JPS6363695A - ヌクレオシドホスホロチオイツトを用いたオリゴヌクレオチドの固相合成法 - Google Patents
ヌクレオシドホスホロチオイツトを用いたオリゴヌクレオチドの固相合成法Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Saccharide Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は一般式(1)
(式中、Bは保護基8有することもある核酸塩基残基を
R1は水t2基の保護基を、謬はリン醒保護基となり
得る基を、R3は置換基を有することもあるアルキル基
そ表わす) で示されるヌクレオシドホスホロチオイツトを用いたオ
リゴヌクレオチドの固相合成法に関するものである。
R1は水t2基の保護基を、謬はリン醒保護基となり
得る基を、R3は置換基を有することもあるアルキル基
そ表わす) で示されるヌクレオシドホスホロチオイツトを用いたオ
リゴヌクレオチドの固相合成法に関するものである。
(従来の技術)
近年遺伝子工学の進歩とともに、遺伝子の化学的基礎物
質である任意の塩基配列−2有するオリゴヌクレオチド
■有機化単的合5.法はより重要となってきている。オ
リゴヌクレオチドの有機化学的合成法としては穎相合厄
法と同相合成法の二つの方法が提案されており、固相法
は液相法に比較すると合成時間か短い、縮合に要する試
薬類や原料保膿ヌクレオシドの量が少なくてよい等の利
点を有し、広く用いられている。一般に面相合成法は2
リスチレン樹脂またはシリカゲルなどそ担体とし、コハ
ク酸などのスペーサ残基介して結合させたヌクレオシド
の5′−位水酸基と、ぎ−位水敏基を保護した保護ヌク
レオチドのy−位水酸基とを縮合させてジヌクレオチド
としたのち、ジヌクレオチドのぎ一位水酸基保獲基を脱
保鏝し、このぎ−位水酸基に目的とする塩基配列に従っ
て順次採掘ヌクレオチドを縮合させて目的とするオリゴ
ヌクレオチドを得るものである。こ0固相合放法として
現在繁用されているものにカルーザス(、Caruth
ers)らによるホスホロアミダイト法か知られている
。
質である任意の塩基配列−2有するオリゴヌクレオチド
■有機化単的合5.法はより重要となってきている。オ
リゴヌクレオチドの有機化学的合成法としては穎相合厄
法と同相合成法の二つの方法が提案されており、固相法
は液相法に比較すると合成時間か短い、縮合に要する試
薬類や原料保膿ヌクレオシドの量が少なくてよい等の利
点を有し、広く用いられている。一般に面相合成法は2
リスチレン樹脂またはシリカゲルなどそ担体とし、コハ
ク酸などのスペーサ残基介して結合させたヌクレオシド
の5′−位水酸基と、ぎ−位水敏基を保護した保護ヌク
レオチドのy−位水酸基とを縮合させてジヌクレオチド
としたのち、ジヌクレオチドのぎ一位水酸基保獲基を脱
保鏝し、このぎ−位水酸基に目的とする塩基配列に従っ
て順次採掘ヌクレオチドを縮合させて目的とするオリゴ
ヌクレオチドを得るものである。こ0固相合放法として
現在繁用されているものにカルーザス(、Caruth
ers)らによるホスホロアミダイト法か知られている
。
(発明が解決しようとする問題点)
ホスホロアミダイト法によるオリゴヌクレオチドの合成
は、縮合工程のあと更に酸化工程を必要とし、工業上煩
雑であるという欠点を有している。
は、縮合工程のあと更に酸化工程を必要とし、工業上煩
雑であるという欠点を有している。
(問題点を解決するための手段)
本発明者らはこれらの問題点を改良したオリゴヌクレオ
チドの面相合成法を得るべく検討を加えた結果、下記の
反応式〔1〕 反応式CD (反応式(1)において、■−は固相合成用担体を、へ
へはスペーサ残基を、B。
チドの面相合成法を得るべく検討を加えた結果、下記の
反応式〔1〕 反応式CD (反応式(1)において、■−は固相合成用担体を、へ
へはスペーサ残基を、B。
Bl 、 BlおよびBaは前記と同一の意味を表わす
) に示されるように、担体とスペーサーを介して結合した
ヌクレオシドと縮合させる保護ヌクレオチドとして、一
般式(1) (式中、B 、R’ 、R’オヨヒR’ハ前記ト同一の
意味を表わす) で示されるヌクレオシドホスホロチオイツトかすぐれた
縮合能力を有するとともに、縮合反応と酸化反応を同時
に行うことができることを見い出し本発明を完成したも
のである。
) に示されるように、担体とスペーサーを介して結合した
ヌクレオシドと縮合させる保護ヌクレオチドとして、一
般式(1) (式中、B 、R’ 、R’オヨヒR’ハ前記ト同一の
意味を表わす) で示されるヌクレオシドホスホロチオイツトかすぐれた
縮合能力を有するとともに、縮合反応と酸化反応を同時
に行うことができることを見い出し本発明を完成したも
のである。
すなわち、本発明はホスホロチオイツトのりン識修飾基
であるアルキルチオ基と、ヌクレオシドまたはヌクレオ
チド誘導体のぎ一位水酸基とでインターヌクレオチド結
合を形成させることからなるオリゴヌクレオチドの改良
された面相合成法である。
であるアルキルチオ基と、ヌクレオシドまたはヌクレオ
チド誘導体のぎ一位水酸基とでインターヌクレオチド結
合を形成させることからなるオリゴヌクレオチドの改良
された面相合成法である。
前記の反応式(1)において、水酸基保護基R′は、脱
係j反応のざい選択的に脱離する保護基であり、代表的
な基としてはトリチル基、メトキシトリチル基、ジメト
キシトリチル基、tert−ブチルジメチルシリル基な
どが挙げられ、R1のリン酸保護基となり得る基として
は、置換基を有することもあるアルキル基またはアリー
ル基であり、メチル基、エチル基、ブチル基、フェニル
基、キシリル基などで代表される。Raは置換基を有す
ることもあるアルキル基であり、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基などが例示される(いずれも異性
構造を含む)。また、Bは保護基を有することもある核
酸塩基残基、すなわちチミン、ることか必要であり、保
護基としては通常ベンゾイル基で代表されるアシル基か
用いられる。さらに、トで示した固相合成用担体は通常
のオリゴヌクレオチドの面相合成法において用いられる
ものであればよく、アクIJ 7レアミド系担体、ポリ
スチレン系担体、セルロース系担体、シリカゲル担体等
が例示される。
係j反応のざい選択的に脱離する保護基であり、代表的
な基としてはトリチル基、メトキシトリチル基、ジメト
キシトリチル基、tert−ブチルジメチルシリル基な
どが挙げられ、R1のリン酸保護基となり得る基として
は、置換基を有することもあるアルキル基またはアリー
ル基であり、メチル基、エチル基、ブチル基、フェニル
基、キシリル基などで代表される。Raは置換基を有す
ることもあるアルキル基であり、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基などが例示される(いずれも異性
構造を含む)。また、Bは保護基を有することもある核
酸塩基残基、すなわちチミン、ることか必要であり、保
護基としては通常ベンゾイル基で代表されるアシル基か
用いられる。さらに、トで示した固相合成用担体は通常
のオリゴヌクレオチドの面相合成法において用いられる
ものであればよく、アクIJ 7レアミド系担体、ポリ
スチレン系担体、セルロース系担体、シリカゲル担体等
が例示される。
スペーサーとしては、通常は二塩基酸たとえばコハク酸
、グルタル簸、アジピン酸が用いられるが、特にコハク
酸が好ましい。これらの各採掘基、担体、ス4−サーは
、通常のオリゴヌクレオチドの固相合成法に用いられる
ものであれば使用することかでき、上記の例示化合物に
限定されるものではない。
、グルタル簸、アジピン酸が用いられるが、特にコハク
酸が好ましい。これらの各採掘基、担体、ス4−サーは
、通常のオリゴヌクレオチドの固相合成法に用いられる
ものであれば使用することかでき、上記の例示化合物に
限定されるものではない。
本発明において用いるヌクレオシドホスホロチオイツト
の製造法は、下記の反応式〔厘〕反応式〔■〕 (反応式〔1〕において、R1およびR” fat前記
と同一の意味を表わす) で示されるように、アルキルホスホロジクロリダイト(
4)とアルカンナオール(5)とヲ、セリシンの存在下
にヘキサン中で反応させて得られる亜リン酸化試薬であ
るアルキルチオクロロアルコキシホスフィン(6) −
) N下記の反応式反応式(It) (反応式(II)において、B、R’、R”およびRs
は前記と同一の意味を表わす) に示すように、5′−位水酸基を保護したヌクレオシド
(7)とピリジン中で反応させ、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにより処理してヌクレオシドホスホロチ
オイツト(1)とするものである。
の製造法は、下記の反応式〔厘〕反応式〔■〕 (反応式〔1〕において、R1およびR” fat前記
と同一の意味を表わす) で示されるように、アルキルホスホロジクロリダイト(
4)とアルカンナオール(5)とヲ、セリシンの存在下
にヘキサン中で反応させて得られる亜リン酸化試薬であ
るアルキルチオクロロアルコキシホスフィン(6) −
) N下記の反応式反応式(It) (反応式(II)において、B、R’、R”およびRs
は前記と同一の意味を表わす) に示すように、5′−位水酸基を保護したヌクレオシド
(7)とピリジン中で反応させ、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにより処理してヌクレオシドホスホロチ
オイツト(1)とするものである。
本発明のヌクレオシドホスホロチオイツト(1)ソ用い
たオリゴヌクレオチドの固相合成法は好ましくは以下の
ように実Ltぎれる。すなわち、アクリルアミド系担体
、ポリスチレン系担体、セルロース系担体、シリカゲl
し担体などの固相合成用担体に1コノ1り酸、グルタル
酸、アジピン酸などのスペーサーを介して結合させたヌ
クレオシド(2)1当量に5〜20当量のヌクレオシド
ホスホロチオイツト(1)と50〜100fi量のヨウ
素とを混合溶媒例えばジクロロメタン/ルチジン/トリ
エチルアミン中で反応を行ったのちルチジン水溶液を加
え、担体く結合したヌクレオシド(2)の5′−位水酸
基とヌクレオシドホスホロチオイツト(1)のリン酸修
飾基であるアルキルチオ基としてインターヌクレオチド
結合を形成させて担体に結合したジヌクレオチド(3)
を得る。次いで無水酢酸/ピリジン中触媒量のジメチル
アミノピリジンの存在下に未反応の5′−位水酸基のア
セチル化を行ったのち、1チドリフルオロ酢酸/ジクロ
ロメタンで処理して担体に結合したジヌクレオチドの5
′−水酸、基保護基を除去し、これにヌクレオシドホス
ホロチオイツト(1)を縮合させるという操作を繰り返
すことにより、所望する塩基配列を有する一般式(式中
、nは任意の整数を、B、R’、R1゜R”、トおよび
ヘハは前記と同一の意味を表わすン で示される担体に結合したオリゴヌクレオチドを得るこ
とかできる。この担体に結合したオリゴヌクレオチド(
8)はさらに常法に従ってリン酸基の保護基Bzの除去
、担体との切断、塩基残基の保薩基O除去、ぎ−位水酸
基の保藤基の除去を順次行ったのちクロマトグラフィー
等によりrIIg!することにより一般式(9)(式中
、Wは核酸塩基残基を、nは前記と同一の意味を表わす
) で示されるオリゴヌクレオチドが得られる。
たオリゴヌクレオチドの固相合成法は好ましくは以下の
ように実Ltぎれる。すなわち、アクリルアミド系担体
、ポリスチレン系担体、セルロース系担体、シリカゲl
し担体などの固相合成用担体に1コノ1り酸、グルタル
酸、アジピン酸などのスペーサーを介して結合させたヌ
クレオシド(2)1当量に5〜20当量のヌクレオシド
ホスホロチオイツト(1)と50〜100fi量のヨウ
素とを混合溶媒例えばジクロロメタン/ルチジン/トリ
エチルアミン中で反応を行ったのちルチジン水溶液を加
え、担体く結合したヌクレオシド(2)の5′−位水酸
基とヌクレオシドホスホロチオイツト(1)のリン酸修
飾基であるアルキルチオ基としてインターヌクレオチド
結合を形成させて担体に結合したジヌクレオチド(3)
を得る。次いで無水酢酸/ピリジン中触媒量のジメチル
アミノピリジンの存在下に未反応の5′−位水酸基のア
セチル化を行ったのち、1チドリフルオロ酢酸/ジクロ
ロメタンで処理して担体に結合したジヌクレオチドの5
′−水酸、基保護基を除去し、これにヌクレオシドホス
ホロチオイツト(1)を縮合させるという操作を繰り返
すことにより、所望する塩基配列を有する一般式(式中
、nは任意の整数を、B、R’、R1゜R”、トおよび
ヘハは前記と同一の意味を表わすン で示される担体に結合したオリゴヌクレオチドを得るこ
とかできる。この担体に結合したオリゴヌクレオチド(
8)はさらに常法に従ってリン酸基の保護基Bzの除去
、担体との切断、塩基残基の保薩基O除去、ぎ−位水酸
基の保藤基の除去を順次行ったのちクロマトグラフィー
等によりrIIg!することにより一般式(9)(式中
、Wは核酸塩基残基を、nは前記と同一の意味を表わす
) で示されるオリゴヌクレオチドが得られる。
なお、本発明■固相合成法においては、前記の如く所望
の核酸塩基を有するヌクレオシドホスホロチオイツトを
順次縮合させる手法のほか、あらかじめ合成したジヌク
レオチドホスホロチオイツトブロックまたはトリヌクレ
オチドホスホロチオイツトブロックなどのヌクレオチド
ホスホロチオイットブロックを用いて縮合させることも
可能である。
の核酸塩基を有するヌクレオシドホスホロチオイツトを
順次縮合させる手法のほか、あらかじめ合成したジヌク
レオチドホスホロチオイツトブロックまたはトリヌクレ
オチドホスホロチオイツトブロックなどのヌクレオチド
ホスホロチオイットブロックを用いて縮合させることも
可能である。
(発明の効果)
本発明は固相合成法によるオリゴヌクレオチドを合成す
る際に、ヌクレオシドホスホロチオイツトを用いること
により、インターヌクレオチド結合を迅速かつ定量的に
進行させるとともに、縮合と酸化の両反応を同時に行う
という効果力Sある。
る際に、ヌクレオシドホスホロチオイツトを用いること
により、インターヌクレオチド結合を迅速かつ定量的に
進行させるとともに、縮合と酸化の両反応を同時に行う
という効果力Sある。
本発明で得られるオリゴヌクレオチドは遺伝子工学にお
ける1i要な素材として有用な化合物である。
ける1i要な素材として有用な化合物である。
′以下、実施列および実験例により説明する。
(実施例および実験例)
実験例1
ぎ−O−ジメトキシトリチル−3−N−ベンゾイルチミ
ジン−3’ −0−(S−ターシャリ−ブチルチオ)メ
チルホスホロチオイツトの合成 (上記の反応式において、Th は3−N−ベンゾイ
ルチミンを、DMTrはジメトキシトリチル基f、te
rtBuはターシャリ−ブチル基を表わす) 5′−〇−ジメトキシトリチルー3−N−ベンゾイルチ
ミジン11当量と(ターシャリ−ブチルチオ)クロロメ
トキシホスフィン2 。
ジン−3’ −0−(S−ターシャリ−ブチルチオ)メ
チルホスホロチオイツトの合成 (上記の反応式において、Th は3−N−ベンゾイ
ルチミンを、DMTrはジメトキシトリチル基f、te
rtBuはターシャリ−ブチル基を表わす) 5′−〇−ジメトキシトリチルー3−N−ベンゾイルチ
ミジン11当量と(ターシャリ−ブチルチオ)クロロメ
トキシホスフィン2 。
15当量とを、ピリジン溶媒中20℃で10分間反応さ
せる。反応終了後ジクロロメタン/水で抽出する。抽出
溶媒そ留去後、少量のベンゼンに溶解し、ヘキサン中に
徐々に滴下する再沈段により、5″−〇−ジメトキシト
リチルー3−N−ベンゾイルチミジン−ぎ−〇−(S−
ターシャリ−ブチルチオ)メチルホスホロチオイツト之
(以下、チオイツトユニットTという)を収率86%で
得’H−NMRおよび’” P −NMR(第1図)に
より同定した。
せる。反応終了後ジクロロメタン/水で抽出する。抽出
溶媒そ留去後、少量のベンゼンに溶解し、ヘキサン中に
徐々に滴下する再沈段により、5″−〇−ジメトキシト
リチルー3−N−ベンゾイルチミジン−ぎ−〇−(S−
ターシャリ−ブチルチオ)メチルホスホロチオイツト之
(以下、チオイツトユニットTという)を収率86%で
得’H−NMRおよび’” P −NMR(第1図)に
より同定した。
”P−NMR139,12ppm
実験例2〜4
保護基を有−する核酸塩基として実験例1の3−N−ベ
ンゾイルチミン(略称Th’)の代りに2−N−プロピ
オニル−6−〇−ジフェニルカルバモイルグアニン(略
称Gu”c)、pr。
ンゾイルチミン(略称Th’)の代りに2−N−プロピ
オニル−6−〇−ジフェニルカルバモイルグアニン(略
称Gu”c)、pr。
4−N−アニソイルシトシン(略称Cyan)または6
−N−ベンゾイルアデニン(略称Adb2)であるヌク
レオシドを用い、実験例1と同様に反応、単離を行い、
原料ヌクレオシドに対応するホスホロチオイットを第1
表記載の収率テ得、’H−NMRオヨヒ”P −NMR
K ヨ’) I’nJ 定した。 。
−N−ベンゾイルアデニン(略称Adb2)であるヌク
レオシドを用い、実験例1と同様に反応、単離を行い、
原料ヌクレオシドに対応するホスホロチオイットを第1
表記載の収率テ得、’H−NMRオヨヒ”P −NMR
K ヨ’) I’nJ 定した。 。
第1表
Aa bZ
!
呆施例】
(上記の反応式において■はセリスチンン樹脂を、Th
bzおよびDMTr件前記と同一の意味を表わす) ポリスチレン樹脂8(1%ジビニルベンゼン架橋、21
Q pmot/9 )とs’−o−ジメトキシトリチ
ル−3′−〇−サクシニルー3−N−ベンゾイルチミジ
ン71当夛とを、トリエチルアミン2当量、4−ジメチ
ルアミノ2リジン0.2当iの存在下、ジシクロへキシ
ルカルiジイミド2当量を用い、ジメチルホルムアミド
中で8時間反応させる。反応終了後、?剰の試薬と溶媒
をテ過Cユより除き、更に0.05Mジメチル了ミノぜ
リジンの箸水酢酸/2リジン= l/9 (V/V )
溶液を用いて1時間反応して、未反応のアミノ基をアセ
チル化して、ポリスチレン樹脂と3−N−ベンゾイルチ
ミジンとの縮合物9を得た。
bzおよびDMTr件前記と同一の意味を表わす) ポリスチレン樹脂8(1%ジビニルベンゼン架橋、21
Q pmot/9 )とs’−o−ジメトキシトリチ
ル−3′−〇−サクシニルー3−N−ベンゾイルチミジ
ン71当夛とを、トリエチルアミン2当量、4−ジメチ
ルアミノ2リジン0.2当iの存在下、ジシクロへキシ
ルカルiジイミド2当量を用い、ジメチルホルムアミド
中で8時間反応させる。反応終了後、?剰の試薬と溶媒
をテ過Cユより除き、更に0.05Mジメチル了ミノぜ
リジンの箸水酢酸/2リジン= l/9 (V/V )
溶液を用いて1時間反応して、未反応のアミノ基をアセ
チル化して、ポリスチレン樹脂と3−N−ベンゾイルチ
ミジンとの縮合物9を得た。
次じこの9の1部をとり・、1%トリフルオロ酢酸で3
分間処理して5′−位水酸基の保護基であるジメトキシ
トリチル基を除去した。のち濾過して得たp液を過塩素
酸/エタール=3/2.(V/V )溶液に溶かしジメ
トキシトリチルカチオンC二よる比色定量を行った結果
、担持量が42μm6L/lであった。 、0次1
mこのポリスチレン樹脂と3− N、 −ヘンゾイルチ
ミ、ジンとの縮合物9を、■1−1)リフルオロ酢酸で
3分間処理して、5′−位水酸基の保護基であるジメト
キシトリチル基を除去したのち、■クロロホルムによる
洗浄、■ジクロロメタン/ 2.6−ルチジン/ )
!J 工fJtiアミ:/=8/1/IC,V/V/V
>Cよる洗浄後、■実験fi4j 1で得たチオイツト
ユニットT3】OMfitとヨウ素50当量とを、ンク
ロロメタン/2.6−ルチジン/トリエチル・アミーン
=8/1/+ (V/V/V )中で10分間絹合反応
させる。
分間処理して5′−位水酸基の保護基であるジメトキシ
トリチル基を除去した。のち濾過して得たp液を過塩素
酸/エタール=3/2.(V/V )溶液に溶かしジメ
トキシトリチルカチオンC二よる比色定量を行った結果
、担持量が42μm6L/lであった。 、0次1
mこのポリスチレン樹脂と3− N、 −ヘンゾイルチ
ミ、ジンとの縮合物9を、■1−1)リフルオロ酢酸で
3分間処理して、5′−位水酸基の保護基であるジメト
キシトリチル基を除去したのち、■クロロホルムによる
洗浄、■ジクロロメタン/ 2.6−ルチジン/ )
!J 工fJtiアミ:/=8/1/IC,V/V/V
>Cよる洗浄後、■実験fi4j 1で得たチオイツト
ユニットT3】OMfitとヨウ素50当量とを、ンク
ロロメタン/2.6−ルチジン/トリエチル・アミーン
=8/1/+ (V/V/V )中で10分間絹合反応
させる。
綜合終了後、■少量の水を含んだ2.6−ルチジンによ
り洗浄し、次いで@ 0.05 Mジメチルアミノピリ
ジンの無水酢酸/ピリジン;9/1(V/V)溶液で3
分間反応してアセチル化し、0ピリジンによる洗浄、O
クロロホルムによる洗浄、という一連の操作を3回繰り
返すことで、下式のようなポリスチレン樹脂と縮合した
テトラマー】Oを得た。
り洗浄し、次いで@ 0.05 Mジメチルアミノピリ
ジンの無水酢酸/ピリジン;9/1(V/V)溶液で3
分間反応してアセチル化し、0ピリジンによる洗浄、O
クロロホルムによる洗浄、という一連の操作を3回繰り
返すことで、下式のようなポリスチレン樹脂と縮合した
テトラマー】Oを得た。
(式中、Th 、 DMTr および[F]21=
前記と同一の意味を表わす〕 ■上記の■の工程で得たポリスチレンRAMW t!−
縮合したテトラマー10% 、■チオフェノール/トリ
エチルアミン/ジ′オキサン=、1/1/2(、V/V
/V)中で90分処理してリン酸基の保護基であるメチ
ル基を除去し、■濃アンモニア水!24時間処理してポ
リスチレン樹脂とテトラマーとの切断およびナミンの保
u基である(ンゾイル基の除去後、■ポリスチレン樹脂
8濾過により除いたのちP液を逆層液体クロマトグラフ
ィーにより−X青農する。[株]次。
前記と同一の意味を表わす〕 ■上記の■の工程で得たポリスチレンRAMW t!−
縮合したテトラマー10% 、■チオフェノール/トリ
エチルアミン/ジ′オキサン=、1/1/2(、V/V
/V)中で90分処理してリン酸基の保護基であるメチ
ル基を除去し、■濃アンモニア水!24時間処理してポ
リスチレン樹脂とテトラマーとの切断およびナミンの保
u基である(ンゾイル基の除去後、■ポリスチレン樹脂
8濾過により除いたのちP液を逆層液体クロマトグラフ
ィーにより−X青農する。[株]次。
に80%酢酸で30分処理して5′−位水酸基0保饅基
であるジメトキシトリチル基ヲ除去し、■逆層液体クロ
マトグラフィーによりQ製・単離して、次式のテトラマ
ー厄を得た(第2図)。
であるジメトキシトリチル基ヲ除去し、■逆層液体クロ
マトグラフィーによりQ製・単離して、次式のテトラマ
ー厄を得た(第2図)。
(式中、Thはチミンを表わす〕
■このテトラマー11%スネークペノムホスホジエステ
ラーゼにより分鱗し、液体クロマトグラフィーによりテ
トラマー辻力sp’r:’r=a:lであることを同定
した(第3図)。
ラーゼにより分鱗し、液体クロマトグラフィーによりテ
トラマー辻力sp’r:’r=a:lであることを同定
した(第3図)。
(Tはチミジンを、pTはチミジンーダーモノホスフエ
ートを表わす) 実施例2 実施例1の■で得たポリスチレン樹脂と3−N−ベンゾ
イルチミジンとの縮合物9に、実験例4で得たチオイツ
トユニットA6を、実施例1の■■〜Oの一連の操作を
縮合させたのち、同様の操作により、実験例3で得たチ
オイツトユニットc乏、実験例2で得たチオイツトユニ
ットG 4 f i11次縮合させたのち、実施例1の
■の操作(ただし■−■の濃アンモニア水処理は48時
間)8行って次式のテトラマー遥を得た(第4図)。
ートを表わす) 実施例2 実施例1の■で得たポリスチレン樹脂と3−N−ベンゾ
イルチミジンとの縮合物9に、実験例4で得たチオイツ
トユニットA6を、実施例1の■■〜Oの一連の操作を
縮合させたのち、同様の操作により、実験例3で得たチ
オイツトユニットc乏、実験例2で得たチオイツトユニ
ットG 4 f i11次縮合させたのち、実施例1の
■の操作(ただし■−■の濃アンモニア水処理は48時
間)8行って次式のテトラマー遥を得た(第4図)。
坪
(式中、Guはグアニンを、Cyはシトシンを、Adは
アデニンそ、Thはチミンそ表わす) 次にこのテトラマー廷を実り例】の■と同様に酵素分解
し、液体クロマトグラフィーにより、テトラマー1gか
G :pC:pA:pT== 1 :1:1:1である
ことを同定した(朗5図〕。
アデニンそ、Thはチミンそ表わす) 次にこのテトラマー廷を実り例】の■と同様に酵素分解
し、液体クロマトグラフィーにより、テトラマー1gか
G :pC:pA:pT== 1 :1:1:1である
ことを同定した(朗5図〕。
(Gは2−デオキシグラノシンf、pcはτ−デオキシ
シチジンーぎ−モノホスフェー) ’& 、pAはτ−
デオキシアデノシンー5′−モノホスフェ−)8、pT
はチミジン−ぎ−モノホスフェ−トラ表わす)
シチジンーぎ−モノホスフェー) ’& 、pAはτ−
デオキシアデノシンー5′−モノホスフェ−)8、pT
はチミジン−ぎ−モノホスフェ−トラ表わす)
第1図は次のホスホロチオイツトO”P −NMRスペ
クトルを示す。 第2図は次Oテトラ? −(’rp’rp’rp’r
) ノ)IPLCノセターンを示す。 第3図はテトラマ(TpTpTpT ) o酵素分解後
17) HPLCパターンを示す。 第4因はV、Oテトラマ(GpCpApT ) 0HP
LCパターンを示す。 第5図はテトラマー(GpCpApT )の酵素分屏後
のHPLCパターンを示す。 特許出願人 有機合成薬品工業株式会社”・−j。 第1図 第2図 第3図 第4図
クトルを示す。 第2図は次Oテトラ? −(’rp’rp’rp’r
) ノ)IPLCノセターンを示す。 第3図はテトラマ(TpTpTpT ) o酵素分解後
17) HPLCパターンを示す。 第4因はV、Oテトラマ(GpCpApT ) 0HP
LCパターンを示す。 第5図はテトラマー(GpCpApT )の酵素分屏後
のHPLCパターンを示す。 特許出願人 有機合成薬品工業株式会社”・−j。 第1図 第2図 第3図 第4図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼(1) (式中、Bは保護基を有することもある 核酸塩基残基を、R^1は水酸基の保護基を、R^2は
リン酸保護基となり得る基を、R^3は置換基を有する
こともあるアルキル基を表わす) で示されるヌクレオシドホスホロチオイツトと、固相合
成用担体にスペーサーを介して結合したヌクレオシドま
たはヌクレオチド誘導体とを反応させることを特徴とす
るオリゴヌクレオチドの固相合成法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61208458A JPH0613548B2 (ja) | 1986-09-04 | 1986-09-04 | ヌクレオシドホスホロチオイツトを用いたオリゴヌクレオチドの固相合成法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61208458A JPH0613548B2 (ja) | 1986-09-04 | 1986-09-04 | ヌクレオシドホスホロチオイツトを用いたオリゴヌクレオチドの固相合成法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6363695A true JPS6363695A (ja) | 1988-03-22 |
JPH0613548B2 JPH0613548B2 (ja) | 1994-02-23 |
Family
ID=16556523
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61208458A Expired - Lifetime JPH0613548B2 (ja) | 1986-09-04 | 1986-09-04 | ヌクレオシドホスホロチオイツトを用いたオリゴヌクレオチドの固相合成法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0613548B2 (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61208457A (ja) * | 1985-03-12 | 1986-09-16 | Yamaha Motor Co Ltd | 熱交換器の着霜検出装置 |
-
1986
- 1986-09-04 JP JP61208458A patent/JPH0613548B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61208457A (ja) * | 1985-03-12 | 1986-09-16 | Yamaha Motor Co Ltd | 熱交換器の着霜検出装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0613548B2 (ja) | 1994-02-23 |
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