JPS6254066B2 - - Google Patents
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- JPS6254066B2 JPS6254066B2 JP58012257A JP1225783A JPS6254066B2 JP S6254066 B2 JPS6254066 B2 JP S6254066B2 JP 58012257 A JP58012257 A JP 58012257A JP 1225783 A JP1225783 A JP 1225783A JP S6254066 B2 JPS6254066 B2 JP S6254066B2
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- coating
- coating tank
- supply port
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Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は塗布方法に関する。
塗料が入つた塗布槽に被塗布物を浸漬させて引
き上げることにより塗布する浸漬塗布は広く採用
されている塗布方法である。この場合、塗布槽と
しては任意の形状の容器が用いられる。塗料は塗
布槽に入られるが、塗料を容器内に滞留させるよ
りも、USP2808344、USP3046156等に記載されて
いるように、塗料の濃度むらを防いだり、塗料液
面の乾燥を防ぐために、塗料を塗布槽からあふれ
させる方がより好ましい。また、この場合には、
被塗布物を塗料中に浸漬させた時だけあふれさせ
るよりも塗料を常に塗布槽に供給して、常にあふ
れさせる方が塗膜のむらが少くなる。
き上げることにより塗布する浸漬塗布は広く採用
されている塗布方法である。この場合、塗布槽と
しては任意の形状の容器が用いられる。塗料は塗
布槽に入られるが、塗料を容器内に滞留させるよ
りも、USP2808344、USP3046156等に記載されて
いるように、塗料の濃度むらを防いだり、塗料液
面の乾燥を防ぐために、塗料を塗布槽からあふれ
させる方がより好ましい。また、この場合には、
被塗布物を塗料中に浸漬させた時だけあふれさせ
るよりも塗料を常に塗布槽に供給して、常にあふ
れさせる方が塗膜のむらが少くなる。
塗布槽に連続的に塗料を供給する方法として
は、あふれ出た塗料を集めて再び塗布槽に送る方
法が合理的である。塗布槽に供給されて来る塗料
は、供給口からある流速をもつて流れ込んで来る
が、塗料が供給口から直線的に塗布槽に流入して
来ると、塗布槽内で塗料が撹乱されたり、塗料の
液面が波打つたりして、塗膜にむらを生じること
があつた。例えば電子写真感光体の感光層のよう
に、膜厚の均一性が電子写真特性に大きく寄与す
るような場合には、むらを無くすることは非常に
大きな問題である。
は、あふれ出た塗料を集めて再び塗布槽に送る方
法が合理的である。塗布槽に供給されて来る塗料
は、供給口からある流速をもつて流れ込んで来る
が、塗料が供給口から直線的に塗布槽に流入して
来ると、塗布槽内で塗料が撹乱されたり、塗料の
液面が波打つたりして、塗膜にむらを生じること
があつた。例えば電子写真感光体の感光層のよう
に、膜厚の均一性が電子写真特性に大きく寄与す
るような場合には、むらを無くすることは非常に
大きな問題である。
本発明は、塗布槽に供給される塗料が塗布槽中
の塗料の状態を乱すことによつて塗膜にむらが発
生することを防止できる塗布方法を提供すること
を主たる目的とする。
の塗料の状態を乱すことによつて塗膜にむらが発
生することを防止できる塗布方法を提供すること
を主たる目的とする。
本発明は塗料中に円柱状の被塗布物を浸漬した
後、塗料中から離脱させる塗布方法において塗布
槽の下部の供給口から流入してくる塗料を、該供
給口の上方に円板または円錐体を配置して塗布中
における流入する塗料の流れを均一にすることを
特徴とするものである。
後、塗料中から離脱させる塗布方法において塗布
槽の下部の供給口から流入してくる塗料を、該供
給口の上方に円板または円錐体を配置して塗布中
における流入する塗料の流れを均一にすることを
特徴とするものである。
即ち、本発明は円板又は円錐体によつて塗布槽
に送られる塗料が塗布槽内に直線的に流入しない
よう、塗布槽内で流れる方向をゆるやかに変える
ことであり、これにより、塗料の流入の勢いを弱
めて、流れを均一化し、塗料の撹乱を防止しよう
とするものである。特に塗料の流れが浸漬された
被塗布物に直接、当たらないようにすることが効
果的である。
に送られる塗料が塗布槽内に直線的に流入しない
よう、塗布槽内で流れる方向をゆるやかに変える
ことであり、これにより、塗料の流入の勢いを弱
めて、流れを均一化し、塗料の撹乱を防止しよう
とするものである。特に塗料の流れが浸漬された
被塗布物に直接、当たらないようにすることが効
果的である。
液の流れる方向を変える具体的方法について、
第１図および第２図に示す。第１図は本発明の方
法に用いる塗布槽の平面図、第２図はその側面図
である。２は円筒状の塗布槽で、その下部に塗料
が流入する供給口１がもうけられている。矢印７
のように上方に向つて流入させるのは、水平方向
に流入させるよりも、流れが均一化するためであ
る。受け皿４は塗布槽からあふれる塗料を回収す
るためのもので、回収口５から排出され、循環さ
れる。６は円板である。これは供給口１からの塗
料の流れを妨げないよう、供給口の外径の寸法よ
り離れていることが好ましい。しかし、あまり離
す必要もなく、塗布槽の外径の寸法以下で十分で
ある。円板の大きさは、被塗布物の外径より大き
い方が好適である。こうすることにより、供給さ
れる塗料は矢印３に示されるように塗布槽の内壁
に沿つてなめらかに上方へ流れるので、むらを生
じることがなくなる。なお、円板の代りに円錐体
を用いる場合には円錐体の頂点が下側にくるよう
に配置するのが好適である。
第１図および第２図に示す。第１図は本発明の方
法に用いる塗布槽の平面図、第２図はその側面図
である。２は円筒状の塗布槽で、その下部に塗料
が流入する供給口１がもうけられている。矢印７
のように上方に向つて流入させるのは、水平方向
に流入させるよりも、流れが均一化するためであ
る。受け皿４は塗布槽からあふれる塗料を回収す
るためのもので、回収口５から排出され、循環さ
れる。６は円板である。これは供給口１からの塗
料の流れを妨げないよう、供給口の外径の寸法よ
り離れていることが好ましい。しかし、あまり離
す必要もなく、塗布槽の外径の寸法以下で十分で
ある。円板の大きさは、被塗布物の外径より大き
い方が好適である。こうすることにより、供給さ
れる塗料は矢印３に示されるように塗布槽の内壁
に沿つてなめらかに上方へ流れるので、むらを生
じることがなくなる。なお、円板の代りに円錐体
を用いる場合には円錐体の頂点が下側にくるよう
に配置するのが好適である。
第１図では、塗布槽の下部は円すい状に示され
ているが、これは円錐体のみならず、平面状や他
の形状でもかまわない。
ているが、これは円錐体のみならず、平面状や他
の形状でもかまわない。
この塗布槽は特に円筒状の電子写真感光体を塗
布によつて製造する場合には効果的に用いられ
る。
布によつて製造する場合には効果的に用いられ
る。
以下、実施例によつて詳しく説明する。
実施例
第１図および第２図に示すような形状の内径10
cm高さ35cmの円筒状の塗布槽を作成し、底部は頂
角140゜の円錐形にしその頂上部に塗料の供給口
をもうけた。また、供給口より５cm上に直径５cm
の円板を取り付けた。供給口の断面積は1.3cm3で
ある。
cm高さ35cmの円筒状の塗布槽を作成し、底部は頂
角140゜の円錐形にしその頂上部に塗料の供給口
をもうけた。また、供給口より５cm上に直径５cm
の円板を取り付けた。供給口の断面積は1.3cm3で
ある。
次に下記構造式のジスアゾ顔料を10部（重量
部、以下同じ） 酢酸酪酸セルロース樹脂（商品名：CAB―381；
イーストマン化学製）６部およびシクロヘキサノ
ン60部を１φガラスビーズを用いたサンドミル装
置で20時間分散した。この分散液にメチルエチル
ケトン100部を加えて塗料とした。この塗料をマ
グネツトポンプを用いて0.7／分の流量で流
し、あふれた塗料は再びポンプに集めて循環する
ようにした。供給口における流速は9.0cm／秒で
あつた。
部、以下同じ） 酢酸酪酸セルロース樹脂（商品名：CAB―381；
イーストマン化学製）６部およびシクロヘキサノ
ン60部を１φガラスビーズを用いたサンドミル装
置で20時間分散した。この分散液にメチルエチル
ケトン100部を加えて塗料とした。この塗料をマ
グネツトポンプを用いて0.7／分の流量で流
し、あふれた塗料は再びポンプに集めて循環する
ようにした。供給口における流速は9.0cm／秒で
あつた。
この塗布装置にカゼイン２μの下引き処理を施
した外径８cm、長さ30cmのアルミニウムシリンダ
ーを浸漬させ、次いで８cm／分の速さで引き上げ
て0.08μの層を形成した。膜厚は一様で、そのこ
とは顔料層の色のむらがないことより確められ
た。
した外径８cm、長さ30cmのアルミニウムシリンダ
ーを浸漬させ、次いで８cm／分の速さで引き上げ
て0.08μの層を形成した。膜厚は一様で、そのこ
とは顔料層の色のむらがないことより確められ
た。
これに対し、円板をもうけなかつた塗布槽で塗
布してみると円板がないために流入する液が直線
的に上の方へ流れてゆき、それが優先的にあふれ
出るために、まわりにある液とよく混合されずに
しだいに塗布槽内部に塗料の濃度むらが発生し
た。そのため、塗膜にはむらを生じた。
布してみると円板がないために流入する液が直線
的に上の方へ流れてゆき、それが優先的にあふれ
出るために、まわりにある液とよく混合されずに
しだいに塗布槽内部に塗料の濃度むらが発生し
た。そのため、塗膜にはむらを生じた。
次いで、下記構造式のヒドラゾン化合物を10部
およびスチレン―メタクリル酸メチルコポリマ
ー（商品名：MS―200、製鉄化学製）15部をトル
エン100部に溶解して塗料とし、0.4／分の流量
で、同じ形状の塗布装置に供給して循環した。供
給口における流速は5.1cm／秒であつた。
ー（商品名：MS―200、製鉄化学製）15部をトル
エン100部に溶解して塗料とし、0.4／分の流量
で、同じ形状の塗布装置に供給して循環した。供
給口における流速は5.1cm／秒であつた。
この塗布装置を用い、既に顔料層が塗布された
シリンダーを浸漬して６cm／分の速さで引き上げ
て15μ厚の層を形成した。このようにして製造し
た電子写真感光体を、所定の電子複写機に取り付
けてコピー画像を見たところ、良好なものが、得
られた。これに対して、顔料層にむらがあつたも
のは、コピー画像にも濃度むらを生じて、非常に
見にくいものであつた。
シリンダーを浸漬して６cm／分の速さで引き上げ
て15μ厚の層を形成した。このようにして製造し
た電子写真感光体を、所定の電子複写機に取り付
けてコピー画像を見たところ、良好なものが、得
られた。これに対して、顔料層にむらがあつたも
のは、コピー画像にも濃度むらを生じて、非常に
見にくいものであつた。
第１図は本発明に用いる塗布槽の平面図であ
り、第２図はその側面図である。 １……供給口、２……塗布槽、４……受け皿、
５……回収口、６……円板。
り、第２図はその側面図である。 １……供給口、２……塗布槽、４……受け皿、
５……回収口、６……円板。
Claims (1)
- １ 塗料中に円柱状の被塗布物を浸漬した後、塗
料中から離脱させる塗布方法において塗布槽の下
部の供給口から流入してくる塗料を、該供給口の
上方に円板または円錐体を配置して塗布中におけ
る流入する塗料の流れを均一にすることを特徴と
する塗布方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1225783A JPS59139967A (ja) | 1983-01-27 | 1983-01-27 | 塗布方法 |
| US06/758,841 US4620996A (en) | 1983-01-27 | 1985-07-25 | Coating device and coating method by use thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1225783A JPS59139967A (ja) | 1983-01-27 | 1983-01-27 | 塗布方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59139967A JPS59139967A (ja) | 1984-08-11 |
| JPS6254066B2 true JPS6254066B2 (ja) | 1987-11-13 |
Family
ID=11800311
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1225783A Granted JPS59139967A (ja) | 1983-01-27 | 1983-01-27 | 塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59139967A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0375353U (ja) * | 1989-11-27 | 1991-07-29 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0685905B2 (ja) * | 1987-10-30 | 1994-11-02 | コニカ株式会社 | 塗布方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2165364A (en) * | 1938-01-19 | 1939-07-11 | Fernplas Corp | Method of and apparatus for coating articles by dipping |
| GB709572A (en) * | 1950-08-12 | 1954-05-26 | Louis Schneider & Cie | Method of and device for coating the cylindrical surface on the outside of rolls, especially for photo-mechanically producing printing rolls |
| JPS52146451A (en) * | 1976-06-01 | 1977-12-06 | Sumitomo Chem Co Ltd | Dipping apparatus |
| US4204498A (en) * | 1978-05-31 | 1980-05-27 | Emil Ivancic | Apparatus for applying coating liquid to articles |
-
1983
- 1983-01-27 JP JP1225783A patent/JPS59139967A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2165364A (en) * | 1938-01-19 | 1939-07-11 | Fernplas Corp | Method of and apparatus for coating articles by dipping |
| GB709572A (en) * | 1950-08-12 | 1954-05-26 | Louis Schneider & Cie | Method of and device for coating the cylindrical surface on the outside of rolls, especially for photo-mechanically producing printing rolls |
| JPS52146451A (en) * | 1976-06-01 | 1977-12-06 | Sumitomo Chem Co Ltd | Dipping apparatus |
| US4204498A (en) * | 1978-05-31 | 1980-05-27 | Emil Ivancic | Apparatus for applying coating liquid to articles |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0375353U (ja) * | 1989-11-27 | 1991-07-29 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59139967A (ja) | 1984-08-11 |
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