JPS6254146A - 双ビ−ム型レ−ザ−検査装置 - Google Patents
双ビ−ム型レ−ザ−検査装置Info
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- JPS6254146A JPS6254146A JP61101894A JP10189486A JPS6254146A JP S6254146 A JPS6254146 A JP S6254146A JP 61101894 A JP61101894 A JP 61101894A JP 10189486 A JP10189486 A JP 10189486A JP S6254146 A JPS6254146 A JP S6254146A
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- modulated
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- optical scanner
- radiation
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/89—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
- G01N21/8901—Optical details; Scanning details
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
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- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
- G01N2201/10—Scanning
- G01N2201/11—Monitoring and controlling the scan
- G01N2201/112—Grating pulse time encoder
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、レーザー走査・検査装置、特に、二次元面か
ら情報を読み取るための双ビーム型し−ザー倹査装置６
に関する。
ら情報を読み取るための双ビーム型し−ザー倹査装置６
に関する。
（従来の技術）
レーザー検査装置の主要な設計目的は、限定された領域
の診断を最小の時間で児了することである。この目的を
達成するために、従来のレーザー横葦装置には単一ビー
ムスキャナが組込まれていた。走査速度？増すことによ
り、検査速度の向上が達成された。走査速度の向上によ
ってデータ入力速度が速くなり、それに応じてデータ処
理速度の向上が必要となる。高速処理を行うには設計上
の困難が伴うことが多く、検査表；在の総コスト’ｋか
なり引き上げることになる。
の診断を最小の時間で児了することである。この目的を
達成するために、従来のレーザー横葦装置には単一ビー
ムスキャナが組込まれていた。走査速度？増すことによ
り、検査速度の向上が達成された。走査速度の向上によ
ってデータ入力速度が速くなり、それに応じてデータ処
理速度の向上が必要となる。高速処理を行うには設計上
の困難が伴うことが多く、検査表；在の総コスト’ｋか
なり引き上げることになる。
（問題点を解決するための手段）
したがって、本発明の主目的は、第１と第２の角度的に
ずれた同期した走査をもって繰り返して線走査を行うス
キャナを含む双ビーム型し−ザー検査装置乞提供するこ
とである。
ずれた同期した走査をもって繰り返して線走査を行うス
キャナを含む双ビーム型し−ザー検査装置乞提供するこ
とである。
本発明の２査目の目的は、２個の走査ビームのそれぞれ
から並列に受け取ったデータを処理し、それによって、
向じ検査速度の単一ビーム型検査装置に比べて５０％も
データ処理速度を下げることができる双ビーム型検査装
置を提供することである。
から並列に受け取ったデータを処理し、それによって、
向じ検査速度の単一ビーム型検査装置に比べて５０％も
データ処理速度を下げることができる双ビーム型検査装
置を提供することである。
本発明の３番目の目的は、罫引き格子（ｒａｔｅｄｇｒ
ａｔｉｎｇ）のような周期的構造を用いた場合に双ビー
ム型レーザー検査装置に通常発生するクロック衝突の問
題を除去することである。唯一個のビームを利用してビ
ーム位置信号を発生させ、検査装置のデータ処理部を被
検査面に沿う２個の走査ビームの各々の位置と関係付け
ることが、本発明によって保証される。
ａｔｉｎｇ）のような周期的構造を用いた場合に双ビー
ム型レーザー検査装置に通常発生するクロック衝突の問
題を除去することである。唯一個のビームを利用してビ
ーム位置信号を発生させ、検査装置のデータ処理部を被
検査面に沿う２個の走査ビームの各々の位置と関係付け
ることが、本発明によって保証される。
本発明の４査目の目的は、一方の走査ビームの一部を透
過格子を横切って光増倍管へ向かわせ、光増倍管で光ビ
ームを、ビームのそれぞれの位置を表わす電気的なタイ
ミング信号パルスに変換する双ビーム型し−ザー検査装
置ヲ提供することである。
過格子を横切って光増倍管へ向かわせ、光増倍管で光ビ
ームを、ビームのそれぞれの位置を表わす電気的なタイ
ミング信号パルスに変換する双ビーム型し−ザー検査装
置ヲ提供することである。
本発明の５番目の目的は、！、ｇ１と第２の放射検出手
段を備えた区分された放射検出手段と、両放射検出手段
の間に位置し、双ビームの被検査面を（黄切る変位に応
じて発生される電磁エネルギを表わす電気的出力信号を
発生するための中央の放射検出手段とを有する双ビーム
型レーザー検査装置を提供することである。
段を備えた区分された放射検出手段と、両放射検出手段
の間に位置し、双ビームの被検査面を（黄切る変位に応
じて発生される電磁エネルギを表わす電気的出力信号を
発生するための中央の放射検出手段とを有する双ビーム
型レーザー検査装置を提供することである。
本発明の６査目の目的は、ｒ８１及び第２の放射検出手
段と中央の放射検出手段とからの電気的出力信号がビー
ム位置信号に応じて１６号処理手段によって選択的に結
合されて、第１走査ビームによって走査された領域の１
４報乞表わす第１出力信号７発生すると共に、第２走丘
ビームによって走査された領域のＩＫ報を表わす第２出
力信号を発生するようにした双ビーム型レーザー検査装
置を提供することである。
段と中央の放射検出手段とからの電気的出力信号がビー
ム位置信号に応じて１６号処理手段によって選択的に結
合されて、第１走査ビームによって走査された領域の１
４報乞表わす第１出力信号７発生すると共に、第２走丘
ビームによって走査された領域のＩＫ報を表わす第２出
力信号を発生するようにした双ビーム型レーザー検査装
置を提供することである。
本発明の７査目の目的は、１１固の面に第１及び第２の
入力光ビームを受けて、角度的に偏位した平行でない同
期した第１及び第２の走査な発生する１個の多角形境を
用いることによって、２個の走査ビームを発生させる双
ビーム型し−ザー検′催装置を提供することである。
入力光ビームを受けて、角度的に偏位した平行でない同
期した第１及び第２の走査な発生する１個の多角形境を
用いることによって、２個の走査ビームを発生させる双
ビーム型し−ザー検′催装置を提供することである。
本発明の８査目の目的は、３個の隣り合う光増倍管部を
組み込み、中央の即ち狭１れた光増倍管部が、ビーム重
なり領域内で第１のビームに、その後に第２のビームに
応じて交互に発生される放射を収集し、それによって、
両側の２閏の光増倍管部間のクロストークを完全に除去
するようにした区分された放射収集手段〉備える双ビー
ム型Ｖ−ザー検丘装置を提供することである。
組み込み、中央の即ち狭１れた光増倍管部が、ビーム重
なり領域内で第１のビームに、その後に第２のビームに
応じて交互に発生される放射を収集し、それによって、
両側の２閏の光増倍管部間のクロストークを完全に除去
するようにした区分された放射収集手段〉備える双ビー
ム型Ｖ−ザー検丘装置を提供することである。
要するに、本発明の一実施例によれば、双ビーム型レー
ザー検査装置は、入力ビームを発生するための光源と、
該入力ビームを受け、第１と第２の平行でない面内の第
１ビーム及び第２ビームを発生するための手段とを含む
。この第１と第２のビームヶ多角形疋査鏡が一つの面で
受け、第１と第２の角度的に偏位した不一致の同期した
走査を発生する。走食鋭と被走査面との間の光路に指間
手段が配置されて、第１及び第２の同期した走査をタイ
ミング而へ指向させ１．刑３と第４の不一致の同期した
走査を発生する。ビーム位置信号発生手段が、タイミン
グ面内の第２被走貸面に沿って第３及び第４の同期した
足盆が移動するのに応じて等間隔の連続パルスを作る。
ザー検査装置は、入力ビームを発生するための光源と、
該入力ビームを受け、第１と第２の平行でない面内の第
１ビーム及び第２ビームを発生するための手段とを含む
。この第１と第２のビームヶ多角形疋査鏡が一つの面で
受け、第１と第２の角度的に偏位した不一致の同期した
走査を発生する。走食鋭と被走査面との間の光路に指間
手段が配置されて、第１及び第２の同期した走査をタイ
ミング而へ指向させ１．刑３と第４の不一致の同期した
走査を発生する。ビーム位置信号発生手段が、タイミン
グ面内の第２被走貸面に沿って第３及び第４の同期した
足盆が移動するのに応じて等間隔の連続パルスを作る。
ビーム位置信号は、被走査面に沿つ第１及び第２の同期
された走査の位置な表わす。
された走査の位置な表わす。
更らに、このレーザー、険丘装置は、走査用双ビームに
応じて出射された第１及び第２の被変調ビームの形での
放射を処理する二とにより、被走査面から清報ン読み取
る装置面χ含む。レーザー検査装置の情報読み取り部は
、第１及び第２の被変調走査を受信する区分された放射
成果手段′？：備えている。中央の放射検出手段は、弔
２の被変調走査の開始と第１の被変調走査の終了とによ
って画定されるビーム軍なり領域内の第１及び第２の被
変調走査によって交互に放射された放射を収集するよう
に位置し、第１と第２の境界を有している。
応じて出射された第１及び第２の被変調ビームの形での
放射を処理する二とにより、被走査面から清報ン読み取
る装置面χ含む。レーザー検査装置の情報読み取り部は
、第１及び第２の被変調走査を受信する区分された放射
成果手段′？：備えている。中央の放射検出手段は、弔
２の被変調走査の開始と第１の被変調走査の終了とによ
って画定されるビーム軍なり領域内の第１及び第２の被
変調走査によって交互に放射された放射を収集するよう
に位置し、第１と第２の境界を有している。
中央の放射検出手段はビーム重なり領域内の第１及び第
２の被変調走査を表わす電気的出力信号を発生する。区
分された放射検出手段は更らに、第１及び第２の放射検
出手段を含む。第１の放射検出手段は、第１被変調走査
によって走査の開始時から出射される放射を収集するよ
う位置する第３の境界と、中央の放射検出手段の第１の
境界に隣接して位置する第４の境界とを言む。第１の放
射検出手段は第３と第４との境界の間を移動するときの
第１被変調走丘乞表わす電気的出力信号を発生する。第
２の放射検出手段は、中央の放射検出手段の第２の境界
に隣接して位置する第５の境界と、第２被変Ａ走食によ
って走査の終了時に出射される放射を収集するよう位置
する５１＜６の境界とを含む。第２の放射検出手段は第
５と第６との境界の間を移動するときの第２被変調走査
ン表わす′電気的出力信号を発生する。信号処理手段は
第１及び第２の放射検出手段から、及び中央の放射検出
手段からぼ気的出力信号乞受け取って、ビーム位置信号
に応じてこれら出力倍号Ｙ？ｔｊ合し、第１及び第２の
被変調出力信号を発生する。第１被変調出力信号は第１
走食によって走置された領域内に存在する・情報を表わ
す。−万、第２被変調出力信号は第２足置によって走査
された領域内に存在する情報を表わす。
２の被変調走査を表わす電気的出力信号を発生する。区
分された放射検出手段は更らに、第１及び第２の放射検
出手段を含む。第１の放射検出手段は、第１被変調走査
によって走査の開始時から出射される放射を収集するよ
う位置する第３の境界と、中央の放射検出手段の第１の
境界に隣接して位置する第４の境界とを言む。第１の放
射検出手段は第３と第４との境界の間を移動するときの
第１被変調走丘乞表わす電気的出力信号を発生する。第
２の放射検出手段は、中央の放射検出手段の第２の境界
に隣接して位置する第５の境界と、第２被変Ａ走食によ
って走査の終了時に出射される放射を収集するよう位置
する５１＜６の境界とを含む。第２の放射検出手段は第
５と第６との境界の間を移動するときの第２被変調走査
ン表わす′電気的出力信号を発生する。信号処理手段は
第１及び第２の放射検出手段から、及び中央の放射検出
手段からぼ気的出力信号乞受け取って、ビーム位置信号
に応じてこれら出力倍号Ｙ？ｔｊ合し、第１及び第２の
被変調出力信号を発生する。第１被変調出力信号は第１
走食によって走置された領域内に存在する・情報を表わ
す。−万、第２被変調出力信号は第２足置によって走査
された領域内に存在する情報を表わす。
（実施例）
発明の利益及び技術への貢献を説明するために、本発明
のハードウェアの実施例χ詳細に説明する。
のハードウェアの実施例χ詳細に説明する。
第１図及び第２図において、レーザー１０の形式の光源
から発生される人力ビーム１２は第１の円筒形レンズ１
４及びテレスコピック・ビーム拡大詣１６乞通過する。
から発生される人力ビーム１２は第１の円筒形レンズ１
４及びテレスコピック・ビーム拡大詣１６乞通過する。
第１図及び第２図に最も良く示されているように、拡大
されたビーム１８は中継悦２０に入射してから別の中、
ｍＷ２２で反射すしてビームスプリッタ２４に入る。
されたビーム１８は中継悦２０に入射してから別の中、
ｍＷ２２で反射すしてビームスプリッタ２４に入る。
ビームスプリッタ２４で反射された第１のビームは中１
賭貌３２ 、３４で摺入いで反・付されてから鏡面２８
（第３図に詳細に図示されている）に入る。この第１（
７７ピームをビーム「Ａ」と呼ぶことにする。ビーム「
Ｂ」と叶ばれる第２のビームはビームスプリツタ２４馨
通過してから中蝮挑２６で反射されて多角形走査鏡３０
の鏡面２８に入る。
賭貌３２ 、３４で摺入いで反・付されてから鏡面２８
（第３図に詳細に図示されている）に入る。この第１（
７７ピームをビーム「Ａ」と呼ぶことにする。ビーム「
Ｂ」と叶ばれる第２のビームはビームスプリツタ２４馨
通過してから中蝮挑２６で反射されて多角形走査鏡３０
の鏡面２８に入る。
ビームスプリッタ２４及び一連のｉ２６，３２゜３４は
、ビームＡとビームＢとの間に相対的角度偏位（第１図
及び第６図に図示されている）を与えるよう、また、垂
直面に対して直角？なさないようにビームＡ、Ｂを鏡面
２８に入射させることによって、軸に対する鏡面の誤差
に類似した公知の人為的に尋人でれる誤Ｍ’Ｙ作り出す
よう、配列される。この誤差は人為的に導入されて、ビ
ームスプリッタ３８におけるビームＡとビームＢとの間
の相対的１屍立を作り出す（これについては後で詳述す
る）。中継鏡２６，３２．３４もまた、ビームＡとビー
ムＢとが鏡面２８上で一致するように配列される（第６
図）。鏡面２８上でビームが一致するよう配列すること
によって、第１６ Ａ図に示されるように直線的に整列
された走査出力ビームＡ、Ｂが作り出される。こりした
特尾の配列は、本発明の最悪な実施例において利用され
るが、本発明の実施に必要とされるものではない。
、ビームＡとビームＢとの間に相対的角度偏位（第１図
及び第６図に図示されている）を与えるよう、また、垂
直面に対して直角？なさないようにビームＡ、Ｂを鏡面
２８に入射させることによって、軸に対する鏡面の誤差
に類似した公知の人為的に尋人でれる誤Ｍ’Ｙ作り出す
よう、配列される。この誤差は人為的に導入されて、ビ
ームスプリッタ３８におけるビームＡとビームＢとの間
の相対的１屍立を作り出す（これについては後で詳述す
る）。中継鏡２６，３２．３４もまた、ビームＡとビー
ムＢとが鏡面２８上で一致するように配列される（第６
図）。鏡面２８上でビームが一致するよう配列すること
によって、第１６ Ａ図に示されるように直線的に整列
された走査出力ビームＡ、Ｂが作り出される。こりした
特尾の配列は、本発明の最悪な実施例において利用され
るが、本発明の実施に必要とされるものではない。
第１．３．６図において、角度的に偏位した入力ビーム
Ａ及びＢ７鏡面２８に入射させると共に、多角形走査鏡
３０を一定の角速度で回転させることによって、角Ｉｆ
Ｊ−的に偏位し同期して・ｌ工いるが一致しない第１及
び第２の走査（走査Ａ及び走査Ｂとして示されている）
が発生される。
Ａ及びＢ７鏡面２８に入射させると共に、多角形走査鏡
３０を一定の角速度で回転させることによって、角Ｉｆ
Ｊ−的に偏位し同期して・ｌ工いるが一致しない第１及
び第２の走査（走査Ａ及び走査Ｂとして示されている）
が発生される。
第１．２．１４図に示されているように、角度的に場位
し同期してはいるが平行でない走査Ａ及びＢは、定面レ
ンズ３６及びビームスプリッタ３８の型の再指１ｏｌ＋
段ン辿る。ビームスプリッタ３８は本発明の実施例にお
いては、入射ビームＡ。
し同期してはいるが平行でない走査Ａ及びＢは、定面レ
ンズ３６及びビームスプリッタ３８の型の再指１ｏｌ＋
段ン辿る。ビームスプリッタ３８は本発明の実施例にお
いては、入射ビームＡ。
Ｂの４％前後を反射して指向されたビームＣ，Ｄを作る
透明ガラス板である。ビームＡ、Ｂはビームスプリッタ
３８を通過してから、第２の円筒形レンズ４０によって
集束されて走を祿４２（第８図に最もよく示されている
）になる。レンズ４０は、鏡面対軸・誤差乞補正する補
正手段の後半？形成し、ビームスプリッタ２８において
走査ビームＡ、Ｂ間のオフセットを作るよう鏡２６，３
２゜３８によって故意に導入された鏡面対軸・等価誤差
ケ完全に除去する。
透明ガラス板である。ビームＡ、Ｂはビームスプリッタ
３８を通過してから、第２の円筒形レンズ４０によって
集束されて走を祿４２（第８図に最もよく示されている
）になる。レンズ４０は、鏡面対軸・誤差乞補正する補
正手段の後半？形成し、ビームスプリッタ２８において
走査ビームＡ、Ｂ間のオフセットを作るよう鏡２６，３
２゜３８によって故意に導入された鏡面対軸・等価誤差
ケ完全に除去する。
第１及び第２の円筒形レンズ１４．４０は、多角形走査
鏡３０の各鏡面２８の鏡面対軸・誤差？実質的に除去す
るための鏡面対軸・誤差補正手段の第１及び第２の要素
として共に動作する。さらに、鏡面対軸・誤差補正手段
乞特別に構成することによって、ビームスプリッタ３８
の通過時にビームＡ及びＢの中ノし光線が分離されなが
らもこれらビームＡ 、 Ｂ７ｊ走ｆ＋ｄ＋２に収束さ
せる重要な機能乞奏する。ビームスプリッタ３８におい
てビームＡとビームＢとχ物理的に分離することの必要
性Ｙ以下で説明する。
鏡３０の各鏡面２８の鏡面対軸・誤差？実質的に除去す
るための鏡面対軸・誤差補正手段の第１及び第２の要素
として共に動作する。さらに、鏡面対軸・誤差補正手段
乞特別に構成することによって、ビームスプリッタ３８
の通過時にビームＡ及びＢの中ノし光線が分離されなが
らもこれらビームＡ 、 Ｂ７ｊ走ｆ＋ｄ＋２に収束さ
せる重要な機能乞奏する。ビームスプリッタ３８におい
てビームＡとビームＢとχ物理的に分離することの必要
性Ｙ以下で説明する。
第１．２，１８．９図により、本発明のビーム位置発生
手段？詳述する。ビームＣ，ＤはビームＡ、Ｂに対して
＋に＋指間されたけれども、ビームＣ１ＤはビームＡ、
Ｂと同じ角度的に偏位し同期してはいるが一致しない関
係を維持している。第８図に最もよく示されているよう
に、ビームＣは罫引き透過格子４４に入り、ビームＤは
格子４４に入らないようビームＣから光分な距離だけ偏
位している。ビームＡ、Ｂの場付と同様に、ビームＤは
常時ビームＣから角度的に偏位していることン認識すべ
きである。
手段？詳述する。ビームＣ，ＤはビームＡ、Ｂに対して
＋に＋指間されたけれども、ビームＣ１ＤはビームＡ、
Ｂと同じ角度的に偏位し同期してはいるが一致しない関
係を維持している。第８図に最もよく示されているよう
に、ビームＣは罫引き透過格子４４に入り、ビームＤは
格子４４に入らないようビームＣから光分な距離だけ偏
位している。ビームＡ、Ｂの場付と同様に、ビームＤは
常時ビームＣから角度的に偏位していることン認識すべ
きである。
本発明の実施例においては、罫引き格子４４はそれぞれ
が０．０２５Ｃｒｎ（０，００１インチ）の巾の不透明
（反射）ストリップ４６と透明ストリップ４８とを父互
に韮べたものである。典型的にはストリップ４６及び４
８は格子４４の前面に設けられるが、第８図では記号と
して１味５０によって表われている。ビームＣは一本の
不透明ストリップ４６とそれに隣接する透明ストリップ
４８と７横断するときに公休で０．０５国（０，００２
インチ）の距ｍ乞動き、格子４４の鏝面から単一の光学
パルス５２乞発生する。第８図に示されるように、格子
４４は走査ビームＡ、Ｂのいずれ乞も妨げないように配
列される。
が０．０２５Ｃｒｎ（０，００１インチ）の巾の不透明
（反射）ストリップ４６と透明ストリップ４８とを父互
に韮べたものである。典型的にはストリップ４６及び４
８は格子４４の前面に設けられるが、第８図では記号と
して１味５０によって表われている。ビームＣは一本の
不透明ストリップ４６とそれに隣接する透明ストリップ
４８と７横断するときに公休で０．０５国（０，００２
インチ）の距ｍ乞動き、格子４４の鏝面から単一の光学
パルス５２乞発生する。第８図に示されるように、格子
４４は走査ビームＡ、Ｂのいずれ乞も妨げないように配
列される。
本発明の実施例においては、格子４４の罫引き部の長さ
は５．４４ｚ （２，１７６イ／テ）である。
は５．４４ｚ （２，１７６イ／テ）である。
この全体の長さの中で、０．３ｃｍ（０，１２インチ）
が（３２）ビツトに相当し、クロックタイミング発生器
乞安定化するのに必要とされる。格子４４の罫引き部の
次の５．１ｃｍ（２，０４８インチ）の長さはシステム
タイミングの目的で使用され、４０９６ビツトのビーム
位置信号を発生する。走査位置の開始時で、線走査方向
のビームＤは格子４４上で内向きに５．１１Ｍ（２，０
４８インチ）偏位している、ビームスプリッタ３８でビ
ームＡとビームＢとの中心光束が分離されるので、ビー
ムＤが格子４４の罫引き部のどこも交わらないようにビ
ームスプリッタ３８は走査ビームＤＹ格子４４より上の
万へ向けるようになされている。これにより、ビームＣ
によって発生されるビーム位置信号との干渉が回避され
る。
が（３２）ビツトに相当し、クロックタイミング発生器
乞安定化するのに必要とされる。格子４４の罫引き部の
次の５．１ｃｍ（２，０４８インチ）の長さはシステム
タイミングの目的で使用され、４０９６ビツトのビーム
位置信号を発生する。走査位置の開始時で、線走査方向
のビームＤは格子４４上で内向きに５．１１Ｍ（２，０
４８インチ）偏位している、ビームスプリッタ３８でビ
ームＡとビームＢとの中心光束が分離されるので、ビー
ムＤが格子４４の罫引き部のどこも交わらないようにビ
ームスプリッタ３８は走査ビームＤＹ格子４４より上の
万へ向けるようになされている。これにより、ビームＣ
によって発生されるビーム位置信号との干渉が回避され
る。
第１図及び第２図において、透明なガラス棒５４が格子
４４の罫引き部の直ぐ後方に配置されていて、ビームＣ
が格子４４の線５０Ｙ横切るときに発生される光学パル
スを受け取る。棒５４の背面５６には白紙又は塗料が設
けられているので、入力光学パルスを拡散的に反射し、
棒５４の内部全体に光乞当てる。内部反射によって、こ
の反射光は棒５４の開放された円筒端に結合された光増
倍管５８に入る。光増倍管５Ｂの電気出力信号はビーム
位置信号を表わし、格子４４の罫引き面上を走査線に沿
ってビームＣが移動するのに応じて発生される等間隔な
連、続タイミングパルスから成る。
４４の罫引き部の直ぐ後方に配置されていて、ビームＣ
が格子４４の線５０Ｙ横切るときに発生される光学パル
スを受け取る。棒５４の背面５６には白紙又は塗料が設
けられているので、入力光学パルスを拡散的に反射し、
棒５４の内部全体に光乞当てる。内部反射によって、こ
の反射光は棒５４の開放された円筒端に結合された光増
倍管５８に入る。光増倍管５Ｂの電気出力信号はビーム
位置信号を表わし、格子４４の罫引き面上を走査線に沿
ってビームＣが移動するのに応じて発生される等間隔な
連、続タイミングパルスから成る。
ビームＣは；ｆ：’ｆビームＡの再指間されたものであ
るにすぎず、ビームＡとビームＢとの間の同期関係の結
果を表わすから、光増匿管５８かも発生されるビーム位
置信号は、ビームＡによって走査される走査線４２の一
部及びビームＢによって走査される走査線４２の一部に
沿う走査ビームＡ。
るにすぎず、ビームＡとビームＢとの間の同期関係の結
果を表わすから、光増匿管５８かも発生されるビーム位
置信号は、ビームＡによって走査される走査線４２の一
部及びビームＢによって走査される走査線４２の一部に
沿う走査ビームＡ。
Ｂの位置を表わすことになる。
本発明を実現する際にＮ要なのは、中継鏡２６゜３２．
３６又はそれと等画な光学系子が鏡面対軸比に関係した
元号な誤差？導入して、再指間されたビームＣとＤとの
間に堰切な間隔馨匝き、ビームＤが格子４４の罫引き部
に入射しないようにすることである。これが達成されな
いと、ビームＣ及びＤからの競合する光学パルスが俸５
４へ向かうことになり、光増倍管５８から吠用不能な出
力信号が発生してしまう。
３６又はそれと等画な光学系子が鏡面対軸比に関係した
元号な誤差？導入して、再指間されたビームＣとＤとの
間に堰切な間隔馨匝き、ビームＤが格子４４の罫引き部
に入射しないようにすることである。これが達成されな
いと、ビームＣ及びＤからの競合する光学パルスが俸５
４へ向かうことになり、光増倍管５８から吠用不能な出
力信号が発生してしまう。
データ獲得タイミング乞開始する走査パルスの始まりは
格子４４からの（３２）個のパルスから導き出される。
格子４４からの（３２）個のパルスから導き出される。
第１１図は、情報を含む二次元面ビレーザー走査装置が
走査する順序乞表わしている。特に、本発明のレーザー
横歪装置は、複雑な銅のパターンを非導電性のファイバ
グラス基板上に設けた印刷回路板の検査に用いられる。
走査する順序乞表わしている。特に、本発明のレーザー
横歪装置は、複雑な銅のパターンを非導電性のファイバ
グラス基板上に設けた印刷回路板の検査に用いられる。
レーザー１０の出力波長は、印刷回路°阪（３２）の７
アイバーグラス基板に吸収され該基板が螢光放射を発生
するように選択される。
アイバーグラス基板に吸収され該基板が螢光放射を発生
するように選択される。
ｉｌ１図の土庄側に示されているように、半径方向にず
れ同期されたビームＡ、Ｂは直線上に並び、対をなす走
査を発生する。本発明の好ましい実施例においては、走
ｆＡ、Ｂの長さはそれぞれ５．１ｃｒｎ（２，０４８イ
ンチ）であり、１．２ ｃｍ （０，４８インチ）の重
複部がある。走査ビームＡ、Ｂによって形成される走査
線の全長は１０．１２Ｃｒｎ（４，０４８インチ）に正
確に等しくなるように形成されることになる。ビームＡ
、Ｈの１０．１２６ｎ（４，０４８インチ）の走査の終
端で、印刷回路板（３２）が固定されているプラテンが
、矢印６６で示されるように、所定距離だけ印刷回路板
（３２）上させ、印刷回路板（３２）０次の嘴にずれた
部分乞検査装置が走査する。印刷回路板（３２）の１０
．１２０（４，０４８インチ）巾の直線部分の走査が完
了すると、プラテンは矢印６８で示されるように印刷回
路板（３２）を漢に前進させ、印刷回路板（３２）の別
の１０．１２ｃｒｎ（４，０４８インチ）巾の部分が走
査される。以上のことが、−り返されて、印−１回路板
（３２）の全面の走査が完了する。
れ同期されたビームＡ、Ｂは直線上に並び、対をなす走
査を発生する。本発明の好ましい実施例においては、走
ｆＡ、Ｂの長さはそれぞれ５．１ｃｒｎ（２，０４８イ
ンチ）であり、１．２ ｃｍ （０，４８インチ）の重
複部がある。走査ビームＡ、Ｂによって形成される走査
線の全長は１０．１２Ｃｒｎ（４，０４８インチ）に正
確に等しくなるように形成されることになる。ビームＡ
、Ｈの１０．１２６ｎ（４，０４８インチ）の走査の終
端で、印刷回路板（３２）が固定されているプラテンが
、矢印６６で示されるように、所定距離だけ印刷回路板
（３２）上させ、印刷回路板（３２）０次の嘴にずれた
部分乞検査装置が走査する。印刷回路板（３２）の１０
．１２０（４，０４８インチ）巾の直線部分の走査が完
了すると、プラテンは矢印６８で示されるように印刷回
路板（３２）を漢に前進させ、印刷回路板（３２）の別
の１０．１２ｃｒｎ（４，０４８インチ）巾の部分が走
査される。以上のことが、−り返されて、印−１回路板
（３２）の全面の走査が完了する。
ここで、印刷回路板（３２）の表面から情報７読み取る
ために本発明のレーザー検査装置に組み込まれた装置に
ついて詳述する。
ために本発明のレーザー検査装置に組み込まれた装置に
ついて詳述する。
半径方向に偏位したビームＡ、Ｂによって印刷回路板（
３２）上の疋歪諌４２を照射すると、番号７０で示され
るように印刷回路板面から半球状の碩域内に螢光放」討
が発生する。゛円筒形ガラス棒７２は螢光放射７０を収
集し、収集された放射乞光ファイバ束装置７４に集束さ
せる。装置７４の光学的入力窓は第１部分７６と第２部
分７８と被サンドイッチ部８０とに分けられている。装
置７４の第１〜第３の部分７６．７８．８０で受信した
光を別の光ファイバ束が別の光増倍管に結合する。この
光増倍管は第２図に示されており、ｒ ＰＭＴ Ｊで示
す。なお、光増倍管は７Ａ〜７Ｈ図にも示されており、
そこでは参照符号１．Ｓ、２を付された円が光増倍管を
表わしている。ＰＭＴ−１は第１部分７６から、ＰＭＴ
−２は第２部分７８から、ＰＭＴ −３は中央部分８
０から、それぞれ光学的入力信号を受け取る。第２図で
は説明を容易にするために、別の光増倍管群が光フアイ
バ束装置７４と結合するとして描かれているが、本発明
の好ましい実施例では、両方の装置７４からの別々の出
力が３個の光増倍管より成るただ一つの組に供給される
ように結合される。簡単のために第２図ではガラス棒７
２が省略されている。
３２）上の疋歪諌４２を照射すると、番号７０で示され
るように印刷回路板面から半球状の碩域内に螢光放」討
が発生する。゛円筒形ガラス棒７２は螢光放射７０を収
集し、収集された放射乞光ファイバ束装置７４に集束さ
せる。装置７４の光学的入力窓は第１部分７６と第２部
分７８と被サンドイッチ部８０とに分けられている。装
置７４の第１〜第３の部分７６．７８．８０で受信した
光を別の光ファイバ束が別の光増倍管に結合する。この
光増倍管は第２図に示されており、ｒ ＰＭＴ Ｊで示
す。なお、光増倍管は７Ａ〜７Ｈ図にも示されており、
そこでは参照符号１．Ｓ、２を付された円が光増倍管を
表わしている。ＰＭＴ−１は第１部分７６から、ＰＭＴ
−２は第２部分７８から、ＰＭＴ −３は中央部分８
０から、それぞれ光学的入力信号を受け取る。第２図で
は説明を容易にするために、別の光増倍管群が光フアイ
バ束装置７４と結合するとして描かれているが、本発明
の好ましい実施例では、両方の装置７４からの別々の出
力が３個の光増倍管より成るただ一つの組に供給される
ように結合される。簡単のために第２図ではガラス棒７
２が省略されている。
本発明の実施例において、ＰＭＴ −１及びＰＭＴ−２
の窓の巾は５０（２インチ）に等しく、ＰＭＴ−８の窓
の巾は２．５ｃｒｎ（１インチ）に等しい。窓の大きさ
を他の種々の値に選択する方法は当業者にとって自明で
あろう。
の窓の巾は５０（２インチ）に等しく、ＰＭＴ−８の窓
の巾は２．５ｃｒｎ（１インチ）に等しい。窓の大きさ
を他の種々の値に選択する方法は当業者にとって自明で
あろう。
以下の説明において、「第１の放射検出手段」とは光フ
アイバ束装置７４の第１部分７６、光増倍管ｌ及び相互
接続する光ファイバ束を意味する。
アイバ束装置７４の第１部分７６、光増倍管ｌ及び相互
接続する光ファイバ束を意味する。
「第２の放射検出手段」とは装置７４の第２部分７８、
光増倍管２及び相互接続する光ファイバ束を意味する。
光増倍管２及び相互接続する光ファイバ束を意味する。
「中央の放射検出手段」とは光フアイバ束装置７４の中
央部分８０、光増＠管Ｓ及び相互接続する光ファイバ束
を意味する。
央部分８０、光増＠管Ｓ及び相互接続する光ファイバ束
を意味する。
第７Ａ〜７Ｈ図により、本発明のレーザー検査装置の情
報読み取り部又は情報処理部を詳述する。
報読み取り部又は情報処理部を詳述する。
第７図において、１，２．Ｓで指示された円はそれぞれ
第１光増倍管、第２光増倍管、中央の光増倍管を表わし
ている。光フアイバ束装置７４の窓８２と光増倍管との
間に延びる複数本の線は窓８２とそれぞれの光増倍管と
を相互接続する光ファイバ束を表わす。参照数字８４．
８６で表わされたパイ型の光線群は光フアイバ束装置の
受光角度内にある印刷回路板（３２）のファイバグラス
基板から発生された螢光放射の円錐部を二次的に表わし
たものである。第１２図に参照数字７０で表わされた螢
光放射の半球部の残りの部分は第７図には描かれていな
い。この残りの部分は光ファイバ束の受光角度外にあり
、本発明の動作に対してごく限定された作用しか待たな
いからである。
第１光増倍管、第２光増倍管、中央の光増倍管を表わし
ている。光フアイバ束装置７４の窓８２と光増倍管との
間に延びる複数本の線は窓８２とそれぞれの光増倍管と
を相互接続する光ファイバ束を表わす。参照数字８４．
８６で表わされたパイ型の光線群は光フアイバ束装置の
受光角度内にある印刷回路板（３２）のファイバグラス
基板から発生された螢光放射の円錐部を二次的に表わし
たものである。第１２図に参照数字７０で表わされた螢
光放射の半球部の残りの部分は第７図には描かれていな
い。この残りの部分は光ファイバ束の受光角度外にあり
、本発明の動作に対してごく限定された作用しか待たな
いからである。
第７図の各部分の走査線４２の直ぐ下側にある図は第１
．第２及び中央の光増倍管からの′電気的出力信号の相
対振巾を表わしている。各図の第１の部分即ち左側の部
分は第１光増倍管からの′電気的出力信号の相対的な大
きさを表わす。右側の図は第２光増倍管からの′電気的
出力信号を表わす。
．第２及び中央の光増倍管からの′電気的出力信号の相
対振巾を表わしている。各図の第１の部分即ち左側の部
分は第１光増倍管からの′電気的出力信号の相対的な大
きさを表わす。右側の図は第２光増倍管からの′電気的
出力信号を表わす。
中間の図は中央の光増倍管からの″電気的出力信号の相
対的振巾を表わしている。各図の各部分に含まれる矢印
付きの垂直な線は、各電気的出力信号の発生源が走査Ａ
と走査Ｂのどちらによって作られた低電気的放射かを指
示するように表わされる。
対的振巾を表わしている。各図の各部分に含まれる矢印
付きの垂直な線は、各電気的出力信号の発生源が走査Ａ
と走査Ｂのどちらによって作られた低電気的放射かを指
示するように表わされる。
このように指示された振巾の塚は、参照数字８４゜８６
によって表わされ図の直ぐ上側に描かれている螢光放射
に直接対応する。簡単にするために、第１及び第２の被
変調走査という語が、走査ビームＡ、Ｂによって印刷回
路板面を照射した結果として生じる螢光放射を指すため
に用いられる。
によって表わされ図の直ぐ上側に描かれている螢光放射
に直接対応する。簡単にするために、第１及び第２の被
変調走査という語が、走査ビームＡ、Ｂによって印刷回
路板面を照射した結果として生じる螢光放射を指すため
に用いられる。
第７Ａ図は、多角形走食鏡３０への入カピームＡ、Ｂが
一つの鏡面から隣りの鏡面へと積切りつつあるときの第
１及び第２の被変調走査８４゜８６を発生する走ｆＡ
Ｉ Ｂを示している。この体止胡曲中、走ｆ＋顛４２上
では安定化された信号が利用できず、光増倍管は動作不
能化される。第７Ａ図に示されているように、ビームＡ
に応じて発生された円錐形の放射はＰＭＴ −１の受光
角度の外にあり、下側の図で確認されるようにゼロレベ
ルの出力信号を発生する。同時に、ビームＢによって発
生される円錐形の放射８６はＰＭＴ −１の境界内に完
全に入るので、最大の、即ち単位レベルの出力信号が発
生される。
一つの鏡面から隣りの鏡面へと積切りつつあるときの第
１及び第２の被変調走査８４゜８６を発生する走ｆＡ
Ｉ Ｂを示している。この体止胡曲中、走ｆ＋顛４２上
では安定化された信号が利用できず、光増倍管は動作不
能化される。第７Ａ図に示されているように、ビームＡ
に応じて発生された円錐形の放射はＰＭＴ −１の受光
角度の外にあり、下側の図で確認されるようにゼロレベ
ルの出力信号を発生する。同時に、ビームＢによって発
生される円錐形の放射８６はＰＭＴ −１の境界内に完
全に入るので、最大の、即ち単位レベルの出力信号が発
生される。
第７Ｂ図は、ビームＡ、Ｂの右側への偏位を示しており
、第１被変調走査８４からの放射の５０としてＰＭＴ
−１によって検出される場合である。
、第１被変調走査８４からの放射の５０としてＰＭＴ
−１によって検出される場合である。
ビームＢはＰＭＴ−１とＰＭＴ−８とを均等に照射する
第２の被変調走査８６を発生する。下の図において、参
照数字８８で示された強度減少部分は、ＰＭＴ−１にビ
ームＢによって作られた電気的出力信号の寄与分を示し
ている。−万、上向きの傾斜部９０はビームＢによって
ＰＭＴ −８に発生された電気的出力信号を示す。これ
らの２個の独立した出力信号の和は１に等しい。
第２の被変調走査８６を発生する。下の図において、参
照数字８８で示された強度減少部分は、ＰＭＴ−１にビ
ームＢによって作られた電気的出力信号の寄与分を示し
ている。−万、上向きの傾斜部９０はビームＢによって
ＰＭＴ −８に発生された電気的出力信号を示す。これ
らの２個の独立した出力信号の和は１に等しい。
第７Ｃ図は、本発明のレーザー検食装置の走査の開始を
示している。既述のように、（３２）査目のクロックパ
ルスによって本発明の情報読み取り部が作動されて、Ｐ
ＭＴ−１、ＰＭＴ −２、ＰＭＴ−３からの出力信号の
処理を開始する。第７Ｃ図に示されているように、ビー
ム８４はＰＭＴ−１の境界内に完全に入り、下の図で示
されるように単位レベルの出力を発生する。同時に、ビ
ーム８６がＰＭＴ−９の境界内に完全に入るので、単位
レベルの出力が発生される。
示している。既述のように、（３２）査目のクロックパ
ルスによって本発明の情報読み取り部が作動されて、Ｐ
ＭＴ−１、ＰＭＴ −２、ＰＭＴ−３からの出力信号の
処理を開始する。第７Ｃ図に示されているように、ビー
ム８４はＰＭＴ−１の境界内に完全に入り、下の図で示
されるように単位レベルの出力を発生する。同時に、ビ
ーム８６がＰＭＴ−９の境界内に完全に入るので、単位
レベルの出力が発生される。
第７Ｄ図において、ビーム８４はＰＭＴ −１の右側の
境界への移動を完了したが、ビーム８６はその後縁がＰ
ＭＴ−２の左側の境界と一致する位置に移動している。
境界への移動を完了したが、ビーム８６はその後縁がＰ
ＭＴ−２の左側の境界と一致する位置に移動している。
下側の図に示されているように、この状態では、ＰＭＴ
−１及びＰＭＴ−２の双方の出力は１に等しい。
−１及びＰＭＴ−２の双方の出力は１に等しい。
ビーム８４．８６が第７Ｄ図の１位置かも第７Ｅ図の位
置へと移動するのに伴って、ビーム８４は部分的にＰＭ
Ｔ −１とＰＭＴ −８との双方を照射し、ビーム８６
はＰＭＴ −２のみを照射することになる。
置へと移動するのに伴って、ビーム８４は部分的にＰＭ
Ｔ −１とＰＭＴ −８との双方を照射し、ビーム８６
はＰＭＴ −２のみを照射することになる。
第す７図では、ビーム８４の＠縁はＰＭＴ−８の右側境
界へ到達してしまっている。ビーム８４は史らに右側へ
動くと、ＰＭＴ −ＳとＰＭＴ −２の双方を照射する
ようになる。第７Ｆ図に示された走査位置では、ビーム
８６はＰＭＴ−２のみを照射する。
界へ到達してしまっている。ビーム８４は史らに右側へ
動くと、ＰＭＴ −ＳとＰＭＴ −２の双方を照射する
ようになる。第７Ｆ図に示された走査位置では、ビーム
８６はＰＭＴ−２のみを照射する。
第７Ｇ図では、ビーム８４はＰＭＴ −’ＳとＰＭＴ−
２の双方を照射し、ビーム８６はＰＭＴ −２の右側の
境界を越え始める。
２の双方を照射し、ビーム８６はＰＭＴ −２の右側の
境界を越え始める。
第７Ｈ図に示されているように、ビーム８４はＰＭＴ
−２のみを照射し、ビーム８６はＰＭＴ ２の境界を越
えてしまっている。
−２のみを照射し、ビーム８６はＰＭＴ ２の境界を越
えてしまっている。
第７Ｃ図で示されたビーム位置は走査の開始を、第７Ｆ
図で示されたビーム位置は走査の終了をそれぞれ定義し
ている。第７Ａ、７Ｂ、７Ｇ、７Ｈ図に描かれているビ
ーム位置の期間中、３個の光増倍管の出力信号は使用さ
れない。ビーム位置が第７Ｄ図に示される状態になると
、本発明の信号処理手段は状態１から状態２へ切り換わ
り、ビーム８４がＰＭＴ −Ｅｌの受光領域内へ移動す
るときに発生するクロストークを防止する。これと同じ
理由で、走査の終了は第７Ｆ図のように定義され、ビー
ム８４がＰＭＴ −２の受光領域へ移動するときに発生
するクロストークを防止する。
図で示されたビーム位置は走査の終了をそれぞれ定義し
ている。第７Ａ、７Ｂ、７Ｇ、７Ｈ図に描かれているビ
ーム位置の期間中、３個の光増倍管の出力信号は使用さ
れない。ビーム位置が第７Ｄ図に示される状態になると
、本発明の信号処理手段は状態１から状態２へ切り換わ
り、ビーム８４がＰＭＴ −Ｅｌの受光領域内へ移動す
るときに発生するクロストークを防止する。これと同じ
理由で、走査の終了は第７Ｆ図のように定義され、ビー
ム８４がＰＭＴ −２の受光領域へ移動するときに発生
するクロストークを防止する。
第１５Ａ図及び第１５Ｂ図を用いて、上記のクロストー
クの問題を簡単に説明する。第１５Ａ図は２個の光増倍
管から成る検出器を示している。
クの問題を簡単に説明する。第１５Ａ図は２個の光増倍
管から成る検出器を示している。
第１５図に描かれた走査の開始時には、ビーム８４はＰ
ＭＴ −１の受光領域内に完全に入っているが、ビーム
８６はＰＭＴ １及びＰＭＴ −２によって同時に受光
されている。この走査開始時の形は、ビーム８，６がＰ
ＭＴ −１の受光領域と重なり会う「ビーム重なり領域
」の左側の境界をポめる。
ＭＴ −１の受光領域内に完全に入っているが、ビーム
８６はＰＭＴ １及びＰＭＴ −２によって同時に受光
されている。この走査開始時の形は、ビーム８，６がＰ
ＭＴ −１の受光領域と重なり会う「ビーム重なり領域
」の左側の境界をポめる。
第１５Ｂ図に示された走査終了時には、ビーム８４はＰ
ＭＴ −１及びＰＭＴ −２の両方によって検知され、
したがってクロストークを生じる。ビーム８４の右側の
境界はビーム重なり唄域の右側境界を定める。
ＭＴ −１及びＰＭＴ −２の両方によって検知され、
したがってクロストークを生じる。ビーム８４の右側の
境界はビーム重なり唄域の右側境界を定める。
これと同じように、第７Ｃ図に参照番号９２で示された
垂直な点線は、ビーム８６の左ｌ１１１１縁が一番左へ
偏位したときのビームｌなり領域の左（１１１１境界を
定める。同様に、ビーム重なり領域の右側境界は、第７
Ｆ図に参照鍵号９４で示された垂直方向の意想で描かれ
たビーム８４の右側課の一番右側への偏位によって足め
られる。
垂直な点線は、ビーム８６の左ｌ１１１１縁が一番左へ
偏位したときのビームｌなり領域の左（１１１１境界を
定める。同様に、ビーム重なり領域の右側境界は、第７
Ｆ図に参照鍵号９４で示された垂直方向の意想で描かれ
たビーム８４の右側課の一番右側への偏位によって足め
られる。
本発明によって解決されたクロストーク問題の屏の一部
は、挾まれた光増倍管装置の利用にあり、該光増倍管装
置は左側の放射受光境界をビーム重なり領域の左側境界
９２に正確に一致させ、その右側の放射受光境界をビー
ム重なり領域の右側境界９４に正確に一致させている。
は、挾まれた光増倍管装置の利用にあり、該光増倍管装
置は左側の放射受光境界をビーム重なり領域の左側境界
９２に正確に一致させ、その右側の放射受光境界をビー
ム重なり領域の右側境界９４に正確に一致させている。
クロストークを完全に除去した本発明の別の主要な要件
は、ビーム位置信号の利用にあり、第７Ｃ図に示された
状態１においてはＰＭＴ −２及びＰＭＴ −８の出力
信号を加算し、その後に状態２に切り模わるとＰＭＴ
−１とＰＭＴ −Ｓとの出力信号が加算される。後に説
明するように、ビーム位置信号に基づく切り換えと結び
付けられた中央の放射検知手段は、第１５図に示された
区分された放射収集手段に固有のタロストークの問題を
完全に解消する。
は、ビーム位置信号の利用にあり、第７Ｃ図に示された
状態１においてはＰＭＴ −２及びＰＭＴ −８の出力
信号を加算し、その後に状態２に切り模わるとＰＭＴ
−１とＰＭＴ −Ｓとの出力信号が加算される。後に説
明するように、ビーム位置信号に基づく切り換えと結び
付けられた中央の放射検知手段は、第１５図に示された
区分された放射収集手段に固有のタロストークの問題を
完全に解消する。
第７図、第１０図及び下記の状ｍＰによって、第１５図
との関係で論じたクロストークの問題に対する本発明の
解決策を詳述する。
との関係で論じたクロストークの問題に対する本発明の
解決策を詳述する。
状能表
状態 チャンネル 選択されたＰＭＴ 読み取られ
る番号 ビー４ １ ＣＨ，ｌ ＰＭＴ−Ｉ Ａ１
０Ｈ，２ＰＭＴ−８及び ＢＭＴ−２ ２０Ｈ，３ＰＭＴ−１及び Ａ ＭＴ−８ ２０Ｈ，４−ＰＭＴ−２Ｂ 第７Ｃ図及びｇ７Ｄ図に図示された状態１の期間には、
第１０図の加算回路網のチャンネル１はＰＭＴ−１のみ
のイ気的出力信号を表わす出力信号を与える。第７Ｃ図
及びｉｌｆ、’７Ｄ図に示された状態１に対応する走査
角の全体の期間においてビーム８４はＰＭＴ −１によ
ってのみ受光されるので、第１０図の加算回路網のチャ
ンネル１の出力は状態１の期間のビーム８４に類似した
信号を発生する。
る番号 ビー４ １ ＣＨ，ｌ ＰＭＴ−Ｉ Ａ１
０Ｈ，２ＰＭＴ−８及び ＢＭＴ−２ ２０Ｈ，３ＰＭＴ−１及び Ａ ＭＴ−８ ２０Ｈ，４−ＰＭＴ−２Ｂ 第７Ｃ図及びｇ７Ｄ図に図示された状態１の期間には、
第１０図の加算回路網のチャンネル１はＰＭＴ−１のみ
のイ気的出力信号を表わす出力信号を与える。第７Ｃ図
及びｉｌｆ、’７Ｄ図に示された状態１に対応する走査
角の全体の期間においてビーム８４はＰＭＴ −１によ
ってのみ受光されるので、第１０図の加算回路網のチャ
ンネル１の出力は状態１の期間のビーム８４に類似した
信号を発生する。
この同じ状態１の期間においては、ビーム８６はＰＭＴ
−８のみ、またはＰＭＴ−８及びＰＭＴ−２の両方によ
って受信される。ＰＭＴ −ＳとＰＭＴ −２との出力
は加算回路網（第１０図）によって加え合わされてチャ
ンネル２の出力を作る。このチャンネル２の出力は状態
１の期間中のビーム８６と同じものである。
−８のみ、またはＰＭＴ−８及びＰＭＴ−２の両方によ
って受信される。ＰＭＴ −ＳとＰＭＴ −２との出力
は加算回路網（第１０図）によって加え合わされてチャ
ンネル２の出力を作る。このチャンネル２の出力は状態
１の期間中のビーム８６と同じものである。
第７Ｅ図及び第７Ｆ図に図示された状態２０期間中、加
算回％（第１０図）のチャンネル３はＰＭＴ −１とＰ
ＭＴ −８との和の出力信号を表わす出力信号を与える
。第７に、７Ｆ図の状態２に対応した全走査角の間、ビ
ーム／１４はＰＭＴ −１及びＰＭＴ−８によって受光
されるので、加算回路（第１０図）のチャンネル３出力
は状態２の期間中のビーム８４と同じ信号を発生する。
算回％（第１０図）のチャンネル３はＰＭＴ −１とＰ
ＭＴ −８との和の出力信号を表わす出力信号を与える
。第７に、７Ｆ図の状態２に対応した全走査角の間、ビ
ーム／１４はＰＭＴ −１及びＰＭＴ−８によって受光
されるので、加算回路（第１０図）のチャンネル３出力
は状態２の期間中のビーム８４と同じ信号を発生する。
この同じ状態２の期間中、ビーム８６はＰＭＴ −２に
よってのみ受光される。加算回路（紺１０図）のチャン
ネル４出力は状態２の期間中のビーム８６と同じ信号を
発生する。
よってのみ受光される。加算回路（紺１０図）のチャン
ネル４出力は状態２の期間中のビーム８６と同じ信号を
発生する。
前記の状態宍に示したように、本発明の信号処理装置は
、第７Ｄ図に示されたビーム位置に続く次のクロック期
間に状態１から状態２へ切り換わる。
、第７Ｄ図に示されたビーム位置に続く次のクロック期
間に状態１から状態２へ切り換わる。
状態１の期間中、チャンネル１出力はビーム８４又はビ
ームＡによって作られる信号Ｙ＝Ｆ２わし、チャンネル
２出力はビーム８６又はビームＢによって作られる信号
を表わす。状態２の期間中、チャンネル３出力はビーム
８４又はビームＡによって作られる信号を表わし、チャ
ンネル４出力はビーム８６又はビームＢによって作られ
る信号を表わす。信号処理装置はチャンネル１とチャン
ネル３との対の適切な出力及びチャンネル２とチャンネ
ル４との対の適切な出力を逐次選択して２個の出力を作
る。それら出力の一方はビームＡ出力を表わし、他方は
ビームＢ出力＆ｆｉわす。
ームＡによって作られる信号Ｙ＝Ｆ２わし、チャンネル
２出力はビーム８６又はビームＢによって作られる信号
を表わす。状態２の期間中、チャンネル３出力はビーム
８４又はビームＡによって作られる信号を表わし、チャ
ンネル４出力はビーム８６又はビームＢによって作られ
る信号を表わす。信号処理装置はチャンネル１とチャン
ネル３との対の適切な出力及びチャンネル２とチャンネ
ル４との対の適切な出力を逐次選択して２個の出力を作
る。それら出力の一方はビームＡ出力を表わし、他方は
ビームＢ出力＆ｆｉわす。
第７Ｆ図に図示されたビーム位置の直後の次のクロック
パルスで、本発明の信号処理装置はＰＭＴ −１、ＰＭ
Ｔ −２、ＰＭＴ −８からの出力を無視する。第７Ｇ
図及び第７Ｈ図に示され友引き続く期間中に生じる不要
なりロストークはこうして除去される。
パルスで、本発明の信号処理装置はＰＭＴ −１、ＰＭ
Ｔ −２、ＰＭＴ −８からの出力を無視する。第７Ｇ
図及び第７Ｈ図に示され友引き続く期間中に生じる不要
なりロストークはこうして除去される。
第１６図において、第１６Ａ図は、本発明の区分された
放射収集手段が、整列されてはいるが重なり合う走査（
第１６Ａ図）、−情動され間隔のあいた走ｆ（Ｍｌ ６
Ｂ ）又は充分に接近してビームの重なりを作る横方向
オフセット走査（第１６０図）を利用する光学スキャナ
と関連して用いられることを表わしている。ビーム重な
り鎖酸の本当の大きさは、用いられる光ファイバ束の受
光角度、光ファイバ束の露出端どおしの間隔、走査平面
といったような多くの変数やそれらに関係した変数の函
数である。当業者には知られていることであるが、ＰＭ
Ｔ −Ｓの出力を隣りのＰＭＴ −１又はＰＭＴ −２
の出力と交互に加算するように行う切り換えはクロック
パルスの間に実行されるのが典型的なケースで、これに
よって不要な雑音が除去される。そのうえ、４個又はそ
れ以上の光増倍管乞用いて本発明のクロストーク除去シ
ステムを実現することができることは明らかである。
放射収集手段が、整列されてはいるが重なり合う走査（
第１６Ａ図）、−情動され間隔のあいた走ｆ（Ｍｌ ６
Ｂ ）又は充分に接近してビームの重なりを作る横方向
オフセット走査（第１６０図）を利用する光学スキャナ
と関連して用いられることを表わしている。ビーム重な
り鎖酸の本当の大きさは、用いられる光ファイバ束の受
光角度、光ファイバ束の露出端どおしの間隔、走査平面
といったような多くの変数やそれらに関係した変数の函
数である。当業者には知られていることであるが、ＰＭ
Ｔ −Ｓの出力を隣りのＰＭＴ −１又はＰＭＴ −２
の出力と交互に加算するように行う切り換えはクロック
パルスの間に実行されるのが典型的なケースで、これに
よって不要な雑音が除去される。そのうえ、４個又はそ
れ以上の光増倍管乞用いて本発明のクロストーク除去シ
ステムを実現することができることは明らかである。
本発明の池の実施例においては、レーザー放射に応答し
て出射された異なる波長の螢光放射を利用するのではな
く、印刷回路板又はその等制約な面の銅表面から直接反
射されたレーザー放射を受光し処理するのが望ましい−
０ 種々の形の信号処理（ロ）路を実現できることは当業者
に周知である。印刷回路板の表面又はそれと関連する表
面から読み取られた情報を標準の又は理想化された六回
に対応する情報と比較するための処理回路は当業者に周
知である。
て出射された異なる波長の螢光放射を利用するのではな
く、印刷回路板又はその等制約な面の銅表面から直接反
射されたレーザー放射を受光し処理するのが望ましい−
０ 種々の形の信号処理（ロ）路を実現できることは当業者
に周知である。印刷回路板の表面又はそれと関連する表
面から読み取られた情報を標準の又は理想化された六回
に対応する情報と比較するための処理回路は当業者に周
知である。
ここに開示されたレーザー検査装置を他の色々な方法で
修正しえ、前記のように特に設定された好ましい型体以
外の多くの実施例が可能であることは、当業者にとって
明白なことである。したがって、本発明の悄押及び範囲
の甲に入る全ての１６正は、特許請求の、ＩＩα囲に含
まれる。
修正しえ、前記のように特に設定された好ましい型体以
外の多くの実施例が可能であることは、当業者にとって
明白なことである。したがって、本発明の悄押及び範囲
の甲に入る全ての１６正は、特許請求の、ＩＩα囲に含
まれる。
第１図は、本発明のレーザー検査装置の正面図である。
第２図は、第１図に図示されたレーザー検査装置の上面
図である。 第３図は、ｉ１図の中央部に示されたビームスプリッタ
及び一連の説乞部分的に破断して示した拡大図で、入力
ビームが分割されて多角形走査鏡の一つの鏡面へ向かう
様子を示している。 第４図は、第２図の下部に図示された円筒形レンズの拡
大図である。 第５図は、第１図の多角形走査鏡の正面の一部ン取り出
した拡大図である。 第６図は、第１図の多角形走査鏡を部分的に取り出した
拡大斜視図で、走査鏡が第１及び第２の角度的に偏位し
た同期した走置な発生する様子を示す。 第７Ａ〜７Ｈ図は、本発明の区分された収集手段が第１
及び第２の被変調走査から情報ン受け取り、分離する様
子？一連の時間順序で示す図である。 第８図は、第２図の被走査面、ビームスプリッタ及び罫
引き格子？簡潔に示した図で、第１及び第２の走査ビー
ムから第３及び第４の走査ビームが発生する様子を示す
。 第９図は、第８図の罫引き透明浴子の上面図である。 第１０図は、第１及び第２の放射検出手段からの（気的
出力信号が結合されて４個の個別の出力信号乞作る様子
を示す屯気的概念図である。 第１１図は、本発明のレーザー検査装置によって検査さ
れる表面を上から見た図で、レーザー検査ｉｔの２個の
出力ビームの相対的配列及び検査される表面の全域を覆
う走査パターンを示している。 第１２図は、被走査面の拡大正面図で、レーザー検査装
置の２個のビームと区分された放射収集手段との相対的
配置を示す。 第１３図は、第１２図の区分された放射収集手段を線１
３−１３の方向から見た図である。 第１４図は、レーザー検覆装置の拡大図で、多角形走査
鏡によって作られた第１及び第２の同期した走査の間の
角度ずれを示している。 第１５Ａ及び１５Ｂ図は、２ （１ｍの光＃Ｉ陪前管装
置みと共働する区分された放射検出手段が遭遇するクロ
ストークの間聰乞説明する図である。 第１６Ａ〜１６Ｃ図は、本発明に関連して用いうる種々
の走査型体を示す。 第１７Ａ及び１７Ｂ図は、本発明の中央の放射検出手段
の第１及び第２の境界が決定される様子及びビーム重な
り領域に対するこれら境界の関係を示している。 １０；レーザー １２：入射ビーム １４：レンズ １
６：ビーム拡大器 ２０ 、２２ ：中継鏡２４：ビー
ムスグリツタ ２８：鏡面 ３０：多角形走査鏡 ３２
、３４ ：中継境 ３６：走査レンズ ３８：ビーム
スプリッタ ４０：ンンズ４２：走査ａ ４４：罫引き
格子 ５４：透明ガラス棒 ５８ ｉ ＰＭＴ ：光増
倍管 ７２ニガラス棒７４：光ファイバ束装ｆ〆 ８２
：窓 ８４．８１螢光放射Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄ：走査ビーム （外５名） 二’Ｅ”ｒｃ、ｃ２ 二Ｅｘｔ：、、１０ 三方：ａ、：１”：１ ８４． ｔｂ ： ｔ＊炊針 二Ｆし６−ｉ４ 二Ｅシｃ、＃ ｊＥ； Ｃ
図である。 第３図は、ｉ１図の中央部に示されたビームスプリッタ
及び一連の説乞部分的に破断して示した拡大図で、入力
ビームが分割されて多角形走査鏡の一つの鏡面へ向かう
様子を示している。 第４図は、第２図の下部に図示された円筒形レンズの拡
大図である。 第５図は、第１図の多角形走査鏡の正面の一部ン取り出
した拡大図である。 第６図は、第１図の多角形走査鏡を部分的に取り出した
拡大斜視図で、走査鏡が第１及び第２の角度的に偏位し
た同期した走置な発生する様子を示す。 第７Ａ〜７Ｈ図は、本発明の区分された収集手段が第１
及び第２の被変調走査から情報ン受け取り、分離する様
子？一連の時間順序で示す図である。 第８図は、第２図の被走査面、ビームスプリッタ及び罫
引き格子？簡潔に示した図で、第１及び第２の走査ビー
ムから第３及び第４の走査ビームが発生する様子を示す
。 第９図は、第８図の罫引き透明浴子の上面図である。 第１０図は、第１及び第２の放射検出手段からの（気的
出力信号が結合されて４個の個別の出力信号乞作る様子
を示す屯気的概念図である。 第１１図は、本発明のレーザー検査装置によって検査さ
れる表面を上から見た図で、レーザー検査ｉｔの２個の
出力ビームの相対的配列及び検査される表面の全域を覆
う走査パターンを示している。 第１２図は、被走査面の拡大正面図で、レーザー検査装
置の２個のビームと区分された放射収集手段との相対的
配置を示す。 第１３図は、第１２図の区分された放射収集手段を線１
３−１３の方向から見た図である。 第１４図は、レーザー検覆装置の拡大図で、多角形走査
鏡によって作られた第１及び第２の同期した走査の間の
角度ずれを示している。 第１５Ａ及び１５Ｂ図は、２ （１ｍの光＃Ｉ陪前管装
置みと共働する区分された放射検出手段が遭遇するクロ
ストークの間聰乞説明する図である。 第１６Ａ〜１６Ｃ図は、本発明に関連して用いうる種々
の走査型体を示す。 第１７Ａ及び１７Ｂ図は、本発明の中央の放射検出手段
の第１及び第２の境界が決定される様子及びビーム重な
り領域に対するこれら境界の関係を示している。 １０；レーザー １２：入射ビーム １４：レンズ １
６：ビーム拡大器 ２０ 、２２ ：中継鏡２４：ビー
ムスグリツタ ２８：鏡面 ３０：多角形走査鏡 ３２
、３４ ：中継境 ３６：走査レンズ ３８：ビーム
スプリッタ ４０：ンンズ４２：走査ａ ４４：罫引き
格子 ５４：透明ガラス棒 ５８ ｉ ＰＭＴ ：光増
倍管 ７２ニガラス棒７４：光ファイバ束装ｆ〆 ８２
：窓 ８４．８１螢光放射Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄ：走査ビーム （外５名） 二’Ｅ”ｒｃ、ｃ２ 二Ｅｘｔ：、、１０ 三方：ａ、：１”：１ ８４． ｔｂ ： ｔ＊炊針 二Ｆし６−ｉ４ 二Ｅシｃ、＃ ｊＥ； Ｃ
Claims (35)
- （１）角度的に偏位し同期のとれた第１及び第２の走査
によつて第１走査線を繰り返して走査する光学的スキャ
ナにおいて、 入力ビームを発生するための光源と、 該入力ビームを受光し、第１及び第２の平行でない平面
内にある第１及び第２の角度的に偏位したビームを発生
する手段と、 該第１及び第２のビームを１個の鏡面に受光して、角度
的に偏位し平行でない第１及び第２の同期した走査を発
生する多角形走査鏡と、 前記多角形走査鏡の前の光路に位置する第１の円筒形レ
ンズと、前記多角形走査鏡と前記第１走査線との間の光
路に位置し前記第１及び第２の同期した走査を前記第１
走査線に集束させる第２の円筒形レンズとを含む鏡面対
軸・誤差補正手段と、前記多角形走査鏡と前記第２の円
筒形レンズとの間の光路に位置して、前記第１及び第２
の同期した走査の一部をタイミング面へ指向させ、第３
及び第４の一致しない同期した走査を発生する指向手段
と、 該タイミング面内の第２走査線に沿つて該第３及び第４
の同期した走査が移動するのに応じて、等間隔の連続パ
ルスから成るビーム位置信号を発生する手段と、 を具備し、該ビーム位置信号が前記第１走査線に沿う前
記第１及び第２の同期した走査の位置を表わす光学的ス
キヤナ。 - （２）前記第２の円筒形レンズの軸が前記第１の円筒形
レンズの軸に平行である、特許請求の範囲第１項記載の
光学的スキャナ。 - （３）前記ビーム位置信号を発生する手段が罫引き格子
を含む、特許請求の範囲第１項記載の光学的スキャナ。 - （４）前記罫引き格子が直線状の罫を含む、特許請求の
範囲第３項記載の光学的スキャナ。 - （５）前記直線状の罫が透明部と不透明部とを交互に等
間隔に配列したものである、特許請求の範囲第４項記載
の光学的スキャナ。 - （６）前記ビーム位置信号を発生する手段が、前記第３
の走査が前記第２の走査線に沿つて偏位するにつれて均
一な一連の光学的タイミングパルスを作る、特許請求の
範囲第５項記載の光学的スキャナ。 - （７）前記ビーム位置信号を発生する手段が該光学的タ
イミングパルスを通気的タイミングパルスに変換する手
段を具備する、特許請求の範囲第６項記載の光学的スキ
ャナ。 - （８）前記ビーム位置信号を発生する手段が該光学的タ
イミングパルスを電気的タイミングパルスに変換する光
増倍管を具備する、特許請求の範囲第７項記載の光学的
スキャナ。 - （９）前記光源がレーザーを含む、特許請求の範囲第１
項記載の光学的スキャナ。 - （１０）前記罫引き格子が前記第４の走査に干渉するこ
となく前記第３の走査を受光する位置にある、特許請求
の範囲第３項記載の光学的スキャナ。 - （１１）前記罫引き格子が前記第４の走査からの干渉を
受けることなく前記第３の走査の強度を変調するための
直線状部分を具備する、特許請求の範囲第１０項記載の
光学的スキャナ。 - （１２）前記ビーム位置信号を発生する手段が、前記罫
引き格子からの変調された出力信号を受けると共に該出
力信号を電気的なビーム位置信号に変換する手段を具備
する、特許請求の範囲第１１項記載の光学的スキャナ。 - （１３）前記第１及び第２のビームを発生する手段がビ
ームスプリッタを含む、特許請求の範囲第１項記載の光
学的スキャナ。 - （１４）前記第１及び第２のビームを発生する手段が前
記ビームスプリッタからの出力ビームの一方を受光する
と共に該受光したビームを第２の平行でない面へ向ける
第１及び第２の中継鏡を具備する、特許請求の範囲第１
３項記載の光学的スキャナ。 - （１５）前記指向手段がビームスプリッタを含む、特許
請求の範囲第１項記載の光学的スキャナ。 - （１６）前記第１及び第２の同期した走査が前記第１走
査線に直角の相対的な位置偏位をもつて前記ビームスプ
リッタに入射する、特許請求の範囲第１５項記載の光学
的スキャナ。 - （１７）前記第２の円筒形レンズが前記第１走査線の近
くに位置する、特許請求の範囲第１項記載の光学的スキ
ャナ。 - （１８）走査レンズが前記多角形走査鏡と前記指向手段
との間の光路に位置し、前記第１及び第２の同期した走
査が該走査レンズによつて屈折されるとき直線状の定速
走査が行われるようにする、特許請求の範囲第１項記載
の光学的スキャナ。 - （１９）前記走査レンズがｆθレンズを含む、特許請求
の範囲第１８項記載の光学的スキャナ。 - （２０）前記ｆμレンズが平らな焦点面を有する、特許
請求の範囲第１９項記載の光学的スキャナ。 - （２１）前記第１及び第２の同期した走査が前記第１走
査線から反射されて第１及び第２の被変調走査が作り出
される、特許請求の範囲第１項記載の光学的スキャナ。 - （２２）第１及び第２の境界を有し、第２の被変調走査
の始端と第１の被変調走査の終端とによつて画定される
ビーム重なり領域内に第１及び第２の被変調走査によつ
て交互に出射された放射を収集するよう位置し、ビーム
重なり領域内の第１及び第２の被変調走査を表わす電気
的出力信号を発生する中央の放射検出手段と、 走査の始端から第１の被変調走査によつて出射された放
射を収集する位置にある第３の境界と、該中央の放射検
出手段の第１の境界に隣接する位置にある第４の境界と
を有し、第３と第４の境界の間を第１の被変調走査が移
動するとき第１の被変調走査を表わす電気的出力信号を
発生する第１の放射検出手段と、 前記中央の放射検出手段の第２の境界に隣接すろ位置に
ある第５の境界と、走査の終端で第２の被変調走査によ
つて出射された放射を収集する位置にある第６の境界と
を有し、第２の被変調走査が第５と第６との境界の間を
移動するとき第２の被変調走査を表わす電気的出力信号
を発生する第２の放射検出手段と、 を具備し、第１及び第２の被変調走査を受け取る区分さ
れた放射収集手段を有する、特許請求の範囲第２１項記
載の光学的スキャナ。 - （２３）前記第１及び第２の放射検出手段及び中央の検
出手段からの電気的出力信号を受信し、ビーム位置信号
に応答して該出力信号を選択的に結合して、第１及び第
２の被変調出力信号を発生する信号処理手段を具備し、
該第１の被変調出力信号が第１の走査によつて走査され
た領域内に存在する情報を表わし、該第２の被変調出力
信号が第２の走査によつて走査された領域内に存在する
情報を表わす、特許請求の範囲第２２項記載の光学的ス
キャナ。 - （２４）印刷回路板の表面を反復して走査する、特許請
求の範囲第２３項記載の光学的スキャナ。 - （２５）第１及び第２の角度的に偏位し同期した走査及
び該第１及び第２の走査を表わすビーム位置信号を繰り
返して発生する光学的スキャナによつて照射され該第１
及び第２の走査によつて第１及び第２の被変調走査の形
で放射を出射する領域を有する面から情報を読み取る装
置において、前記第１及び第２の被変調走査を受け取る
区分された放射収集手段であつて、第１及び第２の境界
を有し該第２の被変調走査の始端と該第１の被変調走査
の終端とによつて画定されるビーム重なり領域内に該第
１及び第２の被変調走査によつて交互に出射された放射
を収集する位置にあつて該ビーム重なり領域内の該第１
及び第２の被変調走査を表わす電気的出力信号を発生す
る中央の放射検出手段と、走査の始端から該第１の被変
調走査によつて出射された放射を収集する位置にある第
３の境界と前記中央の放射検出手段の前記第１の境界に
隣接する位置にある第４の境界とを有し、該第１の被変
調走査が該第３と第４との境界の間を移動するときの該
第１の被変調走査を表わす電気的出力信号を発生する第
１の放射検出手段と、前記中央の放射検出手段の前記第
２の境界に隣接する位置にある第５の境界と走査の終端
で前記第２の被変調走査によつて出射された放射を収集
する位置にある第６の境界とを有し、該第２の被変調走
査が該第５と第６との境界の間を移動するときの該第２
の被変調走査を表わす電気的出力信号を発生する第２の
放射検出手段とを有する区分された放射収集手段と、 前記第１及び第２の放射検出手段及び前記中央の放射検
出手段からの電気的出力信号を受信し、前記ビーム位置
信号に応答して前記出力信号を選択的に結合して、第１
及び第２の被変調出力信号を発生し、該第１の被変調出
力信号が第１の走査によつて走査される領域内に存在す
る情報を表わし、該第２の被変調出力信号が第２の走査
によつて走査される領域内に存在する情報を表わす信号
処理手段と、 を有する情報読み取り装置。 - （２６）前記中央の放射検出手段が、前記面の近くに位
置する窓を有し、前記第１及び第２の被変調走査をエネ
ルギ変換手段に伝えると共に該被変調走査を電気的出力
信号に変換するための光ファイバ束を有する、特許請求
の範囲第２５項記載の情報読み取り装置。 - （２７）第１の放射、検出手段が、前記面の近くに位置
する窓を有し、前記第１の被変調走査をエネルギ変換手
段に伝えると共に前記第１の被変調走査を電気的出力信
号に変換するための光ファイバ束を有する、特許請求の
範囲第２６項記載の情報読み取り装置。 - （２８）前記第２の放射検出手段が、前記面の近くに位
置する窓を有し、前記第２の被変調走査をエネルギ変換
手段に伝えると共に前記第２の被変調走査を電気的出力
信号に変換するための光ファイバ束を有する、特許請求
の範囲第２７項記載の情報読み取り装置。 - （２９）前記第１及び第２の放射検出手段の窓及び前記
中央の放射検出手段の窓が同一面内にある、特許請求の
範囲第２８項記載の情報読み取り装置。 - （３０）前記面と前記区分された放射収集手段との間に
位置し、該面から出射された放射を収集すると共に該放
射を該区分された放射収集手段に集束させる集中手段を
有する、特許請求の範囲第２５項記載の情報読み取り装
置。 - （３１）前記集束手段が円筒形レンズを有する、特許請
求の範囲第３０項記載の情報読み取り装置。 - （３２）前記第１及び第２の放射検出手段及び前記中央
の放射検出手段が、これら放射検出手段で処理された光
学的信号を個別の電気的出力信号に変換する手段を有す
る、特許請求の範囲第３７項記載の情報読み取り装置。 - （３３）前記信号処理手段が、前記第１及び第２の放射
検出手段及び前記中央の放射手段の出力信号を選択的に
結合して４個の個別の電気的出力信号チャンネルに出力
する信号結合手段を有する、特許請求の範囲第３２項記
載の情報読み取り装置。 - （３４）前記信号処理手段が、前記信号結合手段からの
４個の個別の通気的出力信号の選択された対を所定のビ
ーム位置で結合して第１及び第２の被変調出力信号を発
生する調時スイッチング手段を有する、特許請求の範囲
第３３項記載の情報読み取り装置。 - （３５）前記面が印刷回路板の面を成す、特許請求の範
囲第２５項記載の情報読み取り装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/746,177 US4643569A (en) | 1985-06-18 | 1985-06-18 | Dual beam laser inspection apparatus |
| US746177 | 1985-06-18 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6254146A true JPS6254146A (ja) | 1987-03-09 |
Family
ID=24999774
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61101894A Pending JPS6254146A (ja) | 1985-06-18 | 1986-05-01 | 双ビ−ム型レ−ザ−検査装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4643569A (ja) |
| JP (1) | JPS6254146A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5457012A (en) * | 1994-04-18 | 1995-10-10 | Eastman Kodak Company | Transparent film-forming aqueous compositions for magnetic recording |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL8701716A (nl) * | 1987-07-21 | 1989-02-16 | Philips Nv | Aftastende optische mikroskoop. |
| US5018805A (en) * | 1989-10-16 | 1991-05-28 | Eastman Kodak Company | Laser printer |
| US5329351A (en) * | 1992-11-24 | 1994-07-12 | Estek Corporation | Particle detection system with coincident detection |
| JPH08178857A (ja) * | 1994-12-21 | 1996-07-12 | Nikon Corp | 大型基板用異物検査装置 |
| JP2008171960A (ja) * | 2007-01-10 | 2008-07-24 | Canon Inc | 位置検出装置及び露光装置 |
| US20090261073A1 (en) * | 2008-04-22 | 2009-10-22 | Lincoln Global, Inc. | System and methods of using variable waveform ac arc welding to achieve specific weld metal chemistries |
| US10800103B2 (en) | 2017-03-09 | 2020-10-13 | Applied Materials, Inc. | Additive manufacturing with energy delivery system having rotating polygon and second reflective member |
| US10981323B2 (en) | 2017-05-26 | 2021-04-20 | Applied Materials, Inc. | Energy delivery with rotating polygon and multiple light beams on same path for additive manufacturing |
| US10940641B2 (en) | 2017-05-26 | 2021-03-09 | Applied Materials, Inc. | Multi-light beam energy delivery with rotating polygon for additive manufacturing |
| US11084097B2 (en) | 2017-06-23 | 2021-08-10 | Applied Materials, Inc. | Additive manufacturing with cell processing recipes |
| US20180369914A1 (en) | 2017-06-23 | 2018-12-27 | Applied Materials, Inc. | Additive manufacturing with multiple polygon mirror scanners |
| US11331855B2 (en) | 2017-11-13 | 2022-05-17 | Applied Materials, Inc. | Additive manufacturing with dithering scan path |
| WO2019217690A1 (en) | 2018-05-09 | 2019-11-14 | Applied Materials, Inc. | Additive manufacturing with a polygon scanner |
Family Cites Families (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3597536A (en) * | 1968-05-10 | 1971-08-03 | Gen Telephone & Elect | Dual beam laser display device employing polygonal mirror |
| US3573849A (en) * | 1969-02-04 | 1971-04-06 | Bell Telephone Labor Inc | Pattern generating apparatus |
| US3646568A (en) * | 1969-04-03 | 1972-02-29 | Rca Corp | Beam control system |
| US3750189A (en) * | 1971-10-18 | 1973-07-31 | Ibm | Light scanning and printing system |
| US3781464A (en) * | 1972-01-17 | 1973-12-25 | Ampex | Light scanning apparatus and method for converting display information into storable video data |
| JPS4898844A (ja) * | 1972-03-29 | 1973-12-14 | ||
| US4040096A (en) * | 1972-11-27 | 1977-08-02 | Xerox Corporation | Flying spot scanner with runout correction |
| US4063226A (en) * | 1974-03-18 | 1977-12-13 | Harris Corporation | Optical information storage system |
| US4121883A (en) * | 1974-04-22 | 1978-10-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Scanning device for radiation beams |
| JPS5248031B2 (ja) * | 1974-05-13 | 1977-12-07 | ||
| JPS5820403B2 (ja) * | 1975-01-31 | 1983-04-22 | 富士写真フイルム株式会社 | カイテンタメンキヨウノ ヘイコウドノ ゴサオ ジヨキヨスルホウホウ |
| JPS588B2 (ja) * | 1975-10-15 | 1983-01-05 | 富士写真フイルム株式会社 | ヒカリビ−ムソウサソウチ |
| GB1561651A (en) * | 1976-02-13 | 1980-02-27 | Plessey Co Ltd | Opticalrecording apparatus |
| US4123135A (en) * | 1977-06-30 | 1978-10-31 | International Business Machines Corporation | Optical system for rotating mirror line scanning apparatus |
| JPS5488139A (en) * | 1977-12-26 | 1979-07-13 | Olympus Optical Co Ltd | Optical scanner using rotary polyhedral mirror |
| JPS54126051A (en) * | 1978-03-23 | 1979-09-29 | Ricoh Co Ltd | Anamorphic f lens system |
| JPS6052409B2 (ja) * | 1978-10-19 | 1985-11-19 | 富士写真フイルム株式会社 | 光ビ−ム走査装置 |
| US4260899A (en) * | 1979-06-14 | 1981-04-07 | Intec Corporation | Wide web laser scanner flaw detection method and apparatus |
| US4284994A (en) * | 1979-07-30 | 1981-08-18 | Eikonix Corporation | Laser beam recorder |
| US4277178A (en) * | 1980-01-15 | 1981-07-07 | Ford Aerospace & Communications Corp. | Web element concentration detection system |
| US4538909A (en) * | 1983-05-24 | 1985-09-03 | Automation Engineering, Inc. | Circuit board inspection apparatus and method |
| US4556903A (en) * | 1983-12-20 | 1985-12-03 | At&T Technologies, Inc. | Inspection scanning system |
-
1985
- 1985-06-18 US US06/746,177 patent/US4643569A/en not_active Expired - Fee Related
-
1986
- 1986-05-01 JP JP61101894A patent/JPS6254146A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5457012A (en) * | 1994-04-18 | 1995-10-10 | Eastman Kodak Company | Transparent film-forming aqueous compositions for magnetic recording |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4643569A (en) | 1987-02-17 |
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