JPS6253962A - ２−フエニルインド−ル誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な２−フェニルインドール誘導体に関し、
さらに詳しくは式 式中、 Ｒ１は低級アルキル基を表わし； Ｒ３及びＲ３は各々直鎖状の低級アルキル基。

を表わし； Ｒ４、Ｒｓ及びＲ６は各々水素原子、ハロゲン原子、低
級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルカノイルオ
キシ基、アラルキルオキシ基、低級アルキルチオ基、低
級ハロアルキル基、ヒドロキシル基、シアン基、ニトロ
基、アミノ基、モノ−もしくはジー（低級アルキルもし
くはアラルキル）アミノ基、又は式表わし、ここで、Ｒ
７は炭素原子数２個以上の°低級アルキレン基を表わし
、Ｒ８及びＲ９の一方は水素原子又は低級アルキル基を
表わし且つ他方は低級アルキル基を表わし、そしてＲ１
゜は水素原子又は低級アルキル基を表わすか、或いはＲ
４、Ｒ，及びＲ・のうちの隣接する２つは一緒になって
低級アルキレンジオキシ基を表わし； Ｙｌは水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換
されていてもよいベンジルモジ＜こで、Ｒ１、Ｒ８及び
Ｒ９は上記の意味を有する）の基を表わし； Ｙ２は水素原子、アミノ基もしくはカルボキシル基で置
換されていてもよい低級アルカノ（ここで、Ｒ１、Ｒ，
及びＲｏは上記の意味を有する）の基を表わす、 で示される化合物及びその塩に関する。

２−フェニルインドール誘導体としては、従来、例えば
、特開昭５１−１１７６２号公報には２−（３，ｓ−ジ
メチル−４−ヒドロキシフェニル）インドールが塩化ビ
ニル系重合体の安定剤として有用であることが開示され
ており、またワイ拳イソムラ他ケミカル・アンド・ファ
ーマシューテイカルービュレテイｙ　（Ｙ　、Ｉｓｏｍ
ｕｒａ　ａｔ　ａｌ・。

Ｃｈｔｔｍ、　ｐｈａｒｍ、　Ｉｈｂｌｌ、）　、　３
１巻３１６８−３１７１１頁（１９８３年）には成る種
の２−（３，５−ジー　ｔａｒｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）インドール誘導体が抗炎症作用を有して
いることが開示されている。

一方、５−リポキシゲナーゼ阻害活性を有するインドー
ル誘導体として、本発明者らは先に、１−位がＣ＠”’
ＣＩｍアルキル基又はアルケニル基で置　　。

換され、セして２−位Ｋｐ−置換フェニル基が結合した
或′る種のインドール誘導体を開示した（特開昭５８−
１６２５・７３号公報）。

また、本発明者らは、３−位がｎ−ブチルチオ、フェニ
ルチオ又はピリジルチオ基で置換された２−７ｚニルイ
ンド一ル訪導体がリポキシゲナーゼ阻害作用及びシクロ
オキシゲナーゼ阻害作用を有していることを開示した（
＃／＃開昭６０−１３０５６７号公報）。

今回、本発明者らは、前記式（１）で示される２−フェ
ニルインドール誘導体は従来の文献に未載の新規な化合
物であり、且つ多価不飽和脂肪酸のりボキシゲナーゼ阻
害作用に優れていることを見い出し本発明を完成するに
至ったものである。

多価不飽和脂肪酸、殊にアラキドン酸は生体膜に存在す
るリン脂質の構成成分であり、諸種刺激（例えば、起炎
刺激、抗原−抗体反応（免疫刺激）等）によシ、生体膜
から細抱内に遊離される。遊離されたアラキドン酸は、
通常シクロオキシゲナーゼ及びリポキシゲナーゼにより
代謝されるが、このうち５−リポキシゲナーゼによって
代謝生成されるスロー・リアクテイング・サブスタンス
・オブ・アナフイラキシス（ｓｌｏｗ　ｒｅａｃｔｉｎ
ｇｓｕｂｓｔａ′ｎＩＭｏｆ　ａｎａｐｈｙｌａｘｉｓ
（Ｓ　ＲＳ　−Ａ　）　）は、アレルギー反応に関与す
るアレルギー症状の原因物質の１つであると考えられて
いる。また、多価不飽和脂肪酸のりボキシゲナーゼ代謝
産物である過酸化脂肪酸は、生体組織の防禦に重要な役
割を果すプロスタサイクリンの生成を阻害するなど、Ｌ
←Ｉ−ｋ　Ｉｒ皿掲を身心４具ｎタート従来、リポキシ
ゲナーゼの阻害剤としては３−アミノ−１−（３−トリ
フルオロメチルフェニル）−２−ピラゾリン（ＪＦ７５
５（’）及び５，８゜１１．１４−エイコナテトライン
酸等が知られているが、共に特異性に欠け、リポキシゲ
ナーゼのみならずシフ四オキシゲナーゼをも阻害するも
のであった。

しかるに、本発明によシ提供される前記式（りの化合物
は、多価不飽和脂肪酸のりボキシゲナーゼ、殊に５−リ
ポキシゲナーゼを特異的に阻害し、特に経口投与する場
合にも優れた阻害作用を発揮するという従来にないユニ
ークな作用を有し、喘息、アレルギー性皮膚炎、アレル
ギー性鼻炎、食品アレルギー等のアレルギー反応を効果
的に抑制し、及び／又は過酸化脂肪酸の産生を抑制して
生体組織をこれら過酸化物から防禦するのに極めて有用
である。

本明細書において「低級」表る語は、この語が付された
基又は化合物の炭素原子数が６個以下、＃噂１／）＋４
６１！Ｊ丁〒木入とふか嵜−千入−前記式（１）におい
て「低級アルキル基」としてハ、例エバメチル、エチル
で竹−プロビル、イ８０−プロピル、ｎ−ブチル、５ｅ
ｃ−ブチル、ｔａｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘ
キシル基等が挙げられ、「低級アルコキシ基」としては
、例えばメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、１ｓｏ
−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｔｔｔｒｔ−ブトキシ、
ｎ−へキシルオキシ基等が包含される。また、「低級ア
ルカノイルオキシ国としてはアセチルオキシ、プロピオ
ニルオキシ基等が挙げられ、「アラルキル基」としては
例えばベンジル、フェネチル基等が包含される。さらに
、「低級アルキルチオ基」としては、例えばメチルチオ
、エチルチオ基等が含まれ、「低級ハロアルキル基」に
はトリフルオロメチル基等が挙げられる。

「モノ−もしくはジー（低級アルキルもしくはアラルキ
ル）アミノ基」の例には、ジエチルアミノ、メチルアミ
ノ、ベンジルアミノ基等が含まれ、等。

他方、「ハロゲン原子」にはフッ素、塩素及び臭素原子
が包含される。

さらに、「ハロゲン製粒で置換されていてもよいベンジ
ルもしくはベンゾイル基」としては例えハヘンジル、４
−クロロベンジル、４−ブロモベンジル、ベンゾイル、
４−クロロベンソイル、３゜４−ジクロロベンゾイル、
４−ブロモベンソイル基等が挙げられ、「アミノ基もし
くはカルボキシル基で置換されていてもよい低級アルカ
ノイル基」としては例えばアセチルＡプロピオニル、ブ
チリル、グリシル、アラニル、β−アラニル、バリル、
ロイシル、イリロイシル、２−カルボキシアセチル、３
−カルボキシプロピオニル、４−カルボキシブチリル基
等を挙げることができる。

しかして、本発明により提供される前記式（１）の化合
物の代表例を示せば次のとおりである。

−　喚　−ζ　鳴　−ζ　喚　喚　鳴　頃　哨　噴　ｍ
−−噴　−−噴　喚　鳴　ζ　喚　喚　喚　喚　襖−ｅ
ｌｌ　　　＋＋Ｉ　　　Ｔ−１ｍｌ−ｍ　　　−へ　　
ｅｌｌ　　　へ　　ｃＶｌ　　　へ　　へ−　鳴　鳴　
ζ　膿　喚　喚　虫　鳴　喚　喚　喚　鳴　鳴　ζ　ｍ
−鳴　喚　鳴　ζ　鳴　鳴　鳴　鳴　鳴　襖　噴　鳴　
鳴　鳴　ｍ−喚　喚　喚　ζ　鳴　鳴　喚　ζ　ζ　喚
　褌　−ζ　鳴鳴 瞬　　　　　　噂　　　１６　　　　祷　　　　　　　
　り鳴　　　鳴　　　ζ　　　鳴　喚　哨 ″　　　　　　　　ｌＩＩ＃Ｉ 喚　　　喚　　　喚　　　喚　喚　喚 ＣＪ　　　　　θ　　　θ　　　　θ　（（ト　　ψ　
　　［相］　　　０　　−　　〜　　　の　　　−１哨
　　　噂　　　ψ　　　ψ　　　ψ　　　ψ　　　ψこ
れら式（１）の化合物の中、Ｒ８とじてはメチル又はエ
チル基が好適であり、また、Ｒ１及びＲ３としてはメチ
ル又はエチル基、殊にメチル基。

が好適である。

また、穴口）の化合物中、好適な化合物としては、下記
式 式中、 Ｒ□はメチル基又はエチル基を表わし；Ｒ４１、ＲＩＩ
及びＲＩ１のうちの１つ又は２つは水素原子、低級アー
キル基、低級アー・＝シ基、低級アルカノイルオキシ基
、ベンジルオキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、
又噂　　　　　や　　　　　ト　　　　　ω　　φ　　
ロ轡　噂　の　ψリド Ｒ？１はＣ２又はＣ，アルキレン基を表わし、Ｒａｔ及
びＲｏｌは各々低級アルキル基を表わし、そして残りは
水素原子又は低級アルコキシ基を表わし、 Ｙｌｌは水素原子又はハロゲン原子で置換されていても
よいベンゾイル基を表わし； Ｙ□は水素原子又はアミノ基で置換されている低級アル
カノイル基を表わす、 の化合物が挙げられる。上記式（１，−１）において、
Ｒ４１、ＲＩ、及びＲ−１のうちの１つが水素原子、メ
チル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、
１ｓｏ−プロポキシ基、アセチルオキシ基、ベンジルオ
キシ基、メチルチオ基、アミノ基、であり、モして残抄
が水素原子又はメトキシ基を表わすものが好適であり、
就中、Ｒ６１は水素原子であるのが望ましい。

また、上記式（１−１）において、Ｙｌｌは水素原子又
はベンゾイル基を表わし、Ｙ３は水素原子又はアラニル
基を表わすものが特に好ましい。

後述する薬理効果の観点からすれば、上記（ｌ−１）に
おいて、Ｒ４１が水素原子、低級アルキル。

基、低級アルコキシ基又はアミノ基を表わし、そしてＲ
・、１及びＲ６，が水素原子又は低級アルコキシ基を表
わすのが有利であり、中でも、次に挙げる化合物が好ま
しい： ２−（４−ヒト四キシー３，５−ジメチルフェニル）−
５−メト＋シー３−メチルインドール、２−　（４−ヒ
ドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３−メチルイ
ンドール、 ２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−
ａ、ｓ−ジメチルインドール、５−アミノ−２−（４−
ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３−メチル
インドール、２−（１−ヒドロキシ−３，５−ジメチル
７エ二ル）−３−メチル−５−インプロポキシインドー
ル、 ２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−
ｓ、ｇ−ジメトキシ−３−メチルインドール、 ３−エチル−２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチル
フェニル）−５−メトキシインドール１．１−ベンゾイ
ル−２−（４−ヒドロキシ−３゜５−ジメチルフェニル
）−３−メチルインドール、２−（４−アラニルオキシ
−３，５−ジメチルフェニル）−５−メトキシ−３−メ
チルインドール。

また、式（りの化合物は塩として存在するととができ、
そのような塩の例としては、ナトリウム、・カリウム等
の金属塩又は塩酸、硫酸、リン酸等の無機酸或いは酢酸
、クエン酸等の有機酸との塩等が挙げられ、中でも製薬
学的に許容しうる塩が好ましい。

前記式（宣）の化合物は、それ自体公知のフィッシャー
インドール合成法に従って製造することができ、具体的
には、例えば式 式中、Ｒ４、ＲＩＩ　、Ｒ＠及びＹｌは前記の意味を有
する、 のフェニルヒドラジン化合物又はその塩を弐式中、Ｚは
水素一原子、低級アルキル基、アラルキル基、低級アル
カノイル基又は式 びＲ１は前記の意味を有する、 の化合物と反応させ、得られる式 式中、Ｒ１、Ｒ，、Ｒ，、Ｒ，、Ｒｓ、Ｒ６、Ｙ、及び
Ｚは前記の意味を有する、 の化合物を環化して式 式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ８１Ｒ４、Ｒ１、Ｒ６、Ｙ、及び
Ｚは前記の意味を有する、 の化合物を生成させ、次いでＺが低級アルキル基又はア
ラルキル基である場合の式（Ｖ）の化合物から該基Ｚを
離脱させ、そして必要に応じてＹｌが水素原子である場
合の式（Ｖ）の化合物のインドール環の１位に低級アル
キル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいベンジル
基又は式てＺが水素原子である場合の式（Ｖ）の化合物
のインドール環の２位のフェニル基のパラ位のヒドロキ
シル基を式−ＯＹ　ｎ　（ここで、Ｙ工はＹ、の定義か
ら水素原子を除いたものを表わす）の基に換えることに
より製造することができる。

上記反応において、式（１）の化合物又はその塩と式（
ＩＩ）の化合物との反応は、通常適当な溶。

媒中で、例えば、メタノール、エタノール、プロパツー
ルの如きアルコール類；テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンの如きエーテル類等の中で、或いはこれらの溶媒の二
種以上の混合溶媒等の中で行なうことができる。反応温
度は臨界的ではなく使用する出発原料の種類や溶媒の種
類等に応じて広範に変えることができるが、一般には室
温乃至反応混合物の還流温度、好ましくは５０℃乃至反
応混合物の還流温度の範囲内の温度で反応を行なうこと
が望ましい。かかる温度条件下に反応は通常数分乃至５
時間程度で終らせることができる。

また、上記の反応は適宜酸触媒の存在下に行なうととが
できる。使用しうる酸触媒としては、例えばトリフルオ
ロ酢酸、氷酢酸の如き有機酸を塩酸、硫酸の如き無機酸
等が挙げられ、これら触媒は一般に式（１）の化合物１
モル当ｔ）１／１０００〜１０、好ましくは１／１０〜
１モル程度の量で使用することができる。尚、上記式（
１）め化合物を塩酸塩又は硫酸塩の形態で用いる場合、
上記酸触媒は特に必要はない＠ 式（１）の化合物又はその塩に対する式（ｍ）の化合物
の使用量も特に制限されるものではないが、式（１）の
化合物又はその塩１モル当り式（Ｉｔ）の化合物は通常
寮１〜２モル、特に１〜１．１モルの割合で使用するの
が有利である。

上記反応において出発原料として使用する式（１）の化
合物は大部分既知のものである。また、該化合物と反応
せしめられる式（ｆｆｉ）の化合物もまた少なくとも部
分的には既知であり〔例えば、ピルタン囃デ勢う−ンシ
ステ・シミク・デ・フラｙｘ　（Ｂｕｌｌ、　Ｓｏｃ、
　ＣｈｉｒＩＬ、Ｆｒａｎｃｅ）　、　１　ｇ　６６年
６４０頁参照〕、また、新規なものであっても既知の方
法、例えばフリース転位又はフリーデルクラフト反応を
用いて製造することができる。

上記の反応により前記式（ＩＶ）の化合物が生成し、こ
のものはそのまま或いは常法に従い一旦反応混合物から
分離した後、環化反応に付すことができる。

式（Ｉ／）の化合物の環化け、溶媒の不在下に又ハ適当
な溶媒、例えば塩化メチレン、クロロホル。

ム、四塩化炭素、テトラクロロエタンの如きハロゲン化
炭化水素類等の中で、式（ｌの化合物をポリリン酸（五
酸化リンとリン酸の任意の割合の混合物も含む）又はそ
の有機エステル（例えば、ポリリン酸エチルエステルの
ようなポリリン酸の低級アルキルエステル、ポリリン酸
のトリフチルシリルエステルのようなポリリン酸のトリ
アルキルシリルエステル）、又はルイス酸例えば４塩化
スズ、４塩化チタン等で処理するか、或いは式（吟の化
合物を酸性アルコール溶媒で処理することによル行なう
ことができる。前者のポリリン酸もしくハソの有機エス
テル又はルイス酸での処理は一般に４０〜１５０℃、好
ましくは６０〜１２０’Ｃの温度で行なうことができ、
後者の酸性アルコール溶媒（例えば、メタノール、エタ
ノール、プロパツール、イソプロパツール、エチレンク
リコールの如きアルコール類中に無水塩化水素を飽和さ
せたもの等）による処理は一般に室温乃至反応混合物の
還流温度、好ましくは５０℃乃至反応混合物の還流温度
で行なうことができ石。

上記ポリリン酸もしくはその有機エステル又はルイス酸
の使用量は臨界的ではないが、通常、式（ｌの化合物に
対して少なくともほぼ等重量、好ましくは５〜５０倍重
量の過剰量で使用するのが有利である。また、上記酸性
アルコール溶媒は該アルコール溶媒中の酸の当量として
、式（Ｐ／）の化合物１モル当り少なくともほぼ！当量
、好ましくは大過剰量の割合で使用することができる。

上記環化反応により前記式（Ｖ）の化合物が良好な収率
で得られる。

かくして得られる前記式（Ｖ）の化合物においてＺが低
級アルキル基を表わす場合には、脱アルキル反応に付し
て該基Ｚを離脱させることにょシ本発明の式（１）の化
合物に導くことができる。

該脱アルキル反応はそれ自体公知の方法で行なうことが
でき、例えば、式（ｖ）の化合物を通常、溶媒の不在下
で、或いは適当な溶媒、例えばテトラリｙ１　キノリン
等の中で、ビリジニウムノ・ライト責例えば塩化ピリジ
ニウム）やノ・ロゲン化水素酸（例えば塩化水素酸、臭
化水素酸）等と共に加。

熱下、例えば約１５０乃至２００℃の温度で処理するこ
とにより行なうことができる。

また、Ｚがアラルキル基を表わす場合の式（Ｖ）の化合
物からの該アラルキル基の離脱は、それ自体既知の方法
、例えば、エタノール、プロパツール等の不活性有機溶
媒中、パラジウム触媒、ニッケル触媒等の存在下に常圧
乃至数気圧の圧力において水素添加することにより行な
うことができる。

さらに、前記式（Ｖ）の化合物においてＹｌが水素原子
を表わす場合は、必要に応じてその水素原子を低級アル
キル基、ハロゲン原子で置換され基に換えることができ
る。

該変換は、例えば式（Ｖ）の化合物を先ず水素化ナトリ
ウムで処理してインドール環の１位の水素原子をナトリ
ウム原子で置換しておいて、しかる後低級アルキルノー
ライド、／Ｓロゲン原子で置換サレテイてもよいベンジ
ルハライド又は穴子を表わす）の化合物と反応させるこ
とによシ行なうことができる。この反応に用いられる式
（Ｙ）の化合物としては、Ｚが水素原子以外の基でらる
ものが好ましく、Ｚが低級アルキル基又はアラルキル基
である場合にはこのＺは上記変換の後、前記と同様にし
て離脱せしめられる。

さらにまた、前記式（Ｖ）の化合物においてＺが水素原
子を表わす場合にも、必要に応じてその水素原子をアミ
ノ基もしくはカルボキシル基で置換されていてもよい低
級アルカノイル基、えることができる。

未置換の低級アルカノイル基への変換は、式（Ｖ）の化
合物を例えば低級アルカノイルハライド又は低級アルカ
ン酸無水物と反応させることにより行なうととができ、
カルボキシル基で置換されている低級アルカノイル基、
への変換は、例えば水素化ナトリウムで処理された式（
Ｖ）の化合物を低級アルキルジカルボン酸無水物と反応
させることにより行なうことができる。

また、アミノ基で置換されている低級アルカノイル基へ
の変換は、例えば式（Ｖ）の化合物をブロモ置換低級ア
ルカノイルハライドと反応させ、次いで該ブロモ基を亜
硝酸ナトリウムで処理してニトロ基に換え、しかる後肢
ニトロ基を接触還元することにより行なうことができ、
−ｐＯ（ＯＨ）ｔの基への変換は、例えば水素化ナトリ
ウムで処理された式（Ｖ）の化合物をジベンジルクロロ
ホスホネートと反応させ、得られるジベンジルエステル
を接触還元することにより達成することができの化合物
を反応させることによって該水素原子をかくして得られ
る式（１）の化合物はそれ自体公知の方法に従い、例え
ば抽出、濾過、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィ
ー、薄層クロマトグラフィー等の方法により反応混合物
から分離し及び／又は精製することができる。

上記の如くして得られる式（りの化合物において、Ｒい
Ｒ１及びＲ６のうちの少なくとも１つが水素原子である
場合には、該水素原子を通常の芳香環のニトロ化法に従
い〔例えばジャーナル・オブ・オーガニック・ケミスト
リー（Ｊ、Ｏｒｇ。

Ｃｈｔｔｍ、）　、　３１巻６５−６９頁（１９６６年
）参照〕、例えば、濃硫酸中で硝酸カリウムと反応させ
ることによりニトロ基と置換することができ、また、Ｒ
４、Ｒ１又はＲ６がニトロ基である場合には、常法に従
い〔例えば、オーガニック・シンセシス・コレクティブ
番ボリウム１（ωｇ、　５ｙｎｔｈ。

Ｃｏ１１．　Ｉ　）、２４０−２４１頁（１９４８年）
参照〕該ニトロ基を接触還元することによりアミノ基に
変えることができ、さらに、Ｒ４、Ｒ６又はＲ６が臭素
原子である場合には、該臭素原子はそれ自体既知の反応
を用い〔例えばテトラヘドロン（Ｔｅｔｒａｈｇｄｒｏ
ｎ）　、　２３巻３８２３−３８２７頁（１９６７年）
参照〕、シアン化鋼（１）で処理。

することによりシアノ基に変えることができる。

Ｒ４、Ｒ１及びＲ・の少なくとも１つが低級アルコキシ
基を表わす場合の式（１）の化合物は為前述し九と同様
の脱アルキル化反応に付すことによシ、該低級アルコキ
シ基をヒドロキシル基に変えることができる。また、式
（１）のインドール環上のヒドロキシル基は通常のアシ
ル化法により、例えば低級アルカノイルハライド又は低
級アルカン酸無水物と反応させることにより低級アルカ
ノイルオキ、シ基に変えることができ、また、式％式％ さらＫまた、式（１）のインドール環上のアミノ基は、
通常のアミノ基のアルキル化法〔例えばアンナーレン・
デル・ヘミ−（Ａ九％、）、５９８％１７４−１８５頁
（１９５６年）参照〕によυ、該アミノ基をモノ−もし
くはジー（低級アルキル以上に述べた方法で製造される
式（１）の化合物は、必要に応じて、その塩に変えるこ
とができる。式（１）の化合物の塩への転換は、それ自
体公知の方法により、例えば溶媒の不在下又は適当な不
活性溶媒中で、常法に従い、酸又は無機の塩基によシ処
理することによシ行なうことができる。

以上に説明した本発明により提供される前記式（１）の
化合物は、生体膜中に存在する多価不飽和脂肪酸のりボ
キシゲナーゼ、殊に５−リポキシゲナーゼを選択的に阻
害することにより、リポキシゲナーゼ系代謝産物の生成
を阻害する作用を有している。従って、本発明の式（１
）の化合物は、リポキシゲナーゼ系代謝産物の関与によ
り引き起こされる、生体にとって望ましくない種々の生
理作用を抑制するのに有用である。

特に本発明の化合物は経口投与した場合にも上記の如き
作用を強力に発揮するという特徴があり、極めて有用で
ある。

従って、本発明により提供される式（りの化合物は、抗
喘息剤、抗アレルギー剤（アレルギー性皮膚炎、アレル
ギー性鼻炎、じんま疹、胃腸管アレルギー、食品アレル
ギー等の予防、治療）、抗すュウマチ剤、抗血役割、動
脈硬化症治療剤、くも膜下出血時の晩期９縮治療剤、脳
循環改善剤、□　　心臓冠状血管改善剤、虚血性心筋梗
塞治療剤、虚血性脳梗塞治療剤、免疫調整剤、潰瘍性大
腸炎治療剤、皮°膚乾廖症治療剤等として使用す石こと
ができる。

本発明の前記式（冨）の化合物が多価不飽和脂肪酸のり
ボキシゲナーゼ阻害作用を有することは、以下の動物実
験により立証することができる。

α）　　”１１１ｍＶ誘発胸膜炎の作成ラット（ウィス
ター系、雄性、１１週令、絶食下体重２８０〜４００ｇ
）を用い、エーテル麻酔下で、１００μｋｆ　　Ａ鵞！
１＠ｑ　（２ｆｎＭ　　Ａ２ｇ１＠１エタノール溶液に
注射用蒸留水を加えて調整）を０．２−胸腔内に投与し
丸。投与２０分後に、ラットをエーテル麻酔下で瀉血死
させ、胸腔浸出液を採取し九。なか、被検薬は、２チツ
イーン含有０．５１カルボキシメチルセルロース溶液に
懸濁又は溶解し、”！ａｌｌ？　　を胸腔内に投与する
６０分前に、経口投与した。

（２）　　ＳＲＳ−Ａ様活性物質の測定（１）で得喪浸
出液に４倍量の水冷エタノールを加え、よく混和した後
遠心分離し、上清両分を減圧下に濃縮した。濃縮残渣に
０．　ＯＩ　Ｍ酢酸緩衝液（ｐＨ５，９）　ｉ、ｏゴを
加えて溶解し、５ＥＰ−ｐＡＫ　　ＣＩＩを用いて部分
精製した。６０チエタノール−〇、０１Ｊ／酢酸緩衝液
（ｐｆｆ５．９）５ゴで溶出した両分を採取し、減圧下
で溶媒を蒸発させ、次いで、浸出液量に和尚する量の精
製水を加え溶解した。

得られた溶液中の５Ｒ５−Ａ様活性物質はモルモット（
ハートレー系、雄性、体重４００〜５００ｇ）の演出回
腸を用い、アトロビン及びビリラミンの存在下で、その
収縮活性を指標として定量した。なお、５Ｒ５−Ａであ
ることの確認は、被検溶液による摘出回腸の収縮が、５
Ｒ５−Ａの特異的拮抗剤であるＦＰＬ−５５７１２で拮
抗されることにより行表った。

結果を下記表に示す。なお、５Ｒ５−Ａ様活性物質の生
成阻害作用は、溶媒投与対照群に対する抑制率（チ）で
表わした。

表 毒　　　性 ＳＤ系雄性ラット（体重１００〜ｔｔｓｇ）を一群５匹
とし、被験薬を１０チアラビアゴム溶液。

に懸濁させて経口投与し、２週間観察した。この□　　
結果実施例８の化合物はｓ　ｇ　／　ｋｇの投与量でさ
えも死亡例が見られなかった。

かくして、本発明の式（１）の化合物は、リポキシゲナ
ーゼ系代謝産物の関与により引き起こされる種々の疾病
の処置または予防のために、入間その他の温血動物に対
し、経口投与、非経口投与（例えば筋注、静注、皮下投
与、直腸投与など）又は局所投与することができる。

本発明の式（１）の化合物は、薬剤として用いる場合、
経口、非経口投与又は局所投与に適した種々の形態に製
剤することができる。例えば、本発明の化合物は、この
種薬剤に通常使用される無毒性の賦形剤、結合剤、滑沢
剤、崩壊剤、防腐剤、等張化剤、安定化剤、分散剤、酸
化防止剤、着色剤、香味剤、緩衝剤、噴射剤、界面活性
剤等の添加物を使用して製剤することができる。

かかる薬剤は、その用途に応じて、錠剤、カプセル剤、
顆粒剤、散剤、細粒剤、丸剤、トローチ錠、坐剤、軟膏
、貼布剤、注射剤、シロップ剤、エアゾール剤等のいず
れかの製剤形態に調製することができる。しかして、使
用し得る無毒性の上記添加物としては、例えばでん粉、
ゼラチン、ブドウ糖、乳糖、果糖、マルトース、炭酸マ
グネシウム、タルク、ステアリン酸マグネシウム、メチ
ルセルロース、カルボキシメチルセルロースまたはその
塩、ア２とアゴム、ポリエチレングリコール、ｐ−ヒド
ロキシ安息香酸アルキルエステル、シロラフ、エタノー
ル、フロピレンゲリコール、ワセリン、カーポワックス
、グリセリン、塩化ナトリウム、亜硝酸ソーダ、リン酸
ナトリウム、クエン酸、ジクロロジフルオロメタン、１
．２−ジクロロテトラフルオロエタン、ソルビタントリ
オレエート等が挙げられる。該薬剤はまた、治療学的に
有用な他の薬剤を含有することもできる。

本発明の式（１）化合物の投与量は、対象とする人間を
はじめとする温血動物の種類、投与経路、症状の軽重、
医者の診断等により広範に変えることができるが、一般
に１日当り、０．１〜５０キ／ｋｇ、好適には０．２〜
２０ｙ／ｌ＝４とすることができ。

る。しかし＼上記の如く患者の症状の軽重、医者の診断
に応じて、上記範囲の下限よりも少ない量又は上限より
も多い素を投与することはもちろん可能である。上記投
与量は１日１回又は数回に分けて投与することができ名
。

以下実施例により本発明をさらに説明する。

実施例１ （ａ）２．６−シメチルアニソール１３．６ｇを塩化メ
チレン３Ｑｔｔｒｌに溶解し、無水塩化アルミニウム１
６ｇを加える。次いで、水冷しながらプロピオン酸クロ
リドｌｉｇを滴下し、室温で１時間攪拌する。反応混合
物を氷水に注ぎ、有機層を分離、水洗後溶媒を留去して
、２ｊ６−シメチルー４−プロピオニルアニソールをｉ
た。

ＩＲ，νｆｉ１ｍ（儂べ）：１６９０ τｉαＸ ＮＭＲ、ａ’ｌ”Ｉ”Ｌ：　１１９　（３Ｈ，ｔ　、　
Ｊ＝’ｌＣＤＣｌ。

Ｈｚ）、１３３　（６Ｂ、８）、２．９３（２Ｈ。

ｑ　、　Ｊ　＝　７　Ｈｚ　）、ａ７３（ａＨ，Ｓ）、
７．６２　（２ｆｆ　、　ｓ　） （６）２．６−シメチルー４−プロピオニルアニソール
５ｇ及びフェニルヒドラジン２．８ｇをエタノール３Ｑ
ｍに溶解し、少量の酢酸を加え３０分間還流する、冷却
後、反応混合物に２０％塩化水素エタノール溶液１０ｍ
Ｊを加え１．５時間還流する。

反応混合物を冷却後水に注ぎ、ベンゼンで抽出し、水洗
、乾燥する。溶媒を留去し、得られる残渣をベンゼン−
ヘキサンより結晶化して、２−（４−メトキシ−３，５
−ジメチルフェニル）−３−メチルインドールを得た。

融点１０１１ＬＯ−１０９，７℃ ド１３ｒ　　　＋ｌ　　　・ ＪＲ，ν　　（ｃＷＬ　）、３２８５，２９３０゜′ｒ
ｒＬａｚ ２Ｂ９０，１４４０，１２３５，７３ＯＮＭＢ　、δ”
”　’　Ｚ　３２　（６Ｈ’　ｔ　ｓ　）、２．４０Ｃ
ＤＣＩ、” （３Ｈ，ｓ　）、３．７　ａ　（ａＨ，ｓ　）、７．〇
−７、ｔｏ−（ａＨ，ｍ’）、７．９（ＩＢ）（６）２
−（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３−
メチルインドール４３　ａ　ヲ塩化ヒリジニウム１３１
７と２００℃で１．５時間反応させる。反応混合物を冷
却後水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥する。

溶媒を留去し、得られ・る残渣をベンゼン−ヘキサンよ
り再結晶して、２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチ
ルフェニル）−３−メチルインドールを得た。

融点１４λ１−１４＆８℃ Ｊ　Ｒ、ｖＳＢ”　（ｃｍ″）：３４７０，３３９０ｒ
ｕｌＺ Ａ’　Ｍ７？　、δｐ−°１３　（６１１，ｓ　）、Ｚ
４２ＣＤＣＩ、” （ａＨ，ｓ　）、４．６　ｓ　（ｔＨ）、７．０−７．
７（６Ｈ、ｍ　）、７．８５（ＩＨ，ｓ）実施例２ （α）２．．６−ジメチルアニソール及びｎ−ブチリル
クロリドを実施列１の（α）工程と同様に処理して、４
−ｎ−ブチリル−２，６−ジメチルアニソールを得た。

ＩＲ，ｖに−”　（ｃｒｌ　）　：　２９５０　、１６
７０　ｔａｚ １５９０．１１４５．１０２０．７３ＯＮＭＲｓ　；３
：：、：　ｉ、ｏ　（３Ｈ，ｔ　、　１＝ｒＨｚ　）、
１．７５　（２Ｈ、５ｅｙｃｔｅｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ　）
、Ｚ３２　（ｓＨｔ　ａ）、ｚ９ｏ　（３Ｈ＃　８’）
、５．３０（ＩＨ，ａ）、７．６ｓ（ｚＨ，ｇ）（６）
　　上で得たアニソール及びフェニルヒドラジンを実施
例１の（ｂ）工程と同様に処理して、３−エチル−２−
（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）インドー
ルヲ得り。

融点１２６．３−１２７．４℃ ＩＲ，νに’Ｂ　？″（１−”　）：３３１０，２９５
５゜ｍαＸ １４７５．１４４５，１２３５，１０００ｊＮＭＲ、δ
””−：　１３３　（３Ｈ，ｔ　、Ｊ＝８Ｈ２）。

ＤＣＩ３ Ｚ３５　（６ｆｆ、　Ｓ）、Ｚ８９　（２Ｈｖ　Ｑ　ｔ
Ｊ＝＝８Ｈｚ）、３．７７　（３Ｈ，８）、７．０５−
７．８　（４Ｈ，ｍ）、７．２０　（２Ｈ，＋１）、７
．９０（ＩＨ） （Ｃ）　　上で得たインドールを実施例１の（Ｃ）工程
と同様に処理して、３−エチル−２−（４−ヒドロキシ
−３，５−ジメチルフェニル）インドールを得た。

融点１０６．８−１０７．２℃ １１Ｂ０，８７０，７４０ ＝　ｇ　Ｈｚ　）、４．６ｓ（ｘＨ）、７．０−７．７
（ｅＨ，ｍ＞、７．８２（ＩＨ） 実施例３ （α）　　２．６−シフチルアニソール及びｎ−ヘキサ
ノイルクロリドを実施例１の（α）工程と同様に処理し
て、４−ｎ−ヘキサノイル−２，６−シフチルアニソー
ルを得た。

ＩＲ，Ｊ”’（ｃｔ”　）：　２９３０．２８６０゜η
ｔαＸ １６７５．１５９５．１４８０，１４５５゜１４１０．
１３２０？１３０５．１２２５゜１１５０．１０１０ ２）、３．７６（３Ｈ，ｓ）、７．６５（２Ｈ。

（ｂ）上で得たアニソール及びフェニルヒドラジンを実
施例１の（６）工程と同様に処理して、３−九一プチル
−２−（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）イ
ンドールヲ得り。

融点７６．８−７７．７℃ にＢｒ ＩＲ，Ｉ　　　（ｃｒｃ’）：３３３０，２９３０１η
ｔａｚ １４５０．１２２５．９９５，７３５ Ｎ　Ｍ　Ｒ、４に７、：　０．７−１１　（７Ｈ、ｍ　
）、λ３５（６Ｈ，８）、λ９０　（２Ｈ，ｔ　、　Ｉ
＝＝、、Ｔｌ１２）、＆７８（３Ｈ，ａ）、７．０−７
．８（４□ＩＩ、ｍ）、７．２０　（２Ｈｔ　ａ　）、
７．９（ＩＨ）（Ｃ）　　上で得たインドールを実施例
１の（ｃ）工程と同様に処理して、３−ループチル−２
−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）イン
ドールを得た。

融点８＆ｌ−８４２℃ ＩＲ，νＫＢｒ　（イ’　）：３４２０．３３８０゜刀
ｚａｚ ２９２０．１６００．１４８０，１４５０゜１３４１１
２２５．１１８０，１０８０゜７５０．７３５ ２）、４ｅｓ（ＩＨ）、７．ｏ−７，７（ｓｆｆ、。

ｆｒＬ）、７．８２（ｌＨ） 実施例４ （α）　２，６−ジニチルアニソール及びプロピオン酸
クロリドを実施例１の（α）工程と同様に処理して、２
，６−ダニチル−４−プロピオニルアニソールを得た。

Ｉ　ＲＩｖＮａ”　（ｔｙｎ−”　）　：　２９００　
％　１６８０　ｔａｚ １５９５．１４５５．１２８０，１１５０゜（ｂ）上で
得たアニソール及びフェニルヒドラジンを実施例１の（
＆）工程と同様に処理して、２−（３，５−ジエチル−
４−メトキシフェニル）−３−メチルインドールを得た
。

融点９５．７−９　＆　１℃ Ｂｒ ＩＲ，シフ）ｚ４ｚ　（ご’　　）：３３３０．２９６
０　。

１６００．１４５０，１３３５，１００５゜（Ｃ）　　
上で得たインドールを実施例１の（Ｃ）工程と同様に処
理して、２−（３，５−ジエチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）−３−メチルインドールを得た。

融点１１２．２−１１２．４℃ Ｂｒ ＪＲ，ν　　（信−’　　）：３３７０，２９５０＊η
ｔａｚ １４５０．１：（３０１１２２０，７４ＯＮＭＲ、ａＣ
’、”：、：　１２９　（６Ｈ，ｔ　、　Ｊ＝７．’１
Ｈ２）、！４４　（３Ｈｊ８）、２．１　（４Ｈ，ｑｅ
７　＝　７．７　Ｈｚ　）、４．７３（ＬＨ，ｓ）、７
．０−８．１（？ｆｆ、ｍ） ＭＡＳ　、ｍ／ｅ　：　２７９ 実施例５ （α）　　２．６−ジーｎ−プロピルアニソール及びプ
ロピオン酸クロリドを実施例１の（α）工程と同様に処
理して、４−プロピオニル−２，６−ジー九−プロピル
アニソールを得た。

ａＣＩ ＪＲ，ν　　（ご’　　）：２９５０，２９２０゜ａｚ ２８６０．１６８０，１５９５，１４５５゜１２７Ｑ１
１１４５，１０５０，８００Ａ’　ｉＶ　Ｒ、δ”ｆｒ
Ｌ：　０．９７　（６Ｈ，ｔ　、　Ｉ＝５Ｈｚ　）、Ｃ
ＤＣ乏□ １．２　（３７７、ｔ　、＃＝５Ｈｚ　）、１．６５（
４Ｈ、ｍ）、Ｚ６５　（４Ｈ，ｍ）、１９４　（ｊＨ，
ｑ、Ｊ＝５１１ｚ）、３．７３（３Ｈ，８）、７．６１
（２Ｈ，８） （ｂ）上で得たアニソール及びフェニルヒト２ジンを実
施例１の（ｂ）工程と同様に処理して、２−（４−メト
キシ−３，５−ジ−ｎ−プロピルフェニル）−３−メチ
ルインドールヲ得り。

ａＣＩ ＩＲ，ｖ　　　（ｃＩｒｒ’　　）：３３９０，２９４
５゜りｔａｘ １４５５．１２３５，１０００，７３５ＮＭＲ、ｌｆ！
’：、：、、”、　ｔｏ　２（６１１，ｔ　、　Ｊ＝５
Ｈ２）、Ｌ７　（４Ｈ，ｔｎ）、ｚ４３（３Ｈ，＋１）
、１６６（４Ｈ，ｍ）、１７６（３ｆｆ、ａ）、７．２
０（２Ｈ，ｇ）、７．３５（ｉｆｆ、常）、７．９ｏ（
ｔｆｆ） （−）　　上で得たインドールを実施例１の（Ｃ）工程
と同様に処理して、２−（４−ヒドロキシ−３，５−シ
ー　ｎ　−７’ロピルフエニル）ｒ３−メチルインドー
ルを得た。

融点１０Ｌ７−１ＯＬ９℃ にＢｒ ＪＲ，ｖ　　　　（ｃｒｆ”）：３４６０，３３９０゜
ηＬ（ＬＺ ２９２０ｔ１４５０＃１３３５，１２０５゜ＮＭＲ、δ
ｐＦ−：　ｔｏ　ｔ　（ｅＨ，ｔ　、Ｊ＝ｓＨｚ　）。

ＣＤＣら Ｌ７０　（４Ｈ＃ｆｉ）、２４０　（ｓＨ，ｓ）、ｚｓ
ｏ　（４Ｈ，ｍ）、４６９　（ＩＨ，＃）、７．１４　
（２Ｈ，ｓ　）、７．３　（４Ｈ，ｍ）、７．５ｓ（ｔ
Ｈ） 実施例６ （α）、　２　、６−シメ’ｆ−ルー４−プロピオニル
アニソール及び４−クロロフェニルヒドラジンを実施例
１の（６）工程と同様に処理して、５−クロロ−２−（
４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３−メチ
ルインドールを得た。

融点１２α６−１２０．７℃ ＫＢデ ＪＲ，ｖ　　　　　　（ｃｒＩＬコ　　）：３３２０，
２９００゜η％ＣＬＺ １４４５．１２２０１９９５．７８５ ＮＭＲ、ａｊ’、、、：　ｚａ　５　（６Ｈ、ｓ　）、
１３６（３ｆｆ、ｓ）、３．７５　（３Ｈ，ｓ）、７．
１５（２Ｈ，ａ）、７．３　（３ＨＩｆｉ）、　　７．
９（ＩＨ） （ｂ）　　上で得たインドールを実施例１の（ｃ）工程
と。

同様に処理して、５−クロロ−２−（４−ヒ）’ワキシ
ー３．５−ジメチルフエニル）−３−メチルインドール
を得た。

融点１２５．９−１２６．３℃ ＫＢデ ＩＲ，ν　　（ｃＩｒ″　）：３４１０，３３２０゜η
１ａｚ ２９２０．１４６Ｇ、１３３０，１２０５゜１１８５．
７７５ ＮＭＲ、ｇ’ｇ−ｇ、：　ｚａ　（６Ｈ、ｓ　）、！３
．５（３Ｈ１８）、ｔ　７（Ｉ　Ｈｓ　ｓ　）、７゜ｘ
２（２Ｈ。

８　）、７．３　（３Ｈ，ｍ＞、７．８５　（１ｆｆ）
実施例７ （α）　　２．６−シメチルー４−プロピオニルアニソ
ール及び４−メチルフェニルヒドラジンヲ実施例１の（
ｂ）工程と同様に処理して、２−（４−メトキシ−３，
５−ジメチルフェニル）−３，ｓ−ジメチルインドール
を得た。

融点１４１６−１４１１０℃ ＩＲ，シＫＢ”　Ｃｒｔ’　）　：３１２５　、２９０
０　。

ｍα２ １４６０．１４３５，１２２０，１０１００ＯＮ　、　
ｇｓ乙：　２．３２　（６Ｈ，８）、２３８゛（３Ｈ，
８）、２４５（３ｆｆ、ｊ）、１７３（３Ｈ，ｇ）、ｒ
、１ｒｓｃ２Ｈ，ｓ）、７．１８（３Ｈ、りｔ　）　、
　　フ、ｓｓ（Ｉ　Ｈ）（６）　　上で得たインドール
を実施例１の（Ｃ）工程と同様に処理して、２−（４−
ヒドロキシ−３，５−シメチルフエニル）−３ｔ５−ジ
メチルインドールを得た。

融点１４＆２−１４１Ｔ℃ ＫＢデ ＪＲ，ν　　（イ”　　）：３４４０，３３５０゜ηｔ
ａｚ ２９００　＊　１４５０　＊　１３３０．１２０５　＊
１１９０．７９Ｏ ＮＭＲ、習、：　ｔｚ　９　（ａＨ，ｓ　）、Ｚ３７（
３Ｈ，ｓ　）、！４５　（３Ｈ，ｓ　）、４６４（ＩＨ
，ａ）、ｙ、ｔ２（２ｆｆ＊８）、７．１５（３Ｈ１惰
）、７．７ｚ（ｘＨ） 実施例８ ２．６−シメチルー４−プロピオニルフエノーｋＥｌｒ
）−４−メトキシフェニルヒドラジンを実施例１の（６
）工程と同様に処理して、２−（４−ヒドロキシ−３，
５−ジメチルフェニル）−５−メトキシ−３−メチルイ
ンドールを得た。

融点１５＆２−１５＆８℃ Ｅｒ ＩＲ，ν　　（グ’　　）：３４４０，３３００゜情α
Ｘ ２９０５．１４８０１１２９０，１２１ＯＮＭＲ，δｐ
ｐ”　！２５　（ｅＨ，ｓ　）、１３２ＣＤＣＩ、。

（３Ｂ、８）、λ３（ｘＨ）、Ａ７ｓ（ａＨ。

８）、６．６２　（ｌＨ，ｑ　、Ｊ＝８Ｈｚ　、３Ｈｇ
）、６．９　（ｌＨ、ｄ　、　Ｊ＝３Ｈｚ　）、７．１
５（ＩＨ，ｄ　、Ｊ＝８Ｈｚ）、７．１７（２Ｈ１８）
、＆３（ＩＨ） 実施例９ （α）　　２ｓｅ−ジエチル−４−／’ロピオニルアニ
ソール及び４−クロロフェニルヒト２ジンヲ実施例１の
（ｂ）工程と同様に処理して、５−クロロ−２−（３、
５−ジエチル−４−メトキシフェニル）−３−メチルイ
ンドールを得た。

謁εαｔ ＩＲ，ｕ　　　（ｃＷｒ４　）：３４００，２９６０゜
惧α２ ２９２０．１４５５１１１４０，１０００゜　９　Ｏ ＮＭＲ、δ’Ｉ’Ｐ：　１．２　ｓ　（ｅＨ，ｔ　、　
Ｊ＝ｓＨｚ　）、ＣＤＣｌ。

５Ｌ３７（３Ｈ，、ｔ）、！？２　（４Ｈ，ｑ　、Ｊ＝
　ｇ　Ｈｚ　）、１７６　（３Ｈ，＆）、７．０８−７
．４８　（５＃、ｍ）、７．９１　　（ＩＨ）（ｂ）上
で得たインドールを実施例１の（Ｃ）工程と同様に処理
して、５−クロロ−２−（３，５−ジエチル−４−ヒド
ロキシフェニル）−３−メチルインドールを得た。

融点１３７．５−１３＆８℃ １１ｖ”（ｃｒｒｒ’　）：３３９０，２９６０゜ｍα
２ １４５５．７９Ｏ ＮＭＲ、習、：　Ｌ２８　Ｃ６１１、ｔ　、　Ｊ＝８Ｈ
２）、１３５（３Ｈ，８）、Ｚ　６５　（４Ｈ＊　Ｑ　
＊　／＝ｓＨｚ）、４７３　（ｘＨ，，９）、７．０７
−７．４ｓ（ｓＨ，倶）、７．８６　（ｔＨ）実施例１
０ ２．６−ジエチル−４−プロピオニルフェノール及び４
−メトキシフェニルヒドラジンを実施例１の（６）工程
と同様に処理して、２−（３ｓｓ−ジエチル−４−ヒド
ロキシフェニル）−５−メトキシ−３−メチルインドー
ルを得り。

融点１２Ｌ６−１２４．０℃ ＪＲ，ｖＫＢｒ（ｃｒＩｒ”　）：３３９０，２９５０
゜ｍα２ １４７０．１４４５．１２０５ ＮＭＲ，δｐｐ′ｒＩＬ’　１．２７　（６Ｈ，ｔ　、
　Ｊ＝８Ｈ２）、ＣＤＣｌ、” Ｚ３８　（３Ｈ，８）、２．６５　（４Ｈ＋　Ｑ　ｔ　
’＝　８　Ｈｚ　）、１８４　（３Ｈ，＄）、４７９（
Ｉ　Ｈ、ｓ　）、６．６８−７．７２　（５Ｈ，常）、
７．８０（ＩＨ） 実施例１１ （α）　　２＊６−ジエチル−４−フ’ロビオニルアニ
ソール及び４−メトキシフェニルヒドラジンヲ実施例１
の（６）工程と同様に処理して、２−（３，５−ジエチ
ル−４−メトキシフェニル）−５−メトキシ−３−メチ
ルインドールを得た。

融点１３１．４−１３２．２℃ ＪＲ，νＫＢ′″（ｃｉ’　）：　３３４０．２９６０
　。

ηｔαＸ １６３０．１４６５，１３００．１２１ＯＮＭＲ、習、
：　Ｌ３　（６ｆｆ　、　ｔ　、　Ｊ＝７．５Ｈｚ　）
、１４５（３Ｈ，ｓ）、Ｌ’１６（４Ｈ，ｑ、Ｊ＝７．
５Ｈｚ　）、１８　（３Ｈ＃　８　）、＆８９（３Ｈ，
ａ）、ａ７２−７．３５　（４Ｈ，ｆｉ）、７．２６（
２ｆｆ、ａ）、７．８８（ＩＨ）（６）　　上で得たイ
ンドールを実施例１の（Ｃ）工程と同様に処理して、２
−（３ｔｓ−ジエチル−４−ヒドロキシフェニル）−５
−ヒドロキシ−３−メチルインドールを得た。

融点１８１．４−１８Ｌ８℃ ＩＲ，ｖＫＢ”（ｃＫ”　）：３３２０．ｊ’９６０゜
情α２ １６２０．１４５０・＄１２５０．１１９５ＮＭＲ、ｇ
”；、：　１．３　（６Ｈ，ｔ　、　Ｊ＝’ｒＨｚ　）
、ｚ３’ｒ（ｓＨ，ｓ）、７．７０（４Ｈ，ｑ、Ｊ＝’
ｌＨｚ　）、４．５２　（ＩＨ，ｓ　）、４．７６（ｌ
Ｈ，Ｓ）、６．６−７．４　（ａＨ，ｍ）、７．１９　
（２Ｈ，５）、７．８　（ｌＨ，８）実施例１２ ２．６−シメチルー４−プロピオニルフェノール及び３
，４−ジメトキシフェニルヒドラジン塩酸塩をインプロ
パツールに分散し、窒素気流中２０時間還流する。反応
混合物に水を加え、析出した結晶を戸数する。この結晶
を酢酸エチルに溶かし、５チ水酸化ナトリウム水溶液、
水及び２Ｎ−塩酸で洗う。有機層を乾燥後溶媒を留去し
、得られる粗結晶をエタノール−ヘキサンより再結晶し
て、２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル
）−５，６−シメトキシー３−メチルインドールを得た
。

融点１９６．３−１９五４℃ ｆｆデ ＩＲ，ν　　　（イ１　　）：３４８８，１４８２゜ａ
ｘ １２９８．１２４８１１２１４，１１５．６ｐｐｍ　　
　　。

ＮＭＲ，δＣＣＡ）、ｓｏ、　ｌ　２３　（６Ｈ、８）
、Ｚ３１（３Ｈ，ｓ）、３．７６（６Ｈ，ｓ）、６．７
９（Ｉ　Ｈ、ｓ　）、６．５ｏ（ｔＨ，８）、７．１２
（２Ｈ，ａ）、＆２２　（ＩＨ）、１０．５０（ＩＨ） 実施例１２と同様にして、実施例１３〜３７の化合物を
合成した。

実施例１３ ４−クロロ−２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチル
フェニル）−３−メチルインドール融点１６７．２−１
６１１Ｌ２℃ ＮＡｆＲ、４！Ｅに１．：ｊ　３　（６Ｂ　４８　）、
１６０（３Ｈ９８）、４．６８（ＩＨ）、７．ｘ（２Ｈ
，ｓ）、６、９−７．３　（３Ｈ、ｍ　）、７．９（ｔ
Ｈ）実施例１４ ４−プロモー２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチル
フェニル）−３−メチルインドール融点１７０．７−１
７１．７°Ｃ ＮＭＲ、’５’５．”　Ｚ　３０　（６Ｈ、ｓ　）、λ
６１（３Ｈ，ａ）、４．７０（ＩＨ，！ｌ）、６．７５
−７．３１　（５Ｈ，ｍ）、７．９０（ＩＨ）実施例１
５ ５−フルオロ−２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチ
ルフェニル）−３−メチルインドール融点１０　ＺＯ−
１０＆８℃ （３Ｈ，ｓ）、４７１（ＬＨ）、７．０５（３Ｈ、ｍ　
）、７．１２　Ｃ２１１，８）、７．８０（１Ｈ） 実施例１６ ５−プロモー２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチル
フェニル）−３−メチルインドール融点１２６．０−１
２６．３℃ ｐｐｍ。

ＮＭＲ，＋Ｄｅｌ８．２．２５　Ｃ６Ｈ，８）、２３２
（ａＨ，８）、３．２６　ＣｘＨ，ｓ）、７．１８（２
Ｈｅ　８　）、７．１５　（ＩＨ，ｄ−ｄ　、　Ｊ＝１
０Ｈ２，’）−０Ｈ２）、７．２４　（ＩＨ，ｄ　。

Ｊ＝１０Ｈｚ　）、７．５５　（ＩＨ、ｄ　、　Ｊ＝Ｚ
　ＯＨｚ　）　、ｆＬ　３４　（Ｉ　Ｈ＋　’　）実施
例１７ ５−エトキシ−２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチ
ルフェニル）−３−メチルインドール融点１３五４−１
３６．０℃ ＮＭＲ、δ（ＳｐＴ、ｓ□：　１．３３　（３Ｈ、ｔ　
、　ｄ　＝　７　Ｈ２）、！２６（６Ｈ，ｓ）、２．３
３（３Ｈ。

８　）、３．３２　（ＩＨ）、４．００　（２Ｈ＊　Ｑ
　＋Ｊ　＝　７　Ｈｚ　）、６．６４　（ＩＨ，ｑ　、
Ｊ＝９Ｈｚ、３Ｈｚ）、６．９０　（ＩＨ，ｄ　、Ｊ＝
３Ｈ２）、７．１６　（ｉＨ，ｄ　、　Ｊ＝９Ｈｚ　）
、７．１９　（２Ｈ，８）、＆２９　（ｔＨ）実施例１
８ ２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−
３−メチル−５−イソプロポキンインドール 融点　１２５．１−１２５．８℃ Ｂｒ ＩＲ、ｖ　　　　（にｙ−’）　：　３４４８．１４８
０，１２０８ａＸ ＮＭＲ、δｐｐｍ　　・ ＣＤＣｌ３．１．３５　（６Ｈ、ｄ　、　Ｊ＝６Ｈ２）
、２、．２６（６Ｈ，ｓ）、２．３３（３Ｈ，Ｓ　）、
４．５０　（ＩＨ，５ｅｐｔｅｔ、Ｊ＝６Ｈｚ　）、４
．７３（ＩＨ）、６．７５（ＩＨ，ｑ、Ｊ＝９）１ｚ）
　　、　　７．０１　　　（ＩＨ、ｄ　　、　　Ｊ＝３
Ｈｚ　　）　　、７．１２　（ＩＨ、ｄ　、Ｊ＝９Ｈ２
）、７．０９（２Ｈ，Ｓ）、７．７１（ＩＨ） 実施例１９ ２−（，４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）
−３−メチル−５−ｎ−７’ロポキシインドール 融点　１２４．２−１２４．４℃ ｐｐｍ　　　。

ＮＭＲ、δ　　　　、１．０５（３Ｈ，ｔ　、Ｊ＝７Ｈ
２）、ＣＤＣｌ。

１．８５　（２Ｈ、５ｉｘｔｅｔ　、　Ｊ　＝７１−１
ｚ　）、２．３０（６Ｈ，ｓ）、２．３７（３Ｈ，ｓ）
、３．９７（２Ｈ，ｔ　　、Ｊ＝７Ｈｚ）、６．７８（
ＩＨ，ｑ　、Ｊ＝９Ｈｚ　、３Ｈｚ　）、６．９８（Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）、７．１２（２Ｈ。

Ｓ）、７．１６　（ＩＨ，ｄ　、Ｊ＝９Ｈｚ　）、７．
７（ＩＨ） 実施例２０ ２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−
３−メチル−５−メチルチオインドール融点　１５９．
６−１６０．７℃ （３Ｈ，ｓ）、２．５０　（３Ｈ、ｓ　）、４，６９（
ＩＨ）、７．１−７．２　（４Ｈ、ｍ　）、７．５２（
ｌ　Ｈ、ｍ　）、７．８５（ＬＨ） 実施ｆ１１２１ ６−フルオロ−２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチ
ルフェニル）−３−メチルインドール融点１３６．６−
１３７．７℃ ｐｐｍ　　　。

ＮＭＲ，、δ　　　　、２．２７（６Ｈ，Ｓ）、２３６
ＣＤＣＩ。

（３Ｈ，Ｓ）、４．６８（ＩＨ）、７．１２　（２。

Ｈ，ｓ）、６．６−７．５５　（３Ｈ、ｍ　）、７．７
５（ＩＨ） 実施例２２ ６−クロロ−２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチル
フェニル）−３−メチルインドール融点　１７１．０−
１７１．１℃ ＮＭＲ，、δｐｐｍ　　・ ｃｎｃ　！３−２−３０　（６Ｈ、Ｓ　）、２．３７（
３Ｈ，ｓ）、４．６９（ＩＨ）、７．１２　（２Ｈ，ｓ
）、６．９５−７．５０　（３Ｈ、ｍ　）、７．８５（
ＩＨ） 実施例２３ ６−ブロモ−２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチル
フェニル）−３−メチルインドール融点　１５８．１−
１５８．７℃ ＮＭＲ，、δｐｐｍ　：２．３０（６Ｈ，ｓ）、２３７
ＣＤＣＩ。

（３Ｈ，ｓ）、４．７０（ＩＨ，Ｓ）、７．０８−７．
４５（５Ｈ，ｍ）、７．８２（ＬＨ）実施例２４ ２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−
３，６−シメチルインドール 融点　１２３．０−１２４．１℃ ＮＭＲ、δｐｐｍ　　・ ＣＤＣｌ３・２．２７（６Ｈ，Ｓ）、１３８（３Ｈ，ｓ
）、１４３（３Ｈ，ｓ）、４，６１（ＩＨ）、６．９１
　（Ｌ　Ｈ、ｄ−ｄ、　Ｊ＝８．１Ｈｚ。

１．８Ｈｚ）、７．００（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１．８Ｈｚ）
、７．１０（２Ｈ，ｓ）、７．４０　（ＩＨ、ｄ−ｄ。

Ｊ＝８．１Ｈｚ　、１．８Ｈｚ）、７．６５（ＩＨ）実
施例２５ ２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−
３−メｆルー６−　）　’Ｊフルオロメチルインドール 融点　９．００．−９０．６℃ ｐｐｍ　　。

ＮＭＩＩ　、δ　　　−２，３１（６Ｈ，ｓ）、１４０
ＣＤＣＩ。

（３Ｈ，ｓ）、４．７２　（Ｉ　Ｈ、ｓ　）、７．１５
（２Ｈ，ｓ）、７．１４−７．６７　（３Ｈ、ｍ　）、
８．０２（ＩＨ） 実施例２６ ２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−
３，７−シメチルインドール 融点　１２８．３−１３０．０℃ （３Ｈ，ｓ）、１４８　（３Ｈ，ｓ　）、４．６５（Ｉ
Ｈ）、７．０５（３Ｈ，ｍ）、７．１８　（２Ｈ，ｓ）
、７．７５（ＩＨ） 実施例２７ ツーフルオロ−２−（４−ヒドロキシ−３，５−シメチ
ルフエニル）−３−メチルインドール融点　９８．２−
９９．８℃ （３Ｈ，ｓ）、４．７０（ＩＨ）、６．７５−７．４（
３Ｈ，ｍ）、７．１７（２Ｈ，Ｓ）、８．０（ＩＨ） 実施例２８ ７−クロロ−２−（４−とＶロキシ−３，５−ジメチル
フェニル）−３−メチルインドール融点　１１８．０−
１１８．８℃ ＮＭＲ，δｐｐｍ ＣＤＣｌ、＝２．．３０（６Ｈ，ｓ　）、２．３９（３
Ｈ。

Ｓ）、４．７０（ＩＨ）、７．０　（ＩＨ，ｔ　、Ｊ＝
６Ｈｚ）、７．１３（ＩＨ，ｑ、Ｊ＝６Ｈｚ、３Ｈｚ）
、７．４２　（ＩＨ，ｑ、Ｊ＝６Ｈｚ　、３Ｈｚ　）、
　８．０５（ＩＨ） 実施例２９ ７−ブロモ−２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチル
フェニル）−３−メチルインドール融点　１２５．３−
１２６．２℃ ’　　ｓ）、４．６８（ＩＨ）、６．９３（ＩＨ，ｄ−
ｄ　、Ｊ＝８．ＱＨｚ）、７．２７（ＩＨ，ｄ−ｄ　、
Ｊ＝８．０Ｈ１、２，０Ｈｚ　）、７．４５（ＩＨ，ｄ
−ｄ、Ｊ＝ｓ、ｏＨｚ　、　２．ＯＨ２）、８．００（
ＩＩ（）実施例３０ ２−（４−ヒドロヤシ−３，５−ジメチルフエニル）−
７−メドキシー３−メチルインドール融点　１００．９
−１０１．２℃ ｐｍ ＮＭＲδ　　　　：２．２８（６Ｈ，ｓ）、Ｚ４０（３
Ｈ。

’　　ＣＤＣ１゜ Ｓ）、３．９４（３Ｈ，ｓ）、４．６９（ＩＨ，ｓ）、
６．５４−７．２６（５Ｈ，ｍ）、８．１６（ＬＨ）実
施例３１ ４．５−ジクロロ−２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ
メチルフェニル）−３−メチルインドール 融点　１８５．８−１８６．３℃ Ｓ）、７．１２（２）（、ｓ）、７．１６（２Ｈ，ｄ、
Ｊ＝１０．０Ｈ２）、７．９５（ＩＨ） 実施例３２ ５．６−ジクロロ−２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ
メチルフェニル）−３−メチルインドール 融点　１７１．９−１７Ｚ５℃ Ｓ）、４．７２（ＩＨ，ｓ）、７．１２（２Ｈ，ｓ）、
７．３３（ＩＨ，ｓ）、７．５５（ＩＨ，Ｓ）、７．８
５（ＬＨ） 実施例３３ ５．７−ジクロロ−２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ
メチルフェニル）−３−メチルインドール 融点　１７７．４−１７９．２℃ Ｓ）、４．７１（ＩＨ）、７．０９　（ＩＨ、ｄ　、　
Ｊ　＝２１Ｈｚ）、７．１４（２Ｈ，Ｓ）、７．３６（
ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝ＺｔＨｚ）、８．００（ＩＨ） 実施例３４ ２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−
４，５；６−ドリメトキシー３−メチルインドール 融点　１７７．５−１７８．２℃ ＮＭＲ、δｐｐｍ ＣＤＣｔ、：２−２８（６Ｈ，ｓ）、２．５０（３Ｈ。

Ｓ）、３．８０（３）Ｊ、ｓ）、３．８６（３Ｈ，ｓ）
、３．９９（３Ｈ，ｓ）、４．７６（ＩＨ，ｓ）、６．
５２（ＩＨ，ｓ）、７．０８（２Ｈ，ｓ）、７．８０（
ＩＩ−１）実施例３５ ４．５−エチレンジオキシ−２−（４−ヒドロキシ−３
，５−ジメチルフェニル）−３−メチルインドール 融点　１５９．２−１６１．２℃ ＮＭＲ、δ（ＣＤｓ）ｔ８０　’　”　２”　（６Ｈ、
ｓ　）、１６（３Ｈｓ　Ｓ、）、４．２２（４Ｈ，ｓ）
、６．’４７　（Ｉ　Ｈ。

ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、６．７２　（ＩＨ、ｄ　、　Ｊ＝８
Ｈｚ）、７．１０（２Ｈ，ｓ）、８．２５（ＩＨ）実施
例３６ ２−（４−ヒドロキシ−３、５−ジメチルフェニル）−
５，６−メチレンジオキシ−３−メチルインドール 融点　１６１．８−１６２．１℃ ９９ｍ ＮＭＲ、δ（ＣＩ）ｓ）ｔ８０　”　２−２５　（６Ｈ
、’　）、２．２８−（３Ｈ，Ｓ）、５．３７（２Ｈ，
ｓ）、６．８０（ＩＨ。

Ｓ）、６．８７（ＩＨ，ｓ）、７．１３（２Ｈ，ｓ）、
８．２６（ＩＨ） 実施例３７ ２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−
５−メトキシ−３−メチル−６−トリフルオロメチルイ
ンドール 融点　１７３．４−１７４．３℃ ””　　：２．２５（１，ｓ）、２．．３２（３Ｈ。

ＮＭＲ＝　Ｊ　ｃＤｃ　１３ Ｓ）、３．８８（３Ｉ−１，ｓ）、４．７３（ＩＨ，ｓ
）、６．９７（ＬＨ，ｓ）、７．０７（２Ｈ，Ｓ）、７
．３９（ＩＨ，Ｓ）、７．８２（ＩＨ） 実施例３８ ５−ブロモ−２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチル
フェニル）−３−メチルインドール１、３２　ｇ、シア
ン化鋼０．５４９をＮ−メチルピロリドン１０ｍに加え
４時間還流する。反応混合物に酢酸エチルを加え、２０
％アンモニア水溶液及び水で洗い乾燥する。溶々幕を留
去後シリカゲルカラ・ムクロマトグラフイーにて精製し
て、得られる粗生成物をエーテル−石油エーテルから再
結晶して、５−シアノ−２−（４−ヒドロキシ−３，５
−ジメチルフェニル）−３−メチルインドールを得た。

融点　１８４．８−１８５．６℃ ＮＭＲ，δ　　　：λ３２（６Ｈ，Ｓ）、２．４０　（
３Ｈ。

ＣＤＣｌ。

Ｓ）、４．８７（ＩＨ，ｓ）、７．１５（２Ｈ，ｓ）、
７．１４−７．３４　（２Ｉ４　、　ｍ　）、７．８５
（１）１．ｄ。

Ｊ＝２．ＯＨ２”）、８．２７（ＩＨ）実施例３９ ２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−
３−メチルインドール５．Ｏｙを濃硫酸１００−に加え
０℃で攪拌する。ついで硝酸ナトリウム１．７６　ｇの
濃硫酸５９ａｇ溶液を滴下し１５分間攪拌する。反応液
を氷−水に注ぎエーテルにて抽出し得られる粗生成物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製する。エ
ーテル−ヘキサンより再結晶して、２−（４−ヒドロキ
シ−３，５−ジメチルフェニル）−３−メチル−５−二
トロインドールを得た。

融点　２２９．４−２３０．６℃ ＮＭＲ，Ｊｐｐ”　　１２７（６Ｈ，Ｓ）、２．４２（
３Ｈ。

ＣＤＣｌ。

Ｓ）、３．３０（ＩＨ）、７．２４（２Ｈ，Ｓ）、７．
３９（ＩＨ，ｄ　、’Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．９４（１
）Ｔ。

ｄ　−ｄ　、Ｊ＝８．０１Ｈｚ　、　３．１Ｈｚ　）、
８．４０（１）１゜ｄ、Ｊ＝３．１Ｈｚ）、８．５０（
ＩＨ）実施例４０ （ａ）２−（４−メトキシ−３ｊ５−ジメチルフェニル
）、−３−メチルインドールを実施例３９と同様にニト
ロ化して、２−（４−メトキシ−３゜５−’）ｌ　チル
フェニル）−３−メチル−５−二トロインドールを得た
。

融点　１４３．５−１４５．２℃ （ｂ）　　上で得た５−ニトロ化合物を酢酸に溶かし、
５俤パラジウム−炭素を加え、６時間水素添加を行なう
。反応混合物から触媒を炉去し、溶媒を留去する。得ら
れた残液を酢酸エチルに溶かし、飽和重そう水及び水で
洗い乾燥する。溶媒を留去後ｎ−へキサンを加え、析出
する結晶を戸取して、５−アミノ−２−（４−メトキシ
−３，５−ジメチルフェニル）−３−メチルインドール
ヲ得り。

ＮＭＲ、δ　　　：２．３１　（３Ｈ，ｓ　）、２．３
２（６Ｈ。

ＣＤＣｌ。

Ｓ）、３．７２（３Ｈ，Ｓ）、６．５６（１）１．ｄ−
ｄ。

Ｊ＝３．ＯＨ２，１２Ｈｚ）、６．８０（ＩＨ，ｄ、Ｊ
＝３．０Ｈｚ）、７．０６（ＩＨ，ｄ　、Ｊ＝１２Ｈｚ
）、７．１２（２Ｈ，ｓ）、７．７０（ＩＨ）（Ｃ）　
　上で得た５−アミノ−２−（４−メトキシ−３，ｓ−
ジメチルフェニル）−３−メチルインドールを実施例１
の（Ｃ）工程と同様に処理して、５−アミノ−２−（４
−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３−メチ
ルインドールを得た。・融点　１８４．１−１８４．９
℃ Ｂｒ ＩＲ，ｕ　　　（ｃｒｎ−’）：３３８・５．３３３Ｑ
、２９００゜ａＸ １４７５．１４５２、］　３２５．１１９８．９２５ｐ
ｐｍ　　。

ＮＭＲ，δ　　　、２．２９（６Ｈ，ｓ）、２３３（３
Ｈ。

ＣＤＣｌ。

Ｓ）、３．４０（３）１）、５．５９（ＩＨ，ｄ　−ｄ
　、Ｊ＝９．ＯＨｚ　、　２．．７Ｈｚ　）、６．８２
（１８，ｄ、Ｊ＝Ｚ７Ｈｚ）、７．１１　（ＩＨ、ｄ　
、Ｊ＝９．０Ｈｚ　）、７．１４（２Ｈ，ｓ）、７．６
８（ＩＨ）実施例４１ ２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−
５−メトキシ−３−メチルインドールを実施例１の（Ｃ
）工程と同様に処理して、５−ヒドロキシ−２−（４−
ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３−メチル
インドールヲ得り。

融点　１７４．１−１７５．５℃ （３Ｊ−１，Ｓ）、６．３−７．０５（３Ｈ，ｍ）、７
．１５（２Ｈ，ｓ）、８．２（ＩＨ） 実施例４２ ６０チ水素化ナトリウム１．６ｇをジメチルホルムアミ
ド５０ａｊに＠濁し、水冷下５−ヒドロキシ−２−（４
−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３−メチ
ルインドールを加え３ｏ分ｍ拌したのち２−ジエチルア
ミノエチルプロミド臭酸塩２．．８ｇを加え２時間攪拌
する。反応液を冷水に注ぎ酢酸エチルで抽出する。これ
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製後更に
薄層クロマトグラフィー（て分取して、５−（２−ジエ
チルアミノエトキシ）−２−（４−ヒドロキシ−３，５
−ジメチルフェニル）−３−メチルインドールを得た。

００ｍ ＮＭＲ，δ　　　：　１．０８　（６Ｈ、ｔ　、　Ｊ＝
７．８Ｈｚ　）、ＣＤＣｌ３ Ｚ２６（９Ｈ，ｓ）、２．７５（６Ｈ，ｍ）、３．９８
（２）（、ｍ）、６．０６（ＩＨ）、６．９０　（５Ｈ
、ｍ）、７．９０（ｌＨ） 実施例４３ ５−ヒドロキシ−２−（４−ヒドロキシ−３゜５−ジメ
チルフェニル）−３−メチルインドール及びベンジルプ
ロミドを実施例４２と同様に処理して、５−ベンジルオ
キシ−２−（４−ヒドロキ′シー３．５−ジメチルフェ
ニル）−３−メチルインドールを得た。

融点　１６１０−１６２．．４℃ ００ｍ ＮＭＲ，、δ　　　　：２．３４（９Ｈ，ｓ）、４．８
１（２）（。

ＣＤＣｌ。

Ｓ）、６．６７（ＩＨ，ｑ、Ｊ：＝８Ｈｚ　、３Ｈｚ　
）、６．９０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）、７．１２（１
）１゜ｄ、Ｊ＝８Ｈ２）、７．１７（２Ｈ，ｓ）、７．
４０’（５Ｈｊｓ）、７．７５’　（Ｉ　Ｈ）実施例４
４ ５−ヒドロキシ−２−（４−ヒドロキシ−３゜５−ジメ
チルフェニル）−３−／チルインドールｏ、　ｓ　ｇを
ピリジン４ｄに溶解し、水冷下アセチルクロＩＪド０．
２６　、ｐを加え４０℃で１時間攪拌する。

反応混合物を氷水に注ぎ、酢酸エチルにて抽出後、水及
び２Ｎ塩酸で洗いシリカゲルカラムクロマトグラフィー
にて精製して、５−アセチルオギシー２−（４−ヒドロ
キシ−３，５−ジメチルフェニル）−５−メチルインド
ールを得た。

融点　１６１．４−１６２．２℃ Ｓ）、４．８７（１Ｂ）、６．６５−７．２５　（３Ｈ
、ｍ）、７．０５（２Ｈ，ｓ）、７．８５（ＬＨ）実施
例４５ （ａ）５−アミノ−２−（４−メトキシ−３，５−ジメ
チルフェニル）−３−メチルインドールｉ、　８５　ｇ
をピリジン２０ｍにとかし、ｐ＝）ルエンスルホン酸ク
ロリド１．５１　ｇを加え、室温で１時間攪拌する。反
応混合物に酢酸エチルを加え５チ塩酸で洗い、水洗乾燥
する。溶媒を留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにて精製して、２−（４−メトキシ−３，５−ジメ
チルフェニル）−３−メチル−５−ｐ−１ルエンスルホ
ニルアミノインドールを得た。

融点　１９λ３−１９３．５℃ （ｂ）　　上で得たトシルアミノ化合物１．５Ｌ水酸化
カリウム０．２８　ｇをアセトン３９ａ／にとかし、２
−ジエチルアミノエチルクロリド０．５６　ｆｌを加え
室温で２０時間攪拌する。反応混合物に酢酸エチルを加
え、５チ塩酸、水で洗浄後乾燥する。溶媒を留去後シリ
カゲルカラムクロマトグラフィー。

にて精製して、５−［：Ｎ−（２−ジエチルアミノエチ
ル）−Ｎ−ｐ−トルエンスルホニルアミノ〕−２−（４
−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３−メチル
インドール融点た。

Ｈｚ）、２．３０（９Ｈ−、ｓ）、２．４０（３Ｈ，ｓ
）、２．７０−４．０５　（８Ｈ，ｍ　）、３．６８（
３Ｈ，ｓ）、６．５５−７．４８（９Ｈ，ｍ）、７．５
８（ＩＨ）、（Ｃ）　　上で得たトシル化合物０．７０
９及びフェノール０．３７　ｆｌを臭化水素の酢酸溶液
８ｄにとかし、密栓をし７０℃で３時間攪拌する。反応
混合物を氷水にあけ、酢酸エチルで抽出し、ＩＮ水酸化
ナトリウム及び水で洗い、乾燥する。溶媒を留去後シリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し得られた目
的物をエタノールにとかし、２８チ塩酸−エタノール溶
液を加え濃縮する。エーテルを加えて析出する結晶をろ
取して、５−（２−ジエチルアミノエチルアミン）−２
−（４−ヒドロキ’／−３，５−ジメチルフェニル）−
３−メチルインドール・２塩酸塩を得た。

融点　１９７．４−１９８．２℃ Ｈｚ）、Ｚ２５（６Ｈ，ｓ）、２．３８（・３Ｈ，ｓ　
）、３．２１　（４Ｈ、ｑ　、　Ｊ＝ｓ、ｏＨｚ　）、
３．５０−３．８２（４Ｈ，ｍ）、７．１ｓ−７，４ｓ
（７Ｈ，ｍ）、７．７５（ＩＨ）　　一 実施例４６ 実施例４５と同様にして次の化合物を得た。

（ａ）　　５−　（Ｎ−ベンジル−Ｎ−ｐ−）ルエンス
ルホニルアミノ）−２−（４−メトキシ−３，５−ジメ
チルフェニル）−３−メチルインドール融点　１９７．
０−１９８．５℃ （ｂ）５−ベンジルアミノ−２−（４−ヒドロキシ−３
，５−ジメチルフェニル）−３−メチルインドール塩酸
塩 融点　２０４．４−２０６．２℃ ｐｍ ＮＭＲ，、ＩＪ　（ｃ、、）、８ｏ：　ｚ２４　（６ｔ
４．　Ｓ　）、　２．３２（３Ｈ、ｓ　）、４．５０（
２Ｈ，ｓ）、７．１３−７．６０（ｔＯＨ，ｍ） 実施例４７ 実施例４５と同様にして次の化合物を得た。

Ｃａ）２−（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル
）−３−メチル−５−（Ｎ−メチル−Ｎ−ｐ−トルエン
スルホニルアミノ）インドール融点　１８４．１−１８
５．２℃ （ｂ）２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニ
ル）−３−メチル−５−メチルアミノインドール塩酸塩 （３Ｈ，ｓ）、２．９７（３Ｈ，ｓ）、７．２１（２Ｈ
。

Ｓ）、７．１０−７．６５　（５Ｈ、ｍ　）、１１．２
７（３Ｈ，ｍ） 実施例４８ ４−ヒドロキン−３，５−ジメチルプロピオフェノン　
２−ニトロフェニルヒドラゾン６．２６ｇ及び塩化亜鉛
６０．６　ｇを酢酸に加え、窒素気流下で２時間還流す
る。反応混合！：勿に酢酸エチルを加えＩＮ水酸化す）
　ＩＪウム水溶液及び水で洗い乾燥する。溶媒を留去後
シリカゲルカラムクロマトグラフィーより精製して、得
られた目的物をニーテア１／−ヘンセｙヨＢ再結晶して
、２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）
−３−メチル−７−二トロインドールを得た。

融点　１７８．４−１７８．９℃ （３Ｈ，ｓ）、３．２８（ＩＨ，ｓ）、７．１４（ＩＴ
−Ｔ。

ｔ、Ｊ＝１０Ｈｚ）、７．２３（２Ｈ，ｓ）、７．９１
（１）Ｔ、　ｄ−ｄ　、Ｊ＝１０Ｈｚ　、　２．０Ｈｚ
　）、７．９９（ＩＨ，ｄ−ｄ　　、Ｊ＝１０Ｈｚ　　
、２．０）１ｚ）、８．４２（ＩＨ，Ｓ） 実施例４９ ２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−
３−メチル−７−二トロインドールヲ実施例４０の（ｂ
）工程と同様に処理し２て、７−アミノ−２−（４−ヒ
ドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３−メチルイ
ンドール塩酸塩を得た。

（３Ｈ，ｓ）、７．２９（２Ｈ，Ｓ）、６．９５−７．
６０（６Ｈ，ｍ） 実施例５０ ４−　ｎ−ブチリル−２，６−シメチルフエノール及び
４−メトキシフェニルヒドラジン塩酸塩を実施例１２と
同様に処理して、３−エチル−２−（４−ヒドロキシ−
３，５−ジメチルフェニル）−５−メトキシインドール
を得た。

融点　１７６．４−１７７．５℃（アセトン−ヘキサン
より再結晶） Ｒｒ ＩＲｅ’　　　　（ｃｍ−’）：３３５６．１４８２．
１４５４、ａｘ １３８６．１２０６．１１７２．１０７８λ２８（６Ｈ
，ｓ）、２．８２゛（２Ｈ、ｑ、　Ｊ＝０．６Ｈｚ）、
３．８４（３Ｈ，ｓ）、４．６８（ＩＨ，ｓ）、６、（
５”−７，３（３Ｈ、ｍ　）、７．１（２）１．Ｓ）、
７．７（ＩＨ） 実施例５１ ４−ｎ−ブチリル−２，６−シスチルフエノール及びフ
ェニルヒドラジン塩酸塩を実施例１２と同様に処理して
、３−エチル−２−（３，５−ジエチル−４−ヒドロキ
シフェニル）インドーヤヲ得た。

融点　９６．３−９６．７℃ １．３１（３Ｈ，ｔ　、Ｊ＝８．０Ｈｚ　）、２．７３
（４Ｂ。

ｑ　、Ｊ＝８．０Ｈｚ　）、２．８６（２Ｈ，（１、Ｊ
＝１３．ＱＨｚ）、４．６８（ＩＨ，ｓ）、６．９７−
７．６４（６）１．ｍ）、７．７８（ＩＨ） 実施例５２ ２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−
３−メチルインドール１ｇをピリジン１０ｍに溶解し氷
冷しなから３４０Ｗ９の塩化アセチルを滴下する。室温
で１６時間攪拌後、反応混合物を水にあけ酢酸エチルで
抽出する。希塩酸及び水で洗い乾燥後溶媒を留去する。

残渣をベンゼン−ヘキサンより再結晶して、２−（４−
アセトキシ−３，ｓ−ジメチルフェニル）−３−メチル
インドールを得た。

融点　１４Ｌ３−１４Ｚ６℃ ７．８７（ＩＨ） 実施例５３ ２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−
５−メトキシ−３−メチルインドールを実施例５２と同
様に処理して、２−（４−アセトキシ−３，５−ジメチ
ルフェニル）−５−メトキシ−３−メチルインドールヲ
得り。

融点　１９７．２−１９８．１℃ ＝３Ｈｚ）、６．９１　（１）Ｉ　、　（１、Ｊ＝８Ｈ
ｚ　、　３Ｈｚ）、７．１４（２Ｈ，Ｓ）、７．１９（
ＩＨ，ｄ。

Ｊ−ｓＨｚ）、７．７９（ＩＨ’） 実施例５４ ５−ヒドロキシ−２−（４−ヒドロキシ−３゜Ｈ、ｓ　
）、１３４（３Ｈ，ｓ）、６．７−７．１５（３Ｈ、ｍ
　）、７．１（２Ｈ，ｓ）、８．０（ＩＨ）実施例５５ ６（ｌ水素化ナトリウム１４ｇを乾燥ジメチルホルムア
ミド１００１１７にとかし、水冷下攪拌しなから２−（
４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３−メ
チルインドール１５ｇ１ｌｏ−まま少量ずつ加え、さら
に１時間攪拌をつづける。

この溶液に水冷下攪拌しながら無水コ／Ｘり酸６ｇのジ
メチルホルムアミド溶液を滴下する。滴下後室源で５時
間攪拌を続けろ。反応液を水にあけ、希塩酸で酸性にし
、酢酸エチルで抽出する。有機層を水洗後、飽和重曹水
２００１１ｊで３回抽出する。

これを酢酸エチルｔｏｏｇで２回洗浄する。重曹水溶液
を希塩酸で酸性にし、酢酸エチル２００　Ｉｌｌで２回
抽出する。有機層を水洗後、乾燥し、溶媒を減圧留去す
ると残渣は結晶化する。これを酢酸エチル−ベンゼンよ
シ再結晶して、２−〔４−（３−カルボキシプロピオニ
ルオキシ）−３，５−ジメチルフェニルツー３−メチル
インドールを得た。

融点　１４４．７−１４５．７℃ Ｓ）、２．３−３．１（４Ｈ，ｍ）、６．９−７．７（
４Ｈ。

ｍ）、７．３８（２Ｈ，Ｓ）、１１．０２（ＩＨ）実施
例５６ ２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−
５−メトキシ−３−メチルインドールを実施例５５と同
様に処理して、２−［：４−（３−カルボキシプロピオ
ニルオキシ）−３，５−ジメチルフェニルツー５−メト
キシ−３−メチルインドールを得た。

融点　１３７．１−１３７．３℃ ９９ｍ ＮＭＲ、δ（ＣＤ３）、ｓ０２．１８（６Ｈ９Ｓ）、！
３８（３Ｈ，ｓ）、１４−３．１（４Ｈ，ｍ）、３．７
６（３Ｈ。

Ｓ）、６．７　（ＩＨ、ｑ、Ｊ＝９Ｈｚ　、　３Ｈｚ　
）、６．９４（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）、７．２ｔ（Ｉ
Ｈ。

ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、７．３５（２Ｈ，Ｓ）、１０．８１
（ＩＨ） 実施例５７ （ａ）２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニ
ル）−３−メチルインドール２０．０ｇｔ−水素化ナト
リウム２．０ｇのジメチルホルムアミド懸濁液に加え、
１時間室温で攪拌する。次に２−ブロモプロピオニルプ
ロミド２０．７　ｆ）を室温で滴下し、２時間攪拌する
。反応混合物を氷水にあけ酢酸エチルで抽出後５チ塩酸
、水及び重そうで洗い、乾燥する。溶媒を留去後シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーによシ精製して、２−［
”４−（２−ブロモプロピオニルオキシ）−３，５−ジ
メチルフェニル〕−３−メチル（’７）’−ｎｔ得た。

融点　１６９．８−１７０．５℃ ｐｍ ＮλＩＦＬ、ａ　　　　　：１．９６（３Ｈ，ｄ　、Ｊ
＝８．０Ｈｚ）、ＣＤＣｌ。

２．１８（６Ｈ，Ｓ）％　２．３４（３Ｈ，ｓ）、４．
６０（１１（、ｑ　、Ｊ＝８．０Ｈｚ　）、６．９８−
７．６０　（６Ｈ、ｍ　）、７．７５（１Ｂ） （ｂ）　　亜硝酸ナトリウム１．８２．９及び無水フロ
ログルシノール３．９１ｇをジメチルスルホキシドに溶
解Ｌ、２−（４−（２−ブロモプロピオニルオキシ）−
３，５−ジメチルフェニルツー３−メチルインドール６
、０９９を加え室温で５時間攪拌する。

氷水にあけ、酢酸エチルで抽出後水洗し乾燥する。。

溶媒を留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製して、３−メチル−２−（３，５−ジメチル−
４−（２−ニトロプロピオニルオキシ）フェニル〕イン
ドールヲ得り。

融点　１５５．７−１５６．９℃ ＮＭＲ、δｃＤｃ１３：１．９５（３Ｈ１ｄ、Ｊ＝８．
０Ｈ２）、１１８（６Ｈ，ｓ）、２．３７（３Ｈ，ｓ）
、５．４２（ＩＨ，ｑ、Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．００−
７．６２　（６Ｈ、ｍ　）、７．８０（１）１） （Ｃ）３−メチル−２−（３，５−ジメチル−４−（２
−ニトロプロピオニルオキシ）フェニルコインドール３
．０　’ｊ　全酢酸２２Ｉｌｊに溶解狐　５チパラジウ
ムー炭素０．３ｐを加え、オートクレーブ中、６０’Ｃ
で１日水素添加を行なう。触媒をｐ去後溶媒を留去し、
得られる残渣をエタノール−エーテルから再結晶して、
２−［４−（２−アミノプロピオニルオキシ）−３，ｓ
−ジメチルフェニル〕−３−メチルインドール酢酸塩を
得た。

融点　１０９．４−１１０．６℃ １．９８（３Ｈ，Ｓ）、２．２０（６Ｈ，ｓ）、２４０
（３Ｈ，Ｓ）、３．９０−４．２８　（ＩＨ、ｍ　）、
６．９２−７．５２　（６Ｈ、ｍ　） 実施例５８ 実施例５７と同様にして次の化合物を得た。

（ａ）　　２−［４−（２−ブロモプロピオニルオキシ
）−３，５−−）メチルフェニルツー５−メトキシ−３
−メチルインドール 融点　１４８．９−１５１．５℃ ２．１６（６Ｈ，ｓ）、２．３１（３Ｈ，ｓ）、３．８
２（３）Ｔ、Ｓ）、４．６１　（ｔＨ、ｑ　、　Ｊ＝ｓ
、ｏＴ（ｚ　）、６．６８−７．２９　（５Ｈ、ｍ　’
）、７．７６　（Ｉ　Ｈ”、＋（ｂ）５−メトキシ−３
−メチル−２−（：３．５−ジメチル−４−（２−ニト
ロプロピオニルオキシ）フェニルコインドール 融点　１４８．３−１５０．２℃ ＮＭＲ，、δ膣：、　：１．９５（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．
０Ｈ２）、２．１７（６Ｈ，ｓ）、２．３３（３Ｈ，ｓ
）、３．８４（３Ｈ，ｓ、）、５．４３　（ＩＨ、ｑ　
、　Ｊ＝ｓ、ｏＨｚ　）、６．７０−７．３０　　（５
Ｈ、ｍ　）、　７．７５　　（ＩＨ）（Ｃ）　　２−（
４−（２−アミノプロピオニルオキシ）−３，５−ジメ
チルフェニル〕−５−メトキシ−３−メチルインドール
酢酸塩 融点　１５２．４−１５４．４℃ Ｂｒ ＩＲ，ν　　　（ｃＷｔ−’）：３４２４．２９２８．
１７５４、ａｘ １６２４、】５７６．１４８２．１２２２ｐｐｍ　　。

ＮＭＲ、δ　　　　　１．８０（３Ｈ，ｄ　、Ｊ＝８、
ＱＨｚ）、ＣＤ、ＯＤ’ １．８５（３Ｈ）、２．２０（６Ｈ，ｓ）、２．３８（
３Ｈ、ｓ　）、３．８１（３Ｈ，ｓ）、６．７１（ＩＨ
。

ｄ−ｄ、Ｊ＝３．０Ｈｚ、１２Ｈｚ）、６．９４（ＩＨ
。

ｄ　、、１＝３．□Ｈｚ　）、７．１９（１Ｎ、ｄ、Ｊ
＝１２Ｈｚ）、７．３０（２Ｈ，Ｓ） 実施例５９ （ａｌ　　２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフ
ェニル）−３−メチルイン）’−ｐｖ４ｇを６０％水素
化ナトリウム０．６８　ｇのジメチルホルムアミド５Ｑ
ｍ懸濁液に加え、室温にて１時間攪拌し、これにジベン
ジルクロロホスホネートを滴下し１．５時間攪拌する。

反応混合物を冷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、水洗乾
燥後溶媒を留去する。残液をエタノールよシ再結晶して
、２−（４−ジベンジルオキシホスホリルレオキン−３
，５−ジメチルフェニル）−３−メチルインドールヲ得
り。

融点　１４７．３−１４９．０℃ ＮＭＲ，、δ　　　　：Ｚ３５（６Ｈ，ｓ）、２．３９
（３Ｈ。

ＣＤＣｌ。

Ｓ）、５．０７　（４）１　、　ｄ　、　Ｊ＝８．２Ｈ
ｚ　）、７．１２ぐ２）Ｔ　、　Ｓ　）、７．２０（４
Ｈ，ｍ）、７．２６（１０Ｈ，Ｓ）、８．１７（ＩＴ−
１） （ｂ）上テ得タジベンジルエステル化合物１．０ｇをエ
タノール５０Ｍ及びテトラヒドロ７ラン２Ｑａｊに溶解
し、１０チパラジウムー炭素１００ＦＱを加え水素雰囲
気中５時間攪拌する。触媒を戸去して、３−メチル−２
−（３，５−ジメチル−４−ホスホノオキシフェニル）
インドールを非晶質固体として得た。

Ｂｒ ＪＲ，、ν　　　（ｃｒＩＬ−′）＝３３８０．１４５
２．１２２０、ａｘ １１８０．１０４０．９６４ ＮＭＲ，Ｊ　ｐｐ”　　＝２．．２１（６Ｈ，Ｓ）、２
．２８（３ＣＤＣＩ。

Ｈ，ｓ）、３．６５（２Ｈ）、７．１０（６Ｈ，ｍ）実
施例６０ （ａ）　　６Ｈ％水素化ナトリウム０．４ｇをジメチル
ホルムアミドに分散し、攪拌しなから２−（４−アセト
キシ−３，５−ジメチルフェニル）−５−メトキシ−３
−メチルインドール３．２３ｇを少量スつ加える。１時
間室温で攪拌をつづけ再び水冷下、ｐ−クロルベンジル
クロリド１．６９　’ｊを滴下する。

反応後、反応混合物を水にあけ、ベンゼンで抽出し水洗
する。有機層を乾燥後溶媒を留去して得られる結晶をエ
タノールよシ再結晶して、２−（４−アセトキシ−３，
５−ジメチルフェニル）−１−（４−クロロベンジル）
−５−メトキシ−３−メチルインドールを得り。

融点　１５３．６−１５４．５℃ ｐｐｍ　。

ＮＭＲ，δ　　　　、１．９５（３Ｈ，Ｓ）、２．０９
（３Ｈ。

ＣＤＣＩ　。

Ｓ）、３．８５（３Ｈ，Ｓ）、４．８２（２Ｈ，ｓ）、
６．８６　（ＩＨ，ｑ、Ｊ＝９Ｈｚ　、３Ｈｚ）、６．
９８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）、７．００（２Ｈ，ｓ）
、７．３’３　（４Ｈ、ｓ　）、８．２７（ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝９Ｈｚ） （ｂ）２−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニ
ル）−１−（４−クロロベンジル）−５−メトキシ−３
−メチルインドール２ｇをエタノール２００ｄにとかし
、水酸化ナトリウム０．７ｇを水３ｄにとかした水溶液
を加え２時間還流する。エタノールを留去し、残渣を酢
酸エチルで抽出し水洗する。有機層を乾燥後溶媒を留去
して得られる結晶を塩化メチレン−ヘキサンから再結晶
して、１−（４−クロロベンジル）−２−（４−ヒドロ
キシ−３，５−ジメチルフェニル）−５−メトキシ−３
−メチルインドールを得た。

融点　１８６．３−１８６．４℃ ９９ｍ ＮＭＲ，、δ　　　　：２．３１（６Ｈ，ｓ）、２．３
８（３ＣＩ）Ｃｌ　。

Ｈ，ｓ）、３．８４（３Ｈ，ｓ）、４．７７　（２Ｈ、
ｓ）、６．７８（ＬＨ，Ｑ　、Ｊ＝９Ｈｚ　、３Ｈｚ）
、６．９８　（ＬＨ、ｄ　、　Ｊ＝３Ｈｚ　）、７．１
５（１１−ｉ。

ｄｓＪ＝９Ｈｚ）、７．１６（２Ｈ，ｓ）、７．３２（
４Ｈ，ｓ）、７．７７（ＩＨ） 実施例６１ 実施例６０と同様にして次の化合物を得た。

（ａ）２−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフｘ　
＝　／ｌ／　）　−５−メトキシ−１，３−ジメチルイ
ンドール ９９ｍ ＮＭＲｌＪ　　　　　：１．９４（３Ｈ，！り、２．０
８（３Ｈ。

ＣＤＣｌ。

Ｓ）、２．３２（６Ｈ，ｓ）、３．７６（３Ｈ，ｓ）、
３．８５（３Ｈ，Ｓ）、６．８９（ＩＨ，（１，Ｊ＝９
Ｈｚ　、３Ｈｚ　）、６．９０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ
　）、６．９’７（２）（、ｓ）、８．２７（１）Ｔ、
ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） （ｂ）２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニ
ル）−５−メトキシ−１、３−ジメチルインドール 融点　１４６．４−１４６．６℃ ＮＭＲ、δｐｐｍ （ＣＤ３）、　８０　：　Ｚ３０　（ｓ　Ｈ−゛）−６
−３ｓ（３Ｈ，ｓ）、３．６８（３Ｈ，Ｓ）、３．７６
（３）１゜Ｓ）、６．６７（ＩＨ，ｑ、Ｊ＝９Ｈ２，３
Ｈ２）、６．９３（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）、７．１８
（ＩＨ。

ｄ　、Ｊ＝９Ｈ２）、７．２７（２Ｈ，ｓ）、１０．７
５（ＩＨ） 実施例６２ （ａ）２−（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル
）−３−メチルインドール及（ｊ　２−　ジエチルアミ
ノエチルクロリド塩酸塩を実施例６０の（ａ）工程と同
様に処理して、１−（２−ジエチルアミノエチル）−２
−（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３−
メチルインドールを得ｆ、−０ｐｍ ＮＭＲ、δ　　　　：　０．８８　（６Ｈ、ｔ　、　Ｊ
　＝８．０Ｈｚ）、ＣＤＣｌ。

１２１（３Ｈ，ｓ）、２．３２（６Ｈ，ｓ）、２．５（
ｓＨ，ｍ）、３．７５（３Ｈ，ｓ）、３．８５−４．２
５（２Ｈ，ｍ）、７．０（２Ｈ，ｓ）、７．０５−７．
６５　（４Ｈ、ｍ　） （ｂ）１−（２−ジエチルアミノエチル）−２−（４−
メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３−メチルイ
ンドールを実施例１の（Ｃ）工程と同様に処理して、１
−（２−ジエチルアミノエチル）−２−（４−ヒドロキ
シ−３，５−ジメチルフェニル）−３−メチルインドー
ルヲ得た。

融点　１０４．５−１０５．Ｏｔｌ： ＮＭＲ，、δｐｐｍ ｃＤｃ、　：　０．８９　（６Ｈ、ｔ　、　Ｊ＝８．０
Ｈｚ）、２．２（３Ｈ，ｓ）、２．．２８（６Ｈ，ｓ）
、２．５（６−Ｈ，ｍ）、３．８５−４．２５　（２Ｈ
、ｍ　）、４．６（ＩＨ）、６．９６（２Ｈ，Ｓ）、７
．０−７．６５　（４Ｈ。

ｍ） 実施例６３ ２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−
３−メチルインドール及び２−ジエチルアミノエチルク
ロリド塩酸塩を実施例６０の（ａ）工程と同様に処理し
て、１−（２−ジエチルアミノエチル）−２−［４−（
２−ジエチルアミノエチル）−３，５−ジメヂルフェニ
ル〕−３−メチルインドールニ塩酸塩を得た。

融点　１８１３−１８３．４℃ １．３１　（６Ｈ，ｔ　、Ｊ　＝９．０Ｈｚ　）、２．
１５（３Ｈ。

Ｓ）、２．３６（６Ｈ，Ｓ）、２７−３．７５（８Ｈ。

ｍ）、３．２８（２Ｈ）、４．０−４．７（４Ｈ，ｍ）
、７１１−７Ｒ（Ａｙ−ｍ）−７１ｙ（９Ｈ−ｓ　）実
施例６４ Ｎ−フェニルベンゾヒドラジド塩酸塩２ｇと２゜６−シ
メチルー４−プロピオニルフェノール１．６１を酢酸１
（１ｊ中７０〜８０℃にて５時間攪拌する。反応混合物
を冷水に注ぎエーテルにて抽出し薄層クロマトグラフィ
ーで分取して、ｌ−ベンゾイル−２−（４−ヒドロキシ
−３，５−ジメチルフェニル）−３−メチルインドール
ヲ得り。

Ｂｒ ｌＲ１ν　　　（α−１’）：３４９５．１６８０．１
４５６、ａＸ １３２８．１１９８ ９９ｍ ＮＭＲ，δ　　　　：２．０９（６）１．ｓ）、２．２
６（’３Ｈ。

ＣＤＣｌ。

Ｓ）、４．５８（ＩＨ）、６．７５（２Ｈ，ｓ）、７．
３０（９Ｈ，ｍ） 実施例６５ Ｎ−フェニル−４−クロロベンゾヒドラジド塩酸塩及び
２，６−シメチルー４−プロピオニルフェノールを実施
例６４と同様に処理して、１−（４−クロロベンゾイル
）−２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル
）−３−メチルインドールを得たー 融点　１４１．９−１４３．１℃ ＮＭＲ，、δｐｐｍ ｃＤｃｌ、：２．１１（６ＨＩＳ）、１２４（３Ｈ、ｓ
　）、４．５８（ＩＨ）、６．７１（２Ｈ，ｓ）、７．
３０（８１−１，ｍ） 実施例６６ Ｎ−（４−メトキシフェニル）−４−クロロベンゾヒド
ラジド塩酸塩及び２．６−シメチルー４−プロピオニル
フェノールを実施例６４と同様に処理して、１−（４−
クロロベンゾイル）−２−（４−ヒドロキシ−３，５−
ジメチルフェニル）−５−メトキシ−３−メチルインド
ールヲ得り。

融点　１３２．３−１３４．２℃ ＮＭＲ，δ　　　　：！１１（６Ｈ，ｓ）、２．２１（
３−ＣＤＣＩ　。

Ｈ，ｓ）、＆８７（３Ｂ、ｓ）、４．６４（’ＬＨ）、
６．６９（２Ｈ，ｓ）、７．２０（７Ｈ，ｍ）実施例６
７ Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルヒドラジン塩酸塩及び２，６
−シメチルー４−プロピオニルフェノールを実施例６４
と同様に処理して、２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ
メチルフェニル）−１，３−ジメチルフェニルヲ得た。

融点　８４．３−８４．５℃ ｐｍ ＮＭＲ，δ　　　　　：２．２３（３Ｈ，ｓ）、２．．
２６（６ＤＣＩ３ Ｈ、ｓ　）、３．５２（３Ｈ，ｓ）、４．５３（’１）
１）、６．９４−７．６０　（６Ｈ、ｍ　） 次に本発明の化合物を含有する薬剤の製造例を示す。

製造例人＝カプセル剤 処方１−ａ５０ηカプセル 活性成分　　　　　　　　　　　　　　５゜でんぷん　
　　　　　　　　　　　　３゜乳糖　　　　　　　２７
．８ １０　ｍ９ 処方１−ｂ　　１００ｒｖカプセル 活性成分　　　　　　　　　　　　　　１００でんぷん
　　　　　　　　　　　　　　　６゜乳糖　　　　　　
　５５．６ ２２０　　ｍｇ 活性成分をよく粉砕し、でんぷん、乳糖及びスアアリン
酸マグネシウムをそれに混合し、よくまぜ合せカプセル
に充填する。

製造例Ｂ：エアゾール 処方 壬 活性成分　　　　　　　　　　　　　　　１．５ンルビ
タントリオレエート１．０ ジクロロジフルオロメタン　　　　　　５８゜５１．２
−ジクロロテトラフルオロエタン　　　３９．０１００
　チ ジクロロジフルオロメタンを一５５℃に冷却し、高速剪
断ミキサーによシソルビタントリオレエートをそれに分
散させる。次いで活性成分を分散させ、１．２−ジクロ
ロテトラフルオロエタンを加え、エアゾール容器に充填
する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 式中、 Ｒ＿１は低級アルキル基を表わし； Ｒ＿２及びＲ＿３は各々炭素原子数１〜３個のアルキル
   基を表わし； Ｒ＿４、Ｒ＿５及びＲ＿６は各々水素原子、ハロゲン原
   子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルカノ
   イルオキシ基、アラルキルオキシ基、低級アルキルチオ
   基、低級ハロアルキル基、ヒドロキシル基、シアノ基、
   ニトロ基、アミノ基、モノ−もしくはジ−（低級アルキ
   ルもしくはアラルキル）アミノ基、又は 式▲数式、化学式、表等があります▼もしくは▲数式、
   化学式、表等があります▼ の基を表わし、ここで、Ｒ＿７は炭素原子数２個以上の
   低級アルキレン基を表わし、Ｒ＿８及びＲ＿９の一方は
   水素原子又は低級アルキル基を表わし且つ他方は低級ア
   ルキル基を表わし、そしてＲ＿１＿０は水素原子又は低
   級アルキル基を表わすか、或いはＲ＿４、Ｒ＿５及びＲ
   ＿６のうちの隣接する２つは一緒になつて低級アルキレ
   ンジオキシ基を表わし； Ｙ＿１は水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置
   換されていてもよいベンジルもしくはベンゾイル基、又
   は式▲数式、化学式、表等があります▼（こ こで、Ｒ＿７、Ｒ＿８及びＲ＿８は上記の意味を有する
   ）の基を表わし； Ｙ＿２は水素原子、アミノ基もしくはカルボキシル基で
   置換されていてもよい低級アルカノイル基、−ＰＯ（Ｏ
   Ｈ）＿２、又は式▲数式、化学式、表等があります▼（
   ここで、Ｒ＿７、Ｒ＿８及びＲ＿９は上記の意味を有す
   る）の基を表わす、 で示される化合物及びその塩。 ２、Ｒ＿１がメチル基又はエチル基を表わす特許請求の
   範囲第１項記載の化合物。 ３、Ｒ＿２及びＲ＿３がメチル基を表わす特許請求の範
   囲第１項記載の化合物。 ４、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I −１） 式中、 Ｒ＿１＿１はメチル基又はエチル基を表わし；Ｒ＿４＿
   １、Ｒ＿５＿１及びＲ＿６＿１のうちの１つ又は２つは
   水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級ア
   ルカノイルオキシ基、ベンジルオキシ基、低級アルキル
   チオ基、アミノ基、又は式▲数式、化学式、表等があり
   ます▼もしくは▲数式、化学式、表等があります▼ の基を表わし、ここでＲ＿７＿１はＣ＿２又はＣ＿３ア
   ルキレン基を表わし、Ｒ＿８＿１及びＲ＿９＿１は各々
   低級アルキル基を表わし、そして残りは水素原子又は低
   級アルコキシ基を表わし； Ｙ＿１＿１は水素原子又はハロゲン原子で置換されてい
   てもよいベンゾイル基を表わし； Ｙ＿２＿１は水素原子又はアミノ基で置換されている低
   級アルカノイル基を表わす、 で示される化合物又はその塩である特許請求の範囲第１
   項記載の化合物。 ５、Ｒ＿４＿１、Ｒ＿５＿１、及びＲ＿６＿１のうちの
   １つが水素原子、メチル基、メトキシ基、エトキシ基、
   ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、アセチルオ
   キシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、アミノ基、
   ▲数式、化学式、表等があります▼又は ▲数式、化学式、表等があります▼であり、そして残り
   が水素 原子又はメトキシ基を表わす特許請求の範囲第４項記載
   の化合物。 ６、Ｒ＿６＿１が水素原子である特許請求の範囲第３項
   記載の化合物。 ７、Ｒ＿４＿１が水素原子、低級アルキル基、低級アル
   コキシ基又はアミノ基を表わし、そしてＲ＿５＿１及び
   Ｒ＿６＿１が水素原子又は低級アルコキシ基を表わす特
   許請求の範囲第４項記載の化合物。 ８、Ｙ＿１＿１が水素原子又はベンゾイル基を表わす特
   許請求の範囲第４項記載の化合物。 ９、Ｙ＿２＿１が水素原子又はアラニル基を表わす特許
   請求の範囲第４項記載の化合物。