JPS6254077A - 薄膜蒸着装置 - Google Patents

薄膜蒸着装置

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Publication number
JPS6254077A
JPS6254077A JP19435885A JP19435885A JPS6254077A JP S6254077 A JPS6254077 A JP S6254077A JP 19435885 A JP19435885 A JP 19435885A JP 19435885 A JP19435885 A JP 19435885A JP S6254077 A JPS6254077 A JP S6254077A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vapor
thin film
deposition apparatus
film deposition
treated
Prior art date
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Pending
Application number
JP19435885A
Other languages
English (en)
Inventor
Masahiko Ishihara
正彦 石原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPS6254077A publication Critical patent/JPS6254077A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は例えば真空中で被付着体に薄膜を付着させる
薄膜蒸着装置、特に被付着体以外へ散乱する蒸発物質の
回収に関するものである。
〔従来の技術〕
第4図は例えば特公昭54−9592号公報に示された
従来の薄膜蒸着装置を示す図である。図において、(1
)は排気口(1a)を有する真空槽、αηは真空槽(1
)内に配設され、内部に蒸発物質(3)を収容し、上部
に小穴(2a)を有するるつぼ(2)とるつぼ(2)の
囲りに周設されたるつぼ(2)を加熱するためのるつぼ
加熱用ヒータ(4)とを備えた蒸気発生手段、(5)は
るつぼ(2)の小穴(2a)をもつ面に対向した位置に
配設され、被付着体(6)を保持する被付着体ホルダ、
(7)は電子を照射してるつは(2)より噴出した蒸気
(8)をイオン化させるイオン化手段としてのイオン化
ヒータ、上記電子が衝突した蒸気(8)はその一部がイ
オン化された蒸気となる。(至)は蒸気(3)の通過口
を持ちるつぼ(2)と被付着体(6)との間に配設され
た陰極の加速IE i (9)とこの陰極の加速電極と
対向してるつぼ(2)に近い位置に配設された陽極の加
速電極0υとでなるイオン化した蒸気を加速させる加速
手段である。
次に動作について説明する。
真空槽(1)の排気口(1a)から真空排気された高真
空領域内で、蒸発物質(3)を入れたるつぼ(2)をヒ
ータ(4)で加熱し小穴(2a)より蒸気(8)を噴出
させる。
噴出した蒸気(8)はその噴出圧力により飛び続け、そ
の途中でイオン化ヒータ(7)から照射された電子が衝
突することにより、一部がイオン化された蒸気となる。
イオン化された蒸気は加速手段(至)に電圧を印加する
ことにより加速されて、被付着体(6)などに付着する
。イオン化されない蒸気もその一部が被付着体(6)に
付着する。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来の薄膜蒸着装置は以上のように、るつぼ(2)より
蒸気(8)が噴出するが被付着体(6)へ付着する蒸発
物質(3)は蒸発した量の一部分にすぎず、大部分が被
付着体(6)以外の所へ飛散し付着するため、蒸発物質
(3)の利用効率が悪いという問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、被付着体(6)以外の所へ飛散した蒸発物質
(3)を回収することを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明に係る薄膜蒸着装置は、蒸気発生手段と被付着
体との間に蒸気をとり囲むように回収手段を設けたもの
である。
〔作用〕
この発明においては、回収手段に付着した蒸発物質を回
収し再利用することができるので、蒸発物質のむだを抑
えることができる。
〔実施例〕
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図は本発明における薄膜蒸着装置の構成を示す図である
0図において、(1)ないしく9)、αυ、Q71゜(
至)は上記従来装置と同様のものである。αGは陽極の
加速電極αηと陰極の加速電極(9)との間に蒸気(8
)をとり囲むように配設されたセラミックなど絶縁材料
で作られた回収手段としての円筒である。
以上のように構成された薄膜蒸着装置においては回収手
段を設けることにより、被付着体(6)以外の所へ飛散
した蒸気(8)は回収手段00に付着される−従って真
空槽(1)内の他の部品への付着が従来より少なくなる
ため、装置の清掃などの作業が少なくてすむようになる
第2図は本発明の他の実施例における薄膜蒸着装置の構
成を示す図である。図において、(1)ないしく9) 
、 Oη、 (17) 、(至)は従来装置と同様のも
のである。(至)はおのおのが蒸気(8)の噴出方向に
所定の間隔でかつ電気的に絶縁をして複数枚配列され、
被付着体(6)の外形とるつぼ(2)の小穴(2a)を
結ぶ線またはそれよりも大きい寸法の通過口を有すると
共に外周縁を折曲した板よりなる回収手段である。
この実施例によれば、るつぼ(2)より噴出し、被付着
体(6)に付着する以外の蒸気(8)の多くは回収手段
06であるそれぞれの板(15a)に付着するわけであ
るが、蒸発物質(3)が導電材料であっても、去の蒸発
物質(3)が付−着した板(15a)すなわち導電体が
等電位の方向にあるため蒸発物質(3)が加速手段(ハ
)の電界を乱すことなく、蒸発物質(3)の回収を続け
ることができる。
また、回収手段QGO板(15a)がおのおの電気的に
絶縁して配設されているので、イオン化した蒸気が板(
15a)に衝突しおのおのの板(15a)がR電するた
め通過口の中央部に比べ板(15a)の電位が上り、板
(15a)に近い部分はど等電位線が陰極の加速電極(
9)側に近すき、イオン化された蒸気に対してレンズ効
果の役目をはたしイオン化した蒸気を通過口の中央部へ
押しやろうとするため被付着体(6)に到達する蒸発物
質(3)の割合を高めることができる。また、レンズ効
果によりイオン化された蒸気が回収手段(至)の板(1
5a)にあまり衝突しなくなるため板(15a)に付着
した蒸発物質(3)が再放出されたり、板を構成する材
料の放出などスパッタ効果を防げる。従って被付着体(
6)へ異種材料が付着することを防止できる。
第3図は本発明のさらに異なる第3の実施例の要部でる
回収手段を示す図である0図において、(++)+ a
υ、08は従来装置と同様のものである。α嗜は蒸気(
8)の通過口を有した板(19a)が陰極の加速Wt、
極(9)と陽極の加速電極αηの間に所定の間隔で配設
された導電材料よりなり、かつおのおのの板(19a)
の間には分圧抵抗器α4が接続されており、陰極の加速
電極(9)と陽極の加速電極Ql)の発生する電界を分
担するように構成された回収手段である。このときのお
のおのの板(19a)の間の空間の電界は、■ ここで εGは真空槽内の誘電率 diは板と板との間隔 voは加速電圧 Riは分子抵抗値 どある。
この時、イオン化された蒸気(9a)が回収手段0りの
板(19a)に衝突しても、イオン化された蒸気から板
(19a)に受取った電荷は分圧抵抗器Q41を通して
放電するため板(19a)の上記電界(Ei)には変化
がない状態で引続き蒸着を継続できる。また分圧抵抗(
Ri)や板(19a)と&(19a)の間隔(di)を
調節することによりレンズ効果を持たせだり、イオン化
された蒸気(9a)の速度を調節することができる。
なお、上記実施例では回収手段を陽極の加速電極と陰極
の加速電極との間に設ける場合について説明したが、る
つぼと加速手段や加速手段と被付着体の間に設けること
により回収率をより向上させることができる。
また、上記実施例のように回収手段に付着した蒸発物質
は、回収手段を取り外して加熱し蒸発物質だけを溶融回
収したり、化学的に溶融回収することにより、蒸発物質
の再利用ができる。
〔発明の効果〕
以上のように、この発明によれば蒸気発生手段と被付着
体の間に回収手段を配設することにより、被付着体以外
へ散乱する蒸発物質を回収することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例による薄膜蒸着装置の構成
を示す図、第2図はこの発明の他の実施例による構成を
示す図、第3図はこの発明のさらに異なる第3の実施例
の要部である回収手段を示す図、第4図は従来の薄膜蒸
着装置の構成を示す図である。 図において、(1)は真空槽、(2)はるつぼ、(3)
は蒸発物質1(4)は加熱用ヒータ、(5)は被付着体
ホルダ、(6)は被付着体、(7)はイオン化ヒータ(
イオン化手段) % (81は蒸気、(9)は陰極の加
速電極、a刀は陽極の加速tW、QO、a6. aIは
回収手段、0ηは蒸気発生手段、(ト)は加速手段であ
る。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)真空槽内に配設され蒸発物質の蒸気を噴出する蒸
    気発生手段と、この蒸気発生手段と対向する位置に設け
    られた被付着体ホルダに取付けられた被付着体と、上記
    蒸気発生手段からの蒸気に電子を衝突させてこの蒸気の
    少なくとも一部をイオン化させるイオン化手段と、この
    イオン化された蒸気を加速させ上記被付着体に付着させ
    る加速手段と、上記蒸気発生手段と上記被付着体との間
    でしかも上記蒸気をとり囲むように設けられた上記蒸気
    を付着させる回収手段とを備えたことを特徴とする薄膜
    蒸着装置。
  2. (2)回収手段は筒状体であることを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載の薄膜蒸着装置。
  3. (3)回収手段はおのおのが蒸気の噴出方向に所定の間
    隔で複数枚配列され、蒸気の通過口を有すると共に外周
    縁を折曲した板よりなることを特徴とする特許請求の範
    囲第1項記載の薄膜蒸着装置。
  4. (4)板は導電材料であることを特徴とする特許請求の
    範囲第3項記載の薄膜蒸着装置。
  5. (5)回収手段のおのおのの板が絶縁されていることを
    特徴とする特許請求の範囲第4項記載の薄膜蒸着装置。
  6. (6)回収手段のおのおのの板が選択された抵抗器によ
    り電気的に分圧されていることを特徴とする特許請求の
    範囲第5項記載の薄膜蒸着装置。
  7. (7)回収手段は絶縁材料であることを特許とする特許
    請求の範囲第2項または第3項記載の薄膜蒸着装置。
  8. (8)絶縁材料はセラミックであることを特徴とする特
    許請求の範囲第7項記載の薄膜蒸着装置。
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