SU300079A1 - Устройство дл нанесени покрытий в вакууме - Google Patents

Description

,1

Известно устройство дл  нанесени  покрытий IB вакууме, содержащее высоковольтный источник :и вакуумную камеру .с расположенными внутри нее кольцевым тер|Моэле«трОНным катодом, системой электростатической фокусировки « испарителем.

Предложенное устройство отличаетс  .наличием дополнительного источника иитани , подключенного через систему коммутации к аноду , кольцевому термоэлектронному катоду и высоковольтному источнику, и установленного между катодом .и испарителем посто нного электромагнита, ось которого со1вмвщена с оптической осью системы электростати-ческой фокусировки.

Это повышает Произ1водительность и стабилизирует процесс иапарени .

На чертеже изображено предлагаемое устройство , общий вид.

Оно состоит ИЗ высоковольт«ого источника 1 и вакуумной камеры 2 с расположенными внутри нее кольцевым термоэлектронным катодом 3, системой электростатической фокусировки 4 и испарителем б, наход щимс  под потенциало1м анода, дополнительного «сточиика 6 питани , подключенного через систему 7 коммутации к аноду, кольцевому термоэлектронному катоду 3 и высоковольтному источнику 1, и установленного между катодом 3 и высоковольтным источником 1 посто нного электромагнита 8, ось которого совмещена -с оп-тической осью системы электростатической

фокусировки.

При подаче ускор ющего потенциала от высоковольтного источника между катодом 3 и испарителем 5 материала создаетс  электрическое -поле, под действием которого электростатически фокусируемый поток электронов бомбардирует поверхность материала испарител  5, в результате чего он нагреваетс  и испар етс . Испар емый лоток 9 состоит из нейтральных атомов, положительных ионов и

вторичных электронов. Помещение катода 3 в непосредственной близости от испар емого материала облегчает нейтрализацию отрицательного пространственного зар да у катода полож1ительными ионами. В межэлектродном пространстве создаютс  услови  дл  возникновени  несамосто тельного электрического разр да в парах осаждаемого .материала. С помощью системы 7 коммутации высоковольтный источник .1 отключаетс  и щключаетс  дополнительный источник 6 п итани . Если плотность пара в межэлектродном промежутке в процессе работы падает, то источник 6 отключаетс  и включаетс  источник I.

Разр д характеризуетс  относительно большим анодным током и малым падением напр жени  «а участке катод - испар емый материал . Например, при исттарении меди из вольфрамового тигл  со скоростью 1,0 г/мин см ток достигал 2 а, а напр жение 400 -в.

Продольное силовое поле лосто иного электромагнита 8 обжимает столб разр да и выталкивает ионизованный лар .по иаправлению к подложке 10. В электрическом поле электрода 11 поток дополнительно фокусируетс  и уокоренный в продольном поле магнита 12 осаждаетс  иа подложку 10.

Режим испарени  устанавливаетс  по току в датчике 13 при закрытой заслонке 14. Установив требуемую скорость испарени , заслонка откры1ваетс  и произ1водитс  осаждение покрытий .

Предмет изобретени 

Устройство дл  нанесени  покрытий IB вакууме , содержащее высоковольтный источник и вакуумную камеру с расположенными внутри нее кольцевым термоэлектронным катодом, системой электростатической фокусировки и испарителем, наход щимс  иод потен-циалом анода, отличающеес  тем, что, с целью

повышени  производительности и ста-бИЛ1Изации процесса испарени , оно снабжено дополнительным источником питани , подключенным через систему коммутации к атаоду, кольцевому термоэлектронному катоду и шысоковольтному источнику, « установленным между катодом и ишариггелем посто нным электромагнитом , ось которого совмещена с оптической осью системы электростатической фокуси PQBIKM.