JPS6015698B2 - ノズル付蒸発器 - Google Patents
ノズル付蒸発器Info
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- JPS6015698B2 JPS6015698B2 JP15381081A JP15381081A JPS6015698B2 JP S6015698 B2 JPS6015698 B2 JP S6015698B2 JP 15381081 A JP15381081 A JP 15381081A JP 15381081 A JP15381081 A JP 15381081A JP S6015698 B2 JPS6015698 B2 JP S6015698B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はノズル付蒸発器、特に高密度かつ指向性の金属
蒸気を発生し得るノズル付蒸発器に関する。
蒸気を発生し得るノズル付蒸発器に関する。
従来、真空蒸着装置に使用されている蒸発源には抵抗加
熱式、高周波誘導加熱式、Ｅ／Ｂ加熱式の蒸発器がある
。
熱式、高周波誘導加熱式、Ｅ／Ｂ加熱式の蒸発器がある
。
抵抗加熱式には一部ノズルを取付したものはあるがノズ
ルから出た蒸気は傷面よりあらゆる方向に飛散し、膜形
成に寄与するものは蒸発量に対する割合（蒸着効率とい
う）で４０％以下である。４０％の蒸着効率を得るには
大きな蒸着面が必要である。
ルから出た蒸気は傷面よりあらゆる方向に飛散し、膜形
成に寄与するものは蒸発量に対する割合（蒸着効率とい
う）で４０％以下である。４０％の蒸着効率を得るには
大きな蒸着面が必要である。
又、蒸着面の小さなもの、あるいは狭いもの（たとえば
蒸着入射角を限定して黍着している磁気テープ用のもの
）では蒸着効率数％と低い蒸着効率であることは当業技
術者に周知のことである。本発明者等は省資源、省エネ
ルギー、生産能率の向上の見地から前記蒸着効率をあげ
るために種々研究の結果、本発明のノズル付蒸発器の開
発に成功したものであり、本発明の要旨とするところは
前記特許請求の範囲に明記した如き特定の構成とするこ
とにある。
蒸着入射角を限定して黍着している磁気テープ用のもの
）では蒸着効率数％と低い蒸着効率であることは当業技
術者に周知のことである。本発明者等は省資源、省エネ
ルギー、生産能率の向上の見地から前記蒸着効率をあげ
るために種々研究の結果、本発明のノズル付蒸発器の開
発に成功したものであり、本発明の要旨とするところは
前記特許請求の範囲に明記した如き特定の構成とするこ
とにある。
特許請求の範囲に明記した如く、本発明においてノズル
の麹方向の長さを蒸発器閉口径より大とすることは次の
如き理由によるものである。
の麹方向の長さを蒸発器閉口径より大とすることは次の
如き理由によるものである。
蒸発器の途中に絞り部を設けて一旦下部ルッポから発生
して流入してくる蒸気を絞り部で高密度化、高速化する
と共にその上部に適度に角度のある拡大部を設けて、絞
り部で略方向性を特ためた蒸気を該拡大部で更に整流し
て指向性を持たせる必要がある。この際ノズルの蒸発器
に接する断面開口は蒸発器内で発生する蒸気を有効に用
いるためには蒸発器関口と略等しくする必要があること
が実験の結果確認された。更には下方関口上部に絞り部
を設けて、高密度化、高速度化を計り、略ここで方向性
を持たせ、ついで適度の角度のある上方の拡大部で整流
するものであり、これらの諸条件を満すためには、／ズ
ルの鼠方向の長さが少なくとも蒸発器関口部の径より大
きい必要がある。本発明の一具体例を示す添付図面を以
下に説明するが、本発明をこの具体例にのみ限定するも
のでなく、本発明の要旨内における変更、改変は本発明
に包含されることは言うまでもない。
して流入してくる蒸気を絞り部で高密度化、高速化する
と共にその上部に適度に角度のある拡大部を設けて、絞
り部で略方向性を特ためた蒸気を該拡大部で更に整流し
て指向性を持たせる必要がある。この際ノズルの蒸発器
に接する断面開口は蒸発器内で発生する蒸気を有効に用
いるためには蒸発器関口と略等しくする必要があること
が実験の結果確認された。更には下方関口上部に絞り部
を設けて、高密度化、高速度化を計り、略ここで方向性
を持たせ、ついで適度の角度のある上方の拡大部で整流
するものであり、これらの諸条件を満すためには、／ズ
ルの鼠方向の長さが少なくとも蒸発器関口部の径より大
きい必要がある。本発明の一具体例を示す添付図面を以
下に説明するが、本発明をこの具体例にのみ限定するも
のでなく、本発明の要旨内における変更、改変は本発明
に包含されることは言うまでもない。
第２図は従来の蒸発器であり、加熱容器２は高周波譲導
電源７と導線６で結合されたコイル５によって加熱され
、被蒸発物が矢印の如く蒸発され、蒸発した蒸気４は湯
面よりあらゆる方向に飛散するものであり、蒸着効率は
前述の如く極めて低率である。
電源７と導線６で結合されたコイル５によって加熱され
、被蒸発物が矢印の如く蒸発され、蒸発した蒸気４は湯
面よりあらゆる方向に飛散するものであり、蒸着効率は
前述の如く極めて低率である。
第１図は本発明の一具体例を示す縦断面図であり、加熱
容器（蒸発器）２の関口上に載層するノズル８は上方に
向って一定距離に絞り部９を設け、該絞り部９より上方
に向けて拡大部１０を設ける。
容器（蒸発器）２の関口上に載層するノズル８は上方に
向って一定距離に絞り部９を設け、該絞り部９より上方
に向けて拡大部１０を設ける。
尚、閉口から絞り部９の距離は加熱容器２の関口の大き
さ１こよって決められる函数である。ノズル８の軸方向
の長さは加熱容器２の関口部の大きさより大であること
が必要である。第１図においてその他の符号は前述の第
２図と同一部村を示す。第１図図示の如きノズル８を載
暦することにより、被蒸発物３から蒸発した蒸気はノズ
ル８の絞り部９で高密度化及び高速化され、適当に角度
のある空間を通過して指向性のある蒸気４′を発生させ
ることができる。広幅の走行する蒸着面に適用する場合
は前記加熱容器、ノズルの横断面を長方形角型とすれば
よい。
さ１こよって決められる函数である。ノズル８の軸方向
の長さは加熱容器２の関口部の大きさより大であること
が必要である。第１図においてその他の符号は前述の第
２図と同一部村を示す。第１図図示の如きノズル８を載
暦することにより、被蒸発物３から蒸発した蒸気はノズ
ル８の絞り部９で高密度化及び高速化され、適当に角度
のある空間を通過して指向性のある蒸気４′を発生させ
ることができる。広幅の走行する蒸着面に適用する場合
は前記加熱容器、ノズルの横断面を長方形角型とすれば
よい。
ノズル及び加熱容器の加熱方式は説明の為高周波誘導加
熱方式を図示しているがこれを限定するものでなく、従
来からある加熱方式（たとえば抵抗加熱方式等）を用い
ても可能である。
熱方式を図示しているがこれを限定するものでなく、従
来からある加熱方式（たとえば抵抗加熱方式等）を用い
ても可能である。
さらに、ノズルと加熱容器は説明の為分離したが１体化
しても何等変るものではない。本発明のノズル付蒸発器
を用いた磁気テープの蒸着例を以下に説明する。
しても何等変るものではない。本発明のノズル付蒸発器
を用いた磁気テープの蒸着例を以下に説明する。
本発明 従釆方式
テーフの移動速度 ＞６０ｍノ分 ｌｏｍノ分〃 の
蒸着膜厚 ８００Ａ ８００Ａ但し、蒸着入射角
９０ｏ〜６００で蒸発速度同一とした場合である。
蒸着膜厚 ８００Ａ ８００Ａ但し、蒸着入射角
９０ｏ〜６００で蒸発速度同一とした場合である。
本発明は以上のような構成からなり、その主たる作用効
果を列記すれば次のとおりである：‘１１蒸着効率が８
０％以上と極めて高い。
果を列記すれば次のとおりである：‘１１蒸着効率が８
０％以上と極めて高い。
‘２’ 膜厚分布が均一となる。【３｝ 小さくかつ狭
い蒸着面で処理能力を増大できる。
い蒸着面で処理能力を増大できる。
■ 蒸着室をコンパクト化できる。
【５１蒸気のロスが少なくＣｏの如き高価のものについ
ては省資源化、ランニングコストの低下が計れる。
ては省資源化、ランニングコストの低下が計れる。
■ 横内の汚れがなくなる。
‘７｝ 生産能力の向上が著しい。
第１図は本発明の−具体例を示す縦断面図、第２図は従
来の蒸発器の例を示す縦断面図であり、図中、２は加熱
容器、３は被蒸発物、４はその蒸気、５は加熱用コイル
、８はノズル、９はノズル絞り部、１０はノズル拡大部
をそれぞれ示す。 第１図第２図
来の蒸発器の例を示す縦断面図であり、図中、２は加熱
容器、３は被蒸発物、４はその蒸気、５は加熱用コイル
、８はノズル、９はノズル絞り部、１０はノズル拡大部
をそれぞれ示す。 第１図第２図
Claims (1)
- １ 蒸発器開口と嵌合するほゞ同一形状の下方開口を有
するノズルの縦断面形状が上方に向つて一定距離に絞り
部を設け、該絞り部より上方に向けて拡大部を設けかつ
該ノズルの軸方向の長さが蒸発器開口径より大であり、
加熱機構を付設したノズルを有する高密度で指向性の蒸
気を発生するノズル付蒸発器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15381081A JPS6015698B2 (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | ノズル付蒸発器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15381081A JPS6015698B2 (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | ノズル付蒸発器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5858276A JPS5858276A (ja) | 1983-04-06 |
| JPS6015698B2 true JPS6015698B2 (ja) | 1985-04-20 |
Family
ID=15570600
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15381081A Expired JPS6015698B2 (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | ノズル付蒸発器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6015698B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004211110A (ja) * | 2002-12-26 | 2004-07-29 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 蒸着用るつぼ、蒸着装置および蒸着方法 |
| JP2010121215A (ja) * | 2010-01-14 | 2010-06-03 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 蒸着装置および蒸着方法 |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4700660A (en) * | 1984-06-12 | 1987-10-20 | Kievsky Politekhnichesky Institut | Evaporator for depositing films in a vacuum |
| FR2579486B1 (fr) * | 1985-03-26 | 1989-05-26 | Canon Kk | Procede pour regler la vitesse de particules fines |
| FR2579488B1 (fr) * | 1985-03-26 | 1989-05-19 | Canon Kk | Procede pour regler la densite de particules fines |
| CA1272662A (en) * | 1985-03-26 | 1990-08-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Apparatus and process for controlling flow of fine particles |
| CA1272661A (en) * | 1985-05-11 | 1990-08-14 | Yuji Chiba | Reaction apparatus |
| JPS6293368A (ja) * | 1985-10-17 | 1987-04-28 | Mitsubishi Electric Corp | 蒸発源 |
| WO2016095997A1 (en) * | 2014-12-17 | 2016-06-23 | Applied Materials, Inc. | Material deposition arrangement, a vacuum deposition system and method for depositing material |
| CN107815648B (zh) * | 2017-09-26 | 2019-11-05 | 上海升翕光电科技有限公司 | 一种线性蒸发源装置及蒸镀设备 |
| CN112359323B (zh) * | 2020-10-28 | 2021-07-23 | 广西贝驰汽车科技有限公司 | 一种金属薄板表面处理用连续式真空镀膜装置 |
-
1981
- 1981-09-30 JP JP15381081A patent/JPS6015698B2/ja not_active Expired
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004211110A (ja) * | 2002-12-26 | 2004-07-29 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 蒸着用るつぼ、蒸着装置および蒸着方法 |
| JP2010121215A (ja) * | 2010-01-14 | 2010-06-03 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 蒸着装置および蒸着方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5858276A (ja) | 1983-04-06 |
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