔｉｔ前者１当
縦当り後者２〜１０当陵の割合であり、また縮合剤は前
記合成原料１モル当り２〜５モルの割合で用いられる。
かかる縮合反応は、通常、１０〜５０℃で０２分〜２時
間（でわたって行われる。
間（でわたって行われる。
縮合反応終了後、生成物中に形成されるホスファイト部
分をホスフェートに酸化するため酸化反応が行われる。
分をホスフェートに酸化するため酸化反応が行われる。
この酸化反応は常法に従って行えばよく、その具体例と
して沃素と水で酸化する方法、ｔ−ブチルパーオキシド
、ベンゾイル／′ｅ−オキシドなどのごとき過酸化物で
酸化する方法、二酸化窒素で酸化する方法などが例示さ
れる。
して沃素と水で酸化する方法、ｔ−ブチルパーオキシド
、ベンゾイル／′ｅ−オキシドなどのごとき過酸化物で
酸化する方法、二酸化窒素で酸化する方法などが例示さ
れる。
この酸化反応によって、目的とする一般式［１１１］で
表わされる保腰された。ｔ Ｉ）ゴヌクレオチドが合成
される。かかる縮合反応及び酸化反応の一連の反応は液
相で実施してもよく、また固相で実施してもよい。
表わされる保腰された。ｔ Ｉ）ゴヌクレオチドが合成
される。かかる縮合反応及び酸化反応の一連の反応は液
相で実施してもよく、また固相で実施してもよい。
また酸化反応後、縮合反応の際に未反応の１−１残存［
〜だ５′−水酸基を無水酢酸のごとき永久保護基で不活
性化したのち、生成物の５′−水酸基の保護基（Ｒ３）
を常法に従ってノロトン酸やルイス酸などを用いて除去
し、次の縮合反応の原料に供することができる。
〜だ５′−水酸基を無水酢酸のごとき永久保護基で不活
性化したのち、生成物の５′−水酸基の保護基（Ｒ３）
を常法に従ってノロトン酸やルイス酸などを用いて除去
し、次の縮合反応の原料に供することができる。
反応酵中からの生成物の墜離・Ｍ製は、必要に応じて保
護基を除去したのち、通常の有機合成反応の手段である
吸宥クロマトグラフィー、イオン交換クロマトグラフィ
〜、電気泳動、有機治媒（ｆＣよる分配や結晶化など公
知の手段を適宜に選択し、あるいは組み合わせて実施す
ることが可能である。
護基を除去したのち、通常の有機合成反応の手段である
吸宥クロマトグラフィー、イオン交換クロマトグラフィ
〜、電気泳動、有機治媒（ｆＣよる分配や結晶化など公
知の手段を適宜に選択し、あるいは組み合わせて実施す
ることが可能である。
また固相反応の場合に１１、常法に従って担体を除去し
たのち、上記と同様の手法によって単離、精製すること
ができる。
たのち、上記と同様の手法によって単離、精製すること
ができる。
（発明の効果）
かくして得られる本発明の保−されたオリゴヌクレオチ
ドは、リン酸部分の水酸基とヌクレオシド塩基のアミン
基の双方の保護基を緩和な条件下に同時にかつ速やかに
除去することがでへる。例えば、必要に応じて２′−水
酸基、３′−水酸基及び／又は５′−水酸基の保護基ま
たは担体を除去したのち、０価のパラジウム化合物とア
ミノや蟻酸塩に代表される求核試剤を用いて中性条件下
に処理すると、室温で短時間のうちに双方の保護基を除
去することができる。
ドは、リン酸部分の水酸基とヌクレオシド塩基のアミン
基の双方の保護基を緩和な条件下に同時にかつ速やかに
除去することがでへる。例えば、必要に応じて２′−水
酸基、３′−水酸基及び／又は５′−水酸基の保護基ま
たは担体を除去したのち、０価のパラジウム化合物とア
ミノや蟻酸塩に代表される求核試剤を用いて中性条件下
に処理すると、室温で短時間のうちに双方の保護基を除
去することができる。
またアリル型残基及びアリルオキシビスがニル型残基は
糖部水酸基の脱保護反応で用いられる一般的な条件（例
えばトリクロロ酢酸による５１−水酸基の脱保護やテト
ラ−ｎ−ブチルアンモニウムクロリドによる３′−水酸
基の脱保護など）や担体の除去に賞月されるアンモニア
処理の条件下できわめて安定に存在する。
糖部水酸基の脱保護反応で用いられる一般的な条件（例
えばトリクロロ酢酸による５１−水酸基の脱保護やテト
ラ−ｎ−ブチルアンモニウムクロリドによる３′−水酸
基の脱保護など）や担体の除去に賞月されるアンモニア
処理の条件下できわめて安定に存在する。
（実施例）
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する
。
。
実施例１
アリルオキシノクロロホスフィンにジメチルアミンを反
応させて得たアリルオキシビス（Ｎ、Ｎ −ジメチルア
ミノ）ホスフィン（化合物２）３．１２ミリモルをアセ
トニトリル４ミリリットルに溶解したのち、テトラヒド
ロフラン：アセトニトリル＝１＝２の混合溶剤１５ミＩ
Ｊ ＩＪットルに溶解した５′−〇−モノメトキシトリ
チルチミジン（化合物１）３ミリモル及び１−１（−テ
トラゾール３．６ミリモルを２０℃で２０分間にわたり
滴下し、１時間攪拌してホスポルアミゲイト（化合物３
）をイυた。
応させて得たアリルオキシビス（Ｎ、Ｎ −ジメチルア
ミノ）ホスフィン（化合物２）３．１２ミリモルをアセ
トニトリル４ミリリットルに溶解したのち、テトラヒド
ロフラン：アセトニトリル＝１＝２の混合溶剤１５ミＩ
Ｊ ＩＪットルに溶解した５′−〇−モノメトキシトリ
チルチミジン（化合物１）３ミリモル及び１−１（−テ
トラゾール３．６ミリモルを２０℃で２０分間にわたり
滴下し、１時間攪拌してホスポルアミゲイト（化合物３
）をイυた。
次いア、この反応液に３’−ｏ−ｔ−ブチルジメチルシ
リルチミジン（化合物４）２．８６ミリモルと１−Ｈ−
テトラゾール３．４２ミリモルを加え、２０℃で２時間
攪拌した。
リルチミジン（化合物４）２．８６ミリモルと１−Ｈ−
テトラゾール３．４２ミリモルを加え、２０℃で２時間
攪拌した。
次いで一７８℃に冷却し、二酸化窒素４．８６＜リモル
のジクロロメタン溶液を加え、３０分間酸化したのち、
０５モル亜硫酸す） ＩＪウム水溶液３０ミリリットル
を加、を九。室温に戻したのち、クロロホルムと飽和食
Ｊｆｉ水を加え１分離した水層をクロロホルムで抽出し
九。乾燥後、クロマトグラフィー（シリカダル１２０１
、メタノール：クロロホルム−１：３０〜１：２０）に
より分離し、アリル−５′−〇−モノメトキシトリチル
チミノリル−（３′→５’）−３’−ｏ −ｔ−ブチル
ジメチルシリルチミジン（化合物５）を８６優の収率で
得た。
のジクロロメタン溶液を加え、３０分間酸化したのち、
０５モル亜硫酸す） ＩＪウム水溶液３０ミリリットル
を加、を九。室温に戻したのち、クロロホルムと飽和食
Ｊｆｉ水を加え１分離した水層をクロロホルムで抽出し
九。乾燥後、クロマトグラフィー（シリカダル１２０１
、メタノール：クロロホルム−１：３０〜１：２０）に
より分離し、アリル−５′−〇−モノメトキシトリチル
チミノリル−（３′→５’）−３’−ｏ −ｔ−ブチル
ジメチルシリルチミジン（化合物５）を８６優の収率で
得た。
この物質の物性値は以下のとうりである。
Ｒｔ（ｓＩｏ、メタノール−酢酸エチル−ヘキサン＝１
：５０：２５） ０．３８ １ＨＮＭＲ（ＣＤＣｔ） ０．０９ （ｓ 、６Ｈ，２
５ＩＣＪ ） ＩＯ，８９（ｓ ｌ ９ｒｉ、５ｉ
ｎ（ＣＨ３）、）＋ １．４１ ．１．９Ｑ（ｅａｃ
ｈ ｓ、 ６ＨＩ２５−ＣＨ，）、２．１−２．８
（ｍ、４Ｈ，４Ｈ，）、３．４４（ｍ、２Ｈ。
：５０：２５） ０．３８ １ＨＮＭＲ（ＣＤＣｔ） ０．０９ （ｓ 、６Ｈ，２
５ＩＣＪ ） ＩＯ，８９（ｓ ｌ ９ｒｉ、５ｉ
ｎ（ＣＨ３）、）＋ １．４１ ．１．９Ｑ（ｅａｃ
ｈ ｓ、 ６ＨＩ２５−ＣＨ，）、２．１−２．８
（ｍ、４Ｈ，４Ｈ，）、３．４４（ｍ、２Ｈ。
２ Ｈ５’） 、３．７９ （ｔｒ 、３Ｈ１ＯＣＨ３
）、３．９５−４．７ （ｍ１７Ｈ１２Ｈ４’、 Ｈ，
’ｌ ２ Ｈ５’、 ＣＨ＝ＣＨ２） 、 ５゜Ｉ−５
，５（ｍ＋ ３Ｈ＋Ｈ３’。
）、３．９５−４．７ （ｍ１７Ｈ１２Ｈ４’、 Ｈ，
’ｌ ２ Ｈ５’、 ＣＨ＝ＣＨ２） 、 ５゜Ｉ−５
，５（ｍ＋ ３Ｈ＋Ｈ３’。
＝ＣＨ，、） 、 ５．６５−６．０８（ｍ、 ｌ）（
、ＣＨ＝ＣＨ２）、 ６．１−６．４（ｍ、 ２Ｈ，２
Ｈ１’） 、 ６．８ 、７．１５−７．５（ｍ、 １
４Ｈ，Ａｒ−Ｈ）。
、ＣＨ＝ＣＨ２）、 ６．１−６．４（ｍ、 ２Ｈ，２
Ｈ１’） 、 ６．８ 、７．１５−７．５（ｍ、 １
４Ｈ，Ａｒ−Ｈ）。
７．６７（ｂｒｍ 、 ２Ｈ，６−Ｈ）、 ９．４８（
ｂｒｓ 、 ２Ｈ，２ＮＨ）。
ｂｒｓ 、 ２Ｈ，２ＮＨ）。
ＩＲ（ＣＨＣｌ、 ） ３３５０ 、２９００ 、１７
００ 、１６８０ 、１５９５ 。
００ 、１６８０ 、１５９５ 。
１２５０ｃｒｎ−”。
ＵＶ （ＣＩ、ＯＨ）λｍａｘ＝＝２６６ ｎｍＡｎａ
ｌ、 Ｃａ１ｃｄ ｆｏｒ Ｃ４，Ｉ（６，Ｎ４０，
５Ｐｓｉ ； Ｃ、６０，４７；Ｈ，６，３３； Ｎ
、５．７５゜ Ｆｏｕｎｄ： Ｃｒ ６０．６５； Ｈ＋ ６．０８
； Ｎ、５．７１゜ＯＨ 化合物１ 化合物２ ＴＢＳ イ＼、０−Ｐ−Ｎ（Ｃｌ１５）２ 化合物４実施例２ 実施例１で用いた化合物３の代わりに後記のホスホルア
ミダイド（化合物６）を用いること以外−３−ｏ−ｔ−
プチルゾメチルシリル曽１ヨ冊トｔ１ゾ素ネ章；痔チミ
ジン（化合物７）を８５チの収率で得た。
ｌ、 Ｃａ１ｃｄ ｆｏｒ Ｃ４，Ｉ（６，Ｎ４０，
５Ｐｓｉ ； Ｃ、６０，４７；Ｈ，６，３３； Ｎ
、５．７５゜ Ｆｏｕｎｄ： Ｃｒ ６０．６５； Ｈ＋ ６．０８
； Ｎ、５．７１゜ＯＨ 化合物１ 化合物２ ＴＢＳ イ＼、０−Ｐ−Ｎ（Ｃｌ１５）２ 化合物４実施例２ 実施例１で用いた化合物３の代わりに後記のホスホルア
ミダイド（化合物６）を用いること以外−３−ｏ−ｔ−
プチルゾメチルシリル曽１ヨ冊トｔ１ゾ素ネ章；痔チミ
ジン（化合物７）を８５チの収率で得た。
この物質の物性値は以下のとおりである。
’ＨＮＭＲ（ｃＤｃｔ、 ）
０．０６ 、０．０８３ （・ａｃｈ ｍ ＊ ６Ｈ＊
８１（ＯＨ５）２ ） ＊ ０．８８（１、９Ｈ、５
ＩＣ（ＣＨ，）３ ） ｅ １．３６ （８、３Ｈ、−
ＯＨ５） 。
８１（ＯＨ５）２ ） ＊ ０．８８（１、９Ｈ、５
ＩＣ（ＣＨ，）３ ） ｅ １．３６ （８、３Ｈ、−
ＯＨ５） 。
２．２３〜２．９０ （ｍ 、 ４Ｈ（２５） 、 ３
．３２〜３．５０（ｍ、 ２Ｈ） 。
．３２〜３．５０（ｍ、 ２Ｈ） 。
３．７７ （ｍ １３Ｈ１−ＯＣＨｓ ） 、４．００
〜４．８０ （ｍ １８Ｈ） −５，０３〜５．５４
（ｍ、 ６Ｈ） 、 ５．５８〜６．２４ （ｍ、 ２
Ｈ，／／′ｆ／） 。
〜４．８０ （ｍ １８Ｈ） −５，０３〜５．５４
（ｍ、 ６Ｈ） 、 ５．５８〜６．２４ （ｍ、 ２
Ｈ，／／′ｆ／） 。
６．３３〜６．５７ （ｍ、 ２１４ （１’））、
６．７７ （ｓ 、 ＩＨ。
６．７７ （ｓ 、 ＩＨ。
（Ａｒ） ） 、 Ｂ、８７（ｓ 、 ＩＨ，（Ａｒ）
） 、 ７．０８〜７．４３（ｍ、 １２Ｈ，（Ａｒ
） ）、 ７．４８〜７．５７ （ｂ 、 ＩＨ）。
） 、 ７．０８〜７．４３（ｍ、 １２Ｈ，（Ａｒ
） ）、 ７．４８〜７．５７ （ｂ 、 ＩＨ）。
８．２０．８．２４（ｅａｃｈ ｓ 、 ＩＩ（） 、
８．７３（ｓ 、 ＩＨ）元素分析値 計算値 Ｃ５９，７０； Ｈ６，０６； Ｈ９，２
０実測値 Ｃ５９，８５； ）ｉ６．０１： Ｈ９
，１４（ＡＯＣ−アリルオキシカル寸ζニル基）参考例
１ 実施例１で得た化合物５０３ミｌＪモル及びトリフェニ
ルホスフィン０．９５ミリモルを５０ミリリツトルのコ
ルベにとり、アルコ”７′ｇ囲気と（−だのち、テトラ
ヒドロフラン３ミリリツトルに溶解し。
８．７３（ｓ 、 ＩＨ）元素分析値 計算値 Ｃ５９，７０； Ｈ６，０６； Ｈ９，２
０実測値 Ｃ５９，８５； ）ｉ６．０１： Ｈ９
，１４（ＡＯＣ−アリルオキシカル寸ζニル基）参考例
１ 実施例１で得た化合物５０３ミｌＪモル及びトリフェニ
ルホスフィン０．９５ミリモルを５０ミリリツトルのコ
ルベにとり、アルコ”７′ｇ囲気と（−だのち、テトラ
ヒドロフラン３ミリリツトルに溶解し。
次いでｎ−ブチルアミン０．６ミリモル、＊酸０．６ミ
リモルを順次滴下したのち、テトラキス（トリフェニル
ホスフィン）ノｌうｕラム（０）０．０１５ミリモルを
テトラヒドロフラン２ミリリットルに（Ｈ８） 溶解して加え、室温で１０分間攪拌した。
リモルを順次滴下したのち、テトラキス（トリフェニル
ホスフィン）ノｌうｕラム（０）０．０１５ミリモルを
テトラヒドロフラン２ミリリットルに（Ｈ８） 溶解して加え、室温で１０分間攪拌した。
反応後、溶剤を留去したのち、残渣を酢酸エチルに溶か
して水及び飽和食塩水で洗浄し、乾燥したのち、クロマ
トグラフィーで分離し、アリル基が除去され７’Ｃ５’
−０−モノメトキシトリチルチミグリルー（３′→５’
）−３’−ｏ−ｔ−プチルジメチルチミゾンを得た。収
率は９５モル係であった。
して水及び飽和食塩水で洗浄し、乾燥したのち、クロマ
トグラフィーで分離し、アリル基が除去され７’Ｃ５’
−０−モノメトキシトリチルチミグリルー（３′→５’
）−３’−ｏ−ｔ−プチルジメチルチミゾンを得た。収
率は９５モル係であった。
参考例２
化合物５の代わりに化合物７をｏ、 １５ ミＩＪモル
使用すること以外は参考例１と同様にして反応を行った
。その結果、化合物７のアリル基及びアリルオキシカル
ブニル基が除去された５１−〇−モノメトキシトリチル
デオキンアデノシリル−（３′→５’）−３’−ｏ −
ｔ−ブチルジメチルシリルチミジンが収率９０チで得ら
れた。
使用すること以外は参考例１と同様にして反応を行った
。その結果、化合物７のアリル基及びアリルオキシカル
ブニル基が除去された５１−〇−モノメトキシトリチル
デオキンアデノシリル−（３′→５’）−３’−ｏ −
ｔ−ブチルジメチルシリルチミジンが収率９０チで得ら
れた。
実施例３
ＣＰＧ （Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｐｏｒｅ Ｇｒａｓ
ｓ ）レシンにエステル結合を介して結合した５′−〇
−ジメトキシトリチルチミジン（化合物８）３０ミリグ
ラムをガラス製反応器に入れ、これにトリクロロ酢酸の
ジクロロメタン溶液を加えて５′−水酸基を脱係ｆｉ
したのち、アセトニトリルで洗浄［７た。次いでシチジ
ン塩基のアミノ基がアリルオキシカル）ぜニル基で保護
されたホスホルアオダイド（化合物９）０．０３ミリモ
ル及び１−１■−テトラゾール０．０４ミリモルをアセ
トニトリループトラヒドロフラン混合溶剤に溶解［２て
加え、室温で２分間反応３１せた。
ｓ ）レシンにエステル結合を介して結合した５′−〇
−ジメトキシトリチルチミジン（化合物８）３０ミリグ
ラムをガラス製反応器に入れ、これにトリクロロ酢酸の
ジクロロメタン溶液を加えて５′−水酸基を脱係ｆｉ
したのち、アセトニトリルで洗浄［７た。次いでシチジ
ン塩基のアミノ基がアリルオキシカル）ぜニル基で保護
されたホスホルアオダイド（化合物９）０．０３ミリモ
ル及び１−１■−テトラゾール０．０４ミリモルをアセ
トニトリループトラヒドロフラン混合溶剤に溶解［２て
加え、室温で２分間反応３１せた。
次いで、アセトニトリルで洗浄したのち、沃素溶液１．
２ミリリツトル（沃素１１．６グラム、水１ ８ ミ
リ リ ッ ト ル 、 ル チ ジ ン
１ ８ ０ ミ リ リ ッ １・ ル、
テトラヒドロフラン７２０ミリリツトル）を加え２５秒
間反応させ°Ｃ，相体に、Ｊｔ１持したＣ−Ｔ−敬体（
化合物１０）を得た。収率は８０俤であった（後述の５
′−ジメトキシトリチル基の脱離に伴う発色で測定）。
２ミリリツトル（沃素１１．６グラム、水１ ８ ミ
リ リ ッ ト ル 、 ル チ ジ ン
１ ８ ０ ミ リ リ ッ １・ ル、
テトラヒドロフラン７２０ミリリツトル）を加え２５秒
間反応させ°Ｃ，相体に、Ｊｔ１持したＣ−Ｔ−敬体（
化合物１０）を得た。収率は８０俤であった（後述の５
′−ジメトキシトリチル基の脱離に伴う発色で測定）。
この化合物の確認は１以下の手順に菫ってけった。
まず前記化合物１０を含む１■１体をアセト−トリルで
洗浄したのち、無水酢酸を加えて未反応の５′−水酸基
をキャッピングし、アセトニトリルを加えて洗浄した。
洗浄したのち、無水酢酸を加えて未反応の５′−水酸基
をキャッピングし、アセトニトリルを加えて洗浄した。
次いでトリフェニルホスフィン０．０９５ミリモル、ｎ
−ブチルアミン０６ミリモル、蟻酸０．６ミリモル及び
テトラキス（トリフェニルホスフィン）・母ラジウム（
０） ０．０１５ミリモルをテトラヒドロフランに溶解
して加え、室温で１０分間反応して、リン部分のアリル
基、塩基部分のアリルオキシカルがニル基金脱係ｆａＬ
／ｃ。
−ブチルアミン０６ミリモル、蟻酸０．６ミリモル及び
テトラキス（トリフェニルホスフィン）・母ラジウム（
０） ０．０１５ミリモルをテトラヒドロフランに溶解
して加え、室温で１０分間反応して、リン部分のアリル
基、塩基部分のアリルオキシカルがニル基金脱係ｆａＬ
／ｃ。
テトラヒドロフランとジクロロメタンで洗浄後、トリク
ロロ酢酸により５′−水酸基のジメトキシトリチル基を
脱離し、化合物１１を得た。次いで３０チアンモニア水
溶液を加え室温で３０分放置して担体を除去し、Ｃ−Ｔ
のダイマー（化合物１２）を得た。
ロロ酢酸により５′−水酸基のジメトキシトリチル基を
脱離し、化合物１１を得た。次いで３０チアンモニア水
溶液を加え室温で３０分放置して担体を除去し、Ｃ−Ｔ
のダイマー（化合物１２）を得た。
アンモニアを留去後、２００マイクロリツトルの水に溶
解し、このうち５マイクロリツトルの水溶液を採取し、
これに〔γ−”Ｐ 、） ＡＴＰ （ＰＢ−１７０、ア
マジャム）１マイクロリツトルを加えて乾固した。
解し、このうち５マイクロリツトルの水溶液を採取し、
これに〔γ−”Ｐ 、） ＡＴＰ （ＰＢ−１７０、ア
マジャム）１マイクロリツトルを加えて乾固した。
これにカイネーションパッファー（ｘ２．ｓ）を２μｌ
。
。
Ｔ４ヌクレメチドキナーゼ（宝酒蔵、２．５ｕ／μｌ）
１μｌ、水２μ！を加えてカイネーシ、ンを行った、Ｔ
ＬＣ（Ｐｏｌｙｇｒａｍ 、 （ＪＬＬ３００ ｒ）
Ｅ：ＡＥ／ＨＲ−２／ １５ 。
１μｌ、水２μ！を加えてカイネーシ、ンを行った、Ｔ
ＬＣ（Ｐｏｌｙｇｒａｍ 、 （ＪＬＬ３００ ｒ）
Ｅ：ＡＥ／ＨＲ−２／ １５ 。
Ｍａｃｋｅｒｅｙ−Ｎａｇ＠１社製）にＲＮＡホモミッ
クスチェアにて展開し、−次光のオートラジオグラフを
得、１ス−ットであるととを確認ｉ〜た。ＴＬＣから、
１スＩツトの位置を抽出し、ベノムボスホジエステラー
ゼと、ヌクレアーゼＰ１で消化させ、消化物全ソレソれ
ＤＥＡＥ−セルロースペーパーを用いる電気泳動で展開
し、これをＴＬＣに転写して、ホモミックスチュアにて
二次元に展開した。二次元の展開後、 ＴＬＣのオート
ラジオグラフをとり、スポットの位置から保獲基が脱保
護されたＣＴダイマーが生成していることを確認した。
クスチェアにて展開し、−次光のオートラジオグラフを
得、１ス−ットであるととを確認ｉ〜た。ＴＬＣから、
１スＩツトの位置を抽出し、ベノムボスホジエステラー
ゼと、ヌクレアーゼＰ１で消化させ、消化物全ソレソれ
ＤＥＡＥ−セルロースペーパーを用いる電気泳動で展開
し、これをＴＬＣに転写して、ホモミックスチュアにて
二次元に展開した。二次元の展開後、 ＴＬＣのオート
ラジオグラフをとり、スポットの位置から保獲基が脱保
護されたＣＴダイマーが生成していることを確認した。
ＣＡ ＯＣ
化合物８
０７＼多
化合物１０
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、下記一般式〔 I 〕で表わされるオリゴヌクレオチ
ド合成用原料と下記一般式〔II〕で表わされるホスホル
アミダイド試薬を縮合させ、次いで形成されたホスファ
イト部分をホスフェートに酸化することを特徴とする下
記一般式〔III〕で表わされる保護されたオリゴヌクレ
オチドの製造法。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔III〕 （式中、Ｒ＿１は保護基または共有結合を介して結合し
た担体の残基を表わし、Ｒ＿２は水素原子または保護基
を有する水酸基を表わし、Ｒ＿３は保護基を表わし、Ａ
はアリル型残基を表わし、Ｂ＾Ａ＾Ｏ＾Ｃはアミノ基を
有さないヌクレオシド塩基またはアミノ基もしくはイミ
ノ基がアリルオキシカルボニル型残基で保護されたヌク
レオシド塩基の残基を表わし、ｎは０または正の整数を
表わす。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60211242A JPS6270391A (ja) | 1985-09-25 | 1985-09-25 | 保護されたオリゴヌクレオチドの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60211242A JPS6270391A (ja) | 1985-09-25 | 1985-09-25 | 保護されたオリゴヌクレオチドの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6270391A true JPS6270391A (ja) | 1987-03-31 |
Family
ID=16602641
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60211242A Pending JPS6270391A (ja) | 1985-09-25 | 1985-09-25 | 保護されたオリゴヌクレオチドの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6270391A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04111145U (ja) * | 1991-01-23 | 1992-09-28 | 日本電池株式会社 | 密閉型鉛蓄電池 |
| WO2000049032A1 (en) * | 1999-02-18 | 2000-08-24 | Isis Pharmaceuticals, Inc. | Oligonucleotides having alkylphosphonate linkages and methods for their preparation |
| WO2004052908A1 (ja) * | 2002-12-09 | 2004-06-24 | Mitsui Chemicals, Inc. | フォスフォロアミダイトの製造方法 |
| US9657963B2 (en) | 2010-05-27 | 2017-05-23 | Gentherm Canada Ltd. | Heater for an automotive vehicle and method of forming same |
| JP2021510716A (ja) * | 2018-01-24 | 2021-04-30 | エヴォネティクス エルティーディーＥｖｏｎｅｔｉｘ Ｌｔｄ | オリゴヌクレオチド及び核酸の合成 |
-
1985
- 1985-09-25 JP JP60211242A patent/JPS6270391A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04111145U (ja) * | 1991-01-23 | 1992-09-28 | 日本電池株式会社 | 密閉型鉛蓄電池 |
| WO2000049032A1 (en) * | 1999-02-18 | 2000-08-24 | Isis Pharmaceuticals, Inc. | Oligonucleotides having alkylphosphonate linkages and methods for their preparation |
| WO2004052908A1 (ja) * | 2002-12-09 | 2004-06-24 | Mitsui Chemicals, Inc. | フォスフォロアミダイトの製造方法 |
| US9657963B2 (en) | 2010-05-27 | 2017-05-23 | Gentherm Canada Ltd. | Heater for an automotive vehicle and method of forming same |
| JP2021510716A (ja) * | 2018-01-24 | 2021-04-30 | エヴォネティクス エルティーディーＥｖｏｎｅｔｉｘ Ｌｔｄ | オリゴヌクレオチド及び核酸の合成 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5703218A (en) | Oligonucleotides containing hydroxyl-protecting groups orthogonally removable by reduction | |
| AU669103B2 (en) | Improved process for the synthesis of oligomers | |
| JPS58180500A (ja) | Ｄｎａの化学的合成方法 | |
| EP0219342A2 (en) | Method and reagents for in vitro oligonucleotide synthesis | |
| JP7075680B2 (ja) | オリゴヌクレオチド合成用セグメントおよびその製造方法、ならびにそれを用いたオリゴヌクレオチドの合成方法 | |
| EP0216357A2 (en) | Phosphoramidite compounds and process for production thereof | |
| EP3660021B1 (en) | Photoresponsive nucleotide analog capable of photocrosslinking in visible light region | |
| US5247081A (en) | Protected biotin derivatives | |
| CN109641931B (zh) | 核糖核酸h-磷酸酯单体的合成方法和使用了该单体的寡核苷酸合成 | |
| JP7475056B2 (ja) | 光応答性ヌクレオチドアナログの製造方法 | |
| JPS6270391A (ja) | 保護されたオリゴヌクレオチドの製造法 | |
| JPS59502025A (ja) | オリゴヌクレオシドホスホネ−トの製造法 | |
| EP0064796A2 (en) | Phosphorylating agent and process for the phosphorylation of organic hydroxyl compounds | |
| JPH01317400A (ja) | 非放射活性標識の目的で５’（ｏｈ）位置で化学的に修飾された末端ヌクレオチドを含む核酸プローブ | |
| JPS6270392A (ja) | オリゴヌクレオチド化合物の製造法 | |
| JP4882074B2 (ja) | オリゴヌクレオチド誘導体、遺伝子検出用プローブ及びｄｎａチップ | |
| CN114014902B (zh) | 一种二聚核苷酸及其合成方法 | |
| JPS6284097A (ja) | 保護されたオリゴヌクレオチドの製造法 | |
| CN112888699B (zh) | 测序用核苷酸的制备方法 | |
| JPS6284096A (ja) | ホスホルアミダイト化合物及びその製造法 | |
| JPS61291595A (ja) | ２′−ｏ−メチル化ｒｎａの製造法 | |
| JPH0368594A (ja) | ポリヌクレオチドの製造法 | |
| CN115611960A (zh) | 一种人体辅酶i前体的制备方法 | |
| JPH0680070B2 (ja) | ホスホルアミダイド化合物及びその製造法 | |
| JPS6363695A (ja) | ヌクレオシドホスホロチオイツトを用いたオリゴヌクレオチドの固相合成法 |