JPS5858276A - ノズル付蒸発器 - Google Patents
ノズル付蒸発器Info
- Publication number
- JPS5858276A JPS5858276A JP15381081A JP15381081A JPS5858276A JP S5858276 A JPS5858276 A JP S5858276A JP 15381081 A JP15381081 A JP 15381081A JP 15381081 A JP15381081 A JP 15381081A JP S5858276 A JPS5858276 A JP S5858276A
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- Japan
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- vapor
- opening
- evaporated
- heating
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はノズル付蒸発器、特に高密度かつ指向性の金１
４８気を発生し得るノズル付Ｈ発器に関する。
４８気を発生し得るノズル付Ｈ発器に関する。
従来、真空蒸着装置に使用されている蒸発源には抵抗加
熱式、高周波誘導加熱式、Ｋ ／ Ｂ加熱式の蒸発器が
ある０抵抗加熱式ＫＦｉ一部／！Ｊ４ｋｌｋ付したもの
はあるがノズルから出た蒸気は湯面よりあらゆる方向に
飛散し、膜形成に＠与するものは蒸発量に対する割合（
蒸着効率という）で４０−以下である。４０嗟の蒸〜効
率を得るには大きな蒸着面が必要である。又、蒸着面の
小さなもの、あるいは狭いもの（たとえは蒸着入射角を
限定して蒸着している磁気テープ用のもの）では蒸着効
本数嗟と低い蒸着効率であることは当業技術者に周知の
ことである。
熱式、高周波誘導加熱式、Ｋ ／ Ｂ加熱式の蒸発器が
ある０抵抗加熱式ＫＦｉ一部／！Ｊ４ｋｌｋ付したもの
はあるがノズルから出た蒸気は湯面よりあらゆる方向に
飛散し、膜形成に＠与するものは蒸発量に対する割合（
蒸着効率という）で４０−以下である。４０嗟の蒸〜効
率を得るには大きな蒸着面が必要である。又、蒸着面の
小さなもの、あるいは狭いもの（たとえは蒸着入射角を
限定して蒸着している磁気テープ用のもの）では蒸着効
本数嗟と低い蒸着効率であることは当業技術者に周知の
ことである。
本発明者等は省資源、省エネルゼー、生産能率の向上の
見地から前記蒸着効率をあげるために種々研究の結果１
本発明のノズル付蒸発器の一発に成功したものであ〕２
本発明の要旨とするところは前記特許請求の範＃！に切
起した如き特定の構成とすることＫある。
見地から前記蒸着効率をあげるために種々研究の結果１
本発明のノズル付蒸発器の一発に成功したものであ〕２
本発明の要旨とするところは前記特許請求の範＃！に切
起した如き特定の構成とすることＫある。
本発明の一具体例を示す添付図面を以下に説明するが１
本発明をこの具体例にのみ限定するもので々く１本発明
の要旨内における変更、改変は本発明に包含されること
は首うまでもない。
本発明をこの具体例にのみ限定するもので々く１本発明
の要旨内における変更、改変は本発明に包含されること
は首うまでもない。
第２図は従来の蒸発器であり、加熱容器２は高周波誘導
電源７と導線６で結合されたコイル５によって加熱され
、被蒸発物が矢印の如く蒸発され、蒸発した蒸気４＃ｉ
湯面よりあらゆる方向に飛散するものであシ、′ｌｈ着
効軍は前述の如く極めて低率である。
電源７と導線６で結合されたコイル５によって加熱され
、被蒸発物が矢印の如く蒸発され、蒸発した蒸気４＃ｉ
湯面よりあらゆる方向に飛散するものであシ、′ｌｈ着
効軍は前述の如く極めて低率である。
第１図は本発明の一具体例を示す縦断面図であ〕、加熱
容器（蒸発器）２の開口上に載置するノズル８は上方に
向って一定距離に絞力部９を設け、紋絞夛部９よ）上方
に向けて拡大部１０を設ける。
容器（蒸発器）２の開口上に載置するノズル８は上方に
向って一定距離に絞力部９を設け、紋絞夛部９よ）上方
に向けて拡大部１０を設ける。
尚、開口から絞〕部９の距離は加熱容器２の開口の大き
さＫよって決められる函数である。
さＫよって決められる函数である。
ノズル８の軸方向の長さ祉加熱容器２の開口部の大きさ
より大であることが必要である。第１図においてその他
の符号は前述の第２図と同一部材を示す。
より大であることが必要である。第１図においてその他
の符号は前述の第２図と同一部材を示す。
第１図図示の如きノズル８を載置することによ〕、被蒸
発物３から蒸発した蒸気はノズル８の赦）部９で高台変
化及び高速化され、適当に角度のある空間を通過して指
向性のある蒸気４′を発生させることができる＠ 広幅の走行する蒸着面に適用する場合は前記加熱容器、
ノズルの横断面を長方形角型とすればよい。
発物３から蒸発した蒸気はノズル８の赦）部９で高台変
化及び高速化され、適当に角度のある空間を通過して指
向性のある蒸気４′を発生させることができる＠ 広幅の走行する蒸着面に適用する場合は前記加熱容器、
ノズルの横断面を長方形角型とすればよい。
ノズル及び加熱容器の加熱方式＃′１Ｈ５１Ｖ！Ａの為
高胸ａｌｌ導加熱方弐′を図示しているがこれを限定す
るものでなく、従来からある加熱方式（たとえば抵抗加
熱方式等）を用いても可能である。さらに、ノズルと加
熱容器は説明の為分離し友が１体化しても何等変るもの
でａない。
高胸ａｌｌ導加熱方弐′を図示しているがこれを限定す
るものでなく、従来からある加熱方式（たとえば抵抗加
熱方式等）を用いても可能である。さらに、ノズルと加
熱容器は説明の為分離し友が１体化しても何等変るもの
でａない。
本発明のノズル付蒸発器を用−た磁気テープの蒸着例を
以下に説明する・ 本発明 従来方式 テープの移動速度 ７６０ｍ／分 １０ ｍ
７分但し・蒸着入射角９０°〜６０°で蒸発速度同一と
した場合である。
以下に説明する・ 本発明 従来方式 テープの移動速度 ７６０ｍ／分 １０ ｍ
７分但し・蒸着入射角９０°〜６０°で蒸発速度同一と
した場合である。
本発明は以上のような構成η為らなり、その主たる作用
効果を列記すれば次のとおりである：（ＩＩ ３着効
率が８ｏチ以上と極めて高い。
効果を列記すれば次のとおりである：（ＩＩ ３着効
率が８ｏチ以上と極めて高い。
１２１ 膜厚分布が均一となる。
（３） 小さくかっ狭り蒸着面で処理能力を増大でき
る・ イ４ 蒸着−をコンパクト化できる。
る・ イ４ 蒸着−をコンパクト化できる。
（２）蒸気のロスが少なく Ｃｏ の如！高価のもの
については省資源化、ランニンダコストの低下が計れる
。
については省資源化、ランニンダコストの低下が計れる
。
（８１槽内の汚れがなくなる。
＋７１ 生産能事の向上が著しい。
第１図は本発明の一具体例を示す縦断面図、第２１ｉｉ
Ｏは従来の蒸発器の例を示す縦断面図であシ、図中、２
は加熱容器、 ３は被蒸発物、 ４はその蒸気、 ５
は加熱用コイル、 ８Ｆｉノズル。 ９はノズル絞り部、 １０はノズル拡大部をそれ（れ
示す。 手続補正書（自発） 昭和５６年１０月２７日 特許庁長官殿 ■、事件の表示 昭和 ５６ 年特許願第１５３８１０号２、発明の名称 ノズル付蒸発器 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 岬奈用県茅ケ崎市ｇ−２５００番地物産ビル別
館 電話（５９１） ０２６１５、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 （１）明細４第４頁第１０行の「７６０ ｍ７％ Ｊを
「〉６０ｍ／分」と補正する。
Ｏは従来の蒸発器の例を示す縦断面図であシ、図中、２
は加熱容器、 ３は被蒸発物、 ４はその蒸気、 ５
は加熱用コイル、 ８Ｆｉノズル。 ９はノズル絞り部、 １０はノズル拡大部をそれ（れ
示す。 手続補正書（自発） 昭和５６年１０月２７日 特許庁長官殿 ■、事件の表示 昭和 ５６ 年特許願第１５３８１０号２、発明の名称 ノズル付蒸発器 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 岬奈用県茅ケ崎市ｇ−２５００番地物産ビル別
館 電話（５９１） ０２６１５、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 （１）明細４第４頁第１０行の「７６０ ｍ７％ Ｊを
「〉６０ｍ／分」と補正する。
Claims (1)
- ノズルの縦断面形状が蒸発器開口から上方に向って一足
距離に絞シ部を設け、該絞〕部より上方に陶けて拡大部
を設けかつ骸ノズルの軸方向の長さが蒸発器開口径よシ
大であ〕、加熱機構を付設したノズルを有する高密度で
指向性の蒸気を発生し得る蒸発器・
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15381081A JPS6015698B2 (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | ノズル付蒸発器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15381081A JPS6015698B2 (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | ノズル付蒸発器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5858276A true JPS5858276A (ja) | 1983-04-06 |
| JPS6015698B2 JPS6015698B2 (ja) | 1985-04-20 |
Family
ID=15570600
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15381081A Expired JPS6015698B2 (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | ノズル付蒸発器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6015698B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2579486A1 (fr) * | 1985-03-26 | 1986-10-03 | Canon Kk | Procede pour regler la vitesse de particules fines |
| FR2579488A1 (fr) * | 1985-03-26 | 1986-10-03 | Canon Kk | Procede pour regler la densite de particules fines |
| FR2584100A1 (fr) * | 1984-06-12 | 1987-01-02 | Ki Polt I | Evaporateur pour l'obtention, par evaporation sous vide, de depots de films minces |
| JPS6293368A (ja) * | 1985-10-17 | 1987-04-28 | Mitsubishi Electric Corp | 蒸発源 |
| US4909914A (en) * | 1985-05-11 | 1990-03-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Reaction apparatus which introduces one reacting substance within a convergent-divergent nozzle |
| US4911805A (en) * | 1985-03-26 | 1990-03-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Apparatus and process for producing a stable beam of fine particles |
| JP2018501405A (ja) * | 2014-12-17 | 2018-01-18 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | 材料堆積装置、真空堆積システム、及び材料堆積方法 |
| CN107815648A (zh) * | 2017-09-26 | 2018-03-20 | 上海升翕光电科技有限公司 | 一种线性蒸发源装置及蒸镀设备 |
| CN112359323A (zh) * | 2020-10-28 | 2021-02-12 | 暴佳兴 | 一种金属薄板表面处理用连续式真空镀膜装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4110966B2 (ja) * | 2002-12-26 | 2008-07-02 | 富士電機ホールディングス株式会社 | 蒸着装置および蒸着方法 |
| JP2010121215A (ja) * | 2010-01-14 | 2010-06-03 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 蒸着装置および蒸着方法 |
-
1981
- 1981-09-30 JP JP15381081A patent/JPS6015698B2/ja not_active Expired
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2584100A1 (fr) * | 1984-06-12 | 1987-01-02 | Ki Polt I | Evaporateur pour l'obtention, par evaporation sous vide, de depots de films minces |
| FR2579486A1 (fr) * | 1985-03-26 | 1986-10-03 | Canon Kk | Procede pour regler la vitesse de particules fines |
| FR2579488A1 (fr) * | 1985-03-26 | 1986-10-03 | Canon Kk | Procede pour regler la densite de particules fines |
| US4911805A (en) * | 1985-03-26 | 1990-03-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Apparatus and process for producing a stable beam of fine particles |
| US4909914A (en) * | 1985-05-11 | 1990-03-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Reaction apparatus which introduces one reacting substance within a convergent-divergent nozzle |
| JPS6293368A (ja) * | 1985-10-17 | 1987-04-28 | Mitsubishi Electric Corp | 蒸発源 |
| JP2018501405A (ja) * | 2014-12-17 | 2018-01-18 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | 材料堆積装置、真空堆積システム、及び材料堆積方法 |
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| CN107815648B (zh) * | 2017-09-26 | 2019-11-05 | 上海升翕光电科技有限公司 | 一种线性蒸发源装置及蒸镀设备 |
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| CN112359323B (zh) * | 2020-10-28 | 2021-07-23 | 广西贝驰汽车科技有限公司 | 一种金属薄板表面处理用连续式真空镀膜装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6015698B2 (ja) | 1985-04-20 |
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