JPS6235031Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、プリント配線基板等の板状被表面処
理物を効率的に高速メツキするためのメツキ処理
装置に関する。

被表面処理物を高速メツキするためには一般的
に、メツキ液組成を最適にしたり、メツキ液の強
撹拌を施す方法があり、これにより被処理面への
高電流密度化を達成して金属イオンの供給を充分
に施すようにしている。

ところで、前記液撹拌の従来方法としては、主
に被処理物を液槽内で往復揺動する方法がある。

この方法に適用する装置を第１図について説明
すると、処理液槽ａを基台ｂ上に固定し、該処理
液槽ａ上に棚台ｃを配置して、該棚台ｃ上にハン
ガーｅの両端を支持する乗載片ｄを設け、駆動モ
ータｆの回転を揺動リンク装置ｇによつて、左右
往復動に変換して前記棚台ｃを第１図矢線のよう
に左右方向に往復移動し、これによりハンガーｅ
に吊持されて処理液槽ａ内に浸漬した被処理物ｈ
を液内で揺動し、該被処理物ｈ周面の処理液を撹
拌するようにしている。しかるに、この装置によ
るとハンガーｅを乗載片ｄに乗載するに際して、
棚台ｃが移動しているため、その乗載及び脱出時
には、前記棚台ｃの移動を一旦停止する必要があ
つて、被処理物ｈの出入時には液撹拌を施すこと
ができず、かつその停止位置を常に定位置とする
必要があり、定位置停止装置等により正確に位置
決めする必要を生じて機構が複雑化することとな
る。また、前記被処理物ｈの揺動による場合に
は、被処理物ｈの周部のみが撹拌され、液槽内の
処理液の濃度にバラ付きを生じ、処理液槽ａ内に
は液管理センサーｉを浸漬して、液品質の維持管
理をする場合があるが、前記液の状態のバラ付き
により正確な情報を得ることができない。また良
好な表面処理を施すためには、被処理物ｈのみな
らず、処理液槽ａ内に浸漬する陽極体ｊ周囲の液
撹拌も望まれるが、かかる装置では液撹拌のバラ
付きにより、その要求に充分対応できない等の欠
点があつた。

その他、液撹拌の他の方法として、処理液槽ａ
中に空気を圧入してその気泡により液を撹拌する
空気撹拌による方法もあるが、かかる方法はスル
ホール部を有するプリント配線基板等、孔の開い
た被処理物には、その孔に気泡が付着して表面処
理が不良となる欠点があつて不向きであつた。

本考案は前記従来欠点のない、高速メツキ処理
に最適な液動装置の提供を目的とするものであつ
て、処理液槽を移動可能に基台上に支持し、前記
処理液槽を水平方向に往復移動する揺動装置を備
えるとともに、前記処理液槽上に固定棚台を設
け、被処理物を吊持するハンガーを前記棚台に係
止して、前記被処理物を処理液槽内に浸漬し、前
記揺動装置により処理液槽全体を揺動して、液内
の処理液を均一に撹拌するようにしたものであ
る。

本考案の一実施例を添付図面について説明す
る。

第２，３図において、１は多数の処理液槽２を
前後方向に列成してなる液槽列であつて、その下
面に、左右に車輪４，４を支持し、該車輪４，４
を基台５上の前後方向のレール６に乗載して、液
槽列１をレール６に沿つた移動を可能として支持
する。前記液槽列１の下部において、基台５上に
エアーシリンダ７を前後方向に取付け、そのシリ
ンダーロツド８の先端を前記液槽列１の下面に垂
設した連結板１０に固定する。このため、前記シ
リンダーロツド８の伸縮に伴つて液槽列１はレー
ル６に沿つて前後移動する。前記液槽列１上に
は、前記処理液槽２の列設方向に沿つて、左右に
固定棚台１１，１１が差渡されている。

１３は、前記固定棚台１１，１１上に夫々設け
られた乗載片１２，１２に両側端を支持されるハ
ンガーであつて、その左右端に下面を乗載面とす
るフツク１４，１４が上方突成されている。また
前記ハンガー１３にはクランプ装置１５を図中左
右二個垂設され、配線板等の板状被処理物ｘの上
端を前記クランプ装置１５，１５で挟持し、被処
理物ｘを処理液槽２の処理液内に浸漬するように
している。前記被処理物ｘは乗載片１２，１２か
ら給電され、陰極体となる。

前記ハンガー１３は、液槽列１に沿つて間欠移
動するキヤリアー（図示せず）の昇降体１６に前
記フツク１４，１４を載せて、各処理液槽２を移
動し、当該処理液槽２の上の固定棚台１１，１１
に設けられた前記乗載片１２，１２に支持され
て、被処理物ｘを所定時間浸漬する。前記昇降体
１６は、フツク１４，１４の乗載及び脱離を自在
に制御されるものであつて、ハンガー１３を固定
棚台１１，１１上に残して脱離する。

前記固定棚台１１，１１には、各処理液槽２に
おいて、陽極体１８が処理液槽２内の処理液に浸
漬するよう乗載片１７によりその支持と給電を施
されて吊持されている。前記陽極体１８は、第２
図で示すように、網枠状のアノードバスケツト１
９内にチツプ状の銅塊２０を多数収納してなるも
ので、前記銅塊２０によつて、電極の表面積を大
として電流供給を充分に施すようになされてい
る。

また前記固定棚台１１，１１には、必要によ
り、液管理センサー２１が支持され、処理液槽２
内に浸漬される。

前記実施例の作動を説明する。

エアーシリンダ７のシリンダーロツド８を往復
移動すると、液槽列１が前後方向に往復動し、処
理液槽２内の処理液が揺動撹拌される。かかる撹
拌状態にある処理液槽２内に、ハンガー１３をキ
ヤリアーの昇降体１６により、固定棚台１１，１
１の乗載片１２，１２に掛けて被処理物ｘを浸漬
する。前記被処理物ｘは、処理液槽２内の処理液
の流動により、該周部の処理液の金属イオン濃度
を高水準に維持されながらメツキ処理を施され
る。また陽極体１８の周囲の液動もムラなくなさ
れ、このため、前記表面処理が効率的となり短時
間で所定の処理がなされる。前記の処理が施され
て後、ハンガー１３は再び昇降体１６により吊持
され次槽に移動する。

本考案は前記に詳細に説明したように、処理液
槽２を移動可能に基台５上に支持し、前記処理液
槽２を水平方向に往復移動する揺動装置７を備え
るとともに、前記処理液槽２上に固定棚台１１，
１１を設け、被処理物ｘを吊持するハンガー１３
を前記棚台１１，１１に係止して、前記被処理物
ｘを処理液槽２内に浸漬するようにしたから、前
記揺動装置７により処理液槽２内の処理液がムラ
無く撹拌を施され、このため イ 被処理物ｘの処理液槽２内への出入時期とは
無関係に撹拌を施すことができ、タイミング制
御を要せず、必要なら、前記揺動操作を断続的
に施すことができる。

ロ 被処理物ｘの処理液槽２内への出入時にも液
撹拌を施すことができるから、それだけ表面処
理が効率的となり処理時間を節約できる。

ハ 陽極体１８の周囲の液撹拌もなされるから、
該陽極体１８による電流供給を定常的に施すこ
とができ、メツキ処理品質を向上できる。

ニ 処理液槽２内の処理液の状態を常に一定にで
きるため、処理液槽２内に液管理センサー２１
を浸漬し、その液濃度等を監視する場合等にお
いて、液内の正確な情報を得ることができ、処
理液の管理及び品質の維持が容易となる。

等の優れた効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の撹拌装置の縦断側面図、第２，
３図は本考案の一実施例を示し第２図は液槽列１
の部分縦断側面図、第３図は処理液槽２の縦断正
面図である。 １；液槽列、２；処理液槽、５；基台、７；エ
アーシリンダ、１１；固定棚台、１２；乗載片、
１３；ハンガー、１６；昇降体、１８；陽極体、
２１；液管理センサー。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 処理液槽を移動可能に基台上に支持し、前記処
   理液槽を水平方向に往復移動する揺動装置を備え
   るとともに、前記処理液槽上に固定棚台を設け、
   被処理物を吊持するハンガーを前記棚台に係止し
   て、前記被処理物を処理液槽内に浸漬したことを
   特徴とするメツキ処理装置における液動装置。