JPS6257422A - ポリエ−テル−スルホンの製造方法 - Google Patents

ポリエ−テル−スルホンの製造方法

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JPS6257422A
JPS6257422A JP61199209A JP19920986A JPS6257422A JP S6257422 A JPS6257422 A JP S6257422A JP 61199209 A JP61199209 A JP 61199209A JP 19920986 A JP19920986 A JP 19920986A JP S6257422 A JPS6257422 A JP S6257422A
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polyether
polycarbonate
sulfone
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G75/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing sulfur with or without nitrogen, oxygen, or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G75/20Polysulfones
    • C08G75/23Polyethersulfones

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
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  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
  • Polyethers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は式(1) 1 は5ないし200の整数であり、 上式におけるR、、■< 2、R1及びR4は同−又は
異なりてを9、水素、C+ −Cs−アルキル、7エ二
ルまたはハロゲン、例えば塩素又は臭素である、 のポリニーチル−スル7オンの製造に関し、特に式(I
I) 但し r は5ないし200の整数であり、E−0−はモノフ
ェノラート残基を示す、 のポリカーボネートを、該ボリカーボ*−)(I[)の
重量に対し0.00001ないし5重量%、好適には0
.001ないし0.1重量%の呈の塩基性または中性触
媒の存在下で、250℃ないし450℃の温度で、好適
には300℃ないし400℃の温度で、0.01パール
ないし1バールの圧力下で、好適には0.1ないし1バ
ールの圧力下で、10分ないし10時間、好適には10
分ないし60分の開、加熱することを特徴とする式(1
)のポリエーテル−スルフォンの製造法に関する。
rの好適な値は100ないし150である。
好適な芳香族残基Eはフェニル及び/又はり  ・レシ
ルである。
好適な残基R1ないしR4はトI又はメチルである。
塩基性触媒の例は弱酸性の化合物のアルカリ金属塩、例
えばビスフェノールAのニカリウム塩又はニナトリウム
塩、クミルフェノールのカリウム又はナトリウム塩又は
酢酸カリウムである。
中性のエステル交換反応触媒の例はチタン酸ブチル又は
三酸化7ンチモンである。
触媒は別個に添加することができ、又はポリカ−ボネー
ト(■)の製造を経由して導入することができる。
式(II)のポリカーボネートは既知の化合物である[
例えば米国特許第3,271,367号(Ue1695
)及びDE−AS(西ドイツ特許公告公報)(Uel 
695)第1,007,996号を参照のこと1;該ポ
リカーボネートは例えばスル7オンージフエノール(l
it) から、既知の(例えば米国特許第3,271,367号
、実施例1を参照のこと)ポリカーボネートのエステル
交換反応によって炭酸ジフェノールを用いて製造するこ
とができる。この場合、7エ/−ルの分離が完結したと
きに、直ちにポリニーデルに変化し、その製造がLIJ
能となる(本件明細書の実施例2を参照のこと)。
式(U)において r=1ないし3である低分子量の、
出発原料は、既知の方法に従い、ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンを塩化蟻Fll! 7 xニルと反応させる
ことによって、あるいはジヒドロキシ化合物対モノフェ
ノールのモル比を、例乏ば1:2.2:2又は3:2に
それぞれ対応させて用いて、ノヒドロキシ化合物とモノ
フェノールの混合物を7オスデン化処理することにより
製造することができる。
好適な具体化例においてはポリカーボネート(II)の
製造は、英国特許明細書第808,489号 (Ue 
 1733)の示す処に従って、例えばジカーボネート
(Ila) 上式においてEは例えばフェニルであり、R,ないしR
1は式(I)について述べた意味を有する、 から熔融エステル交換反応によって行うことが可能であ
り、即ち安息香酸ナトリウムのような塩基性エステル交
換反応触媒を用いて、170℃ないし200℃に加熱す
ることによってポリカーボネートを得た後、炭酸ジフェ
ニルを除去し、本発明に従うポリエーテルの製造を直ち
に継続して行うことができる(本発明の実施例3を参照
のこと)。
本発明に従うポリエーテル−スルホン類の製造は、例え
ば二−グ(kneader)又はスクリュ一式押出fi
(extruder)中で行うことができる。反応速度
はCO2の脱離をみて調節することができ、温度の取り
扱いをこれに合わせることができる。
本発明に従って製造されるポリエーテル−スルホン類は
融成物を直接押し出して粒状とすることができる。
ポリエーテル−スルホンは既知である(例えば、クンス
トストア 7 ! LKunststoffe169巻
(1979年)、3ないし5真、カーク・オスv−IK
irk −Otl+merl、エンサイクロベジア・オ
ブ・ケミカル・テクノロジー[Encyclopecl
+a  or  Chauical  Tecl+no
logyl、第3版、18巻、832ないL848g、
及びカーク・オスマー、同書、605ないし610真参
照のこと)。
式(1)のポリエーテル−スルホンの製造は、従来は一
つの方法として下記式Aに従い、アリールスルホニル 
ハロゲン化物の芳香族化合物との7リ一デルークラ7ツ
縮合反応によって行なわれている。
又別な方法による製造は、下記式B及びCに従いジハロ
ゲン化物及び、場合によってはジフェノールからのポリ
エーテル生成によって行なわれている: 化フェノールのアルカリ金属塩を縮合反応させてハロゲ
ン化アルカリ金属を除(ことによって行なわれている: しかし本発明者の見解では、本発明の方法はこの技術分
野では記述されたこともなく又示11J2されたことも
ない。
本発明に従う工程の途中で又は工程終了後に、ポリエー
テル−スルホンに常用されている安定剤、塩化ビフェニ
ルのような潤滑剤、染料、顔料、充填剤、ガラスに&維
又はガラス球が、通常の使用量で添加されることも可能
である。
本発明に従う方法によって得られるポリエーテル−スル
ホンは約LOOoないし50,000の範囲の数平均分
子jlxnを有している。
得られるポリエーテル−スルホンは加熱下で良好な寸法
安定性及び耐溶媒性を持っている。該ポリエーテルはそ
の分子量の大小によって、電気工業で用いられる繊維、
フィルム、板状材、発泡材のような種々な形状の物品、
又は被榎剤として加工することができる。
低分子量のポリエーテル−スルホン(unが最高s、o
oo迄)は熱11)塑性プラスチック用の難燃剤(fi
re−retarding  agents)として使
用することがt′きる。
実施例 1 4.4′−ジヒドロキシジフェニル スルホンのビスフ
ェニル炭酸エステルのエステル交換反応により製造(実
施例3@照のこと)されたF?1w(光改6し法により
測定した重量平均分子120,000の4.4゛−ジヒ
ドロキシジフェニル スルホンから得られたポリカーボ
ネートを二−グ(kneader)巾で温度250−2
80℃に上げる。二酸化炭素が脱離する。元素分析及び
赤外スペクトルによれば生成物はポリニーデル−スルホ
ンである。;)80℃における融成物の粘度は120 
l’ u!+ζ8あり、Mn約25,000に対応する
実施例 2 1008の4,4゛−ジヒドロキジンフェニルスルホン
を、87.sgの炭酸ジフェニル及び 4゜4′−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンのニカリウム塩0.13g
と共に混合し、次いで熔融して7エ/−ルを脱離させる
。温度250−280℃で二酸化炭素を脱離させる。融
点225℃を持つ重合体が120分後に得られる。元f
kt7析及び赤外スペクトルによれば生成物はポリエー
テル−スルホンである。380℃における融成物の粘度
は80Pasである。
実施例 3 1モルの4,4゛−ジヒドロキジノフェニルスルホン及
び2モルの塩化蟻酸フェニルから既知の方法で製造され
た49gのビス−(オキシフェニル)−スルホン−ノー
(フェニル)−/KMエステルを()。
03gのビスフェノール Aのニカリウム塩と混合し、
混合物を熔融する。炭酸ジフェニルの脱離は約170℃
で始まる。炭酸ジフェニルの脱離が止んだときに、温度
をゆっくりと300 ’Cに上げる。真空は0.2ミリ
バールから4ミリバールに低下する6 CO7の脱離が終わるまで加熱を継続する。この方法に
より、元素分析に従えばポリスルホンである重合体が得
られる。赤外スペクトルには既にカルボニル吸収帯は存
在しない、収率は理論量の95%である。得られた重合
体は約180 ’Cの温度にメツして艮ル1間の耐熱性
をイノする成型品に加工することができる。380℃に
おける融成物の粘度は100Pasである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 但し nは5ないし200の整数であり、 R_1、R_2、R_3及びR_4は同一又は異なって
    をり、水素、C_1−C_6−アルキル、フェニルまた
    はハロゲンである、 のポリエーテル−スルホンの製造において、下記一般式
    のポリカーボネート ▲数式、化学式、表等があります▼ R_1ないしR_4は上記と同じ意味を有し、rは5な
    いし200の整数であり、 E−O−はモノフェノラート残基である、 を、該ポリカーボネートの重量に対し0.00001な
    いし5重量%の量の塩基性又中性触媒の存在下で、25
    0℃ないし450℃の温度において、0.01バールな
    いし1バールの圧力下で、10分間ないし10時間にわ
    たって加熱することを特徴とする該ポリエ−テル−スル
    ホンの製造方法。 2)該加熱が300℃ないし400℃の温度において行
    なわれることを特徴とする特許請求の範囲1に従う方法
    。 3)該加熱が10分間ないし60分間にわたって行なわ
    れることを特徴とする特許請求の範囲1に従う方法。 4)該加熱が0.1バールないし1.0バールの圧力下
    で行なわれることを特徴とする特許請求の範囲1に従う
    方法。 5)該塩基性又中性触媒が0.001ないし1重量%の
    量で使用されることを特徴とする特許請求の範囲1に従
    う方法。 6)該rの値が100ないし150の整数であることを
    特徴とする特許請求の範囲1に従う方法。 7)該Eがフェニル及び/又はクレジル基であることを
    特徴とする特許請求の範囲1に従う方法。 8)R_1及びR_4基がそれぞれ別個に水素又はメチ
    ルであることを特徴とする特許請求の範囲1に従う方法
    。 9)該塩基性又中性触媒がビスフェノール Aの二カリウム又は二ナトリウム塩、クミルフェノール
    のカリウム又はナトリウム塩又は酢酸カリウム、チタン
    酸ブチル及び三酸化アンチモンから選ばれることを特徴
    とする特許請求の範囲1に従う方法。 10)該ポリカーボネートがエステル交換反応によって
    その場で生成し、かつフェノールの脱離が完了する時に
    ポリエーテルの生成が開始することを特徴とする特許請
    求の範囲1に従う方法。 11)下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 但し Eはフェニルを示し、又 R_1ないしR_4は特許請求の範囲1に記載されたも
    のと同じ意味を有する、 のジカーボネートを塩基性エステル交換反応触媒と共に
    170℃ないし200℃に加熱し、次いで炭酸ジフェニ
    ルが除去され、式( I )のポリエーテル−スルホンを
    与える反応に先立って、式(II)のポリカーボネートが
    得られることを特徴とする特許請求の範囲1に従う方法
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JPH0694503B2 JPH0694503B2 (ja) 1994-11-24

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