JPH09298236A - 基板支持治具及び基板支持手段 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 大型基板の表面処理中の変形を防止し、変形
によって発生する基板や基板処理層の格子欠陥を無くす
る基板支持治具とその支持手段の提供。 【解決手段】 支柱を基板１が装填できるようウエハの
直径若しくは一辺より大きな開口幅を有するように偏在
して配置し、従来通りの基板１をアーム状の装填装置に
より装填可能に構成した場合においても、支持部材５の
接触支持部４は基板１を下側から支持させ、しかも基板
１の中心と、該基板１を支持する接触支持部４を結ぶ仮
想多角形１０の重心Ｇとをほぼ一致させた為に、前記各
接触支持部４上における基板１の自重を円周方向におい
て、ほぼ均等保持出来、この結果従来技術における支持
部偏在による片側への曲げ変形が抑止される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、略水平に設置され
た薄板状の基板の表面に処理を行う際に利用される支持
手段に係わるもので、特に半導体ウエハや液晶基板等の
エッチング、酸化、拡散、蒸着処理等に好適に利用され
る縦型キャリヤ等の基板支持治具に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば卓上コンピュータ等に使用される
液晶基板は、その表面に画像表示素子を形成するために
半導体ウエハ等と類似の装置で同様な化学気相法による
蒸着などの処理を行うが、集積度と生産性向上を目指す
半導体ウエハと同様に、大画面表示の求めに応じて近年
大型化、大口径化の傾向がある。また、大型のこれら基
板を処理するためには、処理装置のスペースやハンドリ
ングの関係から基板のエッジ部を支持する支持手段によ
り水平に保持して処理する方法が使用される。

【０００３】これら大型基板を処理中に支持する支持手
段には、複数の基板を嵌合し、上下に積装可能なスロッ
ト等の支持手段を有する３〜６本の支柱からなる支持治
具が、大量の基板を一度に処理装置内で処理できる為に
好適に用いられる。従来のこれらの支持治具は、基板を
支持手段に支持するために側面から基板を装填せねばな
らず、このため支柱と支持手段が、基板装填用開口と反
対側の基板の片側に偏在するように構成されていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、処理対
象の基板の大型化は、基板自体の自重を増し、前記支持
治具にて保持された場合、基板の支柱及び支持手段の乏
しい側へ自重による弾性変形や処理時の熱による熱変形
を発生する現象を助長した。これらの変形は、基板の表
面処理層や基板自体にも影響し、素子層の格子欠陥等を
引き起こす問題があった。これらの欠陥や変形は、液晶
基板や半導体ウエハの品質を低下させ、歩留まりを悪化
させる原因となっていた。

【０００５】そこで、これらの対策として様々な検討が
なされ、例えば特開平７−２８３１６２に見られるよう
に、ウエハを円周方向に等間隔位置に配設した溝を有す
る３本の支柱で支持することによりスリップ等の欠陥を
防止するキャリアが提案されている。その構成を図６に
基づいて説明するに、同図は前記従来技術に提案されて
いるウエーハキャリア１００で、夫々ウエーハ支持溝１
１６を有する３本の支柱１１３が円周方向に等間隔に配
置されている。一本の支柱１１３Ａは、天板１１４及び
底板１１２夫々に設けた円周溝１１５にガイドされて移
動自在に構成されている。ウエーハのキャリアへの出し
入れ時は、一の支柱１１３Ａを動かして出し入れ部を作
り、炉への挿入時は前記支柱１１３Ａを元の位置に復帰
させて支柱間が等間隔位置でウエーハを支持する。これ
により平均して荷重を支持することが出来るものであ
る。

【０００６】しかしながら、前記従来技術においてはウ
エハをキャリアへ出し入れするために、少なくとも１本
の支柱を移動しなければならず、移動の時の支柱の破損
やパーティクルの発生、取り扱いの面倒さに問題があっ
た。

【０００７】一方、中央に穴を開口してなるサセプタ等
を基板の下部に配置し、変形の防止を行う試みも行われ
たが、この場合、大型の基板をサセプタの間に出し入れ
するのは極めて困難があり、装填装置の構造が複雑にな
ったり、支持治具やサセプタの精度が不要に要求される
ことになり現実的ではなかった。

【０００８】本発明はかかる従来技術の欠点に鑑み、取
り扱いが容易であり基板が大型化しても基板の支持治具
への出し入れの容易さを維持するとともに、大型基板の
表面処理中の変形を防止し、変形によって発生する基板
や基板処理層の格子欠陥を無くする基板支持治具とその
支持手段を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項６及び７記載の本
第一発明は、薄板状の基板を、略水平に支持してなる基
板支持手段に適用されるもので、後記する薄板状基板を
上下に積層配置する、いわゆる縦型キャリアのみなら
ず、枚葉式のウエーハ支持治具としても適用し得るもの
である。

【００１０】即ち本発明の特徴は、 １）前記薄板状基板周囲の外縁に接触しないように配置
した保持材を有する点、より好ましくは薄板状基板周囲
の外方に保持材が位置する点。即ち、前記保持材は後記
第二発明のように、いわゆる縦型キャリアのみに限定す
るものでない為に、一方から水平方向に薄板状基板を装
填可能な開口部を有する必要はなく、例えば枚葉式のよ
うに上方から薄板状基板を装填する装置にも適用可能で
ある。 ２）前記保持材から延設し、より具体的には前記保持材
から基板周囲より内側に向け延設し、該保持材の延設基
部からほぼ等距離の位置で薄板状基板を下側から接触支
持する一又は複数の接触支持部を有する支持部材とを具
える点 ３）前記薄板状基板を支持する各接触支持部を結んで形
成される仮想多角形の重心が、装填支持された薄板状基
板のほぼ中心線上に位置するように構成したことを特徴
とするものである。

【００１１】請求項１〜５記載の第二発明は、表面の処
理を行う為に円形若しくは角板状の薄板状の基板を、上
下にほぼ平行に複数積装してなる基板支持治具、例えば
縦型キャリアに適用するものである。尚、前記基板は水
平に積層配置される場合、僅かに斜めに傾斜して積層配
置する場合のいずれも含む。そして本発明においては イ、一方から水平方向に支柱間に薄板状の基板を装填可
能な開口部を有するよう配置した少なくと２本以上の固
定支柱と、 ロ、各固定支柱から（基板周囲より内側に向け）延設
し、延設する夫々の固定支柱の中心からほぼ等距離の位
置で前記薄板状基板を下側から接触支持する一又は複数
の接触支持部を有する支持部材とを具えるとともに ハ、前記各接触支持部を結んで形成される仮想多角形の
重心が、装填支持された薄板状基板のほぼ中心線上に位
置するように構成したことを特徴とした基板支持治具で
ある。

【００１２】また、望ましくは、同一薄板状基板を下側
から支持する前記接触支持部の相互に形成する多角形
が、正三角形、正方形、正五角形、正六角形等の正多角
形若しくは長方形のいずれかであるのがよい。又前記支
柱と支柱から延設する支持部材が、管状体を切り欠いて
一体的に形成したこと、言換えれば前記支柱と支柱から
延設する支持部材の周壁がほぼ同一仮想円弧状に位置し
ているのがよい。更に前記支持治具を構成する素材は、
珪素、二酸化珪素、炭素、炭化珪素、酸化アルミナ、窒
化珪素からなる素材のいずれかあるいはこれらの組み合
わせであるのがよい。

【００１３】従って本発明によれば、支柱を基板が装填
できるようウエハの直径若しくは一辺より大きな開口幅
を有するように偏在して配置し、従来通りの基板をアー
ム状の装填装置により装填可能に構成した場合において
も、支持部材の接触支持部は基板を下側から支持させ、
しかも基板の中心と、該基板を支持する接触支持部を結
ぶ仮想多角形の重心とをほぼ一致させた為に、前記各接
触支持部材上における基板の自重を円周方向において、
ほぼ均等保持出来、この結果従来技術における支持部偏
在による片側への曲げ変形が抑止される。

【００１４】また、この際それぞれの接触支持部に印加
される基板の均等割りの自重により、支持部材が弾性変
形や熱変形を発生するが、延設する支柱２の中心からほ
ぼ等距離の位置に荷重点である接触支持部があるため
に、それぞれの支持部材に加わるモーメントが同じにな
り、言換えれば変形量が同じになる。この結果、夫々の
支持部材に変形が生じてもその変形量はほぼ一致する為
に、同一の基板の下側面の各接触支持部の平面度が維持
されるために、言換えれば同一の平面度で支持部材が変
形するために、基板の変形は起こり得ない。

【００１５】また、接触支持部を形成する仮想多角形
は、望ましくは正三角形、正方形、正五角形、正六角形
等の重心点の周囲に均等（角度、距離）に各頂点が位置
する正多角形平面が良い。これは、重心点に対して均等
に接触支持部が位置するので、基板の荷重を均等に受け
るだけでなく、基板に加わる曲げモーメントも均等に分
散されより良く変形が抑止される。尚長方形の場合も重
心点の周囲に均等（角度、距離）に各頂点が位置する為
に同様に扱われる。ただし、正多角形の頂点が正六角形
よりも多いと、支持部材や支柱２の容積が増え、熱のレ
スポンスや均一性を損なうだけでなく、処理ガスの流路
を阻害したり、分布の不均一を招き、処理基板の品質や
歩留まりを低下させるので良くない。従って前記仮想多
角形は、望ましくは正三角形、正方形、正五角形、正六
角形及び長方形がよい。また、前記構成の支柱２及び支
持部材は、管状体をレーザー等で切り欠いて容易に構成
することもでき、この場合薄肉の環状体を使用すれば容
積を減らせ、熱の分布やレスポンスを向上できる。

【００１６】そしてこのように薄肉の環状体を使用した
場合、形状的には前記支柱２と支柱２から延設する支持
部材の周壁がほぼ同一仮想円弧状に位置することとな
り、このような形状を取る事により、薄肉の環状体を使
用することが出来るものである。さらに、本発明の支持
治具は、反応性のガスや高温雰囲気中での基板処理に使
用されることが多いため、耐熱性と耐食性のある素材で
ある珪素、二酸化珪素、炭素、炭化珪素、酸化アルミ
ナ、窒化珪素を、また特に金属不純物等の汚染を嫌う場
合は、珪素や二酸化珪素（シリカ）、窒化珪素を構成素
材とするほうが好適である。一方本第一発明の治具の接
触支持部の正多角形配置と支持部材の構成による支持手
段も同様に前記効果を有するが、本発明は特に基板を複
数積装する縦型支持治具のみでなく、単一の基板を処理
する枚葉式の処理に使用される支持手段など、広範囲に
利用可能である。特に熱容量を小さくし、熱の分布の均
一性とレスポンスを向上するために支持部材を小容積の
脆弱な構造にしても支持部材の変形は接触支持部の平面
度に影響しないので、有用な支持手段である。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の好
適な実施例を例示的に詳しく説明する。但しこの実施例
に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相
対的配置等は特に特定的な記載がないかぎりは、この発
明の範囲をそれに限定する趣旨ではなく、単なる説明例
にすぎない。

【００１８】図１及び図２は本発明の実施例に係る液晶
基板のような角板（正方形）状基板１を上下に積層支持
する縦型支持治具を示し、図２（Ａ）はその斜視図、
（Ｂ）は熱処理加工前後における支持部材５の変形状態
を示す。又図１（Ａ）は図２（Ａ）の中央切断平面図、
（Ｂ）は接触支持部４の状態を示す要部拡大図を示す。
本実施例における支持治具２０は、基板１より相似形に
大なる正方形状の天板７、及び底板８と、該天板７及び
底板８の３辺周縁側に立設する固定支柱２と、該支柱２
の一側若しくは両側側壁より、基板１周囲の外縁より更
に内側に向け延設し、その自由端上面に半円突起状の接
触支持部４を設けた支持部材５とからなり、いずれも石
英ガラス材で構成されている。前記支持部材５は積層す
る基板１の数だけ設ける。

【００１９】次に前記固定支柱２と支持部材５の構成に
ついて詳細に説明する。固定支柱２と支持部材５は、石
英ガラス製の円筒の一部を、レーザーにより切り欠い
て、支持部材５と接触支持部４を片側に複数有する支柱
２Ａ₁、２Ａ₂と両側に有する支柱２Ｂからなり、各支柱
２は、基板１をＷ側から水平に挿入することにより、支
柱２Ａ₁、２Ａ₂の各１個の接触支持部４と支柱２Ｂの両
側の一対の接触支持部４の上側に装填出来るように開口
Ａを持った構成である。即ち前記円筒はその内径が、基
板１の１／２辺長（基板１中心より各辺までの垂線距
離）より装填用クリアランスを加味した程度の僅かに大
なる直径を有する薄肉環状体で構成され、そして支柱２
Ｂは前記円筒体を略半円状に２つ割した後、図２の
（Ａ）及び図１の（Ａ）に示すように、内径側に基板１
側縁と僅かなクリアランスをもって対面する接線方向に
直線状の対峙面を有する偏平弓型状の固定支柱２を設け
るとともに、その両側を基板１配置間隔に対応させてス
リット状に削成して、上下に積層した状態で一端が固定
支柱２側縁に夫々連設される多数の支持部材５を形成す
るとともに、該支持部材５の自由端上面を半円状に突設
し、接触支持部４となす。支柱２Ａ₁、２Ａ₂は支柱２Ｂ
の支持部材５と接触支持部４が夫々左側のみ、若しくは
右側のみに片側だけ設けたもので、対称形状である他は
すべて同一寸法である。尚、支柱２Ａ₁、２Ａ₂及びＢの
各支持部材５は、接触支持部４と支柱２の中心の距離
（ａ₁、ａ₂、ｂ₁、ｂ₂）がほぼ一致するように構成す
る。

【００２０】又、前記支柱２Ｂは、基板１が装入される
開口Ａの反対側に位置する底板８の一の辺の中点線上に
支柱２Ｂの中央線が一致するように配置し、一方支柱２
Ａ₁、２Ａ₂は支柱２Ｂが配設された左右両側の夫々の辺
の中点線上に支柱２Ｂの中央線が一致するようにして、
更にこれらの支柱２に連設する支持部材５が開口Ａ側に
向け且つ基板１周囲より内側に向け延設するように配置
する。この結果、夫々の基板１を支持する、それぞれの
支持部材５の先端に位置する接触支持部４を結ぶ仮想多
角形１０は、正方形の仮想多角形１０が形成されること
となり且つ仮想多角形１０の重心Ｇと装填時の基板１の
中心部が一致することとなる。

【００２１】本実施例は、例えば基板１寸法がＷ４００
×Ｌ４００×Ｔ４ｍｍで、支柱２の円筒が外径φ２２０
ｍｍ、接触支持部４と支柱２の中心間の距離ａ₁、ａ₂、
ｂ₁、ｂ₂が１５０ｍｍ、基板１周縁と各接触支持部４の
最短距離が９２ｍｍ、支持部４のピッチが２０ｍｍとな
るように構成している。この時、接触支持部４外側の基
板１の自重によるモーメントにより、基板１中央部に発
生する応力、ひいてはこれによる格子欠陥や変形を防止
するために、基板１周縁と各接触支持部４の最短距離
は、好ましくは接触支持部４の構成する仮想多角形１０
の面積に対して仮想多角形１０の外側に位置する基板１
の面積が、少なくとも１０倍以下であり、より好ましく
は同等であるよう構成したほうが良い。また、装填時の
基板１の安定や装填挿入取り出し時の基板１搬送アーム
のスペースの確保の点からも、前記構成範囲であるほう
が望ましい。

【００２２】又接触支持部４と支柱２の中心間の距離ａ
₁、ａ₂、ｂ₁、ｂ₂が同一、即ち基板１周縁と各接触支持
部４の最短距離が同一になるように設定している。従っ
て本実施例には前記円筒の内径を、略基板１の１／２辺
長程度に設定したが、前記条件を満たすならば、円筒の
内／外径は任意に設定できる。そして、本実施例の支持
治具２０にて、表面にエピタキシャルシリコン膜を付け
た石英ガラスの角状基板１のアニーリング処理（１００
０℃、１５分）を行ったところ、処理時の熱により図１
の（Ｂ）の拡大図に示すように支持部材５が若干変形し
たが、この時接触支持部４と支柱２の中心間の距離
ａ₁、ａ₂、ｂ₁、ｂ₂が同一、即ち基板１周縁と各接触支
持部４の最短距離が同一になるように設定している為
に、支持部材５の変形量が一致し、各接触支持部４は夫
々同一変形量下方に湾曲するのみで、その支持面の平面
度が維持され、結果として基板１の変形が発生しなかっ
た。また、基板１表面の膜にも変形ストレスによる格子
欠陥は見られなかった。

【００２３】そこで、本発明の作用効果を明確にするた
めに、比較例である図５に示す支持治具２２にて、実施
例と同様な石英ガラスの角状基板１の熱処理をおこなっ
た。比較例の支持治具２２は、図５に示すようにφ１５
ｍｍの丸棒に深さ６ｍｍで幅８ｍｍ、ピッチ２０ｍｍの
溝２４を刻切した支柱２３を３本、基板１装填方向と反
対側に偏在し天板７と底板８の３カ所に配置したものを
使用した。そして、実施例と同様な処理を行ったとこ
ろ、支柱２３を支点にして、０.５ｍｍ程度の屈曲が見
られ、その周囲の膜に格子欠陥が多数見られた。

【００２４】図３は本発明の他の実施例に係るウエーハ
のような円板状基板１を上下に積層支持する縦型支持治
具２０を示し、図３（Ａ）は図１（Ａ）に対応する支持
治具２０中央切断平面図、（Ｂ）は接触支持部４の状態
を示す要部拡大図を示す。本実施例における支持治具２
０は、基板１より相似形に大なる円形状の天板７及び底
板８と、ウエーハ装入中心線方向と対峙する側と該装入
中心線方向と直交する直交線の夫々の近傍に位置する天
板７及び底板８の周縁側に立設する四本の円棒状固定支
柱２と、該固定支柱２の、装入中心線若しくは直交線よ
り夫々略４５°偏向させた方向に向け基板１周囲の外縁
より更に内側に向け延設し、その自由端上面に台形突起
状の接触支持部４を設けた支持部材５とからなり、いず
れも石英ガラス材で構成されている。尚、各支持部材５
は、接触支持部と支柱２の中心の距離（ａ₁、ａ₂、
ｂ₁、ｂ₂）がほぼ一致するように構成する。この結果、
夫々の基板１を支持する、それぞれの支持部材５の先端
に位置する接触支持部４は正方形の仮想多角形１０が形
成されることとなり且つ仮想多角形１０の重心Ｇと装填
時の基板１の中心Ｃが一致することとなる。前記支持部
材５は積層する基板１の数だけ同一ピッチで上下に設け
る。かかる実施例においても前記第一実施例と同様の作
用効果を得る事が出来る。

【００２５】図４は接触支持部４を結ぶ仮想多角形１０
が三角形（Ａ）及び長方形（Ｂ）である、本発明の他の
実施例で、図３に示すように、ウエーハのような円板状
基板１を上下に積層支持する縦型支持治具２０として構
成され、いずれも図１（Ａ）に対応する支持治具２０の
中央切断平面図である。（Ａ）に示す支持治具２０は、
基板１より相似形に大なる円形状の天板７及び底板８
と、ウエーハ装入中心線Ｄ−Ｄ方向と直交する直交線Ｆ
−Ｆとウエーハ装入側と反対側の天板７及び底板８の周
縁側に立設する３本の円棒状固定支柱２と、該固定支柱
２の、装入中心直交線Ｆ−Ｆより夫々略３０°ウエーハ
装入側に偏向させた方向に向け延設し、その自由端上面
に半円突起状の接触支持部４を設けた支持部材５とから
なり、いずれも石英ガラス材で構成されている。尚、各
支持部材５は、接触支持部４と支柱２の中心の距離（ａ
₁、ａ₂、ｂ₁、ｂ₂）がほぼ一致するように構成する。こ
の結果、夫々の基板１を支持する、それぞれの支持部材
５の先端に位置する接触支持部４は正三角形の仮想多角
形１０が形成されることとなり且つ仮想多角形１０の重
心Ｇと装填時の基板１の中心Ｃが一致することとなる。
前記支持部材５は積層する基板１の数だけ同一ピッチで
上下に設ける。かかる実施例においても前記第一実施例
と同様の作用効果を得る事が出来る。

【００２６】（Ｂ）に示す支持治具２０は、基板１より
相似形に大なる円形状の天板７及び底板８と、ウエーハ
装入中心線方向Ｄ−Ｄと直交する直交線Ｆ−Ｆ上の天板
７及び底板８の周縁側に立設する２本の円棒状固定支柱
２と、該固定支柱２の、装入中心直交線Ｆ−Ｆを挟んで
夫々左右両側に略４５°偏向させた方向に向け延設し、
その自由端上面に半円突起状の接触支持部４を設けた４
本の支持部材５とからなり、いずれも石英ガラス材で構
成されている。尚、各支持部材５は、接触支持部４と支
柱２の中心の距離（ａ₁、ａ₂、ｂ₁、ｂ₂）がほぼ一致す
るように構成する。この結果、夫々の基板１を支持す
る、それぞれの支持部材５の先端に位置する接触支持部
４は長方形の仮想多角形１０が形成されることとなり且
つ仮想多角形１０の重心Ｇと装填時の基板１の中心部が
一致することとなる。前記支持部材５は積層する基板１
の数だけ同一ピッチで上下に設ける。かかる実施例にお
いても前記第一実施例と同様の作用効果を得る事が出来
る。

【００２７】

【発明の効果】以上記載のごとく本発明によれば、取り
扱いが容易であり基板が大型化しても基板の支持治具２
０への出し入れの容易さを維持するとともに、大型基板
の表面処理中の変形を防止し、変形によって発生する基
板や基板処理層の格子欠陥を無くする基板支持治具２０
とその支持手段を提供することが出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１及び図２は本発明の実施例に係る液晶基板
のような角板（正方形）状基板を上下に積層支持する縦
型支持治具を示し、図１（Ａ）は図２（Ａ）の中央切断
平面図、（Ｂ）は接触支持部４の状態を示す要部拡大図
を示す。

【図２】図２（Ａ）は図１の縦型支持治具の全体斜視
図、（Ｂ）は熱処理加工前後における支持部材の変形状
態を示す。

【図３】図３は本発明の他の実施例に係るウエーハのよ
うな円板状基板を上下に積層支持する縦型支持治具を示
し、図３（Ａ）は図１（Ａ）に対応する支持治具中央切
断平面図、（Ｂ）は接触支持部４の状態を示す要部拡大
図を示す。

【図４】接触支持部４を結ぶ仮想多角形が三角形（Ａ）
及び長方形（Ｂ）である本発明の他の実施例で、図３に
示すように、ウエーハのような円板状基板を上下に積層
支持する縦型支持治具として構成され、いずれも図１
（Ａ）に対応する支持治具中央切断平面図である。

【図５】図１の対応比較例を示す支持治具で、（Ａ）は
図１の縦型支持治具の全体斜視図、（Ｂ）は中央切断平
面図を示す。

【図６】特開平７−２８３１６２に提案されているウエ
ーハキャリアを示す斜視図である。

【符号の説明】

１ 薄板状基板 ２ 固定支柱（保持材） ４ 接触支持部 ５ 支持部材 １０ 仮想多角形 ２０ 支持治具 Ａ 開口部 Ｃ 中心線 Ｇ 仮想多角形の重心

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 表面の処理を行う為に薄板状の基板を、
   上下にほぼ平行に複数積装してなる基板支持治具におい
   て、 一方から水平方向に支柱間に薄板状の基板を装填可能な
   開口部を有するよう配置した少なくと２本以上の固定支
   柱と、 各固定支柱から延設され、該延設する夫々の固定支柱の
   中心からほぼ等距離の位置で前記薄板状基板を下側から
   接触支持する一又は複数の接触支持部を有する支持部材
   とを具えるとともに、 前記同一薄板状基板を支持する各接触支持部を結んで形
   成される仮想多角形の重心が、装填支持された薄板状基
   板のほぼ中心線上に位置するように構成したことを特徴
   とした基板支持治具。
2. 【請求項２】 同一薄板状基板を下側から支持する前記
   接触支持部の相互に形成する多角形が、正多角形若しく
   は長方形であることを特徴とする請求項１記載の基板支
   持治具。
3. 【請求項３】 前記支柱と支柱から延設する支持部材
   が、管状体を切り欠いて一体的に形成したことを特徴と
   する請求項１記載の基板支持治具。
4. 【請求項４】 前記支柱と支柱から延設する支持部材の
   周壁がほぼ同一仮想円弧状に位置していることを特徴と
   する請求項１記載の基板支持治具。
5. 【請求項５】 支持治具を構成する素材が、珪素、二酸
   化珪素、炭素、炭化珪素、酸化アルミナ、窒化珪素から
   なる素材のいずれかあるいはこれらの組み合わせである
   ことを特徴とする請求項１記載の基板支持治具。
6. 【請求項６】 薄板状の基板を、略水平に支持してなる
   基板支持手段において、 前記薄板状基板周囲の外縁に接触しないように配置した
   保持材と、 前記保持材から延設し、該保持材の延設基部からほぼ等
   距離の位置で薄板状基板を下側から接触支持する一又は
   複数の接触支持部を有する支持部材とを具えるとともに
   前記薄板状基板を支持する各接触支持部を結んで形成さ
   れる仮想多角形の重心が、 装填支持された薄板状基板
   のほぼ中心線上に位置するように構成したことを特徴と
   する基板支持手段。
7. 【請求項７】 薄板状の基板を、略水平に支持してなる
   基板支持手段において、 前記薄板状基板周囲の外方に位置する保持材と、 前記保持材から基板周囲より内側に向け延設し、該保持
   材の延設基部からほぼ等距離の位置で薄板状基板を下側
   から接触支持する一又は複数の接触支持部を有する支持
   部材とを具えるとともに前記薄板状基板を支持する各接
   触支持部を結んで形成される仮想多角形の重心が、 装
   填支持された薄板状基板のほぼ中心線上に位置するよう
   に構成したことを特徴とする基板支持手段。