JPS6254591B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6254591B2
JPS6254591B2 JP57019582A JP1958282A JPS6254591B2 JP S6254591 B2 JPS6254591 B2 JP S6254591B2 JP 57019582 A JP57019582 A JP 57019582A JP 1958282 A JP1958282 A JP 1958282A JP S6254591 B2 JPS6254591 B2 JP S6254591B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
slit forming
light
irradiation
aperture
opening
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP57019582A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS58138588A (ja
Inventor
Katsuro Mizukoshi
Mikio Ppongo
Takeoki Myauchi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP57019582A priority Critical patent/JPS58138588A/ja
Publication of JPS58138588A publication Critical patent/JPS58138588A/ja
Publication of JPS6254591B2 publication Critical patent/JPS6254591B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/064Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
    • B23K26/066Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms by using masks

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光照射加工装置、つまり例えばレーザ
光を照射して加工を行うレーザ加工装置や、スポ
ツト状に光を照射して露光を行う露光装置などの
光照射加工装置に関するものである。特に、光源
と、該光源からの照射光を開口を用いて成形する
スリツト形成装置を備え、該開口により成形され
た照射光を被加工物上に投影することにより光照
射加工を行う装置に関するものである。
従来のこの種のものとして、例えば第1図のよ
うな装置がある。これは開口を用いてレーザ光を
成形し、その成形されたレーザ光を対物レンズで
被加工物に縮小・投影して加工を行う開口投影方
式のレーザ加工装置であり、第1図はその基本的
構成を示している。
第1図のレーザ加工装置は、レーザ光2を発生
するレーザ発振器1、X−Y両方向の開口幅を独
立に設定できる矩形開口スリツト形成装置3、対
物レンズ6から構成される。加工時にはレーザ発
振器1から発生したレーザ光2は矩形開口スリツ
ト形成装置3に達し、任意の矩形に成形される。
矩形に成形されたレーザ光2は、対物レンズ6
(倍率をMとする)により集光されて被加工物5
に照射される。ここで被加工物5および矩形開口
スリツト形成装置3は、該矩形開口スリツト形成
装置3により開口の像が対物レンズ6の倍率の逆
数(1/M)の大きさに縮小されて投影される位
置関係に置かれる。
第2図は上述の矩形開口スリツト形成装置3の
詳細図である。この装置3は、4方向にスリツト
形成部3a,3b,3c,3dが配されて構成さ
れる。かつ各スリツト形成部3a,3b,3c,
3dにはそれぞれ別個にスリツト駆動装置4a,
4b,4c,4d,が配され、スリツト形成部3
a,3bはX方向に各々独立に移動でき、スリツ
ト形成部3c,3dはY方向に各々独立に移動で
きるようになつている。このように各方向スリツ
ト形成部3a,3b,3c,3dは、一定方向に
独立に移動できるため任意寸法の矩形を形成でき
る。
しかし、この従来の矩形開口スリツト形成装置
3では、矩形開口がひとつしか形成できないた
め、例えば矩形が組み合わさつた如き複雑な形状
を形成することはできない。よつてこれを用いた
加工装置では、例えば第3図aに示すような基板
10上のフオトマスクのパターン11に発生した
余剰欠陥12を修正する場合、まず第3図aに示
すように欠陥12の一側部を処理する開口投影像
13aを照射し、次いで同図bに示すようにその
余の部分を開口投影像13bで照射し、このよう
にして数回に分けてレーザ照射を行わなければな
らない。このため、それぞれの照射時に矩形開口
スリツト形成装置3による開口投影像13a,1
3bの大きさの設定や位置出しを1回毎に行なわ
なければならなかつた。従つて時間が余計にかか
り、かつ何度も調整をしなければならず、しかも
各回の調整がすべて高精度とは限らないので、結
局全体として加工精度も劣るなどの欠点がある。
つまり従来装置では、これを用いてフオトマスク
の欠陥修正や磁気ヘツドの加工等を行う場合も、
数回に分けて加工を行わざるを得ないのである。
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点をな
くし、複雑な形状の開口をも容易に精度よく形成
でき、従つて複雑な形状の光照射をも可能とし、
これにより加工精度も良好な、有利な光照射加工
装置を提供するにある。
本発明は、開口を形成すべきX−Y平面上にお
けるX−Y各方向のスリツト形成部の内、X方向
またはY方向いずれか、あるいは双方を複数の移
動体で構成し、各移動体それぞれに駆動装置を設
け、複数の矩形開口や矩形を組み合わせた形状の
開口が得られるようにしたものである。
以下、本発明の一実施例を第4図乃至第6図を
用いて詳述する。この例は本発明をレーザ加工装
置に適用したものである。
第4図にこの実施例のスリツト形成装置を斜視
図にて示す。このスリツト形成装置3は開口を形
成すべきX−Y平面上においてX方向に動く対向
する1対のX方向スリツト形成部3A,3BとY
方向に動く対向する1対のY方向スリツト形成部
3C,3Dとから構成される。本発明においては
これら形成部3A,3B,3C,3Dのいずれか
が複数の移動体から構成されるのであるが、本例
にあつては、各形成部3A,3B,3C,3Dが
各々2枚に分かれて、2体の移動部3A1,3A
2;3B1,3B2;3C1,3C2;3D1,
3D2から成つている。各移動体それぞれに駆動
装置4A1,4A2;4B1,4B2;4C1,
4C2;4D1,4D2が設けられて、各移動体
は一定方向に対し、独立に移動できるようになつ
ている。
この結果、本構成のスリツト形成装置3は各種
の複雑な形状の開口を形成できる。例えばこれに
より得られる基本的な開口形状14を第5図a〜
dに示す。同図aは正方形乃至その他矩形を形成
するもので従来得られていた形状はこの形式で得
ることができる。同図bは鉤形をなす開口で、前
記した第3図の如き欠陥を修正するのに有効であ
る。同図cは複数の矩形開口を得る場合である。
同図dは、矩形が組み合わさつた複雑な形状を形
成したものである。このように、本例によれば、
数々の複雑な形状に対処できる。
次に第6図は本実施例を用いたレーザ加工装置
の応用例として、前述のフオトマスクの余剰欠陥
12(第3図参照)の修正を示したものである。
操作に際してはまず余剰欠陥12の形状に対応し
た開口形状14が得られるよう各スリツト形成部
3A〜3Dの移動体3A1,3A2;…3D2を
移動させ、開口の形状が終了したらレーザ照射を
行い、余剰欠陥12を除去する。これにより、所
望の箇所を一度に加工できるため、位置出し等の
時間が大幅に短縮できる。調整も容易で確実に行
え、一度の加工であるので精度も向上する。
さらに各方向のスリツト形成部3A〜3Dを3
分割して各々に3本の移動体3A1,3A2,3
A3;3B1,3B2,3B3;3C1,3C
2,3C3;3D1,3D2,3D3から構成す
ると、第5図a〜dの開口形状14に加え、第7
図a〜fに示す開口形状14が得られるため、よ
り複雑な加工形状も一度に得られる。
以上の様に本発明によれば、従来数回に分けて
加工していた形状が一度に得られるため、位置決
め等の時間が短縮され、加工精度も向上する。
なお当然のことではあるが本発明は図示例にの
み限定されるものではない。例えば本発明はレー
ザ加工装置に限らず、スポツト状に光を照射して
露光を行うスポツト露光装置にも勿論適用可能で
あり、その他適宜の光照射加工装置に適用できる
ものである。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第3図は従来技術を示すもので、第
1図は一般の開口投影方式のレーザ加工装置の概
略図であり、第2図は従来の開口スリツト形成装
置を示し、第3図a,bは各々従来の開口スリツ
ト形成装置を用いたレーザ加工装置によるフオト
マスクの余剰欠陥修正例を示すものである。第4
図は本発明の一実施例に係る開口スリツト形成装
置を示す斜視図、第5図a〜dは該例により得ら
れる開口形状を示す平面図、第6図は該例を用い
て欠陥修正する場合の平面図である。第7図は本
発明の他の実施の一例を示すもので、a〜f各図
はその開口形状を示す図である。 1……光源(レーザ発振器)、2……照射光
(レーザ光)、3……スリツト形成装置、3A,3
B,3C,3D……スリツト形成部、3A1,3
A2,3A3;3B1,3B2,3B3;3C
1,3C2,3C3;3D1,3D2,3D3…
…移動体、4A1,4A2;4B1,4B2;4
C1,4C2;4D1,4D2……駆動装置、5
……被加工物、13……開口投影像、14……開
口形状。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 光源と、該光源からの照射光を開口を用いて
    成形するスリツト形成装置とを備え該開口により
    成形された照射光を被加工物上に投影することに
    より光照射加工を行う光照射加工装置において、
    該スリツト形成装置は開口を形成すべきX−Y平
    面上においてX方向に動く対向する1対のX方向
    スリツト形成部と、Y方向に動く対向する1対の
    Y方向スリツト形成部とから構成するとともに、
    X方向スリツト形成部またはY方向スリツト形成
    部のいずれか一方あるいはその双方のスリツト形
    成部は複数の移動体から構成し、各移動体は各々
    の駆動装置を有して各々独立な移動を可能とし、
    このような移動体の移動により任意形状の開口を
    形成し得る構成としたことを特徴とする光照射加
    工装置。 2 照射光がレーザ光であり、レーザ加工を行う
    ものである特許請求の範囲第1項に記載の光照射
    加工装置。 3 照射光がスポツト光であり、スポツト露光を
    行うものである特許請求の範囲第1項に記載の光
    照射加工装置。
JP57019582A 1982-02-12 1982-02-12 光照射加工装置 Granted JPS58138588A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57019582A JPS58138588A (ja) 1982-02-12 1982-02-12 光照射加工装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57019582A JPS58138588A (ja) 1982-02-12 1982-02-12 光照射加工装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58138588A JPS58138588A (ja) 1983-08-17
JPS6254591B2 true JPS6254591B2 (ja) 1987-11-16

Family

ID=12003250

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57019582A Granted JPS58138588A (ja) 1982-02-12 1982-02-12 光照射加工装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS58138588A (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0656770A1 (en) * 1992-08-03 1995-06-14 Sunrise Technologies, Inc. Method and apparatus for exposing a human eye to a controlled pattern of radiation spots
KR100689315B1 (ko) * 2004-08-10 2007-03-08 엘지.필립스 엘시디 주식회사 실리콘 박막 결정화 장치 및 이를 이용한 결정화 방법
JP4663354B2 (ja) * 2005-03-03 2011-04-06 株式会社ブイ・テクノロジー レーザ加工方法
JP5495875B2 (ja) * 2010-03-18 2014-05-21 オリンパス株式会社 レーザ加工方法、及び、レーザ加工装置
JP5382826B2 (ja) * 2012-07-13 2014-01-08 レーザーテック株式会社 直線駆動装置、可変シャッター装置、ビーム成形装置、ビーム照射装置、欠陥修正方法及びパターン基板の製造方法本発明は、直線駆動装置、可変シャッター装置、ビーム成形装置、及びビーム照射装置、並びにビーム成形装置を用いた欠陥修正方法及びパターン基板の製造方法に関する。

Also Published As

Publication number Publication date
JPS58138588A (ja) 1983-08-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH10321502A (ja) 荷電粒子線投影方法
JPH11204422A (ja) 荷電粒子線転写方法
JP2000124118A (ja) 荷電ビーム露光方法及びそれ用のマスク
JPS6254591B2 (ja)
JPH0732111B2 (ja) 荷電ビ−ム投影露光装置
JP2000216080A (ja) マスクパタ―ン転写方法、マスクパタ―ン転写装置、デバイス製造方法及び転写マスク
JP2016001708A (ja) リソグラフィ装置、及び物品の製造方法
JP2008244361A (ja) プリント基板のレーザ加工方法
JPS6051261B2 (ja) 荷電粒子ビ−ム描画装置
JP2000340492A (ja) 電子線露光用マスクとそれを用いた半導体装置製造方法
KR20110089083A (ko) 하전 입자 빔 묘화 장치 및 하전 입자 빔 묘화 방법
US5989753A (en) Method, apparatus, and mask for pattern projection using a beam of charged particles
KR20150142607A (ko) 리소그래피 장치 및 제품을 제조하는 방법
JPS63155145A (ja) マスクの白点欠陥修正方法
JP2000031052A (ja) リトグラフ投影装置
JP2012030238A (ja) レーザ加工方法及びレーザ加工装置
JPH0757988A (ja) 線画パターン描画方法
JPH0443408B2 (ja)
TW201729232A (zh) 評估方法、補正方法、程式以及電子射線描繪裝置
JP2016161825A (ja) 露光装置、基板、および露光方法
JPH1020481A (ja) 荷電ビーム露光用マスクセットおよび荷電ビーム露光方法
JP2005302868A (ja) 電子ビーム描画方法および装置
JP3607989B2 (ja) 荷電粒子線転写装置
JPS6091636A (ja) 電子ビ−ム描画装置
JPS62226624A (ja) 電子線描画装置