JPS6244382B2 - - Google Patents
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- JPS6244382B2 JPS6244382B2 JP53036420A JP3642078A JPS6244382B2 JP S6244382 B2 JPS6244382 B2 JP S6244382B2 JP 53036420 A JP53036420 A JP 53036420A JP 3642078 A JP3642078 A JP 3642078A JP S6244382 B2 JPS6244382 B2 JP S6244382B2
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- Japan
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- deflection
- magnetic pole
- objective lens
- electron
- lens
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 33
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 9
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 claims description 6
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 4
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 8
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 5
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 4
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 1
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の利用分野）
本発明は偏向装置付電子レンズに関し、特に電
子線によるパタン描画装置に用いるのに適した対
物レンズと偏向コイルの構造に関する。
子線によるパタン描画装置に用いるのに適した対
物レンズと偏向コイルの構造に関する。
（発明の背景）
従来の電子線によるパタン描画装置では多くの
場合、電子線の偏向コイルが、対物レンズから離
れて配置された構造をとつている。
場合、電子線の偏向コイルが、対物レンズから離
れて配置された構造をとつている。
この理由は、偏向の動的速応性を確保するため
であり、偏向の磁場が対物レンズの磁性体に喰い
込み、渦電流等を作るのを防止するためである。
であり、偏向の磁場が対物レンズの磁性体に喰い
込み、渦電流等を作るのを防止するためである。
すなわち、電子線をパターンプログラムにした
がつて偏向コイルで偏向し、被描画面に高速で描
画する場合、磁場が対物レンズの磁性体に喰い込
んで渦電流などを作ると、入力パターン信号と描
画パターンとの間にずれを生ずることになる。
がつて偏向コイルで偏向し、被描画面に高速で描
画する場合、磁場が対物レンズの磁性体に喰い込
んで渦電流などを作ると、入力パターン信号と描
画パターンとの間にずれを生ずることになる。
これを防止するため、偏向コイルは、数
100KHZ程度の高周波特性のよい磁性体、たとえ
ば、フエライトなどの焼成材でシールドされてい
る。また偏向コイルの漏洩磁束が対物レンズ等の
磁性体に喰い込まないように、対物レンズと偏向
装置とを非磁性体を介して分離させている。
100KHZ程度の高周波特性のよい磁性体、たとえ
ば、フエライトなどの焼成材でシールドされてい
る。また偏向コイルの漏洩磁束が対物レンズ等の
磁性体に喰い込まないように、対物レンズと偏向
装置とを非磁性体を介して分離させている。
第１図は電子線によるパタン描画装置の概念的
説明図である。
説明図である。
電子線５は電子源１より発射され、コンデンサ
レンズ２と対物レンズ３とで縮少され、レジスト
板６上にスポツトが結ばれる。電子線５は、描画
すべき信号によつて磁場を発生させる偏向装置４
によつて図の如く偏向され、所望のパターンをレ
ジスト板上に作る。
レンズ２と対物レンズ３とで縮少され、レジスト
板６上にスポツトが結ばれる。電子線５は、描画
すべき信号によつて磁場を発生させる偏向装置４
によつて図の如く偏向され、所望のパターンをレ
ジスト板上に作る。
第２図は従来の対物レンズ、および偏向装置の
構造を示す断面図である。７は上部磁極、８は対
物コイル、９は非磁性体からなるスペーサ、１０
は下部磁極である。前記上部および下部磁極７，
１０は純鉄、パーマロイなどの磁性材料で構成さ
れるのが普通である。
構造を示す断面図である。７は上部磁極、８は対
物コイル、９は非磁性体からなるスペーサ、１０
は下部磁極である。前記上部および下部磁極７，
１０は純鉄、パーマロイなどの磁性材料で構成さ
れるのが普通である。
偏向コイル１３は、高周波に対して速応性のあ
る強磁性体、たとえばフエライトなどからなる偏
向ヨーク１２で包囲されており、偏向磁束の漏洩
防止がはかられている。
る強磁性体、たとえばフエライトなどからなる偏
向ヨーク１２で包囲されており、偏向磁束の漏洩
防止がはかられている。
さらに、偏向コイル１３からの漏洩磁束が対物
レンズ部（上部および下部磁極７，１０）等の強
磁性体、および他の金属等に流入して、渦電流、
および磁化のヒステリシスを生ずるのを防ぐた
め、非磁性材からなるスペーサ１１で両者は分
離、固定されている。
レンズ部（上部および下部磁極７，１０）等の強
磁性体、および他の金属等に流入して、渦電流、
および磁化のヒステリシスを生ずるのを防ぐた
め、非磁性材からなるスペーサ１１で両者は分
離、固定されている。
なお、第２図において、Ｄは対物レンズの作用
距離であり、Ｓは偏向コイルの作用距離である。
距離であり、Ｓは偏向コイルの作用距離である。
ここでＳの値が長いほど偏向感度が上り、一方
Ｄの値は小さいほどよい。
Ｄの値は小さいほどよい。
しかし、前述のような従来の構成では、作用距
離Ｄ―すなわち、対物レンズと、パタンを描画す
べきレジストとの間隔が長くなり、収差の発生、
およびレジスト上での電子流密度の低減を来して
いる。
離Ｄ―すなわち、対物レンズと、パタンを描画す
べきレジストとの間隔が長くなり、収差の発生、
およびレジスト上での電子流密度の低減を来して
いる。
実用の装置としては、この作用距離Ｄが小さい
ほど、前記電子流密度が大きく、描画速度を向上
せしめることができる。
ほど、前記電子流密度が大きく、描画速度を向上
せしめることができる。
（発明の目的）
本発明は、偏向装置と対物レンズ磁極とを組み
合せることによつて作用距離を短かくし、もつて
描画装置の性能を向上した偏向装置付電子レンズ
を提供することを目的とするものである。
合せることによつて作用距離を短かくし、もつて
描画装置の性能を向上した偏向装置付電子レンズ
を提供することを目的とするものである。
（発明の概要）
前記目的を達成するため、本発明においては、
偏向コイルを偏向ヨークで包囲すると共に、対物
レンズの少くとも下部の磁極を高周波特性のよい
強磁性体、たとえばフエライトで作つて、偏向装
置のヨークと兼用させるようにし、これにより、
偏向の動的速応性を阻害することなく、作用距離
を短縮せしめるように構成している。
偏向コイルを偏向ヨークで包囲すると共に、対物
レンズの少くとも下部の磁極を高周波特性のよい
強磁性体、たとえばフエライトで作つて、偏向装
置のヨークと兼用させるようにし、これにより、
偏向の動的速応性を阻害することなく、作用距離
を短縮せしめるように構成している。
（発明の実施例）
第３図は本発明の一実施例である。本実施例で
は、下部磁極１０Ａを高周波に対して速応性のあ
る非導電性かつ強磁性体（フエライトなど）で作
り、これを偏向ヨークの一部として用いるので、
偏向コイル１３は、電子レンズの光軸側に開口す
る偏向ヨークで、その大部分を包囲されるように
なる。このような構成にしたことにより、第２図
の従来例と比較した場合、下部磁極１０の厚み
と、スペーサ１１の厚みを省くことができ、しか
も、速応特性を害することがないという特徴を生
ずる。
は、下部磁極１０Ａを高周波に対して速応性のあ
る非導電性かつ強磁性体（フエライトなど）で作
り、これを偏向ヨークの一部として用いるので、
偏向コイル１３は、電子レンズの光軸側に開口す
る偏向ヨークで、その大部分を包囲されるように
なる。このような構成にしたことにより、第２図
の従来例と比較した場合、下部磁極１０の厚み
と、スペーサ１１の厚みを省くことができ、しか
も、速応特性を害することがないという特徴を生
ずる。
第４図は更に、第３図における下部磁極と偏向
ヨークとを一体形成した本発明の他の実施例であ
る。この場合は、下部磁極１０Ｂで偏向コイルの
大部分を包み、電子レンズの光軸側を開口させて
これを偏向ヨークとして作用せしめると共に、下
部磁極１０Ｂの外周縁を上部磁極７の外側磁路と
接触させ、対物コイル８による磁力線を前記外側
磁路、下部磁極１０Ｂからスペーサ９を介して上
部磁極７に導くことにより、対物レンズの下部磁
極として作用せしめる。
ヨークとを一体形成した本発明の他の実施例であ
る。この場合は、下部磁極１０Ｂで偏向コイルの
大部分を包み、電子レンズの光軸側を開口させて
これを偏向ヨークとして作用せしめると共に、下
部磁極１０Ｂの外周縁を上部磁極７の外側磁路と
接触させ、対物コイル８による磁力線を前記外側
磁路、下部磁極１０Ｂからスペーサ９を介して上
部磁極７に導くことにより、対物レンズの下部磁
極として作用せしめる。
この場合、偏向コイル１３は対物レンズの収束
磁場内にあるが、作用は独立であるから、相互に
影響を受けることは少ない。そして、図に示す如
く、対物レンズと、偏向コイルの作用距離Ｓ，Ｄ
は実質的に等しくなり、理想的な状態となる。
磁場内にあるが、作用は独立であるから、相互に
影響を受けることは少ない。そして、図に示す如
く、対物レンズと、偏向コイルの作用距離Ｓ，Ｄ
は実質的に等しくなり、理想的な状態となる。
なお、偏向磁束は、これを包囲するヨークが不
完全なため漏洩するおそれがある。このため必要
に応じて、第４図に示したように上部磁極７の一
部７Ａを高周波特性のよい強磁性体で置き換える
とよい。
完全なため漏洩するおそれがある。このため必要
に応じて、第４図に示したように上部磁極７の一
部７Ａを高周波特性のよい強磁性体で置き換える
とよい。
以上の説明から明らかなように、本発明によれ
ば、偏向コイルの漏洩磁束が対物レンズ部へ侵入
することを防止しながら、偏向コイルの作用距離
Ｓを可及的長くし、一方、対物レンズの作用距離
Ｄは可及的短くして、偏向感度および描画速度の
向上を実現できるという効果が達成できる。
ば、偏向コイルの漏洩磁束が対物レンズ部へ侵入
することを防止しながら、偏向コイルの作用距離
Ｓを可及的長くし、一方、対物レンズの作用距離
Ｄは可及的短くして、偏向感度および描画速度の
向上を実現できるという効果が達成できる。
第１図は電子線によるパターン描画装置の概念
図、第２図は従来の偏向装置付電子レンズの断面
図、第３図、第４図はそれぞれ本発明の実施例の
断面図である。 ３…対物レンズ、４…偏向装置、７，７Ａ…上
部磁極、１０，１０Ａ，１０Ｂ…下部磁極、１２
…偏向ヨーク、１３…偏向コイル。
図、第２図は従来の偏向装置付電子レンズの断面
図、第３図、第４図はそれぞれ本発明の実施例の
断面図である。 ３…対物レンズ、４…偏向装置、７，７Ａ…上
部磁極、１０，１０Ａ，１０Ｂ…下部磁極、１２
…偏向ヨーク、１３…偏向コイル。
Claims (1)
- １ 電子レンズと、前記電子レンズの下部磁極の
下側に配置され、前記電子レンズから出た電子線
を偏向する偏向コイルとを有する偏向装置付電子
レンズにおいて、前記偏向コイルが、電子レンズ
の光軸側に開口する偏向ヨークで包囲されてお
り、かつ電子レンズの少なくとも下部磁極を、高
周波に対して速応性を有する強磁性体材料で構成
し、前記下部磁極を前記偏向コイルの偏向ヨーク
に兼用したことを特徴とする偏向装置付電子レン
ズ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3642078A JPS54128679A (en) | 1978-03-29 | 1978-03-29 | Electron lens with deflector |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3642078A JPS54128679A (en) | 1978-03-29 | 1978-03-29 | Electron lens with deflector |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54128679A JPS54128679A (en) | 1979-10-05 |
| JPS6244382B2 true JPS6244382B2 (ja) | 1987-09-19 |
Family
ID=12469327
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3642078A Granted JPS54128679A (en) | 1978-03-29 | 1978-03-29 | Electron lens with deflector |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS54128679A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02181292A (ja) * | 1989-01-05 | 1990-07-16 | Toshiba Corp | 自動販売機 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5629526A (en) * | 1993-09-28 | 1997-05-13 | Nikon Corporation | Electro-magnetic lens, charged particle beam transferring apparatus, and method for manufacturing electro-magnetic lens |
| JPH08138602A (ja) * | 1994-11-08 | 1996-05-31 | Hitachi Ltd | 電子線装置 |
| EP1120809B1 (en) * | 2000-01-27 | 2012-02-22 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Objective lens for a charged particle beam device |
| JP5210088B2 (ja) * | 2008-08-19 | 2013-06-12 | 日本電子株式会社 | 電子ビーム装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4937251U (ja) * | 1972-07-03 | 1974-04-02 | ||
| JPS5277573A (en) * | 1975-12-24 | 1977-06-30 | Hitachi Ltd | Magnetic field generating device |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4937251Y1 (ja) * | 1970-05-13 | 1974-10-11 |
-
1978
- 1978-03-29 JP JP3642078A patent/JPS54128679A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4937251U (ja) * | 1972-07-03 | 1974-04-02 | ||
| JPS5277573A (en) * | 1975-12-24 | 1977-06-30 | Hitachi Ltd | Magnetic field generating device |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02181292A (ja) * | 1989-01-05 | 1990-07-16 | Toshiba Corp | 自動販売機 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54128679A (en) | 1979-10-05 |
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