JPS6263422A - シリコンウエ−ハ処理用治具 - Google Patents

シリコンウエ−ハ処理用治具

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Publication number
JPS6263422A
JPS6263422A JP20290585A JP20290585A JPS6263422A JP S6263422 A JPS6263422 A JP S6263422A JP 20290585 A JP20290585 A JP 20290585A JP 20290585 A JP20290585 A JP 20290585A JP S6263422 A JPS6263422 A JP S6263422A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silicon wafer
silicon
side portions
short
support rod
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP20290585A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Torii
鳥井 博
Shinji Ueno
植野 伸二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Coorstek KK
Original Assignee
Toshiba Ceramics Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Ceramics Co Ltd filed Critical Toshiba Ceramics Co Ltd
Priority to JP20290585A priority Critical patent/JPS6263422A/ja
Publication of JPS6263422A publication Critical patent/JPS6263422A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発朗は、シリコンウェーハに拡散、酸化、洗浄等の処
理を施す際に使用する治具に関する。
[従来の技術] 一般に、シリコンウェーハから半導体装置を製造する工
程においては、拡散、酸化等の高温反応処理が行われる
。これらの高温反応処理は、いずれも極めて高い純度が
要求される。このため、これらの高温反応処理に際し、
シリコンウェーハを支持搭載する処理用治具は、耐熱性
に優れ、かつ有害な不純物を発散することのない高純度
の安定した材料で形成する必要がある。
そこで、従来、上記処理用治具には、石英ガラス、シリ
コン、炭化ケイ素等の材料が使用されている。
[発明が解決しようとする問題点] しかし、石英ガラス製の処理用治具は、耐熱性がやや低
く、1200℃以上の温度で使用すると軟化変形を生じ
長時間の使用に耐え得ない。
又、シリコン製の処理用治具は、脆く加工性に難点があ
る。
更に、炭化ケイ木製の処理用治具は、熱的、化学的に安
定であるが、成形、加工が困難であり、かつ不純物の含
有mが増加する等の不都合がある。
特に、石英ガラス製の処理用治具は、大径のシリコンウ
ェーハを加熱処理するとシリコンウェーハが石英ガラス
に溶着し、これを剥がすときにシリコンウェーハの周縁
部に欠けやひび成るいはチップ等を生じ易い。
そこで、本発明は、高温反応処理に際し、大径のシリコ
ンウェーハが溶着することのないシリコンウェーハ処理
用治具を提供しようとするものである。
[問題点を解決するための手段] 本発明は、前記問題点を解決するため、複数枚のシリコ
ンウェーハを所要間隔で垂直に整列支持する石英ガラス
製のシリコンウェーハ処理用治具において、前記シリコ
ンウェーハの荷重を支えるシリコン製の支持棒を付設し
たものである。
[作 用] シリコンウェーハ処理用治具におけるシリコンウェーハ
の荷重を支える部分の耐熱性が向上し、かつ熱による軟
化変形が生じにくくなる。
[実施例] 以下、本発明の一実施例を図面を参照して説明する。
図において1は石英ガラス棒からなる矩形の上枠で、長
辺部1a、lbの相対する外周部には、第4図a、bに
示すように、シリコンウェーハ2(第3図参照)を垂直
にガイドする多数の溝3が刻設されている。上枠1は、
石英ガラス棒からなる傾斜した複数の支柱4を介し上枠
1より小さな矩形にしてかつ石英ガラス棒からなる下枠
5上に水平に取付けられている。そして、上枠1および
下枠5の長辺部1a、1bおよび5a、5b間には、そ
れぞれの短辺部IC,ldおよび5c。
5dと平行な石英ガラス棒からなる複数の補強杆1eお
よび5eが横架されている。
下枠5における短辺部5c 、5dおよび各補強杆5e
の中間部には、長辺部5a、5hの延伸方向へ切欠いた
凹部6(第5図a、b参照)が設けられている。隣り合
う短辺部5c、5dおよび補強杆5e間には、シリコン
からなる角柱状の複数の支持棒7が、端部を凹部6の一
部に係合して横架され、かつ溶接によって短辺部5c 
、5dおよび補強杆5eに固着されている。各支持棒7
は、シリコンウェーハ2の荷重を支えるためのもので、
その上面が短辺部5c 、5dおよび補強杆5eの頂部
とほぼ同じ高さに設けられている。そして、下枠5にお
ける短辺部5c 、5dの凹部6の一部には、支持棒7
の長手方向への移動を制止するため、石英ガラスからな
る円柱状のストッパー8が嵌合され、かつ溶接によって
固着されている。また、下枠5における長辺部5a、5
bの下部周面には、処理用治具が後述する如く収容され
る石英炉芯管の内周面との接触面積を低減するため石英
ガラスからなる半球状の複数の脚9が、短辺部5c 、
5dおよび補強杆5eの接合部と対応する位置に設けら
れている。
上記構成のシリコンウェーハ処理用治具を用いて多数の
シリコンウェーハ2を高温反応処理すべく、多数のシリ
コンウェーハ2を支持搭載するには、各シリコンウェー
ハ2を相対する溝3間に挿入し、かつ下部周面を支持棒
7の上面に当接する。
このとき、各シリコンウェーハ2の中央部周面は、相対
する溝3の底部間の間隔がシリコンウェーハ2の外径よ
り僅かに大きく設けられているので、溝3の底部と接触
することはない。
そして、多数のシリコンウェーハ2を支持搭載したシリ
コンウェーハ処理用治具を石英炉芯管等に収容して高温
反応処理する。このとぎ、シリコンウェーハ2の荷重が
かかる支持棒7が、耐熱性を有し、熱により軟化変形し
にくいシリコンからなるので、シリコンウェーハ2と支
持棒7とが溶着することはない。また、シリコンからな
る支持棒7が複数の分割体からできているので、熱によ
り石英ガラスからなる上枠1や下枠5等に多少変形が生
じても支持棒7が破損することはない。
なお、上記実施例においては、シリコンからなる支持棒
7を角柱状とし、その上面を平面とした場合について述
べたが、上面の形状としては、例えば第6図または第7
図に示すように、凹曲面状または溝形状等とすることが
望ましい。このようにすることにより、シリコンウェー
ハ2の移動が制限され、上枠1の長辺部1a、lbとの
接触が防止されるので、シリコンウェーハ2に歪やスリ
ップが入るおそれがない。
[発明の効果コ 以上のように本発明によれば、従来技術に比し、次の効
果が得られる。
(1)シリコンウェーハの荷重を支える部分を、耐熱性
を有し、熱により軟化変形しにくいシリコン棒としたの
で、シリコンウェーハと支持部とが加熱によって溶着せ
ず、シリコンウェーハの周縁部に欠けやひび、チップ等
が生ずることがない。
(2)  支持棒以外を石英ガラス製としたので容易に
製造することができる。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の一実施例を示すもので、第1図はシリコン
ウェーハ処理用治具の一部を省略した平面図、第2図お
よび第3図は第1図における■−■線断面図みよび■−
■線断面図、第4図a、 bは要部の平面図、側断面図
、第5図a、bは要部の平面図、側面図、第6図および
第7図はそれぞれ他実施例の要部の側断面図である。 1・・・上 枠      2・・・シリコンウェーハ
4・・・支 柱      5・・・下 枠6・・・凹
 部      7・・・支持棒第3図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 複数枚のシリコンウェーハを所要間隔で垂直に整列支持
    する石英ガラス製のシリコンウェーハ処理用治具におい
    て、前記シリコンウェーハの荷重を支えるシリコン製の
    支持棒を付設したことを特徴とするシリコンウェーハ処
    理用治具。
JP20290585A 1985-09-13 1985-09-13 シリコンウエ−ハ処理用治具 Pending JPS6263422A (ja)

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JP20290585A JPS6263422A (ja) 1985-09-13 1985-09-13 シリコンウエ−ハ処理用治具

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JP20290585A JPS6263422A (ja) 1985-09-13 1985-09-13 シリコンウエ−ハ処理用治具

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JPS6263422A true JPS6263422A (ja) 1987-03-20

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ID=16465124

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JP20290585A Pending JPS6263422A (ja) 1985-09-13 1985-09-13 シリコンウエ−ハ処理用治具

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02291128A (ja) * 1989-02-27 1990-11-30 Philips Gloeilampenfab:Nv 液体での処理後基板を乾燥する方法及びその装置
CN102303376A (zh) * 2011-09-05 2012-01-04 镇江大成新能源有限公司 一种硅棒承载装置

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JPH02291128A (ja) * 1989-02-27 1990-11-30 Philips Gloeilampenfab:Nv 液体での処理後基板を乾燥する方法及びその装置
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