JPS6270392A - オリゴヌクレオチド化合物の製造法 - Google Patents
オリゴヌクレオチド化合物の製造法Info
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- JPS6270392A JPS6270392A JP60211243A JP21124385A JPS6270392A JP S6270392 A JPS6270392 A JP S6270392A JP 60211243 A JP60211243 A JP 60211243A JP 21124385 A JP21124385 A JP 21124385A JP S6270392 A JPS6270392 A JP S6270392A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Saccharide Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、リン酸部分の水酸及及びヌクレオシド塩基部
分のアミン基がそれぞれアリル型残基及びアリルオキシ
カルボニル型残基で保護されたオリゴヌクレオチド化合
物を一段の反応で同時に脱保護するととによって効率よ
くオリゴヌクレオチド化合物を製造する方法に関する。
分のアミン基がそれぞれアリル型残基及びアリルオキシ
カルボニル型残基で保護されたオリゴヌクレオチド化合
物を一段の反応で同時に脱保護するととによって効率よ
くオリゴヌクレオチド化合物を製造する方法に関する。
（従来の技術）
最近の遺伝子工学の発展に伴い、その重要な素材である
ＤＮＡ （デオキシリｄζ核酸）やＲＮＡ （りけ？核
酸）などのポリヌクレオチドを化学的に合成する方法の
研究が盛んに行われている。
ＤＮＡ （デオキシリｄζ核酸）やＲＮＡ （りけ？核
酸）などのポリヌクレオチドを化学的に合成する方法の
研究が盛んに行われている。
従来、ポリヌクレオチドの化学合成法としてリン酸ジエ
ステル法、リン酸トリエステル法、ホスファイト法など
の手法が知られているが、いずれの方法の場合も副反応
をさけるためにリン酸部分の水酸基及びヌクレオシド塩
基のアミノ基を保護したのち縮合反応に供されている。
ステル法、リン酸トリエステル法、ホスファイト法など
の手法が知られているが、いずれの方法の場合も副反応
をさけるためにリン酸部分の水酸基及びヌクレオシド塩
基のアミノ基を保護したのち縮合反応に供されている。
而して水酸基の保護基として、従来からメチル基やシア
ンエチル基が知られており、またアミノ基の保護基とし
てベンゾイル基、イソブチリル基、アニソイル基などが
知られている（例えば特開昭５７−１７６９９８号、テ
トラヘドロン・レタース第２４巻、第５２号、第５８４
３〜５８４６頁など）。
ンエチル基が知られており、またアミノ基の保護基とし
てベンゾイル基、イソブチリル基、アニソイル基などが
知られている（例えば特開昭５７−１７６９９８号、テ
トラヘドロン・レタース第２４巻、第５２号、第５８４
３〜５８４６頁など）。
しかし、これらの方法の場合には所定の反応の彼に水酸
基及びアミ７基を脱保護するにあたり、チオフェノール
を用いたり熱アンモニア水で長時間にわたって処理しな
ければならないという問題があシ、また水酸基とアミン
基を別々の操作で脱保護しなければならないために操作
が煩雑化するという問題があった。
基及びアミ７基を脱保護するにあたり、チオフェノール
を用いたり熱アンモニア水で長時間にわたって処理しな
ければならないという問題があシ、また水酸基とアミン
基を別々の操作で脱保護しなければならないために操作
が煩雑化するという問題があった。
（発明が解決１．ようとする問題点）
そこで本発明者らはかかる従来技術の欠点を解決すべく
鋭意検討の結％、水酸基の保護系としてアリル型残基、
アミノ基の保護基としてアリルオキシカ、４−ｇ ＝Ｒ
４り残基をそれぞｉＬ使用することによって得られる保
護されたオリゴ９ヌクレオチＰ化合物は、白金族金属化
合物を触媒として用いることにより一段の反応で効率よ
く脱保護しうることを見い出し、本発明を完成するに到
った。
鋭意検討の結％、水酸基の保護系としてアリル型残基、
アミノ基の保護基としてアリルオキシカ、４−ｇ ＝Ｒ
４り残基をそれぞｉＬ使用することによって得られる保
護されたオリゴ９ヌクレオチＰ化合物は、白金族金属化
合物を触媒として用いることにより一段の反応で効率よ
く脱保護しうることを見い出し、本発明を完成するに到
った。
（問題点を解決するための手段）
かく１〜で本発明によれば、］；記一般式（１）で表わ
される保護化オリがヌクレオチド化合物を求核試剤の存
在下に白金族金属化合物触媒と接触させて脱保護せしめ
ることを％徴とする下記一般式（ＩＩ）で表わされるオ
リプヌクレオチド化合物の製造法が提供される。
される保護化オリがヌクレオチド化合物を求核試剤の存
在下に白金族金属化合物触媒と接触させて脱保護せしめ
ることを％徴とする下記一般式（ＩＩ）で表わされるオ
リプヌクレオチド化合物の製造法が提供される。
Ｈ
（式中、Ｒ及びＲ２は水素原子、保噛基または共有結合
を介して結合したポリマー担体を表わしく但し、Ｒ１と
Ｒ２が同時にポリマー担体となることはない）、Ｒ５は
水素原子または保護基を有していてもよい水酸基を表わ
し、人はアリル型残基を表わし Ｂ Ａ ＯＣはアミン
基を有さないヌクレオシド塩基またはアミン基もしくは
イミノ基がアリルオキシカルボニル型残基で保護された
ヌクレオシド塩基の残基を表わし、ｎ Ｆ、を正の整数
を表わす。）前記式中のＲ５及びＲ２は水Ｈｕｔ子、ヌ
クレオシド化学において一般に用いられている保護基ま
たは担体の残基であればいずれでもよく、保ｄ←基のＵ
体側として、例えばトリチル基、モノメトキシトリチル
基、ジメトキシトリチル基、トリメチルシリル基、トリ
エチルシリル基、トリフェニルシリル基、ｔ−ブチルジ
メチルシリル基、テトラヒドロピラニル基、４−メトキ
シテトラヒドロピラニル基、ベンゾイル基、ヘンシルＭ
、ｆト’ｊヒドロフラニル基、メトキシメチル基、メト
キシエトキシメチル基、フヱノキシメチル基、メチルチ
オメチル基、フェニルチオメチル基などが例示される。
を介して結合したポリマー担体を表わしく但し、Ｒ１と
Ｒ２が同時にポリマー担体となることはない）、Ｒ５は
水素原子または保護基を有していてもよい水酸基を表わ
し、人はアリル型残基を表わし Ｂ Ａ ＯＣはアミン
基を有さないヌクレオシド塩基またはアミン基もしくは
イミノ基がアリルオキシカルボニル型残基で保護された
ヌクレオシド塩基の残基を表わし、ｎ Ｆ、を正の整数
を表わす。）前記式中のＲ５及びＲ２は水Ｈｕｔ子、ヌ
クレオシド化学において一般に用いられている保護基ま
たは担体の残基であればいずれでもよく、保ｄ←基のＵ
体側として、例えばトリチル基、モノメトキシトリチル
基、ジメトキシトリチル基、トリメチルシリル基、トリ
エチルシリル基、トリフェニルシリル基、ｔ−ブチルジ
メチルシリル基、テトラヒドロピラニル基、４−メトキ
シテトラヒドロピラニル基、ベンゾイル基、ヘンシルＭ
、ｆト’ｊヒドロフラニル基、メトキシメチル基、メト
キシエトキシメチル基、フヱノキシメチル基、メチルチ
オメチル基、フェニルチオメチル基などが例示される。
また担体はエステル結合に代表される共有結合によって
３′−または５′−水酸基のいずれが一方に結合するも
のであシ、その具体例として変性シリカダル、ポリエス
テル、ボリアずド、ポリビニルアルコール、ポリシロリ
サン、ポリスチレン、ガラスなどが例示される。
３′−または５′−水酸基のいずれが一方に結合するも
のであシ、その具体例として変性シリカダル、ポリエス
テル、ボリアずド、ポリビニルアルコール、ポリシロリ
サン、ポリスチレン、ガラスなどが例示される。
（）（（釦式中のＲ３は水素原子または保護基を有して
いてもよい水酸基であり、保護基の具体例としてはＲ，
、Ｒ２と同様のものが例示される。
いてもよい水酸基であり、保護基の具体例としてはＲ，
、Ｒ２と同様のものが例示される。
４たＢＡｏｃはアミノ基を鳴さないヌクレオシド塩基″
またはアミン基もし２くはイミノ基がアリルオキシカル
ｙＪＰニル型残基で保護されたヌクレオシド塩基の残基
である。ヌクレオシド塩基を有するヌクレオシドの具体
例としては、例えばデオキシアデノシン、デオキシグア
ノシン、デオキシシチノン、チミジン、アデノシン、ダ
アノシ〉′、シチジン、ウリジン、イノシンなどが例示
され、これらのうちチミジン、ウリジン及びイノシンは
アミン基を有さないものに属する。
またはアミン基もし２くはイミノ基がアリルオキシカル
ｙＪＰニル型残基で保護されたヌクレオシド塩基の残基
である。ヌクレオシド塩基を有するヌクレオシドの具体
例としては、例えばデオキシアデノシン、デオキシグア
ノシン、デオキシシチノン、チミジン、アデノシン、ダ
アノシ〉′、シチジン、ウリジン、イノシンなどが例示
され、これらのうちチミジン、ウリジン及びイノシンは
アミン基を有さないものに属する。
塩基部分のアミノ基の保護基として用いられるアリルオ
キシカルア２ニル型残基は、脱保護反応を本質的に損わ
ないものであればいずれでもよく、その具体例としてア
リルオキシカルボニル基、メタリルオキシカルｄ？ニル
基、クロチルオキシカルボニル基、フレニルメキシカル
ｄ？ニルＥ、’）’５ニルオキシカルだニル基、シンナ
ミルオキシカルボニル基、クロロアリルオキシカルｄク
ニル基、ｐ−クロロシンナミルオキシカルボニル基など
が例示される。
キシカルア２ニル型残基は、脱保護反応を本質的に損わ
ないものであればいずれでもよく、その具体例としてア
リルオキシカルボニル基、メタリルオキシカルｄ？ニル
基、クロチルオキシカルボニル基、フレニルメキシカル
ｄ？ニルＥ、’）’５ニルオキシカルだニル基、シンナ
ミルオキシカルボニル基、クロロアリルオキシカルｄク
ニル基、ｐ−クロロシンナミルオキシカルボニル基など
が例示される。
アリルオキシカル・ビニル型残基の炭素数は反応後に生
ずる副生物の分離や原料入手の容易性などを考慮して適
宜選択すればよいが、通常は炭素数１２以下のものが用
いられる。
ずる副生物の分離や原料入手の容易性などを考慮して適
宜選択すればよいが、通常は炭素数１２以下のものが用
いられる。
またＡで示されるアリル型残基は脱保護反応を本質的に
損わないものであればいずれでもよく、その具体例と［
２てアリル基、メタリル基、クロチル基、テレニル基、
り′ラニル基、シンナミル基、ｐ−クロロシンナミル基
などが例示さｔする。これらの保護基の炭素数はとくに
制限されないが、通常、１０以下のものが賞月される。
損わないものであればいずれでもよく、その具体例と［
２てアリル基、メタリル基、クロチル基、テレニル基、
り′ラニル基、シンナミル基、ｐ−クロロシンナミル基
などが例示さｔする。これらの保護基の炭素数はとくに
制限されないが、通常、１０以下のものが賞月される。
さらにｎの値は正の整数であれば格別制限されるもので
はなく、１００もしくはそ′！１以下の値であってもよ
い。
はなく、１００もしくはそ′！１以下の値であってもよ
い。
前記一般式〔■〕で表わされる保護化オリゴヌクレオチ
ド化合物は、リン酸部分の水酸基及び核酸塩基部分のア
ミン基をそれぞれアリル型残基及びアリルオキシカルボ
ニル型残基で保護した原料を用いること以り）、常法に
従って得ることができる。
ド化合物は、リン酸部分の水酸基及び核酸塩基部分のア
ミン基をそれぞれアリル型残基及びアリルオキシカルボ
ニル型残基で保護した原料を用いること以り）、常法に
従って得ることができる。
例えばリン酸トリエステル法で合成する場合には、遊離
の糖部水酸基を一つだけ有するヌクレオシドと全ての糖
部水酸基を保護したヌクレオシドホスフェルトモツマ−
を縮合剤の存在下に縮合させ、次いで末端水酸基の保護
基を除去したのち、ｊ＋口口開同様操作を反復すること
によって保護化オリゴヌクレオチド化合物を得ることが
できる。
の糖部水酸基を一つだけ有するヌクレオシドと全ての糖
部水酸基を保護したヌクレオシドホスフェルトモツマ−
を縮合剤の存在下に縮合させ、次いで末端水酸基の保護
基を除去したのち、ｊ＋口口開同様操作を反復すること
によって保護化オリゴヌクレオチド化合物を得ることが
できる。
またホスファイト法で合成する場合には、下記一般式〔
■〕で表わされるヌクレオシドと下記一般式〔■〕で表
わされるホスファイトモノマーヲ縮合し、生成するホス
ファイト部分をホスフェートに酸化し、必要により未反
応の水酸基を永久保護基でキャッピングしたのち、連鎖
末端水酸基の保護基を除去し、必要に応じて同様の操作
を反復することによって目的とする保護化オリゴヌクレ
オチド化合物を得ることができる。
■〕で表わされるヌクレオシドと下記一般式〔■〕で表
わされるホスファイトモノマーヲ縮合し、生成するホス
ファイト部分をホスフェートに酸化し、必要により未反
応の水酸基を永久保護基でキャッピングしたのち、連鎖
末端水酸基の保護基を除去し、必要に応じて同様の操作
を反復することによって目的とする保護化オリゴヌクレ
オチド化合物を得ることができる。
（式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ６，Ａ及ヒＢＡ０ｃハ前記ト同
じであり、Ｘは塩素、臭素、２級アミン基を表わす。） なお、上記一般式（（Ｉｔ １及び〔■〕は５′−水酸
基にモノマー成分を結合する場合について例示したもの
であり、３′−水酸基に七ツマー成分を結合する場合に
は３′−位と５′−位の関係を逆にする必較がある。
じであり、Ｘは塩素、臭素、２級アミン基を表わす。） なお、上記一般式（（Ｉｔ １及び〔■〕は５′−水酸
基にモノマー成分を結合する場合について例示したもの
であり、３′−水酸基に七ツマー成分を結合する場合に
は３′−位と５′−位の関係を逆にする必較がある。
かかる保護化オリゴヌクレオチド化合物は、リン酸部分
の水酸基及びヌクレオシド塩基部分のアミノ基が保護さ
れているり、外、糖部水酸基は保護されていてもいなく
てもよい。
の水酸基及びヌクレオシド塩基部分のアミノ基が保護さ
れているり、外、糖部水酸基は保護されていてもいなく
てもよい。
本発明においては、脱保護反応に際して白金族金属化合
物、好ましくは白金族金属化合物を配位子とから本質的
に成る触媒が用いられる。白金族金属化合物は、ノ（ラ
ジウム、ルテニウム、白金、ロジウムなどの塩または錯
体であり、その具体例とｌ〜で、例えばテトラキス（ト
リフェニルホスフィン） ／Ｊ？ラジウム、トリス（ジ
ベンジリデンアセトン）二ノ！ラノウム（０）、）リス
（トリベンソリデンアセチルアセトン）三パラジウム（
０）、酢酸パラジウム、プローオン酸パラジウム、酪酸
ノｆラジウム、安泊香酸パラジウム、ノ９ラジウムアセ
チルアセトナート、シクロペンタジェニル（アリル）ノ
平ラジウムＱｌ）、硝酸・やラジウム、硫酸・母ラジウ
ム、塩化パラジウム、ジヒドロテトラキス（トリフェニ
ルホスフィン）ルテニウム、ルテニウムアセチルアセト
ナート、酢酸第一白金、白金アセチルア七トナートなど
が挙げられる。
物、好ましくは白金族金属化合物を配位子とから本質的
に成る触媒が用いられる。白金族金属化合物は、ノ（ラ
ジウム、ルテニウム、白金、ロジウムなどの塩または錯
体であり、その具体例とｌ〜で、例えばテトラキス（ト
リフェニルホスフィン） ／Ｊ？ラジウム、トリス（ジ
ベンジリデンアセトン）二ノ！ラノウム（０）、）リス
（トリベンソリデンアセチルアセトン）三パラジウム（
０）、酢酸パラジウム、プローオン酸パラジウム、酪酸
ノｆラジウム、安泊香酸パラジウム、ノ９ラジウムアセ
チルアセトナート、シクロペンタジェニル（アリル）ノ
平ラジウムＱｌ）、硝酸・やラジウム、硫酸・母ラジウ
ム、塩化パラジウム、ジヒドロテトラキス（トリフェニ
ルホスフィン）ルテニウム、ルテニウムアセチルアセト
ナート、酢酸第一白金、白金アセチルア七トナートなど
が挙げられる。
白金族金属のなかではパラジウムが反応性の面で好まし
く、なかでも０価のオレフィン錯体または二価の有機化
合物を用いるのが好適である。
く、なかでも０価のオレフィン錯体または二価の有機化
合物を用いるのが好適である。
また用いられる配位子は、配位原子として周期律表第■
族元素、すなわち窒素、リン、ヒ素またはアンチモンを
有する電子ｔＪＥｈ性化合物化合物、その具体例と１〜
てピリジン、キノリン、トリメチルアミン、トリエチル
アミン、トリブチルアミン、α、α′−ジビリノル、１
，１０−フェプントロリンなどのごとき含窒素化合物；
トリエチルホスフィン、ト’）−ｎ−プｆルホスフイン
、トリフェニルホスフィン、Ｆ ！Ｊ −ｏ −Ｆ リ
ルホスフィン、１Ｊ−ｐ−ビフェニルホスフィン、トリ
ーローメトキシフェニルホスフィン、フェニルジフェノ
キシホスフィン、トリエチルホスファイト、トリーｎ−
ブチルホスファ（）、）！Ｊ−ｎ−ヘキシルボスファイ
ト、トリフェニルホスファイト、）！Ｊ−ｏ−）ＩＪル
ホスファイト、トリフェニルチオホスファイト、α、β
−エチレンジ（ジフェニル）ホスフィン、α、β−エチ
レンノ（ジエチル）ホスフィン、α、β−エチレンジ（
ジブチル）ホスフィンなどのごとき含すン化合物；トリ
エチルヒ素、トリプチルヒ素、トリフェニルヒ累のごと
き含ヒ素化合物；トリプロピルアンチモン、トリフェニ
ルアンチモノなどのごとき含アンチモン化合物などが挙
げられる。なかでも含リン化合物が反応の活性、選択性
、経済性などの面で好ましい。
族元素、すなわち窒素、リン、ヒ素またはアンチモンを
有する電子ｔＪＥｈ性化合物化合物、その具体例と１〜
てピリジン、キノリン、トリメチルアミン、トリエチル
アミン、トリブチルアミン、α、α′−ジビリノル、１
，１０−フェプントロリンなどのごとき含窒素化合物；
トリエチルホスフィン、ト’）−ｎ−プｆルホスフイン
、トリフェニルホスフィン、Ｆ ！Ｊ −ｏ −Ｆ リ
ルホスフィン、１Ｊ−ｐ−ビフェニルホスフィン、トリ
ーローメトキシフェニルホスフィン、フェニルジフェノ
キシホスフィン、トリエチルホスファイト、トリーｎ−
ブチルホスファ（）、）！Ｊ−ｎ−ヘキシルボスファイ
ト、トリフェニルホスファイト、）！Ｊ−ｏ−）ＩＪル
ホスファイト、トリフェニルチオホスファイト、α、β
−エチレンジ（ジフェニル）ホスフィン、α、β−エチ
レンノ（ジエチル）ホスフィン、α、β−エチレンジ（
ジブチル）ホスフィンなどのごとき含すン化合物；トリ
エチルヒ素、トリプチルヒ素、トリフェニルヒ累のごと
き含ヒ素化合物；トリプロピルアンチモン、トリフェニ
ルアンチモノなどのごとき含アンチモン化合物などが挙
げられる。なかでも含リン化合物が反応の活性、選択性
、経済性などの面で好ましい。
かかる配位子の使用量は白金族金属化合物１モル当如通
常０．１モル以上であり、反応の活性の面からは１モル
以上、とくに２〜２０モル使用することが好ましい。
常０．１モル以上であり、反応の活性の面からは１モル
以上、とくに２〜２０モル使用することが好ましい。
本発明における触媒の使用量は適宜選択されるが、通常
は保護化オリがヌクレオチド化合物に存在−ｔ−るアリ
ル型残基及びアリルオキシカル日？ニル型残基の合酎１
００モル当シ白金族金属化合物が００１〜１０モル、好
ましくは０，１〜５モルとなるような割合で使用される
。なお、アリル型残基及びアリルオキシカルボニル型残
基の合計モル数は、保護化オリゴヌクレオチド化合物１
モル中に存在するアリル型残基及びアリルオキシカルボ
ニル型残基の個数として理解されるべきである。また白
金族金属化合物と配位子は予め反応させておいてもよい
が、通常は反応系中で各成分を接触せしめることによシ
触媒が調製される。
は保護化オリがヌクレオチド化合物に存在−ｔ−るアリ
ル型残基及びアリルオキシカル日？ニル型残基の合酎１
００モル当シ白金族金属化合物が００１〜１０モル、好
ましくは０，１〜５モルとなるような割合で使用される
。なお、アリル型残基及びアリルオキシカルボニル型残
基の合計モル数は、保護化オリゴヌクレオチド化合物１
モル中に存在するアリル型残基及びアリルオキシカルボ
ニル型残基の個数として理解されるべきである。また白
金族金属化合物と配位子は予め反応させておいてもよい
が、通常は反応系中で各成分を接触せしめることによシ
触媒が調製される。
本発明においては、求核試剤の存在下に反応が行われる
。かかる求核試剤の具体例としては、蟻酸、蟻酸アンモ
ニウム、蟻酸ビリシン、蟻酸モルホリ／、蟻酸モノメチ
ルアミン、蟻酸＝ｎ−ブチルアミン、蟻酸ゾエチルアＺ
ン、蟻酸トリメチルアミン、蟻酸トリエチルアミン、＠
酸トリエタノールアばン、蟻酸ナトリウム、蟻酸カルシ
ウム、酢酸アンモニウム、酢酸トリエチルアミンなどの
■（−求核試剤、メチルアずン、エチルアミン、ブチル
アミン、ヘキシルアミン、ジメチルアミン、ソエチルア
ミン、トリエチルアミン、ピリジンなどのごときＮ−求
核試剤、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、アセト
酢酸エチルなどのごとき１．３−シカルア１？ニル型化
合物のナトリウムエル−トチ代表されるＣ−求核試剤、
メタノール、エタノール、プロノヂノール、ブタメール
などのどとき〇−求核試剤などが例示され、なかでもＨ
−求核試剤及びＮ−求核試剤が賞月される。とくに１級
及び２級アミンまたはそれらの蟻酸塩が好ましい。
。かかる求核試剤の具体例としては、蟻酸、蟻酸アンモ
ニウム、蟻酸ビリシン、蟻酸モルホリ／、蟻酸モノメチ
ルアミン、蟻酸＝ｎ−ブチルアミン、蟻酸ゾエチルアＺ
ン、蟻酸トリメチルアミン、蟻酸トリエチルアミン、＠
酸トリエタノールアばン、蟻酸ナトリウム、蟻酸カルシ
ウム、酢酸アンモニウム、酢酸トリエチルアミンなどの
■（−求核試剤、メチルアずン、エチルアミン、ブチル
アミン、ヘキシルアミン、ジメチルアミン、ソエチルア
ミン、トリエチルアミン、ピリジンなどのごときＮ−求
核試剤、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、アセト
酢酸エチルなどのごとき１．３−シカルア１？ニル型化
合物のナトリウムエル−トチ代表されるＣ−求核試剤、
メタノール、エタノール、プロノヂノール、ブタメール
などのどとき〇−求核試剤などが例示され、なかでもＨ
−求核試剤及びＮ−求核試剤が賞月される。とくに１級
及び２級アミンまたはそれらの蟻酸塩が好ましい。
求核試剤の使用量は適宜選択されるが、通常は４１ｊ化
オリゴヌクレオチド化合物中のアリル型残基及ヒアリル
オキシカルボニル型残基１個当り１分子以上であり、好
ましくは２〜２０分子である。
オリゴヌクレオチド化合物中のアリル型残基及ヒアリル
オキシカルボニル型残基１個当り１分子以上であり、好
ましくは２〜２０分子である。
本発明の反応は、出発原料を求核試剤の存在下に触媒と
接触せ【７めることにより行われる。この反応式によっ
て保護されていた水酸基及びアミン基（もしくはイミノ
基）は速やかに脱保護され、それと同時にアリル型残基
に起因する副生物が生成する。反応温度を↑通常Ｏ℃以
上、好ましくは１０〜５０℃であり、反応時間は通常５
分〜１２時間である。
接触せ【７めることにより行われる。この反応式によっ
て保護されていた水酸基及びアミン基（もしくはイミノ
基）は速やかに脱保護され、それと同時にアリル型残基
に起因する副生物が生成する。反応温度を↑通常Ｏ℃以
上、好ましくは１０〜５０℃であり、反応時間は通常５
分〜１２時間である。
着た反応に際して希釈剤を存在させてもよく、この具体
例として、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル、
ブチロニトリル、ベンゾニトリルなどのごときニトリル
類；ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ツメチルプロピオアミド、Ｎ−メ
チルピロリドンなどのごときアミド類；テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジブチルエーテル、エチレングリコ
ールジメチルエーテルなどのごときエーテル類；ア七ト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノンなどのごときケトン類；酢酸メチル、酢
酸エチル、酢酸プロピル、グロピオン酸メチルなどのご
ときエステル類；ジメチルスルホキシド、ジエチルスル
ホキシドなどのごときスルホキシド類などが例示される
。なかでもニトリル類、エーテル類が賞月される。
例として、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル、
ブチロニトリル、ベンゾニトリルなどのごときニトリル
類；ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ツメチルプロピオアミド、Ｎ−メ
チルピロリドンなどのごときアミド類；テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジブチルエーテル、エチレングリコ
ールジメチルエーテルなどのごときエーテル類；ア七ト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノンなどのごときケトン類；酢酸メチル、酢
酸エチル、酢酸プロピル、グロピオン酸メチルなどのご
ときエステル類；ジメチルスルホキシド、ジエチルスル
ホキシドなどのごときスルホキシド類などが例示される
。なかでもニトリル類、エーテル類が賞月される。
本発明の反応は液相、同相のいずれの形式であっても実
施することができる。固相反応の場合には、担体に相持
した保唖化ヌクレオチド化合物の層に触媒と求核試剤の
溶液と流通させることによって実施することができる。
施することができる。固相反応の場合には、担体に相持
した保唖化ヌクレオチド化合物の層に触媒と求核試剤の
溶液と流通させることによって実施することができる。
反応液中からの生成物の単離・精製は、通常の有機合成
反応の手段である吸着クロマトグラフィーやイオン交換
クロマトグラフィー、電気泳動、有機溶媒による分配や
結晶化など公知の手段を適宜に選択し、あるいは組み合
わせて実施することが可能である。
反応の手段である吸着クロマトグラフィーやイオン交換
クロマトグラフィー、電気泳動、有機溶媒による分配や
結晶化など公知の手段を適宜に選択し、あるいは組み合
わせて実施することが可能である。
（発明の効果）
かくして本発明によれば、従来、別々の操作で行ってい
た水酸基とアミノ基の脱保護を一段の反応で同時に行う
ことができ、ｌ〜かもチオフェノールや熱アンモニアを
使用せずに緩和な条件下で効率よく脱保護することがで
きる。
た水酸基とアミノ基の脱保護を一段の反応で同時に行う
ことができ、ｌ〜かもチオフェノールや熱アンモニアを
使用せずに緩和な条件下で効率よく脱保護することがで
きる。
（実施例）
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する
。
。
参考例１
アリルオキシジクロロホスフィンにジメチルアミンを反
応させて得たアリルオキシビス（Ｎ、Ｎ −ジメチルア
ミノ）ホスフィン（化合物、ｊ）３．１２ミリモルをア
セトニトリル４ミリリットルに溶解したのち、テトラヒ
ドロフラン：アセトニトリル＝１：２の混合溶剤１５
ｆ ＩＪ ＩＪットルに溶解した５′−ｏ−モノメトキ
シトリチル−Ｎ−アリルオキシデオキシアデノシン（化
合物上）３ミリモル及び１−Ｈ−テトラゾール３，６ミ
リモルを２０℃で２０分間にわたり滴下し、１時間攪拌
してホスホルアミダイド（化合物上）を得た。
応させて得たアリルオキシビス（Ｎ、Ｎ −ジメチルア
ミノ）ホスフィン（化合物、ｊ）３．１２ミリモルをア
セトニトリル４ミリリットルに溶解したのち、テトラヒ
ドロフラン：アセトニトリル＝１：２の混合溶剤１５
ｆ ＩＪ ＩＪットルに溶解した５′−ｏ−モノメトキ
シトリチル−Ｎ−アリルオキシデオキシアデノシン（化
合物上）３ミリモル及び１−Ｈ−テトラゾール３，６ミ
リモルを２０℃で２０分間にわたり滴下し、１時間攪拌
してホスホルアミダイド（化合物上）を得た。
次いで、この反応液に３−ｏ−ｔ−！チルツメｔ１１ｙ
） チルシリルチミジン（化合物４−、 ） ２．８６ミリ
モルと１−Ｈ−テトラゾール３．４２ミリモルを加え、
２０℃で２時間攪拌した。
） チルシリルチミジン（化合物４−、 ） ２．８６ミリ
モルと１−Ｈ−テトラゾール３．４２ミリモルを加え、
２０℃で２時間攪拌した。
次いで一７８℃に冷却ｌ〜、二酸化窒素４８６ミリモル
のジクロロメタン溶液を加え、３０分間酸化したのち、
０．５モル亜硫酸す） ＩＪウム水溶液３０ミリリット
ルを加えた。室温に戻し、たのち、クロロホルムと飽和
食塩水を加え、分離した水層をクロロホルムで抽出した
。乾燥後、クロマトグラフィー（シリカダル１２０！、
メタノール：クロロホルム−１：４０）により分離し、
アリル−５′−〇−モノメトキントリチルーＮ−アリル
オキシデオキシアデノシリル−（３′→５’）−３’−
ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリルチミジン（化合物５）を
８５チの収率で得た。
のジクロロメタン溶液を加え、３０分間酸化したのち、
０．５モル亜硫酸す） ＩＪウム水溶液３０ミリリット
ルを加えた。室温に戻し、たのち、クロロホルムと飽和
食塩水を加え、分離した水層をクロロホルムで抽出した
。乾燥後、クロマトグラフィー（シリカダル１２０！、
メタノール：クロロホルム−１：４０）により分離し、
アリル−５′−〇−モノメトキントリチルーＮ−アリル
オキシデオキシアデノシリル−（３′→５’）−３’−
ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリルチミジン（化合物５）を
８５チの収率で得た。
この物質の物性値は以下のとうりである。
’ＨＮＮｘＲ（ｃＤｃｔ、 ）
００６、旧３８３ （ａａａｈ ｓ ｒ ６Ｈ＋ ８
１（ＣＨｓ）２）ｏ、ｓｓ （ａ 、 ９Ｈ、８１Ｃ（
ＣＩ（５）、 ）１．３６ （ｓ 、３Ｈ−ＣＨｓ
）２．２３〜２．９０ （ｍ 、 ４Ｈ（２’ ）
）３．３２〜３．５０ （ｍ 、 ２Ｈ）３
．７７ （ｍ 、３Ｈ、−０ＣＨ５）４．００〜４．
８０ （ｍ 、 ８Ｈ）５．０３〜５．５４
（ｍ 、 ６Ｈ）５．５８〜６．２４ （ｍ 、
２Ｈ、ハく ）６．３３〜６．５７ （ｍ 、
２Ｈ（１’ ） ）６．７７ （１、ＩＨ、（Ａｒ）
）６．８７ （ａ 、 ＩＨ、（Ａｒ） ）７
．０８〜７．４３ （ｍ 、 １２Ｈ、（Ａｒ）
）７．４８〜７．５７ （ｂ 、 ｏｒ ）
８．２０ 、 ８．２４ （ｅａｃｈ ［１、Ｉ
Ｈ）８．７３ （ｓ 、 ＩＨ） 元素分析値 計訪値 Ｃ５９７０； Ｈ６，０６； Ｎ ９．２０実
測値 Ｃ５９，８５： Ｈ６，０１： Ｎ ９１４Ｈ 化合物Ｊ５ 化合物２、 化合物」５ 化合物見 実施例１ 参考例１で得た化合物５０．１５ミＩＪモル及びトリフ
ェニルホスフィン０．９５ミリモルを５０ミリリツトル
のコルベにとり、アルがン雰囲気としたのち、テトラヒ
ドロフラン３ミリリツトルに溶解し、次いでｎ−ブチル
アミン０６ミリモル、蟻酸０．６ミリモルを順次滴下し
たのち、テトラキス（トリフェニルホスフィン）ハラジ
ウム（ｏ） ０．０１５ずリモルをテトラヒドロフラン
２ミリリツトルに溶解して加え、室温で１０分間攪拌し
た。
１（ＣＨｓ）２）ｏ、ｓｓ （ａ 、 ９Ｈ、８１Ｃ（
ＣＩ（５）、 ）１．３６ （ｓ 、３Ｈ−ＣＨｓ
）２．２３〜２．９０ （ｍ 、 ４Ｈ（２’ ）
）３．３２〜３．５０ （ｍ 、 ２Ｈ）３
．７７ （ｍ 、３Ｈ、−０ＣＨ５）４．００〜４．
８０ （ｍ 、 ８Ｈ）５．０３〜５．５４
（ｍ 、 ６Ｈ）５．５８〜６．２４ （ｍ 、
２Ｈ、ハく ）６．３３〜６．５７ （ｍ 、
２Ｈ（１’ ） ）６．７７ （１、ＩＨ、（Ａｒ）
）６．８７ （ａ 、 ＩＨ、（Ａｒ） ）７
．０８〜７．４３ （ｍ 、 １２Ｈ、（Ａｒ）
）７．４８〜７．５７ （ｂ 、 ｏｒ ）
８．２０ 、 ８．２４ （ｅａｃｈ ［１、Ｉ
Ｈ）８．７３ （ｓ 、 ＩＨ） 元素分析値 計訪値 Ｃ５９７０； Ｈ６，０６； Ｎ ９．２０実
測値 Ｃ５９，８５： Ｈ６，０１： Ｎ ９１４Ｈ 化合物Ｊ５ 化合物２、 化合物」５ 化合物見 実施例１ 参考例１で得た化合物５０．１５ミＩＪモル及びトリフ
ェニルホスフィン０．９５ミリモルを５０ミリリツトル
のコルベにとり、アルがン雰囲気としたのち、テトラヒ
ドロフラン３ミリリツトルに溶解し、次いでｎ−ブチル
アミン０６ミリモル、蟻酸０．６ミリモルを順次滴下し
たのち、テトラキス（トリフェニルホスフィン）ハラジ
ウム（ｏ） ０．０１５ずリモルをテトラヒドロフラン
２ミリリツトルに溶解して加え、室温で１０分間攪拌し
た。
反応後、溶剤を留去したのち、残渣を酢酸エチルに溶か
して水及び飽和食塩水で洗浄し、乾燥したのち、クロマ
トグラフィーで分離し、化合物５のアリル基及びアリル
オキシカルー−ニル基が除去された５′−〇−モノメト
キシトリチルデオキシアデノシリル−（３′→５’）−
３’−ｏ−ｔ−プチルツメチルチミゾン（化合物６）を
得た。収率は９０モルチであった。
して水及び飽和食塩水で洗浄し、乾燥したのち、クロマ
トグラフィーで分離し、化合物５のアリル基及びアリル
オキシカルー−ニル基が除去された５′−〇−モノメト
キシトリチルデオキシアデノシリル−（３′→５’）−
３’−ｏ−ｔ−プチルツメチルチミゾン（化合物６）を
得た。収率は９０モルチであった。
実施例２
ノ！ラジウム化合物として第１表に示すとときパラジウ
ム化合物を用いること及び反応時間を変えること以外は
実施例１と同様にして実験を行った。
ム化合物を用いること及び反応時間を変えること以外は
実施例１と同様にして実験を行った。
結果を第１表に承り。
第 １ 表
実施例３
蟻酸ｎ−ブチルアミンに代えて第２表に示すごとき求核
試剤を用いること及び反応時間を変えること以外は実施
例１と同様にして実験を行なった。
試剤を用いること及び反応時間を変えること以外は実施
例１と同様にして実験を行なった。
結果を第２表に示す。
第 ２ 表
実施例４
トリフェニルホスフィンに代えて第３表に示すごとき配
位子を用い、かつ１．５時間反応を行うこと以外は実施
例１と同様にして実験を行なった。
位子を用い、かつ１．５時間反応を行うこと以外は実施
例１と同様にして実験を行なった。
結果を第３表に示す。
第 ３ 表
実施例５
出発犀料とｌ〜て第４表に示す化合物を用いること以外
は実施例１に準じで実験を行なった。なお、出発原料の
仕込量は１分子中のアリル基及びアリルオキシカルｌニ
ル基の合計量に対し触媒の仕込量が一斤になるように調
節した。結果を第４表に示す。
は実施例１に準じで実験を行なった。なお、出発原料の
仕込量は１分子中のアリル基及びアリルオキシカルｌニ
ル基の合計量に対し触媒の仕込量が一斤になるように調
節した。結果を第４表に示す。
出発原料 生成物
納 ４ 表
ＡＯＣ−アリルオキシカルｌニル基
ＭＭＴｒ−モノメトキシトリチル基
Ｄλ４Ｔｒ−ジメトキシトリチル基
Ｔ闘ヅミジン塩基
Ａ−デオキシアデノシン塩基
Ｃ−デオキシシチジン塩基
−［ｌ′３べ； て） −ｙ゛ｆ＋ｆ＋シシーｉｆ＋シ
ル阜＜ＡＱ（１−Ｅ ５もく脣Ｍへし 特許出願人 日本ゼオン株式会社 ｔ９ちＡ
ル阜＜ＡＱ（１−Ｅ ５もく脣Ｍへし 特許出願人 日本ゼオン株式会社 ｔ９ちＡ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、下記一般式〔 I 〕で表わされる保護化オリゴヌク
レオチド化合物を求核試剤の存在下に白金族金属化合物
触媒と接触させて脱保護せしめることを特徴とする下記
一般式〔II〕で表わされるオリゴヌクレオチド化合物の
製造法。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔II〕 （式中、Ｒ＿１及びＲ＿２は水素原子、保護基または共
有結合を介して結合したポリマー担体を表わし（但し、
Ｒ＿１とＲ＿２が同時にポリマー担体となることはない
）、Ｒ＿３は水素原子または保護基を有していてもよい
水酸基を表わし、Ａはアリル型残基を表わし、Ｂ＾Ａ＾
Ｏ＾Ｃはアミノ基を有さないヌクレオシド塩基またはア
ミノ基もしくはイミノ基がアリルオキシカルボニル型残
基で保護されたヌクレオシド塩基の残基を表わし、ｎは
正の整数を表わす。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60211243A JPS6270392A (ja) | 1985-09-25 | 1985-09-25 | オリゴヌクレオチド化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60211243A JPS6270392A (ja) | 1985-09-25 | 1985-09-25 | オリゴヌクレオチド化合物の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6270392A true JPS6270392A (ja) | 1987-03-31 |
Family
ID=16602659
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60211243A Pending JPS6270392A (ja) | 1985-09-25 | 1985-09-25 | オリゴヌクレオチド化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6270392A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2703687A1 (fr) * | 1993-04-09 | 1994-10-14 | Rhone Poulenc Chimie | Procédé catalytique utile pour cliver selectivement une fonction protégée et molécules déprotegeables selon ce procédé. |
| WO1994024088A1 (fr) * | 1993-04-09 | 1994-10-27 | Rhone Poulenc Chimie | Reactif de desallylation, procede de desallylation utilisant ce reactif |
| US6919437B1 (en) | 1998-06-11 | 2005-07-19 | Isis Pharmaceuticals, Inc. | Synthetic methods and intermediates for triester oligonucleotides |
| JP2022065127A (ja) * | 2018-05-02 | 2022-04-26 | 株式会社ナティアス | オリゴヌクレオチド合成用セグメントおよびその製造方法、ならびにそれを用いたオリゴヌクレオチドの合成方法 |
-
1985
- 1985-09-25 JP JP60211243A patent/JPS6270392A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2703687A1 (fr) * | 1993-04-09 | 1994-10-14 | Rhone Poulenc Chimie | Procédé catalytique utile pour cliver selectivement une fonction protégée et molécules déprotegeables selon ce procédé. |
| WO1994024088A1 (fr) * | 1993-04-09 | 1994-10-27 | Rhone Poulenc Chimie | Reactif de desallylation, procede de desallylation utilisant ce reactif |
| US6919437B1 (en) | 1998-06-11 | 2005-07-19 | Isis Pharmaceuticals, Inc. | Synthetic methods and intermediates for triester oligonucleotides |
| JP2022065127A (ja) * | 2018-05-02 | 2022-04-26 | 株式会社ナティアス | オリゴヌクレオチド合成用セグメントおよびその製造方法、ならびにそれを用いたオリゴヌクレオチドの合成方法 |
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