JPS62500110A - 真空中でフィルムを蒸着させるための蒸発器 - Google Patents

真空中でフィルムを蒸着させるための蒸発器

Info

Publication number
JPS62500110A
JPS62500110A JP60502952A JP50295285A JPS62500110A JP S62500110 A JPS62500110 A JP S62500110A JP 60502952 A JP60502952 A JP 60502952A JP 50295285 A JP50295285 A JP 50295285A JP S62500110 A JPS62500110 A JP S62500110A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
evaporator
tube
cylinder
partition wall
crucible
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP60502952A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0377873B2 (ja
Inventor
レフチェンコ ゲオルギイ ティモフェービチ
ラドジコフスキ アレクサンドル ニコラエビチ
Original Assignee
キエフスキ ポリテヒニチェスキ インスティテュト イメニ 50−レティア ベリコイ オクトヤブルスコイ ソツィアリスティチェスコイ レボリュツィイ
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by キエフスキ ポリテヒニチェスキ インスティテュト イメニ 50−レティア ベリコイ オクトヤブルスコイ ソツィアリスティチェスコイ レボリュツィイ filed Critical キエフスキ ポリテヒニチェスキ インスティテュト イメニ 50−レティア ベリコイ オクトヤブルスコイ ソツィアリスティチェスコイ レボリュツィイ
Publication of JPS62500110A publication Critical patent/JPS62500110A/ja
Publication of JPH0377873B2 publication Critical patent/JPH0377873B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/243Crucibles for source material

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
真空中でフィルムを蒸着させるための蒸発器発明の分野 本発明は広義には表面にコーティングを施す技術に関し、更に詳しくはフィルム の真空蒸着用蒸発器に関する。 発明の背景 フィルムの真空蒸着用蒸発器に課せられた主たる要求は、蒸発物質の再蒸発を保 証することによって、蒸発物質が基体上に蒸着するのに失敗して無駄になるのを 避けることと、基体の表面に蒸着せしめられる物質の広い範囲にわたって、フィ ルム厚さの均一性を保証することにある。 基体を蒸発器からかなりの距離隔てることによって、フィルムはより均一に蒸着 することができ、一方、蒸発物質の損失を減らすには、基体上に降りそこなった 気化した蒸発物質を回収することによって可能である。 一例として、基体上に衝突し損なった蒸発物質を回収するだめのチャンバ内に収 容された基体と、同じチャンバ内にこれがら離れて設置された坩堝からなる、基 体上に金属フィルムの真空蒸着を行うための装置が知られている。真空蒸着の工 程が終了すると、このチャンバの壁に堆積した蒸発物質は、ここから除去され、 再蒸発のために坩堝内に再び装填される。しかし、この装置に固有の欠点は、坩 堝と基体との距離がチャンバの寸法によって限定されるので、蒸着フィルムの厚 さが不均一になることである。その上、再使用のためにチャンバの壁から掻き落 とされた蒸発物質が、外部の不純物によって汚染される。このような不純物の源 の中には、チャンバの壁の清掃の際に堆積した蒸発物質と混合したチャンバの物 質と、基体が坩堝から離れているためにかなりの広さのチャンバの壁土に凝縮す る傾向にある真空チャンバの残留ガスとがある。もう一つの欠点は、チャンバの 清掃に要する多大の労力である。 1982年8月19日に公開された日本特許出願筒57−134555号(国際 分類C23C13100,13108)に開示された真空蒸着装置に提案された 、回収チャンバの壁に凝縮した物質の再蒸発によれば、チャンバの清掃作業は少 ない労働力で行うことができる。この装置は、真空中に坩堝型の蒸発源と、その 上方に配置された真空回収チャンバとからなり、該チャンバは基体の方へ移行す る蒸発物質の流れを封入する。この回収チャンバは坩堝内の蒸発物質の温度か、 回収チャンバの壁に堆積した物質を再蒸発させるのに充分な高さの温度まで加熱 することができる。従って、基体に衝突しなかった蒸発物質は、回収チャンバの 壁の上に凝縮し、この壁の高温のためにそこから再蒸発する傾向にある。 この装置は、回収チャンバが高温に加熱されているためと、坩堝から基体までの 長い距離によって決定される大きなサイズのために、回収チャンバからガスが過 剰に解放されるので、蒸着されるフィルムの高純度をも保証することができない 。同じ理由で、回収チャンバから放射される熱によって、基体も同じように限度 以上に加熱される。更に又、坩堝9回収チャンバ及び基体間の空隙を通って、か なりの蒸発物質が逸脱して損失となる。 蒸発物質の損失は、回収チャンバの温度を下げることによって少なくし得る。付 随する利点は基体の目立った過熱が減少することである。これらの利点は、真空 フィルム蒸着のための液相での再生装置(1982年9月25日公開の日本特許 出[57−155368号、国際分類C23C13100,13108参照)に よって実現されている。この装置は、蒸発物質を入れる坩堝と、その上方に設け られた基体の方へ同かう蒸気流を囲む回収チャンバとからなっている。チャンバ の下縁は坩堝の内部の上部領域を占めている。フィルムの堆積の際、蒸気回収チ ャンバは蒸発物質の溶解点よりも低くない温度に加熱され、一方、回収チャンバ 内に凝縮した液相の蒸発物質は、その壁を流れ下って坩堝内に帰る。しかし、真 空フィルム蒸着に使用される蒸発物質の殆どは、溶融点における蒸気圧で激しい 蒸発をもたらすので、このような液相再生は広い範囲の蒸発物質に対してかなり の損失をもたらす。このように、この装置においても蒸気は坩堝9回収チャンバ 、及び基体の間の空隙から逸脱する傾向を有する。 その上、蒸発物質の液相温度によって決まる回収チャンバの高温は、ガス抜けと 基体の望ましくない加熱を生じる。 蒸発物質の損失は、坩堝と蒸気回収チャンバとの間の空隙を無くすことによって 更に小さくすることができ、同様にフィルム蒸着の際の蒸気回収チャンへの温度 を蒸着物質の溶解点以下の温度まで大幅に下げることによっても小さくすること ができる。 回収チャンバの壁土に凝縮した蒸発物質は、その溶解点以上の温度まで周期的に 昇温することによって、流下する。付随する有利な効果としては、然気回収チャ ンへの壁からのガスの解放が減少することと、基体の温度が低下することである 。これらの利点は、1978年11月14日発行の米国特許第4125086号 (国際分1t’ffc23c13108)に開示された金属フィルムの真空蒸着 装置において実現されている。この装置は、蒸発物質を収容するアルミナ製の坩 堝を具え、該蒸発物質内には蒸気通路用の孔を側壁に有するタングステン製の筒 が埋入されている。この孔に対面して蒸気の一部を通過させ、基体の上に蒸着さ せるためのもう一つの孔が配設されている。残りの蒸気は孔に隣接する坩堝の壁 上に蒸着する。この場合、坩堝の壁は蒸気流を一定プj向に向ける手段としての 機能を有する。この装置は坩堝と筒を加熱するだめの独立したヒータを有する。 筒の温度は、蒸発物質を蒸発させ、これを孔から脱出させることを保証するのに 充分な高レベルに維持されている。坩堝の温度は壁6ご凝縮した蒸発物質が流下 し、筒内に入り、そして蒸発するように周期的に上昇せしめられる。 しかし、金等の金属の蒸着する際、タングステン成分がそれQこよって濡らされ 、両者間に機械的結合を生ずる。金とタングステンとの異なる熱膨張係数のため に、数回の加熱サイクルの後にタングステン筒の損傷が生ずる。その上、金はタ ングステンのシールの間を通過して漏洩し、装置を作動不能にする傾向がある。 筒の損傷及びシールからの蒸発物質の漏洩は、装置を蒸発物質によって濡れない 物質で作ることによって防止可能である。 1983年11月1日発行の米国特許第4412508号(国際分類C23C1 3108)には、基体上にフィルムの真空蒸着を行う蒸発器の一例が開示されて いる。この蒸発器は円筒形のグラファイト製ハウジングと該ハウジングを二つの 平行なチャンバに分割する区画部材とを有する。この一つのチャンバ、特に照準 チャンバは蒸気流を基体上に蒸着させるように案内する手段としての機能を有し 、その側壁に蒸発物質の流れを基体上に衝突させるための孔を有している。他方 の蒸発チャンバは、同軸にグラファイト製の筒を具え、薬筒の側壁にも照準チャ ンバの孔と−・線−Fに並んだ蒸気通路用の孔が設けられている。この線はハウ ジングの軸に直角である。照準チャンバの下端は液状の蒸発物質を搬送するだめ の通路によって蒸発チャンバに連通している坩堝を形成し、前記筒内を高温に維 持するために筒には電流が滓、されているので、該1発チャンバ内で液状物質は タングステンの芯に沿って降下する。蒸気は筒の孔を通過した後、照準チャンバ に入り、そこで蒸気の一部は照準孔を通過して基体に衝突し、一方、残りの蒸気 は照準チャンバの壁に凝縮する。このチャンバは別個のヒータによって周期的に 加熱され、液状の金属が芯の方へ流れることを保証する。 この装置は金によって濡らされることのない物質、特にグラファイトによって作 られているので、金の蒸着にこの装置が使用される際にも耐用時間が長いと云う 特長がある。 フィルム蒸着の際、通常実用されている蒸着速度を得るように筒の小径孔(約0 .5n+)から蒸気を吹き出すための条件下においては、流れが濃密又は濃密に 近くなる。従って、蒸気流強度分布は吹き出し条件に応じて、孔の中心線との角 度のコサインよりもむしろコサインの高次の乗べきに従って変化する。従って、 蒸着したフィルムは非常に不均一な厚さとなり、基体の表面積が大きい程その傾 向が強い。 更に、フィルム蒸着に使用される殆どの物質は溶解点において充分に激しく1発 するので、例え短時間でも照準チャンバの温度が溶解点以]二に上昇すると、照 準孔を通過する蒸気の方向性が不足し、蒸発物質の損失が増加する。 種々の参考文献によれば、フィルム蒸着に広く実用されている71種の蒸発物質 が知られているじ隔壁技術ハンドブック”。 1−37.1−38.1−66.1−68頁、ジオン1.マイセル、ラインハル ト グランス編、ニューヨーク、マグロウヒル社、 1970年発行参照)。そ の中で、23種だけが溶解点で10 T o r r以下の蒸気圧を有している 。10 T o r rにおいて物質は既に激しく蒸発することに留意すべきで ある(1−36頁参照)。これはフィルム蒸着用の他の48種の物質の損失は相 当のものであることを意味する。又、クローム、砒素。 成る種の酸化物及びテルル化物は、溶解点において数十、数百Torr又はそれ 以上に達する蒸気圧となる特長を有し、これらの物質を液状再生用に利用するこ とはできない。 前述の米国特許に開示されているように、蒸発チャンバ内の筒の最適直径は1. 56 m*であることも考慮しなければならない。 筒の直径が大きい場合、薬筒に加えられる熱は坩堝と照準チャンバの温度を過剰 に上昇せしめ、蒸発物質の多大の損失をもたらす。逆に、そのような直径の筒は 、厚みの薄いフィルムしか生じない無視し得る程度の量の蒸発物質しか維持でき ず、照準チャンバ内の物質は後で筒に連続的に戻されるために液体に変換される 必要がある。この結果、照準チャンバを蒸発物質の溶解点以上の温度に上昇させ るためには、頻繁に、各蒸着サイクルの終了の度に、加熱が行われなければなら ない。もっと厚いフィルムを蒸着させる場合には、蒸着工程の全体にわたって照 準チャンバの温度を蒸発物質の溶解点以上に連続的に維持する必要がある。例え ば、照準チャンバ内の圧力が10Torrであれば、照準孔からの無方向吹き出 しによる照準チャンバ内で蒸発した蒸発物質損失は、70%にも達する。 その上、安定した蒸着速度を得るために、筒内に封入された芯の端は坩堝の底部 全体を占める蒸発物質内に埋入される必要があり、このことは蒸発物質の封入量 を増大させる。それ故、初期に封入される蒸発物質の最小量は数十グラムに達す る。これは不当に高い費用をもたらす。なぜならば、実際に蒸発する量よりも漏 かに多量の貴重な且つ高価な物質を必要とし、又装置の正常な機能を維持するた めには、坩堝内にもバイパス管路にも蒸発物質が連続的に存在しなければならな いからである。 上述の装置は、蒸発及び照準チャンバの温度を正確に維持するために二つの別個 のヒータを具えている。さもなければ、例えば、照準チャンバの温度を正確に維 持することに失敗した場合には、該チャンバ内の蒸発物質を再使用のために蒸発 チャンバに回収する際に、該物質の損失が増大する。二つのヒータの必要性と、 それに伴う二つの温度制御システムの必要性のために、上述の装置の操作は非常 に複雑なものとなる。 発明の概要 本発明は、フィルムの真空蒸着のだめの蒸発器であって、基体上に衝突しなかっ た蒸発物質を再蒸発のために回収する際の+i失を防11−シ、広い範囲の蒸発 物質を用いて大きな表面積の基体上に均一に分布したフィルム厚ざを保証する蒸 気の一定方向の流れを形成する手段を有する蒸発器を提供することを目的とする 。 本発明の目的は、ヒータを具え、蒸気の一定方向の流れを形成する手段と連通し た坩堝内に蒸発物質を入れて、9真空中でフィル1、蒸着を行うための蒸発器で あって、蒸気の一定方向の流れを形成するだめの前記手段が横断対称面を有する 筒としで構成され、核部の一端が前記坩堝に取りイ(けられていることを特徴と する蒸発器によって達成される。 前記筒は長さ方向に断面が変化していることが好ましい。 筒の中央部に少なくとも一つの環状くぼみが設けられ′?:いることが望ましい 。 前記蒸)h器に!、一定方向蒸気流の強度の分布を補正するための手段4具えて いることが望ましい。 前記補正手段が、前記筒の対称面内に孔を有し、該筒内に取り付けられている隔 壁として構成されていることが好ましい。 前記補正手段が、前記主隔壁と実質的に同一な、孔を有する補助隔壁を具え、こ れらの隔壁は互いに離れて配置され且つ前記孔の周囲において互いに結合され、 一方、前記筒は互いに離れた二つの同一部分で作られ、又核部は、筒の対応する 前記部分にそれぞれ強固に結合された前記隔壁を収容していることが望ましい。 隔壁の孔は小径端で互いに結合された二つの円錐台の形に構成されていることが 望ましい。 蒸気流の強度の分布を補正するための前記手段が、環状孔を有し、対称面から等 距離にある前記筒の端部に取り付けられた二つの同一の隔壁として構成されこい ることが望ましい。 前記補正手段が、複数の孔を有する隔壁として構成され、該凡の幾何学的軸が相 互に、又前記筒の幾何学的軸に対して所定の角度をなし°ζ配置され、前記隔壁 は前記筒の内側にその対称面内に取りイ」けられていることが望ましい。 蒸発器は前記筒の内側に設置され六τ一定方向に向かう蒸気流の形状を補正する 手段を具えていることが望ましい。 前記蒸気流の形状を補正する手段は、蒸着されるフィルムの形状を18、た孔を 有する二つの同一な隔壁と17で構成され、4該隔壁は前記筒の端部に取りイ′ −,jげられ、且つ筒の対称面から等距離だけ離れて設置されていることが奸ま しい。 iiI記蒸記法気流状を補正する手段は、断mi輸シ1肋<ス着さt+、るフィ ルムの形状をした切り欠きを有する同一ノズルとして構成され、該ノズルは筒の 対称面から等距離だけ雛れて前記筒の端部に取り付けられていることが望ましい 。 少な(とも筒の中央部分は蒸発物質によって濡れることのできるコーティングを 有することが好ましい。 蒸発器の各隔壁は蒸発物質によって濡れることのできるコーティングを有するこ とが好ましい。 蒸発器は、坩堝の内側に壁との間に空隙を保って設置された多孔性のインサート を有することが望ましく、このインサートは蒸発物質を収容し、その孔の全容積 は蒸発物質の容積より大きいことが好ましい。 前述の如く、本発明の蒸発器は基体と衝突しなかった蒸発物質を再使用のために 回収する際の蒸発物質の損失を少なくし、より均一なフィルム厚さの蒸着を保証 し、種々の形状、寸法の基体上への蒸着に関する蒸発物質の損失を減少させ、そ して隔壁技術に実用されるすべての蒸発物質の使用を可能にする。その上、この 提案された蒸発器は数十グラムの大量の蒸発物質を全部蒸発させるものから、l nv以下のオーダの単一フィルムの蒸着に必要な最小量の蒸発までの広い坩堝負 荷の範囲にわたって用いられる。この蒸発器は構造的に簡単であり、製造、操作 が容易であり、改変を行うことなしに自動制御ユニットを含むすべての真空発生 ユニットと組み合わせることによって、静止及び運動する基体のいずれにも同様 に蒸着を行うことができる。 図面の簡単な説明 本発明は、添付の図面を参照して、特定の実施例に基づいて更に詳細に説明され るであろう。 第1図は、本発明にかかる真空フィルム蒸着用蒸発器の部分側断面図、 第2図は、断面が変化している筒を有する本発明にかかる蒸発器の坩堝、 第3図は、筒の対称面内に設けられた隔壁を有する第2図と同様の図、 第4図は、主隔壁に孔の周囲において結合された補助隔壁と、遮熱板を有する第 3図と同様の図、 第5図は、隔壁内の特殊形状の孔、遮熱板、及び筒端に取り付けられた補助隔壁 を有する第3図と同様の図、第6図は、筒端に環状の孔を有する隔壁を具えた本 発明にかかる蒸発器の変形、 第7図は、基体の中心に関して、第6図の蒸発器の有効放射表面の輪郭、 第8図は、基体の縁部に関して、第7図に示したのと同じ図、第9図は、隔壁の 内部を確保するための支持部材を有する第6図と同様の図、 第10図は、第9図を上から見た図、 第11図は、複数の孔を具えた隔壁を有する第3図と同様の図、 第12図は、第1I図に示す隔壁の孔の拡大軸測投象図、第13図は、特殊形状 の切り欠きを有する筒の一部の軸測投象図、 第14図は、多孔性インサートを具えた坩堝の長手方向断面図である。 発明の実施の好適モード 第1図において、本発明にかかる真空中で薄いフィルムを蒸着するだめの蒸発器 は、ヒータ3によって作られた加熱域内に置かれた、蒸発物質2を入れた坩堝l を具え、該坩堝1は、一端で坩堝1に取り付けられ且つ横方向の対称面5を有す る筒4として構成された蒸発物質の蒸気の一定方向の流れを形成1−るための手 段に連通している。前記筒4の上方には、筒4から脱物g2の気化温度に等しい 温度まで熱せられている。筒4の上部の温度は1.そ、二が加熱域の外にあり、 又そこが熱を放散するので、蒸発物質2の溶解点より低い。この筒4の低温部に おG1ては、基体6上に衝突で悉ない蒸気流の周辺領域8は、固相Q、二疑縮す る傾向にある。筒4の高低画部分の間の狭い過渡域においで蒸気は液相に凝縮し 、この液相は堆積の過程において筒の高温部に流れて再蒸発する。 十iKのよ戸1こ、筒4は横方向の対称面5を有するので、繰り返されイ・蒸発 のノこめ1、こ筒4内に凝縮した+!13質を回復させるために、筒の一端と他 端とを交互に坩堝内に嵌めることができる。 蒸発器内の熱(員失を防止するために、モリブデン等で作られた遮熱スクリーン 9が!コータ3を包んで設けられている。 坩堝1.筒4.及びヒータ3はグラフアイ1〜等で作られている。こ、二で述べ る例においてば、ヒータ3は、ヒータの下方に設けられた遮熱シ・−ルドlO及 び電流供給用端子11と一体的に作られている。これらの端子11は、クランプ 13によって蒸発器を真空発生ユニッ1−(図示しない)の人口12上に直接固 定するのにも用いられる。 第4図においでは、蒸気流の脱出角度を増加させるためGこ、筒4はその長さ方 向に沿って変化する断面を有腰特Gこ小径端が相互に対面する円錐台の形状をな す二つの部分からなってし)る。このことによって、相当の表面積を有する基体 上に均一な厚さのフィルムを蒸着させることが可能になる。 筒4しま坩堝2に螺合によって取り付けられることができる。 このような構成例は高速度の蒸着(例えば1秒当たり数百オングストロームの) を行うのに好適である。なぜなら(よ、さもt
【いと筒4は蒸着される物質の蒸 気圧によって坩堝1から押し出されてしま・うからである。 別の例と17では、筒4の断面積が端部において最小となるものも可能である。 この構成例においては5、筒4は面5Gこ関して対称でなげればならない。 筒4の中央部での温度勾配を改善するために、少なくとも一つの環状凹所14が 設けられている(第1図及び第2図)、筒4の中央部における温度勾配の増加は 、高低側温度部間の過渡域の長さを短縮する。それに伴、って、過渡域の長さは 凹所14の長ざよりも短くなるである・う。筒4がグラファイト又心ま耐火性金 属等の高熱伝導性物質で作られている場合には、凹所14の設置は不可欠である 。 筒4が一つの環状凹所14を有し、そしてそれが蒸発物質によって濡れない物質 で作られいる場合には、蒸発物質はこの凹所14内に集積される傾向がある。な ぜならば、濡れ難さのために物質の流下が妨げられ、この領域からの蒸発速度が 凝縮速度より少なくなるからであるい凹所14はそれ自体は、例え坩堝1内に筒 4の他端を嵌め込λ、だ後であっても、加熱域から離れており、同様に蒸発物? fを集積する。凹所14に隣接する領域に集積された蒸発物質は筒4の中央部の 熱抵抗を低下させ、液相過渡域を拡張するので、溶解点のレベルにおける蒸気圧 がかなりあれば、該過渡域での蒸発物質の蒸発のために余分な損失を生ずる。こ の場合、ちっと多数のこのような凹所14を設ける必要がある31例藷ば、2木 の凹所(図示しない)を筒4の中央部に設け、上部凹所に到るまでの筒の下部を 加熱域内に設ければ、凝縮は上部凹所の加熱域とその上方、即ち対称面の上方領 域に限って発生ずる。筒の上下変更によって、全凝縮域が加熱域を占め、その上 に凝縮した物質は蒸発せしめられる。 第3図に示された蒸発器も、筒4の内側に薬筒4の対称面5に設げられた、孔1 6を有する隔壁15として構成された、蒸気の一定方向流7の強度分布を補正す るための手段を具えている。この例の筒4は、耐火性物質で作られたビン19に よって相互に且つ前記隔壁15に結合されている二つの部分17.18からなっ ている。該隔壁15は筒4の下部18と共に加熱域を占め、蒸発物質の蒸発温度 まで加熱される。バイブ4の上部17は蒸着される物質の溶解点以丁の温度を有 する。このような筒4の構造においては、液相への凝縮が生ずる過渡域は存在し ない。 第4図に示される蒸発器の例においては、流れの強度を補正するための手段は、 主隔壁15と実質的に同様な孔16を具えた補助隔壁20を有する。該隔壁15 .20は間を隔てて分離され、孔16の周囲で互いに結合されている。これと共 に、筒4は第3図に示されたものと同じく、互いに隔てられて隔壁15.20を 担持する二つの同じ部分17,1.8を具えている。 隔壁15は筒4の下部18に強固に結合され、一方、隔壁20は筒4の上部17 に結合されている。筒4の中央部の温度勾配を増加させるための少なくとも一つ の熱シールド21を隔壁15.20の間に設けることができる。温度勾配の増加 を助長するものとしては、半径方向における隔壁15と20の高い熱抵抗がある 。 隔壁15と20は筒4の高熱部1Bと低温部170間の過渡域内に存在し、それ によって液相の蒸発物質は隔壁15の下面に凝縮し、凝縮した物質は筒4の下部 18に流下してここで再蒸発する。しかし、上述の構造の液相凝縮域は、筒4の 高温部に対面しているので、この域からの蒸発は余分な損失を生じない。二つの 隔壁15.20の間に熱シールド21を設けるのは、隔壁20の上面に固相凝縮 を生じさせるためである。孔16の軸に対して90°に近い角度で配置された隔 壁の表面への蒸気の供給の強度は低いので、このようにして凝縮した蒸発物質の 層の厚さは無視し得る程度である。隔壁20の上面に凝縮する蒸発物質の層が、 実質的に隔壁20の熱抵抗に影響を及ぼさないのは、このような角度のためであ る。 筒4は、隔壁15.20及び熱シールド21と同様に、耐火性金属シーl−で作 られ、坩堝1内に取り付けられるためにグラファイトリング22.23を具え、 これによって接触部分をシールすると共に筒4が坩堝1に接着することを防止し ている。 第5図に示すフィルム蒸着用蒸発器の例のように、筒4内に取り付けられた隔壁 15は、断面形状が小径端面同士で結合された二つの円錐台24.25の形をし た孔16を有して筒4の対称面5内に設けられることもできる。この特殊形状の 孔16は、円筒形の孔に比べて、基体に向かう一定方向蒸気流の強度をより均一 化することができる。 熱シールド26.27が隔壁15と筒4の両6B分17.18との間に介在して いる。上部シールド26番よ、隔壁15と筒4の上部17間の圧力差を増加させ るのに役立−X)。加”域を占める隔壁15はその側面を通じて加熱されるので 、この目的のために大きな表面積を具えている。 隔壁15を更に激しく加熱するために、ヒータ3 (第1図)の断面を減少させ て加熱域でのエネルギの解放をi曽カロ1″るようにし、でもよい。 フィルム蒸着の如何なる条件下にお(7)ても、固相凝4し;を常6ご筒の低温 部で起こり、蒸発は高温部で起こるの“で、筒4の+構成は単一 のし・−夕を 用いている。この単一・ヒータの使用己ま所定の温度の制御と維持を簡華化し、 蒸発器の構造の複雑1生を減少1−る。 蒸気流の強度分布を補正するための手段は、そわ、ぞ19.環4犬TI、30. 31を具えた内径D 1とり)径D2を有する丁つの実質的に同一の隔壁28と 29(第6図)として構成されて17)る。δ亥隔壁28.29は対称面5から 等距離にある筒4の両?J尚に取り付けられている。筒4は隔壁28.29と同 じく耐火1生金属シートで作られ、これの坩堝1内への装着を便ならしめるため にグラファイトリング22.23を具えてし)る。 温度分布に関しては、この筒4は第1図のものと実質的に同様である。面3−2  (第6図)の下方には、筒4の高温部があり、ここから前回の蒸着サイクルの 際凝縮した蒸発物質が蒸発する。 従って、面32における筒4の断面は基体6に衝突するべき蒸気流を放射する源 を表す。面32の」二方では、蒸発物質は筒4の壁と隔壁28上に凝縮し始める 。環状孔30に限定されて、面34上に縁が置かれた隔壁2日の内側表面は蒸気 流の一部を集め、それによって基体の中心部への蒸着速度を減少し7で基体の全 表面上に蒸着されたフィルムのより均一な厚さをもたらす。 隔壁28の外側部分35は面36上6ご取りイ」けられている。 第7図と第8図には、第6図におけるM点とN点から見た有効放射表面が示され ている。この有効放射表面は、面32(第6、 7. 8図)における筒4(第 6図)の断面と面34と36(第6.7.8図)における隔壁2+3(第6図) とによって形成されている。 第9図と第10図は、蒸気の自由流通を許容するよ・うに小さく作られた支持部 材37によ、で、筒4の端部に隔壁28 (第6図)の内側部分33を確保する ための一つの可能な方法を示す(図を判り易くするために隔壁28の外側部5) 35は示されていない)6陥壁の内側部分33は、。直径D1の平らな円板状を なしている。環状孔30(第6図)の外径D2は筒4の内径に等しく、この場合 には、隔壁の外側部分は省略され、筒4の上端が隔壁の外側部分としての機能を 有する。 蒸気流の強度分布を補正するための手段は、多数の孔39(第11図)を具えた 隔壁38とし7て構成され、該孔の幾何学的軸(第12図)は相互に、そして筒 4(第11図)の幾何学的軸に対して所定の角度をなして配列され、該隔壁は筒 4の対称面内に取り付けられている。各孔39 (第12図)は、点線で示され た蒸気放射の強度の角度的分布42をもたらす機能を有する。 孔39の軸40と筒4の軸41 (第11図)とのなす角βの値は、所定方向蒸 気流の脱出角α(第11図)の範囲内に均一厚さのフィルム蒸着が可能な、全て の孔39からの流れの強度分布を得るように選択される。 一般的には、角β(第12図)は0°から55゛までの範囲にあり、孔39の幾 何学的軸40は、筒4(第11図)の幾何学的軸41に対して異なった(図示し ない)角βで配置されている。後者の条件は、55°に近い角β(第12図)の 最大値において、特に好ましい。なぜならば、この場合、全ての孔39の軸40 が最大角度βで配置され、筒4(第11図)の軸41と一致する一定方向蒸気流 の強度は、基体6の中心への蒸着厚さが基体の縁部分へのそれよりも薄くなるよ うに、減少せしめられるからである。孔39の幾つかの軸40(第12図)を筒 4の軸41に対して小さい角βで配置すると、該軸41と一致する経路で脱出す る一定方向蒸気流の強度が増加し、基体6 (第11図)の全表面に蒸着するフ ィルタ厚さを更に均一化することができる。 角βの最大値を55゛以上に増加しても、角αは実質的に増加しない。 隣接する孔39の軸間の角γの最大値は、これらの軸間を指向する蒸気流強度が 減少しないように決められることが望ましい。角βが固定値の場合、角Tは孔3 9の数の増加に伴って減少する。 例えば、角βが45°の場合、角αは30”であり、筒径2Qmm、基体までの 距離155Nならば、直径200uiの基体に蒸着させることが可能となる。 蒸発器は、筒4 (第5図)の内側に設けられた同一形状の隔壁43.44を有 する一定方向蒸気流の形状を補正する手段をも具えている。前記隔壁43.44 は蒸着されるべきフィルムと同じ形状の孔45.46を有する。これらの隔壁4 3.44は、筒4の対称面5から等距離にある筒4の両端に取り付けられている 。 例えば、長方形の基体6上へ蒸着を行う場合には、孔45゜46はこれに応じた 長方形をなしている。上方の孔45から脱出する蒸気流は長方形断面をなし、基 体6上への均一厚さのフィルム蒸着を保証する。従って、蒸気流強度は基体6の 背後において急激に低下するので、蒸発物質の損失は最小になる。 移動する基体6上に蒸着する場合には、孔45と46の形状は基体6の移動経路 を考慮して選択される。これによって蒸着されるフィルムの形状が決定される。 例えば、回転する基体6(回転軸は基体6自身を通っていない)上に蒸着する場 合には、孔45.46の形状は、蒸着フィルムの厚さの均一性を保証するために 側辺が窪んでいる台形であることが好ましい。なぜならば、基体6の中央部は幾 分流れの強度の強い領域の下を移動するからである。 この蒸気流形状補正手段の別の例としては、筒4の対称面から等距離にある筒4 の両端に固定された同一形状のノズル47(第13図)がある。該ノズル47は 1着されるフィルムの形状に対応する特殊形状をした切り欠き48を有する(下 部ノズルは示されていない)。 該切り欠き48の形状は、3木の案内線、即ち筒4の軸41゜孔16の外周及び 基体6の外周に一敗ずろフィルムの外周に沿って1木の直線を連続的に動かり、 て得られる面と、7ノズル47の表面との交差線によって形成される。 、二のような、ノズル47を具えた筒4から脱出する一定方向蒸気浦は、基体6 の面内でその形状に順応し、それにら、て蒸発物質の損失が少なくなる。 その上、筒4 (第1図)の内面の少な・(とも中央部はには、大全物質によ、 、って濡らされることのできる耐火性物質製のコーティング50が設けられでい る。これによって、凹所14の近傍の過渡域から再蒸発の)1−め乙二加熱域内 の高温部までの液相の流れが円泪に行われる。筒4の内面全体が蒸発物質で濡れ ることのできる物質によって被覆されてもよい。、二のような装置の場合、筒4 を取り替えて内面に堆積しまた物質を溶融する際に、4労発物質は坩堝1′上で 滴下(tずζ、ご筒4の表面で蒸発する1、筒4の内面が濡れ可能な層で被覆さ れていない場合には、筒Δの表面に凝縮(7た蒸発物質の滴はそこから剥がれて 、坩堝1に落下する際に飛びl1li、す、蒸着したフィルムに傷を生ずる。 各隔壁15(第3.4.5図)、20 (第4図)、28及び29(第6図)、 38(第11図>、43 (第5図)及び44は、蒸発物質によって濡らされる ことのできる物質50(第3図にのみ示す)で被覆されてもよい。例えば、隔壁 15 (第4図)と20が蒸発物質によって濡れ可能なコーティングを持ってい る場合には、下部隔壁15から筒4の下方部分18までの液相流下が非常に円滑 になる。この点の証明は次ぎのように行われる。銀の蒸着のためにモリブデン又 はタングステン製の隔壁15と20がニオブによ、って被覆される。隔壁43  (第5図)七44が蒸発11!7J質に濡れる物質で被覆される場合、これらの 隔壁1−に凝縮し、た蒸発物質はそれが溶解した後t)その上に保持されたまま であり、坩堝1に落下し、て飛沫を生ずることがなくなる。蒸発物質で濡れ可能 なコーティング50を有する隔壁15(第3図)を設けることGこよって、隔壁 ]、51.1凝縮した蒸発物質の滴が蒸発温度まで加熱されない場合とか、滴を 加熱する過程において4、隔壁の実質的なW量のために、滴の昇温速度が坩堝内 で加熱されている蒸発物質のそれよりも遅い場合に、該滴の蒸気流Cコ、よる剥 がれ落ちや搬送の可能性が無くなる。 坩堝1内に設置された筒4は坩堝の流通断面を減少させると共に5、飽和蒸気に 達するまでのf気圧を与える。このことは蒸発工程を変化させ、飛沫が蒸着する べき物質の流れに入る可能性を増加させる。更に筒4内での蒸気流の断面減少は 、蒸着速度にも影響を与えるので、所望のフィルム蒸着速度を維持するためには 坩堝1の温度を」二げな&Jれl′A:ならず、これによって飛沫発生の可能性 が再び増加する。この欠点を解決するために、坩堝の壁に対して空間を隔てて坩 堝1内の支持部材51に取り付けられた多孔性インサー1−53(第14図)を 具えた蒸発器が提案されている。このインサート内の空隙には、蒸着される蒸発 物質の量に等しいか、それよりも多い蒸発物質が充満されている。蒸発物質を収 容するための凹所54がインサート53内に設けられている。溶融した蒸発物質 はインサート53の空隙を占有し、飛沫を生じる可能性のある蒸発物質の厚い層 の形成を防止する。 このインサート53の採用によって、蒸発物質はインサートの空隙の全表面に薄 い層となって含まれ、蒸着されるべき蒸発物質は毛管作用と濡れによってそこを 占有する。このような広い蒸発表面は、フィルム蒸着の速度を増加させるために も役立ぢ、この目的のためにインサート53は粒状セラミックスで作られること が好ましい。 本発明のフィルムの真空蒸着用蒸発器は次のように用いられる。 蒸着されるべき物質、即ち蒸発物質2(第1図)は、筒4を外した状態で坩堝1 内に装填され、その後で筒4は坩堝1上に嵌められる。基体6を設置した後、真 空チャンバ(図示しない)内に低圧の作業環境が作られる。次いでヒータ3が通 電され、蒸発物質2は蒸発点まで昇温される。蒸気は筒4に入って一定方向流7 となり、基体6に衝突する。基体6に達しなかった蒸気の一部は、筒4の低温部 上に凝縮する。 所定厚さのフィルムが基体6上に7着した後、ヒータ3は通電を中止される。そ して必要に応じて、坩堝1に蒸発物質を補給した後、筒4は上下逆にされて基体 6に達しなかった蒸発物質の堆積した方の端部を下にして、坩堝1に嵌められる 。この蒸発物質は次の蒸着サイクルにおいて、坩堝1内の物質と同様に使用され る。 変化する断面を有する筒4(第2図)を具えた蒸発器も実質的に同じように作動 する。この装置によれば、流れの大きな脱出角度が保証され、大きな表面積の基 体を被覆することが可能である。しかし、蒸着作業が長剣いた場合、凹所14の 上方の筒4の低温部に凝縮する蒸発物質の層のために、筒4の断面積が減少し、 蒸気流の形状に好ましくない変化を生じる。そこで、このような筒4は薄いフィ ルムの蒸着に用いることが有利である。 筒4の対称面内に設置された、孔16を有する隔壁15(第3図)を具えた蒸発 器も同じように作動する。蒸発物質の一定方向流の脱出角度は、孔16と筒4の 直径の比と、筒4の長さとによって決定される。第3図に示す蒸発器においては 、孔16の直径を広い範囲で変えることができる(さもなければ別の隔壁を使用 する)。これによって、孔16から脱出する蒸気流の強度のコサイン分布を得る ことができ、筒4内に隔壁を有しない蒸発器(第1.2図)の場合に比し、基体 上へのより均一な厚さのフィルム蒸着を与える。 その上、凝縮する蒸気は筒4の上方部分17(第3図)の内面に同相でのみ堆積 する。このため、実用上、全ての物質、特に溶解した後の蒸気圧が大気圧を越え る大部分の硫化物等の、固相から蒸発する物質のフィルムを蒸着させることを可 能にする。 更に、筒4の上方部分17における凝縮域は、孔16から取り外されるので、例 え数十μmの厚さのフィルムが堆積した場合であっても、その上に形成される1 発物質の層は、基体に衝突する蒸気流の強度の分布に目立った影響を及ぼさなし A。 第4図に示す蒸発器も同じようQこ作動する。蒸気流強度を補正する手段は、主 たる隔壁15と同じ構造を有し、孔16の周囲においてこれと接続されている補 助隔壁20を具えてし)る。 筒4の上方部分17と隔壁20の殆ど全上面Qこ固相の堆積力く起こる。液相の 蒸発物質は隔壁15の下側に凝縮し、筒4のF方部分18へdf下してそこで蒸 発する。 、−のよ・うな筒4を具えた蒸発器は、第3図の蒸発器よりも適用し得る蒸発物 質の範囲は狭いけれども、これと同様の効果的な蒸気流強度を保証する。しかし 、第4図に示す筒4は構造的に簡単であり、例えばグラファイト等で一つの、ユ ニ・ノドとじて製造される。その他の利点は、第3図に示す筒構造4Gこ使用さ れた細いピン19等の結合手段を要しなし)ことである。 ?g 5 Uの蒸発器は第3図のものと同じように作動する。差異は、特殊形状 の孔16 (第5図)を−通過する際、流体力学の法則によって蒸気流が加速さ れて音速に達することである。その−し、この蒸発器は蒸気流強度の分布が均一 な特長を有する。 上部熱シールド26は隔壁15と筒の上方部分】7との間の温度差を増加させる 。とにあり、これは金等の高蒸発温度の物質を蒸着させるのに重要な点である。 下部熱シーツ1ノド27 +、:t、筒4が反対端から坩堝1内に嵌め込まれた 後におし)でのみ機能する。 上部隔壁43は、蒸着されるべきフィルムの形状に従った形状を有する孔45を 具え、この孔は一定方向蒸気流の断面を基体6の形に対応させるように補正する 。この蒸発器は蒸発物質を隔壁43と笥4の上方部分17に固相で凝縮させる。 同時に、下部隔壁44及び筒4の下方部分18上に凝縮した蒸発物質は再蒸発せ しめられる。筒4の他端を坩堝1内に置き換えた後、隔壁43と筒4の部分17 とは加熱域内の低い位置を占め、その上に凝縮した蒸発物質を蒸発させる。 第6図の蒸発器も叙」−のように作動する。筒4はぞの両端に、それぞれ環状孔 30と31を有する隔壁28と29を取り付けられてい7:−、(、斗一部隔壁 28は、第5図の隔壁43のよらに、いくりかの蒸発物質を収集し、筒4 (第 6図)を坩堝1内に逆向きに挿入した後に加熱域を占有し、その十に凝縮された 蒸発物質を蒸発する。この蒸発器は5、隔壁28(第6図)の形状と配置に、よ って、基体60表面領域を通過する蒸発物質流の強度分布の補正を可能にする7 、 第′1図のハンチング部分S。ば、基体6の中心M点(第6図)から見た有効放 射表面を表す。基体6の中心におけるフィルム蒸着の速度は、この領域S、の面 積に比例しでいる。 放射源(第7図の輪郭32)のかなりの部分は、隔壁28の内側部分33 (第 ゛1図の輪郭34)の影になっている。基体6の縁の部分における点Nに対する 有効放射表面は第8図の面積Soで描′かれている。放射源(輪郭32)は隔壁 28の外側部分35(第6図)(第8図の輪郭3〔j)の影となり始め、この影 の面積はS、(第8図)で示されでいる。しかし、放射源の影の面積は隔壁28 の内側部分;)3 (第6図)によって同時にS、だけ減らされる。筒4と隔壁 28の寸法の関係を適当に選択することによって、基体の中央部と縁部に対する 有効放射面積を等しくできるだけでなく、基体の縁部に対する余白部分を提供し 、放射源の自然コサイン法則を補償して均一な厚さのフィルム蒸着を保証するこ とも可能である。 隔壁28と29の中心に孔(図示しない)を設け、基体6における有効放射表面 の面積を変化させる法則を、コサインに反比例する法則に益々近づけることもで きる。このことによって、蒸着フィルムの厚さを更に均一にすることができる。 第9図、10図に示した、筒4の両端に環状スロットを有する隔壁を具えたy発 器の変形も今まで述べたものと実質的に同様に作動する。この変形においては、 面36が、隔壁の外側部分として機能する筒4の上端面の高さにある。環状孔3 0は第6図に示されたものと同様に配置され、有効放射面の、変化の性格は第7 .8図について述べたものと同じである。支持部材37 (第9.10図)は蒸 発物質の自由な流れを阻害しない。 第11図においては、蒸発器の筒4に、多数の孔39を有する隔壁38が固定さ れている。蒸発物質は固相で筒4の上方部分17に凝縮する。加熱域を占有する 隔壁38は蒸発温度まで加熱されているので、蒸発物質はその上に全く凝縮せず 、蒸着されるべき物質の蒸気は隔壁38の孔39を自由に通過する。 これらの孔39は筒4の軸41に対して角β(第12図)で配列されているので 、液孔39は蒸発物質をその幾何学的軸40に沿って導き、高度に均一な強度の 蒸気流を形成して基体上に蒸着させる。 特殊形状の切り欠き48を有するノズル47を具えた第13図に提案された蒸発 器は、基体上に蒸着されるフィルムの形状に応じた形の孔45.46を有する隔 壁43と44を筒4の両端に具えた第5図の装置と実質的に同じ作用を有する。 特殊形状の切り欠き48を具えたノズル47(第13図)は、蒸発物質の一定方 向流の断面輪郭を基体」二に蒸着されるフィルムの形状に従うように修正する。 このノズル47は筒4の等直径におけるフィルム形状に対応する形をした孔45 を有する隔壁43(第5図)と比べて、基体の外での蒸気流強度の急激な低下を 保証する。 第14図に提案された蒸発器は次のように作動する。 蒸着物質は多孔質インサート53の凹所54内に充填される。 真空チャンバ内に所定の低圧が作られてから、多孔質インサート53を具えた坩 堝は該坩堝を占有した蒸発物質と共に加熱され、蒸発物質は溶解してインサート 53の開放された空隙内に侵入する。インサート53の空隙の容積は装填された 物質の容積に等しいか、又はこれよりも大きいので、蒸発物質はインサート53 の空隙を占有し、蒸発するに従ってインサートの表面に上昇する。このようにし て蒸発した物質は筒4に沿って強制的に基体の方へ向けられる。この多孔質イン サート53は大きな蒸発表面を提供し、その結果、少ない量の蒸発物質でより安 定したフィルム蒸着速度を得ることができる。 その上、インサート53の全表面から均一に蒸発するばかりでなく、蒸発物質は 均一な断面強度を有する流れを形成し、これによって均等に分布した筒からの脱 出流を保証する。 産業上の利用性 本発明の金、プラチナ、銀、バラジュウム等の貴金属フィルムの真空蒸着用の蒸 発器は、例えばIC回路、UHFHF回線9種重子部品の金属鍍金、プリント回 路及びテープの製造・及び光学的゛コーティングを行うエレクI・ロニ゛クス、 光、音響9通イ3及び電気工学の分野に利用する、2とができる。 l/ツノ/ノlど///、1 m2 需π

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.ヒータ(3)を具え、蒸気の一定方向の流れを形成する手段と連通した坩堝 (1)内に蒸発物質(2)を入れて、真空中でフィルム蒸着を行うための蒸発器 であって、蒸気の一定方向の流れを形成するための前記手段が横断対称面を有す る筒(4)として構成され、該筒(4)の一端が前記坦堝(1)に取り付けられ ていることを特徴とする蒸発器。 2.前記筒(4)は長さ方向に断面が変化していることを特徴とする請求の範囲 第1項に記載された蒸発器。 3.前記筒(4)の中央部には少なく共一つの環状凹所(14)が設けられてい ることを特徴とする請求の範囲第1項又は第2項に記載された蒸発器。 4.前記筒(4)内に、一定方向蒸気流(7)の強度の分布を補正するための手 段を具えていることを特徴とする請求の範囲第1項から第3項までのいずれか1 項に記載された蒸発器。 5.前記蒸気流強度分布補正手段が、前記筒(4)の対称面(5)内に孔(16 )を有し、該筒(4)内に取り付けられている隔壁(15)として構成されてい ることを特徴とする請求の範囲第4項に記載された蒸発器。 6.前記蒸気流強度分布補正手段が、前記主隔壁(15)と実質的に同一な、孔 (16)を有する補助隔壁(20)を具え、これらの隔壁(15,20)は互い に離れて配置され且つ前記孔(16)の周囲において互いに結合され、一方、前 記筒(4)は互いに離れた二つの同一部分(17,18)で作られ、又該筒(4 )は、筒(4)の対応する前記部分(17,18)にそれぞれ強固に結合された 前記隔壁(15,20)を収容していることを特徴とする請求の範囲第5項に記 載された蒸発器。 7.隔壁(15)の孔(16)は小径端で互いに結合された二つの円錐台(24 ,25)の形に構成されていることを特徴とする請求の範囲第5項に記載された 蒸発器。 8.蒸気流の強度の分布を補正するための前記手段が、環状孔(30,31)を 有し、対称面(5)から等距離にある前記筒(4)の端部に取り付けられた二つ の同一の隔壁(28,29)として構成されていることを特徴とする請求の範囲 第4項に記載された蒸発器。 9.前記蒸気流強度分布補正手段が、複数の孔(39)を有する隔壁(38)と して構成され、該孔の幾何学的軸(40)が相互に、又前記筒(4)の幾何学的 軸(41)に対して所定の角度をなして配置され、前記隔壁(38)は前記筒( 4)の内側にその対称面(5)内に取り付けられていることを特徴する請求の範 囲第4項に記載された蒸発器。 10.蒸発器が前記筒(4)の内側に設置された一定方向に向かう蒸気流(7) の形状を補正する手段を具えていることを特徴とする請求の範囲第1項から第9 項までのいずれか1項に記載された蒸発器。 11.前記蒸気流(7)の形状を補正する手段は、蒸着されるフィルムの形状を した孔(45,46)を有する二つの同一な隔壁(43,44)として構成され 、該隔壁は前記筒(4)の端部に筒の対称面(5)から等距離だけ離れて設置さ れていることを特徴とする請求の範囲第10項に記載された蒸発器。 12.前記蒸気流(7)の形状を補正する手段は、断面輪郭が蒸着されるフィル ムの形状をした切り欠き(48)を有する同一ノズル(47)として構成され、 該ノズル(47)は筒(4)の対称面(5)から等距離だけ離れて前記筒の端部 に取り付けられていることを特徴とする請求の範囲第10項に記載された蒸発器 。 13.少なくとも筒(4)の中央部分は蒸発物質によって濡れることのできるコ ーティング(50)を有することを特徴とする請求の範囲第1項から第3項まで のいずれか1項に記載された蒸発器。 14.蒸発器の各隔壁(15,20,28,29,38,43,44)は蒸発物 質によって濡れることのできるコーティング(50)を有することを特徴とする 請求の範囲第5,6,7,8,9又は11項のいずれか1項に記載された蒸発器 。 15.蒸発器は、坩堝(1)の内側に壁との間に空隙(52)を保って設置され た多孔質のインサート(53)を有することが望ましく、このインサート(53 )は蒸発物質(2)を収容し、その孔の全容積は蒸発物質の容積より大きいこと を特徴とする請求の範囲第1項から第14項までのいずれか1項に記載された蒸 発器。
JP60502952A 1984-06-12 1985-04-24 真空中でフィルムを蒸着させるための蒸発器 Granted JPS62500110A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU3753279 1984-06-12
SU3753279/18 1984-06-12
DD85280764A DD262552A3 (de) 1984-06-12 1985-09-19 Verdampfer

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62500110A true JPS62500110A (ja) 1987-01-16
JPH0377873B2 JPH0377873B2 (ja) 1991-12-11

Family

ID=25747994

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60502952A Granted JPS62500110A (ja) 1984-06-12 1985-04-24 真空中でフィルムを蒸着させるための蒸発器

Country Status (9)

Country Link
US (1) US4700660A (ja)
JP (1) JPS62500110A (ja)
AT (1) AT387239B (ja)
BG (1) BG46224A1 (ja)
DD (1) DD262552A3 (ja)
DE (1) DE3590269T (ja)
FR (1) FR2584100B1 (ja)
GB (1) GB2172015B (ja)
WO (1) WO1986000092A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012087353A (ja) * 2010-10-19 2012-05-10 Mitsubishi Shindoh Co Ltd 真空蒸着装置
JP2019214767A (ja) * 2018-06-13 2019-12-19 株式会社アルバック 真空蒸着装置用の蒸着源
JP2020190012A (ja) * 2019-05-21 2020-11-26 株式会社アルバック 真空蒸着装置用の蒸着源

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62260051A (ja) * 1986-05-02 1987-11-12 Hitachi Ltd 蒸気発生装置
US4847469A (en) * 1987-07-15 1989-07-11 The Boc Group, Inc. Controlled flow vaporizer
US5016566A (en) * 1988-05-31 1991-05-21 Levchenko Georgy T Apparatus for forming films by evaporation in vacuum
AT392486B (de) * 1988-08-29 1991-04-10 Hainzl Industriesysteme Ges M Verfahren und vorrichtung zum aufdampfen einer beschichtung auf einem traeger im vakuum
US5031229A (en) * 1989-09-13 1991-07-09 Chow Loren A Deposition heaters
US5157240A (en) * 1989-09-13 1992-10-20 Chow Loren A Deposition heaters
US5596673A (en) * 1994-11-18 1997-01-21 Xerox Corporation Evaporation crucible assembly
US5582393A (en) * 1995-04-21 1996-12-10 Xerox Corporation Method to maintain the levelness of a heated crucible
US5558720A (en) * 1996-01-11 1996-09-24 Thermacore, Inc. Rapid response vapor source
US5951769A (en) * 1997-06-04 1999-09-14 Crown Roll Leaf, Inc. Method and apparatus for making high refractive index (HRI) film
CH693746A5 (de) 1999-05-04 2004-01-15 Satis Vacuum Ind Vetriebs Ag Elektronenstrahlverdampfer fuer Vacuum-Beschichtungsanlagen.
JP2006152395A (ja) * 2004-11-30 2006-06-15 Fuji Photo Film Co Ltd 真空蒸着方法および真空蒸着装置
US20230080207A1 (en) 2005-02-25 2023-03-16 Shoulder Innovations, Inc. Methods and devices for less invasive glenoid replacement
US20060270243A1 (en) * 2005-05-24 2006-11-30 Taiwan Micro Display Corporation Alignment shield for evaporator used in thin film deposition
DE102007035166B4 (de) * 2007-07-27 2010-07-29 Createc Fischer & Co. Gmbh Hochtemperatur-Verdampferzelle mit parallel geschalteten Heizbereichen, Verfahren zu deren Betrieb und deren Verwendung in Beschichtungsanlagen
US20100282167A1 (en) * 2008-12-18 2010-11-11 Veeco Instruments Inc. Linear Deposition Source
US20100285218A1 (en) * 2008-12-18 2010-11-11 Veeco Instruments Inc. Linear Deposition Source
US20100159132A1 (en) * 2008-12-18 2010-06-24 Veeco Instruments, Inc. Linear Deposition Source
JP5083285B2 (ja) * 2009-08-24 2012-11-28 東京エレクトロン株式会社 疎水化処理装置、疎水化処理方法及び記憶媒体
KR101094299B1 (ko) 2009-12-17 2011-12-19 삼성모바일디스플레이주식회사 선형 증발원 및 이를 포함하는 증착 장치
KR101182265B1 (ko) * 2009-12-22 2012-09-12 삼성디스플레이 주식회사 증발원 및 이를 포함하는 증착 장치
EP2447393A1 (en) * 2010-10-27 2012-05-02 Applied Materials, Inc. Evaporation system and method
US8888918B2 (en) * 2011-03-31 2014-11-18 Seagate Technology Llc Vapor collection
DE102011122591A1 (de) * 2011-12-30 2013-07-04 Dr. Eberl Mbe-Komponenten Gmbh Vorrichtung zum Verdampfen eines Verdampfungsguts
DE102014221561A1 (de) * 2014-10-23 2016-04-28 Beijing Apollo Ding Rong Solar Technology Co., Ltd. Vorrichtung zur Aufnahme von Verdampfungsgut und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
RU2615962C1 (ru) * 2015-12-04 2017-04-11 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Самарский государственный аэрокосмический университет имени академика С.П. Королева (национальный исследовательский университет)" (СГАУ) Испаритель многокомпонентных растворов
RU2662914C2 (ru) * 2016-07-26 2018-07-31 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Самарский национальный исследовательский университет имени академика С.П. Королева" Динамический испаритель твердых растворов

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1489583A (fr) * 1965-08-24 1967-07-21 United States Steel Corp Creuset pour la vaporisation de métaux comportant des parois verticales servant à contenir et à condenser la vapeur
DE1621282A1 (de) * 1967-09-22 1971-06-03 Licentia Gmbh Verfahren und Anordnung zur Herstellung von Schichten durch Kondensation eines Dampfes auf einem Substrat
US3572672A (en) * 1968-11-22 1971-03-30 Rca Corp Vacuum evaporation apparatus
SU270432A1 (ru) * 1968-12-08 1970-05-08 Ф. А. Коледа УСТРОЙСТВО дл ИСПАРЕНИЯ МАТЕРИАЛОВ В ВАКУУМЕ
SU413218A1 (ja) * 1970-07-27 1974-01-30
SU397567A1 (ru) * 1971-02-01 1973-09-17 Киевский ордена Ленина политехнический институт лети Великой Окт брьской социалистической революции Испаритель для вакуумных установок
SU466300A1 (ru) * 1973-01-22 1975-04-05 Научно-Исследовательский Институт Электрографии Испаритель
SU834245A1 (ru) * 1976-03-29 1981-05-30 Киевский Ордена Ленина Политехническийинститут Им. 50-Летия Великой Октябрьскойсоциалистической Революции Способ нанесени покрытий в вакууме
US4125086A (en) * 1977-01-06 1978-11-14 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Nozzle beam type metal vapor source
US4412508A (en) * 1980-12-15 1983-11-01 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Nozzle beam source for vapor deposition
JPS57134555A (en) * 1981-02-10 1982-08-19 Fuji Photo Film Co Ltd Method and device for forming thin film
JPS57155368A (en) * 1981-03-20 1982-09-25 Fuji Photo Film Co Ltd Method of recovering vacuum deposition liquid material and apparatus therefor
DD206499A3 (de) * 1981-07-14 1984-01-25 Guenter Jaesch Zinkverdampfer
JPS6015698B2 (ja) * 1981-09-30 1985-04-20 日本真空技術株式会社 ノズル付蒸発器

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012087353A (ja) * 2010-10-19 2012-05-10 Mitsubishi Shindoh Co Ltd 真空蒸着装置
JP2019214767A (ja) * 2018-06-13 2019-12-19 株式会社アルバック 真空蒸着装置用の蒸着源
JP2020190012A (ja) * 2019-05-21 2020-11-26 株式会社アルバック 真空蒸着装置用の蒸着源

Also Published As

Publication number Publication date
DE3590269T (de) 1986-06-05
WO1986000092A1 (en) 1986-01-03
GB2172015B (en) 1988-06-08
DD262552A3 (de) 1988-12-07
AT387239B (de) 1988-12-27
GB8601316D0 (en) 1986-02-26
FR2584100B1 (fr) 1987-09-18
FR2584100A1 (fr) 1987-01-02
ATA901885A (de) 1988-05-15
JPH0377873B2 (ja) 1991-12-11
GB2172015A (en) 1986-09-10
BG46224A1 (en) 1989-11-15
US4700660A (en) 1987-10-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS62500110A (ja) 真空中でフィルムを蒸着させるための蒸発器
US5211824A (en) Method and apparatus for sputtering of a liquid
US5894887A (en) Ceramic dome temperature control using heat pipe structure and method
US3690933A (en) Apparatus and method for continuously condensing metal vapor upon a substrate
US4648347A (en) Vacuum depositing apparatus
KR102137181B1 (ko) 증착 배열체, 증착 장치 및 그의 동작 방법들
US4217856A (en) Vacuum evaporation apparatus
KR100287978B1 (ko) 증발속도를 크게 한 mg 증발방법
JP5144268B2 (ja) 有機材料の気化を制御するための方法と装置
US5016566A (en) Apparatus for forming films by evaporation in vacuum
SU1257115A1 (ru) Испаритель
JPH01501322A (ja) フイルム表面の金属化のための方法と装置
GB2098241A (en) Thin layer depositing apparatus
US3740043A (en) Apparatus for vaporizing molten metal
KR20050003983A (ko) 이형제의 부위별 도포를 위한 방법 및 장치
HU198230B (en) Vakuum-vaporator apparatus for producing thin layer coatings
US6152074A (en) Deposition of a thin film on a substrate using a multi-beam source
JPH02270959A (ja) 蒸発源用坩堝
GB2346897A (en) Vapourisation device
JPS61195970A (ja) 電子ビ−ム蒸発法
JPH0343228Y2 (ja)
LV13910B (lv) Rezistīvais iztvaicētājs pārklājumu uznešanai vakuumā
JPH03177563A (ja) 蒸発源用坩堝
JPS60116770A (ja) クラスタイオンビ−ム蒸発源装置
JPS6386861A (ja) 蒸着材料補給装置