JPS6246502A - 厚膜抵抗ペ−ストの製造方法 - Google Patents
厚膜抵抗ペ−ストの製造方法Info
- Publication number
- JPS6246502A JPS6246502A JP60185441A JP18544185A JPS6246502A JP S6246502 A JPS6246502 A JP S6246502A JP 60185441 A JP60185441 A JP 60185441A JP 18544185 A JP18544185 A JP 18544185A JP S6246502 A JPS6246502 A JP S6246502A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thick film
- glass
- ruthenium oxide
- paste
- oxide powder
- Prior art date
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- Granted
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- Non-Adjustable Resistors (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、厚膜抵抗ペーストの製造方法の改良に関する
。
。
（従来技術とその問題点）
従来、厚膜抵抗ペーストを製造するには、酸化ルテニウ
ムとガラスフリットと耐熱性酸化物とを適当な比率で有
機ビヒクル中に、三本ロール機を用いて分散させること
により、製造していた。
ムとガラスフリットと耐熱性酸化物とを適当な比率で有
機ビヒクル中に、三本ロール機を用いて分散させること
により、製造していた。
ところで、かかる製造方法では、高抵抗の厚膜抵抗ペー
ストを作る場合、導電成分である酸化ルテニウムの比率
が少ない為、三本ロール機による有機ビヒクル中でのガ
ラスフリットとの混合分散が十分行われず、これが為に
得られた厚膜抵抗ペーストをアルミナ基板上に印刷し、
焼成して抵抗体を作ると、抵抗体の抵抗値がばらつくと
いう欠点があった。
ストを作る場合、導電成分である酸化ルテニウムの比率
が少ない為、三本ロール機による有機ビヒクル中でのガ
ラスフリットとの混合分散が十分行われず、これが為に
得られた厚膜抵抗ペーストをアルミナ基板上に印刷し、
焼成して抵抗体を作ると、抵抗体の抵抗値がばらつくと
いう欠点があった。
（発明の目的）
本発明は、上記欠点を解消すべくなされたものであり、
抵抗値のばらつきが少ない抵抗体を作ることのできる厚
膜抵抗ペーストの製造方法を提供することを目的とする
ものである。
抵抗値のばらつきが少ない抵抗体を作ることのできる厚
膜抵抗ペーストの製造方法を提供することを目的とする
ものである。
（発明の構成）
本発明の厚膜抵抗ペーストの製造方法は、ガラスと酸化
ルテニウム粉末を共にボールミルに入れてガラスを粉砕
すると同時にガラスと酸化ルテニウム粉末を混合分散し
、次に耐熱性酸化物粉末を混合し、然る後この混合粉を
有機ビヒクル中に分散して厚膜抵抗ペーストを作ること
を特徴とする。
ルテニウム粉末を共にボールミルに入れてガラスを粉砕
すると同時にガラスと酸化ルテニウム粉末を混合分散し
、次に耐熱性酸化物粉末を混合し、然る後この混合粉を
有機ビヒクル中に分散して厚膜抵抗ペーストを作ること
を特徴とする。
このように本発明の製造方法では、ガラスの粉砕と、該
ガラスと酸化ルテニウム粉末との混合分散を同時に行う
ので、ガラスが粉砕された時にガラスに新しい面ができ
、このできたばかりの新しい面は極めて活性である為、
この面と酸化ルテニウム粉末とがメカノケミストリーに
反応し、ガラス表面に酸化ルテニウムの膜が形成される
。この反応は、ガラス粉砕中に連続して起り、粉砕され
た微細なガラス粉の表面に一様に酸化ルテニウムの膜が
形成される結果、ガラスと酸化ルテニウムが十分に混合
分散した均質な混合粉ができ、この混合粉を有機ビヒク
ル中に分散して得た厚膜抵抗ペーストをアルミナ基板上
に印刷し、焼成して抵抗体を作ると、その抵抗体の抵抗
値はばらつきが無く、安定したものとなるものである。
ガラスと酸化ルテニウム粉末との混合分散を同時に行う
ので、ガラスが粉砕された時にガラスに新しい面ができ
、このできたばかりの新しい面は極めて活性である為、
この面と酸化ルテニウム粉末とがメカノケミストリーに
反応し、ガラス表面に酸化ルテニウムの膜が形成される
。この反応は、ガラス粉砕中に連続して起り、粉砕され
た微細なガラス粉の表面に一様に酸化ルテニウムの膜が
形成される結果、ガラスと酸化ルテニウムが十分に混合
分散した均質な混合粉ができ、この混合粉を有機ビヒク
ル中に分散して得た厚膜抵抗ペーストをアルミナ基板上
に印刷し、焼成して抵抗体を作ると、その抵抗体の抵抗
値はばらつきが無く、安定したものとなるものである。
（実施例）
本発明の厚膜抵抗ペーストの製造方法の一実施例を説明
する。粉砕前のガラス９５訂％と、平均粒径１μ以下の
酸化ルテニウム粉末５れ％とをドライボールミルに入れ
、２４０時間かけてガラスを粉砕すると同時にガラスと
酸化ルテニウム粉末とを混合分散し、次にこの混合粉の
入ったドライボールミルに、耐熱性酸化物粉末として平
均粒径１μ以下の酸化アルミニウム粉末を上記（ガラス
＋酸化ルテニウム）の重量に対して２２．５％を加え、
４時間かけて混合し、然る後ボールミルより取り出し有
機ビヒクルを２５れ％を加え三本ロール機で有機ビヒク
ル中に分散して、厚膜抵抗ペーストを作った この実施例の厚膜抵抗ペーストと、従来例の厚膜抵抗ペ
ースト（平均粒径３μ以下のガラス粉末と平均粒径１μ
以下の酸化ルテニウム粉末と平均粒径１μ以下の酸化ア
ルミニウム粉末とを三本ロール機で有機ビヒクル中に分
散して作ったもの）とを、長さ３璽嘗、幅１．５１■の
パターンで、アルミ基板上に印刷し、８７０℃、５分ピ
ークで焼成して、夫々６４個の抵抗体を作った。
する。粉砕前のガラス９５訂％と、平均粒径１μ以下の
酸化ルテニウム粉末５れ％とをドライボールミルに入れ
、２４０時間かけてガラスを粉砕すると同時にガラスと
酸化ルテニウム粉末とを混合分散し、次にこの混合粉の
入ったドライボールミルに、耐熱性酸化物粉末として平
均粒径１μ以下の酸化アルミニウム粉末を上記（ガラス
＋酸化ルテニウム）の重量に対して２２．５％を加え、
４時間かけて混合し、然る後ボールミルより取り出し有
機ビヒクルを２５れ％を加え三本ロール機で有機ビヒク
ル中に分散して、厚膜抵抗ペーストを作った この実施例の厚膜抵抗ペーストと、従来例の厚膜抵抗ペ
ースト（平均粒径３μ以下のガラス粉末と平均粒径１μ
以下の酸化ルテニウム粉末と平均粒径１μ以下の酸化ア
ルミニウム粉末とを三本ロール機で有機ビヒクル中に分
散して作ったもの）とを、長さ３璽嘗、幅１．５１■の
パターンで、アルミ基板上に印刷し、８７０℃、５分ピ
ークで焼成して、夫々６４個の抵抗体を作った。
こうして作った実施例による抵抗体と従来例による抵抗
体の平均抵抗値、ＴＣＰ、抵抗値のばらつきσを測定し
た処、下記の表に示すような結果を得た。
体の平均抵抗値、ＴＣＰ、抵抗値のばらつきσを測定し
た処、下記の表に示すような結果を得た。
上記の表で明らかなように、実施例の厚膜抵抗ペースト
で作った抵抗体は、従来例の厚膜抵抗ペーストで作った
抵抗体に比し抵抗体のばらつきσが少なく、また同じ酸
化ルテニウムの含有量でも大幅に抵抗値が低下している
ことが判る。これはひとえに酸化ルテニウム粉末がガラ
ス中に均質に分散しているからに他ならない。
で作った抵抗体は、従来例の厚膜抵抗ペーストで作った
抵抗体に比し抵抗体のばらつきσが少なく、また同じ酸
化ルテニウムの含有量でも大幅に抵抗値が低下している
ことが判る。これはひとえに酸化ルテニウム粉末がガラ
ス中に均質に分散しているからに他ならない。
（発明の効果）
以上記載した通り本発明の厚膜抵抗ペーストの製造方法
によれば、ガラスと酸化ルテニウムが均質に混合分散し
ていて、抵抗値のばらつきが少なく、その上酸化ルテニ
ウムが同じ含有量でも抵抗値の著しく低い性能に優れた
高信頬性の抵抗体を作ることのできる厚膜抵抗ペースト
が得られるという効果がある。
によれば、ガラスと酸化ルテニウムが均質に混合分散し
ていて、抵抗値のばらつきが少なく、その上酸化ルテニ
ウムが同じ含有量でも抵抗値の著しく低い性能に優れた
高信頬性の抵抗体を作ることのできる厚膜抵抗ペースト
が得られるという効果がある。
Claims (1)
- ガラスと酸化ルテニウム粉末を共にボールミルに入れ
てガラスを粉砕すると同時にガラスと酸化ルテニウム粉
末とを混合分散し、然る後この混合粉を有機ビヒクル中
に分散して厚膜抵抗ペーストを作ることを特徴とする厚
膜抵抗ペーストの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60185441A JPS6246502A (ja) | 1985-08-23 | 1985-08-23 | 厚膜抵抗ペ−ストの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60185441A JPS6246502A (ja) | 1985-08-23 | 1985-08-23 | 厚膜抵抗ペ−ストの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6246502A true JPS6246502A (ja) | 1987-02-28 |
| JPH0347721B2 JPH0347721B2 (ja) | 1991-07-22 |
Family
ID=16170843
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60185441A Granted JPS6246502A (ja) | 1985-08-23 | 1985-08-23 | 厚膜抵抗ペ−ストの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6246502A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008272854A (ja) * | 2007-04-26 | 2008-11-13 | Okuma Corp | チャック装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55143001A (en) * | 1979-03-05 | 1980-11-08 | Trw Inc | Electric resistor and method of fabricating same |
-
1985
- 1985-08-23 JP JP60185441A patent/JPS6246502A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55143001A (en) * | 1979-03-05 | 1980-11-08 | Trw Inc | Electric resistor and method of fabricating same |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008272854A (ja) * | 2007-04-26 | 2008-11-13 | Okuma Corp | チャック装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0347721B2 (ja) | 1991-07-22 |
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