JPH1069102A

JPH1069102A - 電子写真感光体を製造するための浸漬塗布装置

Info

Publication number: JPH1069102A
Application number: JP22792496A
Authority: JP
Inventors: Takahiro Suzuki; 貴弘鈴木; Michiko Aida; 美智子相田; Yasuo Furusawa; 靖夫古澤; Toshiaki Takahashi; 利昭高橋
Original assignee: Fuji Xerox Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Business Innovation Corp
Priority date: 1996-08-29
Filing date: 1996-08-29
Publication date: 1998-03-10

Abstract

(57)【要約】【課題】浸漬塗布において塗布むらのない均一な膜厚
を有する電子写真感光体を製造できる浸漬塗布装置を提
供する。【解決手段】塗布液を収容する塗布槽、この塗布槽よ
り溢流する塗布液を受入れる液受け、この液受けから塗
布液を回収する戻り配管、貯留槽及び回収した塗布液を
塗布槽に戻す循環手段を有し、その塗布槽内の塗布液中
に、導電性基体を浸漬し、引き上げることにより塗布す
る電子写真感光体製造用浸漬塗布装置において、該塗布
槽上に遮風器を設けるとともに、該液受け及び戻り配管
の少なくとも一方に蒸気抜き口が設けられ、その少なく
とも１つの蒸気抜き口は、塗布槽中の塗布液面と略同じ
高さ位置に配置されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、浸漬塗布法により
導電性基体の表面に塗膜を形成して電子写真感光体を製
造する浸漬塗布装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】電子写真感光体は、円筒状導電性基体の
周面に感光体材料を塗布することにより製造されてい
る。そして、感光体材料の塗布方法としては、通常、塗
布液を入れた塗布槽に、基体の長手方向を垂直にして基
体を所定の深さまで浸漬した後、基体を引き上げ、次い
で、その基体を静置して自然乾燥させる方法が採用され
ている。そして、導電性基体の塗布においては、塗布さ
れる基体の上下方向の塗膜の膜厚を均一にするために、
塗布液の溶剤には、通常、速乾性の溶媒が用いられてい
る。ところが、速乾性の溶媒を用いると、塗布液の固化
は短時間で行うことができるという利点があるものの、
次のような理由により、形成される塗膜の表面状態が低
下するという欠点がある。

【０００３】外風による塗布むらを防止するために、通
常、遮風器（フード）が用いられており、これに速乾性
の溶媒を用いると、遮風器内の蒸気濃度は、塗布開始当
初における基体上方部の塗布時よりも塗布終了直前の基
体下方部の塗布時の方が、塗布時に基体から発散される
蒸気によって高濃度になり、したがって、塗布液が固化
するに要する時間が増大し、塗布膜に塗布むらが生じ易
くなる。この問題を解消するものに、遮風器を改善する
例として、特開昭５９−４２０６０号公報では、筒状遮
風器下端部の周囲に開孔を設ける方法が提案されてい
る。しかしながら、この方法では、その開孔から外風が
混入して塗布面に直接風が当るため塗布むらが発生する
という問題がある。

【０００４】また、溶剤蒸気を低減する手段としては、
特開昭５９−１２７０４９号公報に記載のように、円筒
状基体を塗布液面より引き上げる前に、液受け槽の近傍
に外部から空気を送り込み、液受け槽の近傍より溶剤蒸
気を同伴した空気を排出して、塗布槽液面から円筒状基
体を引き上げる際に、あらかじめ円筒状基体周辺の溶剤
蒸気の濃度を低減させて指触乾燥速度を促進させるも
の、及び特開平３−１５１号公報に記載のように、液受
け槽の近傍に溶剤蒸気排出口を具備させ、これをＯＮ−
ＯＦＦ機構を付与した強制排気装置に連結し、塗布液槽
液面から引き上げ時の円筒状基体周辺の溶剤蒸気濃度を
制御するもの等により、膜厚ムラを抑制する手段が採ら
れている。

【０００５】しかし、前者においては、塗布液面より蒸
発する溶剤蒸気の滞留を防止するには有効であるが、円
筒状基体の引き上げ時に形成される塗布膜より発生する
溶剤蒸気を排出できないため、円筒状基体周辺の溶剤蒸
気濃度が上昇して溶剤蒸気濃度ムラが発生することか
ら、塗膜の均一化を計ることは困難である。また、後者
においては、ＯＮ−ＯＦＦ動作において、円筒状基体周
辺で溶剤蒸気の濃度調整の追従に遅れが発生して、均一
な塗膜を形成させることは困難である。すなわち、従来
の浸漬塗布装置を用いる浸漬塗布法においては、溶剤蒸
気濃度を低減することは達成できても、それぞれの円筒
状基体の周辺における溶剤蒸気濃度にバラツキが発生す
ることから、塗布により形成される各円筒状基体の相互
間の膜厚ムラ及び一本の円筒状基体内の膜厚ムラを抑制
することができないという問題があった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】浸漬塗布法により導電
性基体を浸漬槽内の塗布液中に浸漬した後、塗布液より
引き上げて塗膜を形成する際、外風等の外気の影響を受
けて不均一な乾燥となり易く、このために膜厚の不均一
による塗布むらが生じ易くなる。その改善策として、遮
風器（フード）が用いられているが、塗布時に基体から
発散される溶剤蒸気により遮風器内の溶剤蒸気は、塗布
開始の上方塗布時よりも塗布終了直前の下方塗布時の方
が高濃度となるために、塗膜は自然乾燥され難くなり、
下端側に膜厚の不均一による塗布むらが生じ易くなる。
本発明は、従来の技術における上記した問題点を解決す
るためになされたものである。すなわち、本発明の目的
は、浸漬塗布において塗布むらのない均一な膜厚を有す
る電子写真感光体を製造できる浸漬塗布装置を提供する
ことにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の第１の浸漬塗布
装置は、塗布液を収容する塗布槽、この塗布槽より溢流
する塗布液を受入れる液受け、この液受けから塗布液を
回収する戻り配管、貯留槽及び回収した塗布液を塗布槽
に戻す循環手段を有し、その塗布槽内の塗布液中に、導
電性基体を浸漬し、引き上げることにより塗布する電子
写真感光体製造用浸漬塗布装置であって、該塗布槽上に
遮風器を設けるとともに、該液受け及び戻り配管の少な
くとも一方に蒸気抜き口が設けられ、その少なくとも１
つの蒸気抜き口は、塗布槽中の塗布液面と略同じ高さ位
置に配置されていることを特徴とする。

【０００８】本発明の第２の浸漬塗布装置は、塗布液を
収容する塗布槽、この塗布槽より溢流する塗布液を受入
れる液受け、この液受けから塗布液を回収する戻り配
管、貯留槽及び回収した塗布液を塗布槽に戻す循環手段
を有し、その塗布槽内の塗布液中に、導電性基体を浸漬
し、引き上げることにより塗布する電子写真感光体製造
用浸漬塗布装置において、該塗布槽上に遮風器を設ける
とともに、該液受け及び戻り配管の少なくとも一方に複
数の蒸気抜き口が設けられ、それらの蒸気抜き口は、塗
布槽中の塗布液面より高い位置及び低い位置に存在する
ように配置されており、かつ、それぞれの蒸気抜き口
が、導電性基体の上下動に伴って開閉する開閉機構を有
することを特徴とする。

【０００９】本発明の第３の浸漬塗布装置は、塗布液を
収容する塗布槽、この塗布槽より溢流する塗布液を受入
れる液受け、この液受けから塗布液を回収する戻り配
管、貯留槽及び回収した塗布液を塗布槽に戻す循環手段
を有し、その塗布槽内の塗布液中に、導電性基体を浸漬
し、引き上げることにより塗布する電子写真感光体製造
用浸漬塗布装置において、該塗布槽上に遮風器を設ける
とともに、該液受け及び戻り配管の少なくとも一方に蒸
気抜き口が設けられ、その蒸気抜き口の高さ位置が、導
電性基体の上下動に伴って可動する手段を有することを
特徴とする。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。本発明は、電子写真感光体の製造に
使用されている浸漬塗布装置を改善したものであって、
導電性基体上に浸漬塗布法により感光体の各層の塗膜を
形成する際に、外風を遮蔽する手段として、遮風器を用
いるとともに、その遮風器内の溶剤濃度を低下させる手
段として、液受け（フローパン）部、戻り配管部、また
はその両部に、蒸気抜き口を設けて溶剤蒸気を排出させ
て、電子写真感光体を製造する浸漬塗布装置である。本
発明における遮風器は、塗布槽の上方部に塗膜を形成す
る際に外風を遮蔽できるように、塗布槽の上方部に設け
られる。この遮風器としては、塗布槽の形状に適合する
ものであれば使用可能であるが、通常、円筒状のもので
あって、例えば、金属性の網状フード、筒状フード等が
用いられる。

【００１１】本発明の浸漬塗布装置においては、蒸気抜
き口は、浸漬塗布操作において発生する溶剤蒸気を適宜
排出させることができるように、液受け部、戻り配管
部、またはその両部に設けられる。上記蒸気抜き口の蒸
気排出口の高さは、遮風器内の溶剤等の蒸気が良好に流
出できるような位置であって、塗布液の流出面の上また
は下に約１０ｍｍ以下であることが好ましく、通常、塗
布液の流出面（オーバーフロー面）と略同じ高さとなる
ように配置する。この蒸気抜き口の高さは、溶剤蒸気の
流出量に影響を及ぼすものであり、その設置位置が高す
ぎると、蒸気の流出量が少なくなるために利点が減少す
るし、一方、その設置位置が低すぎると、蒸気の流出量
が過剰になって形成される塗膜にオレンジピール等が発
生し、成膜性を低下させることになる。

【００１２】本発明において、蒸気抜き口の設置効率を
より高めるには、蒸気抜き口の高さが、オーバーフロー
面より高い位置とオーバーフロー面より低い位置とに複
数個設けるとともに、浸漬塗布時に導電性基体を上下さ
せるに伴って、それらの蒸気抜き口を開閉できる開閉機
構を設ける。そして、その作動時には、塗布開始初期の
比較的溶剤濃度が低いときは、高い方の蒸気抜き口から
溶剤蒸気を抜き取り、一方、塗布作業が終わりに近づい
て比較的溶剤濃度が高いときは、低い方の蒸気抜き口か
ら溶剤蒸気を抜き取るように操作することにより、蒸気
排出効率をコントロールすることができる。この蒸気抜
き口としては、例えば、ジャバラ、フレキシブルホース
等により形成されるものであって、蒸気排出口をフレキ
シブル化することにより、塗布の進行に伴って蒸気抜き
口の高さを上下させるようにしてもよい。

【００１３】次に、本発明の浸漬塗布装置を、図面を参
酌して説明する。図４は、従来の浸漬塗布装置を示す概
略断面図である。図４において、１３は塗布槽、１０は
貯溜槽であり、塗布槽と貯溜槽の間を塗布液１１が循環
するように構成されている。この塗布液１１が循環する
手段は、塗布槽の下部と貯溜槽の下部との連結管中に設
けられているポンプ１２により、貯溜槽中の塗布液を塗
布槽に送り込み、その塗布槽上部の外周面よりオーバー
フローする塗布液１１を受入れる液受け７、その塗布液
を貯溜槽に還流するための戻り配管８よりなっている。
また、導電性基体（被塗布物）５を昇降可能に把持する
手段は、基台１の上に設置した昇降機用モータ１４とポ
ールネジ付きのガイドレール２によって、上下に移動可
能に取り付けられているアーム３に設けられた基体保持
具４からなっており、導電性基体５は、その基体保持具
４に把持されて、塗布槽１３内の塗布液１１中に浸漬し
た後、引き上げることにより塗布されるものである。

【００１４】図１は、本発明における浸漬塗布装置の一
例を示す概略断面図である。図１においては、上記した
図４に示す従来の浸漬塗布装置に、さらに、塗布槽１３
の上部には遮風器６を設けるとともに、戻り配管８には
蒸気抜き口９を設けたものである。図２は、本発明にお
ける他の浸漬塗布装置の要部の一例を示す概略断面図で
あって、蒸気抜き口９を、液受け７の側面壁部に設けた
ものである。

【００１５】また、図３は、本発明における他の浸漬塗
布装置の要部の一例を示す概略断面図であって、蒸気抜
き口９は、液受け７の側面壁部にオーバーフロー面より
高い位置と、戻り配管８にオーバーフロー面より低い位
置との２箇所に取り付け、塗布の進行に伴い、蒸気抜き
口９の出口部に、それぞれ蒸気抜き口９を開閉できる開
閉弁１５を設けたものである。この開閉弁１５は、導電
性基体５の昇降と高さとにより連動するようになってい
る。

【００１６】電子写真感光体には、塗膜構成の種類によ
り、一つの塗膜に電荷発生物質及び電荷輸送物質を含む
単層型のもの及び電荷発生層を含む塗膜と電荷輸送層を
含む塗膜とからなる積層型のものとがあり、また、それ
らと組合わせて電荷注入を防止するために、導電性基体
と電荷発生物質含有層の間に、下引き層や干渉防止層を
設けるものがある。

【００１７】本発明の浸漬塗布装置は、それらのいずれ
の層構成を有する電子写真感光体の作製をも対象とする
ものであり、感光層の他に、必要に応じて設けられる全
ての層を有する電子写真感光体の作製、例えば、上記し
た下引き層や干渉防止層を設ける電子写真感光体の作製
に使用することができるが、特に、積層型電子写真感光
体における電荷輸送層や単層型感光層等の膜厚２０μｍ
以上の均一膜形成に極めて有効なものである。

【００１８】本発明の浸漬塗布装置に用いられる導電性
基体としては、アルミニウム、ステンレス鋼、ニッケル
等の金属材料、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチ
レンテレフタレート、ポリプロピレン、ナイロン、ポリ
スチレン、フェノール樹脂等の高分子材料や硬質紙等の
絶縁材料に導電処理として導電物質を分散したもの、金
属箔の積層または金属の蒸着をしたもの等が挙げられ
る。また、導電性基体の形状は、通常、円筒形のもので
あって、直径φ１０〜３０ｍｍ、長さＬ２０〜１０００
ｍｍの範囲のものである。

【００１９】下引き層としては、アクリル系、メタアク
リル系、塩化ビニル系、酢酸ビニル系、エポキシ系、ポ
リウレタン系、フェノール系、ポリエステル系、アルキ
ッド系、ポリカーボネート系、シリコン系、メラミン系
等の各種樹脂類やジルコニウム化合物、チタニウム化合
物、シランカップリング剤等を含有した上記樹脂類が用
いられる。電荷発生物質としては、アゾ顔料、ジスアゾ
顔料、キノン顔料、キノシアニン顔料、ペリレン顔料、
インジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾール、フタロシアニ
ン、キナクリドン顔料、ピリリウム塩、アズレニウム
塩、三方晶型セレン等が用いられる。

【００２０】電荷輸送物質としては、アントラセン、ピ
レン、フェナントレン、コロネン等の多環芳香族化合
物、インドール、カルバゾール、オキサゾール、イソオ
キサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、
オキサジアゾール、ピラゾリン、トリアゾール等の含窒
素複素環式化合物、トリフェニルメタン系、トリフェニ
ルアミン系、ジベンジルアニリン系、ベンジジン系、エ
ナミン系、スチルベン系、ヒドラゾン系等の化合物等が
用いられ、さらにまた、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール
及びその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニルアント
ラセン、ポリビニルアクリジン、ポリ−９−ビフェニル
アントラセン、ピレン−ホルムアルデヒド樹脂、エチル
カルバゾール−ホルムアルデヒド樹脂等の光導電性ポリ
マーも用いられる。

【００２１】塗膜の形成に用いる結着樹脂としては、ポ
リカーボネート、ポリアリレート、ポリスチレン、ポリ
メタクリル酸エステル類、スチレン−メタクリル酸メチ
ル共重合体、ポリエステル、スチレン−アクリロニトリ
ル共重合体、ポリサルホン、ポリ酢酸ビニル、ポリアク
リロニトリル、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロ
リドン、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロー
ス、セルロースエステル類等があげられる。

【００２２】塗布液の溶剤（溶媒）としては、発揮性が
高く、かつ、その蒸気密度が空気よりも大きい溶剤が好
適に用いられ、例えば、ｎ−ブチルアミン、ジエチルア
ミン、エチレンジアミン、イソプロパノールアミン、ト
リエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ベ
ンゼン、４−メトキシ−４−メチルペンタノン、ジメト
キシメタン、ジメトキシエタン、２，４−ペンタジオ
ン、アニソール、３−オキソブタン酸メチル、モノクロ
ロベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム、１，
２−ジクロロエタン、ジクロロメタン、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、イソプロ
パノール、１−ブタノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、
ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブ、メチルセロソルブアセテート等があげられる。

【００２３】単層型電子写真感光体の製造に用いる塗布
液は、上記の電荷発生物質、電荷輸送物質、結着剤樹脂
及び溶剤を適宜混合（分散）して調整される。また、積
層型電子写真感光体の製造に用いる塗布液は、上記の電
荷発生物質、結着剤樹脂および溶剤を適宜混合（分散）
して調整される電荷発生層の塗布液と、上記の電荷輸送
物質、結着剤樹脂及び溶剤を混合して調整される電荷輸
送層の塗布液とを別々に調整される。また、単層型及び
積層型電子写真感光体において、必要に応じて設けられ
る下引き層は、上記の下引き層物質及び溶剤を混合して
調整される塗布液を用いて形成される。

【００２４】

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の
実施例に限定されるものではない。なお、以下の各例に
おいて使用した構造式（１）〜（６）の化合物及び塗布
液の組成を以下に示す。

【００２５】

【化１】

【００２６】上記化合物において、構造式（１）の化合
物は、松本製薬社製の商品名「オルガチックスＺＣ５４
０」であり、構造式（３）で示される化合物は、積水化
学社製の商品名「エスレックＢＭ−Ｓ」である。また、
構造式（３）、構造式（５）及び構造式（６）の化合物
は、それぞれの繰り返し単位を有する化合物であること
を意味する。

【００２７】［塗布液の組成］塗布液Ａ（下引き層用）構造式（１）のジルコニウム化合物２０重量部構造式（２）のシランカップリング剤２重量部構造式（３）のポリビニルブチラール樹脂２重量部１−ブタノール７０重量部塗布液Ｂ（電荷発生層用）クロルガリウムフタロシアニン５重量部構造式（６）の塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体５重量部酢酸ｎ−ブチル２００重量部を１ｍｍφのガラスビーズを用いたサンドミルで２時間分散して得られた分散液塗布液Ｃ（電荷輸送層用）構造式（４）の電荷輸送物質１重量部構造式（５）のポリカーボネート樹脂１重量部モノクロルベンゼン２重量部テトラヒドロフラン４重量部

【００２８】実施例１湿式ホーニング処理によって表面粗度Ｒａを０．２０と
した３０ｍｍφ×３４０ｍｍＬの円筒状アルミニウム基
体に、図４に示す浸漬塗布装置（通常の塗布装置）を用
いて、下引き層用塗布液Ａを乾燥膜厚が１．０μｍにな
るような引上げ速度で塗布し、２分間自然乾燥した後、
１５０℃で１０分間乾燥させて下引き層を形成した。次
いで、その下引き層の上に、図４に示す浸漬塗布装置を
用いて、電荷発生層用塗布液Ｂを乾燥膜厚が０．２μｍ
になるような引上げ速度で塗布し、１分間自然乾燥した
後、１００℃で１０分間乾燥させて電荷発生層を形成し
た。さらに、その電荷発生層の上に、図１に示す浸漬塗
布装置（蒸気抜き口の高さを、オーバーフロー面と同じ
高さに設定したもの。）を用いて、電荷輸送層用塗布液
Ｃを乾燥膜厚が２５μｍになるような引上げ速度で塗布
し、２分間自然乾燥した後、１３５℃で４０分間乾燥さ
せることにより電子写真感光体を作製した。

【００２９】比較例１実施例１において、電荷輸送層を形成する際に、図４に
示す浸漬塗布装置を用いたこと以外は、実施例１と同様
にして電子写真感光体を作製した。実施例２実施例１において、電荷輸送層を形成する際に、図２に
示す浸漬塗布装置（蒸気抜き口の高さを、オーバーフロ
ー面と同じ高さに設定したもの。）を用いたこと以外
は、実施例１と同様にして電子写真感光体を作製した。

【００３０】比較例２実施例１において、電荷輸送層を形成する際に、図１に
示す浸漬塗布装置（蒸気抜き口の高さを、オーバーフロ
ー面より２０ｍｍ高く設定したもの。）を用いたこと以
外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を作製し
た。比較例３実施例１において、電荷輸送層を形成する際に、図１に
示す浸漬塗布装置（蒸気抜き口の高さを、オーバーフロ
ー面より２０ｍｍ低く設定したもの。）を用いたこと以
外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を作製し
た。

【００３１】実施例３実施例１において、電荷輸送層を形成する際に、図３に
示す浸漬塗布装置（蒸気抜き口を、オーバーフロー面よ
り２０ｍｍ高い位置と２０ｍｍ低い位置との２個設定し
たもの。）を用い、その塗布作業としては、塗布開始時
よりアルミニウム基体が３０ｍｍ塗布されるまでは高い
位置の蒸気抜き口のみを開口し、それ以後の塗布は低い
位置の蒸気抜き口のみを開口するように操作したこと以
外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を作製し
た。

【００３２】実施例４実施例１において、電荷輸送層を形成する際に、図１に
示す浸漬塗布装置（蒸気抜き口をジャバラで作製し、そ
の高さはオーバーフロー面より＋２０ｍｍ〜−２０ｍｍ
の範囲で可変としたもの。）を用い、その塗布作業とし
ては、蒸気抜き口の高さを、塗布開始時よりアルミニウ
ム基体が２０ｍｍ塗布されるまでは＋２０ｍｍの位置と
し、その後４０ｍｍ塗布されるまでは±０ｍｍの位置と
し、それ以後は−２０ｍｍの位置となるように操作した
こと以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を作
製した。

【００３３】比較例４実施例１において、電荷輸送層を形成する際に遮風器を
用いないこと以外は、実施例１と同様にして電子写真感
光体を作製した。比較例５実施例１において、電荷輸送層を形成する際に、図４に
示す浸漬塗布装置の遮風器に、図５に示す蒸気抜き口付
きフードを取り付けたこと以外は、実施例１と同様にし
て電子写真感光体を作製した。

【００３４】実施例５実施例１において、電荷輸送層を形成する際に、図１に
示す浸漬塗布装置（蒸気抜き口の高さを、オーバーフロ
ー面と同じ高さに設定したもの。）の遮風器として、図
６に示す網状フード（メッシュサイズ７５μｍ）を用い
たこと以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を
作製した。

【００３５】上記実施例１〜５及び比較例１〜５で形成
された電子写真感光体について、電荷輸送層の膜厚を、
干渉膜厚計（ＭＣＰＤ−２０００、大塚電子社製）によ
り測定し、その均一性について評価を行った。その測定
内容を以下に示す。［上端部膜厚ダレ評価法］長さ３４０ｍｍ、直径３０ｍ
ｍの円筒状アルミニウム基体（以下、単に「パイプ」と
いう。）に、上記各例により形成された電荷輸送層の膜
厚を測定した。その評価は、図７に示すように、平均膜
厚（パイプの５０〜３００ｍｍの位置における膜厚の平
均値）と、塗布開始（パイプ端）から１５ｍｍの位置及
び２０ｍｍの位置における膜厚との差を、それぞれダレ
１（１５ｍｍ）及びダレ２（２０ｍｍ）として評価し
た。この膜厚ダレの判定は、ダレ１で１．５μｍ未満、
ダレ２で１μｍ未満のものを○とし、それ以上のものを
×とした。［面内ムラ評価法］図８に示すように、上記パイプの端
部から５０ｍｍ、１７０ｍｍ及び２９０ｍｍの位置にお
いて、周方向に９度の間隔で４０点について測定した膜
厚の最大値と最小値の差を、それぞれ面内ムラ１（５０
ｍｍ）、面内ムラ２（１７０ｍｍ）及び面内ムラ３（２
９０ｍｍ）とすることにより評価した。この面内ムラの
判定は、２．５μｍ未満のものを○とし、それ以上のも
のを×とした。また、総合判定は、上記したダレ、面内
ムラ評価及び表面性の観察結果を合わせて良好なものを
○とし、その他を×とした。それらの測定及び評価の結
果を表１に示す。

【００３６】

【表１】

【００３７】表１によれば、実施例で作製した電子写真
感光体では、いずれも比較例のものに比べて形成される
薄膜のダレ及び面内ムラが小さいことから、均一性の高
い膜厚を有する良好なものであった。また、その感光体
の上端部膜厚ダレは、蒸気抜き口を比較的低く配置して
排出効率を高めることが好ましい。しかし、その排出量
が多すぎると、オレンジピール等の障害が発生すること
になる。さらに、蒸気抜き口は、その高さを調節するこ
とにより排出効率をコントロールすることができるが、
塗布槽からの塗布液流出面とほぼ同じ高さにするか、ま
たは、塗布作業の進行に合わせて高さを変動させること
が望ましいことが判った。

【００３８】

【発明の効果】本発明の浸漬塗布装置は、遮風器及び蒸
気抜き口を設けるとともに、その蒸気抜き口の高さを調
整することにより蒸気の濃度コントロールを行うことが
できるから、塗布むらの少ない優れた感光体特性を有す
る電子写真感光体を工業的に有利に製造できるものであ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明における浸漬塗布装置の一例を示す概
略断面図である。

【図２】本発明における浸漬塗布装置の他の一例の要
部を示す概略断面図である。

【図３】本発明における浸漬塗布装置の他の一例の要
部を示す概略断面図である。

【図４】従来の浸漬塗布装置を示す概略断面図であ
る。

【図５】本発明における浸漬塗布装置の他の一例の要
部を示す概略断面図である。

【図６】本発明における浸漬塗布装置に、遮風器とし
て使用される円筒形網状体の一例を示す斜視図である。

【図７】電子写真感光体の膜厚を測定したグラフであ
る。

【図８】電子写真感光体の膜厚の測定位置を示す概略
説明図である。

【符号の説明】

１…基台、２…ガイドレール、３…アーム、４…基体保
持具、５…導電性基体、６…遮風器、７…液受け、８…
戻り配管、９…蒸気抜き口、１０…貯溜槽、１１…塗布
液、１２…ポンプ、１３…塗布槽、１４…昇降機用モー
タ、１５…開閉弁。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者高橋利昭神奈川県南足柄市竹松1600番地富士ゼロックス株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】塗布液を収容する塗布槽、この塗布槽よ
り溢流する塗布液を受入れる液受け、この液受けから塗
布液を回収する戻り配管、貯留槽及び回収した塗布液を
塗布槽に戻す循環手段を有し、その塗布槽内の塗布液中
に、導電性基体を浸漬し、引き上げることにより塗布す
る電子写真感光体製造用浸漬塗布装置において、該塗布
槽上に遮風器を設けるとともに、該液受け及び戻り配管
の少なくとも一方に蒸気抜き口が設けられ、その少なく
とも１つの蒸気抜き口は、塗布槽中の塗布液面と略同じ
高さ位置に配置されていることを特徴とする電子写真感
光体製造用浸漬塗布装置。
【請求項２】塗布液を収容する塗布槽、この塗布槽よ
り溢流する塗布液を受入れる液受け、この液受けから塗
布液を回収する戻り配管、貯留槽及び回収した塗布液を
塗布槽に戻す循環手段を有し、その塗布槽内の塗布液中
に、導電性基体を浸漬し、引き上げることにより塗布す
る電子写真感光体製造用浸漬塗布装置において、該塗布
槽上に遮風器を設けるとともに、該液受け及び戻り配管
の少なくとも一方に複数の蒸気抜き口が設けられ、それ
らの蒸気抜き口は、塗布槽中の塗布液面より高い位置及
び低い位置に存在するように配置されており、かつ、そ
れぞれの蒸気抜き口が、導電性基体の上下動に伴って開
閉する開閉機構を有することを特徴とする電子写真感光
体製造用浸漬塗布装置。
【請求項３】塗布液を収容する塗布槽、この塗布槽よ
り溢流する塗布液を受入れる液受け、この液受けから塗
布液を回収する戻り配管、貯留槽及び回収した塗布液を
塗布槽に戻す循環手段を有し、その塗布槽内の塗布液中
に、導電性基体を浸漬し、引き上げることにより塗布す
る電子写真感光体製造用浸漬塗布装置において、該塗布
槽上に遮風器を設けるとともに、該液受け及び戻り配管
の少なくとも一方に蒸気抜き口が設けられ、その蒸気抜
き口の高さ位置が、導電性基体の上下動に伴って可動す
る手段を有することを特徴とする電子写真感光体製造用
浸漬塗布装置。