JPS6233187A - 新規セフアロスポリン誘導体 - Google Patents
新規セフアロスポリン誘導体Info
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- JPS6233187A JPS6233187A JP60171839A JP17183985A JPS6233187A JP S6233187 A JPS6233187 A JP S6233187A JP 60171839 A JP60171839 A JP 60171839A JP 17183985 A JP17183985 A JP 17183985A JP S6233187 A JPS6233187 A JP S6233187A
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- Japan
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- group
- formula
- compound
- methyl
- hydrogen atom
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- Granted
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は新規なセファロスポリン誘導体に関するもので
ある。
ある。
β−ラクタム抗生物質は、細菌にのみ選択毒性を示し、
動物細胞に対しては影響を与えないことから、副作用の
少ない抗生物質として細菌による感染症の予防並びに治
療に徂要な役割を果たしている。特にセファ0スポリン
誘導体は一般にぺ二シリナーゼに対して安定であり、そ
の抗菌スペクトルが広く、細菌感染症の予防並びに治療
に供せられる頻度も多い。
動物細胞に対しては影響を与えないことから、副作用の
少ない抗生物質として細菌による感染症の予防並びに治
療に徂要な役割を果たしている。特にセファ0スポリン
誘導体は一般にぺ二シリナーゼに対して安定であり、そ
の抗菌スペクトルが広く、細菌感染症の予防並びに治療
に供せられる頻度も多い。
従来技術
4級アンモニウム塩構造を有するセファロスポリン誘導
体の記載された公開技術としては、たとえば、特開昭5
3−53690号、同55−59196号、同58−1
74387号及び同58−198490M等が掲げられ
る。
体の記載された公開技術としては、たとえば、特開昭5
3−53690号、同55−59196号、同58−1
74387号及び同58−198490M等が掲げられ
る。
現在セフオタキシム(cefotax ime)アンテ
ィマイクロビアル エイジェント アンドケモテラピイ
(Antimicrobia! A(lents an
d CheQIOtherapy、14749(197
8)]等、第三11!代と呼ばれるセファロスポリン誘
導体、はグラム陽性菌、グラム陽性菌、特に腸内細菌群
に滑れた抗菌力を示ず。
ィマイクロビアル エイジェント アンドケモテラピイ
(Antimicrobia! A(lents an
d CheQIOtherapy、14749(197
8)]等、第三11!代と呼ばれるセファロスポリン誘
導体、はグラム陽性菌、グラム陽性菌、特に腸内細菌群
に滑れた抗菌力を示ず。
セフタジブイム(cet’taz id ime)アン
ティマイクロビアル エイジェント アンドケモテラビ
イ(Antimicrobial A(lents a
n(I C11elllOtherapy、17876
(1980))はシュードモナス・エルギノーザ(PS
elldOfflOnaS aerll(IinO3a
)及びアシネトバクタ−(ACinetObaCtf3
r)に対して、これまで知られている中で最も優れたセ
ファロスポリン;人導体である。
ティマイクロビアル エイジェント アンドケモテラビ
イ(Antimicrobial A(lents a
n(I C11elllOtherapy、17876
(1980))はシュードモナス・エルギノーザ(PS
elldOfflOnaS aerll(IinO3a
)及びアシネトバクタ−(ACinetObaCtf3
r)に対して、これまで知られている中で最も優れたセ
ファロスポリン;人導体である。
発明が解決しようとする問題点
既存のセファ0スポリンMm体は、種々の耐性の機構を
もつ耐性のブドウ球菌又は耐性のシュードモナス・エル
ギノーザ(Pseudomonas aerugin。
もつ耐性のブドウ球菌又は耐性のシュードモナス・エル
ギノーザ(Pseudomonas aerugin。
Sa)、アシネトバクタ−・カルコアセティカス(Ac
inetobacter calcoaceticus
)、セラチア−?ルセッlzンス(serrat;a
marcescens)等のブドウ糖非醗酵グラム陰性
桿菌に対する抗菌活性が低い。。
inetobacter calcoaceticus
)、セラチア−?ルセッlzンス(serrat;a
marcescens)等のブドウ糖非醗酵グラム陰性
桿菌に対する抗菌活性が低い。。
従って、これらの菌による難治性感染症の治療のために
、より強力で広範囲のスペクトルをもつ新規セファロス
ポリン誘導体が求められている。
、より強力で広範囲のスペクトルをもつ新規セファロス
ポリン誘導体が求められている。
また、前掲のセフォタキシム等、第3世代と呼ばれるセ
ファ0スポリン誘導体は、グラム陽性菌、グラム陽性菌
、特に腸内細菌群に優れた抗菌力を示すが、シュードモ
ナス及びアシネトバクタ−に強力な抗菌作用を示すもの
は稀である。したがって、これらの菌、あるいはこれら
の菌と他の菌との混合感染による小篤な感染症の治療に
、もっと強力で有効な治療薬が望まれている。さらには
、前掲のセフタジブイムには、耐性菌が存在し、かなら
ずしも満足なものではない。
ファ0スポリン誘導体は、グラム陽性菌、グラム陽性菌
、特に腸内細菌群に優れた抗菌力を示すが、シュードモ
ナス及びアシネトバクタ−に強力な抗菌作用を示すもの
は稀である。したがって、これらの菌、あるいはこれら
の菌と他の菌との混合感染による小篤な感染症の治療に
、もっと強力で有効な治療薬が望まれている。さらには
、前掲のセフタジブイムには、耐性菌が存在し、かなら
ずしも満足なものではない。
問題を解決するための手段
本発明者らは、セフェム(cephem)3位に2−メ
チル−置換イソインドリニウムメチル基を有する新規セ
フェム化合物について研究した結果、イソインドリン核
にヒドロキシ基又はアセトキシ基を導入した化合物が、
イソインドリン核に無置換の化合物と比較して、グラム
陽性菌、特に緑膿菌、シュードモナス争セパシア(Ps
eudomonas cepacia)その他のブドウ
糖非醗醇グラム陰性桿菌に対し、抗菌力が著しく強力で
あることを見出した。
チル−置換イソインドリニウムメチル基を有する新規セ
フェム化合物について研究した結果、イソインドリン核
にヒドロキシ基又はアセトキシ基を導入した化合物が、
イソインドリン核に無置換の化合物と比較して、グラム
陽性菌、特に緑膿菌、シュードモナス争セパシア(Ps
eudomonas cepacia)その他のブドウ
糖非醗醇グラム陰性桿菌に対し、抗菌力が著しく強力で
あることを見出した。
中でも、7位の側鎖として2−(2−アミノチアゾール
−4−イル)−2−置換オキシイミノアセチル基を有し
、3位に2−メチル−5,6−ジ置換イソインドリニウ
ムメチルを有する化合物は、特に抗菌作用が優れている
。
−4−イル)−2−置換オキシイミノアセチル基を有し
、3位に2−メチル−5,6−ジ置換イソインドリニウ
ムメチルを有する化合物は、特に抗菌作用が優れている
。
1月
本発明は、一般式
R4は同一でも異なってもよく、それぞれ水素原子、水
酸基、メi・キシ基又はアセトキシ基を示す)で表わさ
れる化合物、その塩又は生理的に加水分解可能なそのエ
ステルである。
酸基、メi・キシ基又はアセトキシ基を示す)で表わさ
れる化合物、その塩又は生理的に加水分解可能なそのエ
ステルである。
一般にオキシイミノ基における置換はE又はZの幾何異
性の構造をとりうるが、式■の化合物の7位のアシルア
ミノ部分に含まれるオキシイミノ基の置換は2の構造を
有している。式Iの化合物の置換基R1においてカルボ
キシル基により置換されていてもよい環状の低級アルキ
ル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチ
ル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、1−カル
ボキシ−1−シクロプロピル基、1−カルボキシ−1−
シクロブチル基、1−カルボキシ−1−シクロペンチル
基または1−カルボキシ−1−シクロヘキシル基等が挙
げられる。
性の構造をとりうるが、式■の化合物の7位のアシルア
ミノ部分に含まれるオキシイミノ基の置換は2の構造を
有している。式Iの化合物の置換基R1においてカルボ
キシル基により置換されていてもよい環状の低級アルキ
ル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチ
ル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、1−カル
ボキシ−1−シクロプロピル基、1−カルボキシ−1−
シクロブチル基、1−カルボキシ−1−シクロペンチル
基または1−カルボキシ−1−シクロヘキシル基等が挙
げられる。
セフェム3位の2−メチル−置換イソインドリニウムメ
チルの置換イソインドリン環としては、例えば、無置換
イソインドリン、5−ヒドロキシイソインドリン、6−
ヒドロキシイソインドリン、5−アセトキシイソインド
リン、6−アセトキシイソインドリン、5−メトキシイ
ソインドリン、6−メトキシイソインドリン、4.5−
ジヒドロキシインインドリン、5.6−ジヒドロキシイ
ンインドリン、6.7−ジヒドロキシインインドリン、
4.5−ジアセトキシイソインドリン、5.6−ジアセ
トキシイソインドリン、6.7−ジアセトキシイソイン
ドリン、4.5−ジメトキシイソインドリン、5.6−
ジメトキシイソインドリン、6.7−ジメトキシイソイ
ンドリン、4.5−ジヒドロキシ−〇−メトキシイソイ
ンドリン、4.5−ジヒドロキシ−7−メトキシイソイ
ンドリン、5.6−シヒドロキシー4−メトキシイソイ
ンドリン、5.6−シヒドロキシー7−メトキシイソイ
ンドリン、6,7−シヒドロキシー4−メトキシイソイ
ンドリン、6.1−ジヒドロキシ−5−メトキシイソイ
ンドリン、4.5−ジアセトキシ−7−メトキシイソイ
ンドリン、5.6−ジアセドキシー4−メトキシイソイ
ンドリン、5.6−ジアセドキシー7−メトキシイソイ
ンドリン、6.7−ジアセドキシー4−メトキシイソイ
ンドリン、6.1−ジアセトキシ−5−メトキシイソイ
ンドリン、4,5.6−トリヒドロキシイソインドリン
、4,5.7−トリヒドロキシイソインドリン、5,6
.7− トリヒドロキシイソインドリン、4.5..6
− トリアセトキシイソインドリン、4,5.7−トリ
アセトキシイソインドリン、5,6.7−トリアセトキ
シイソインドリン、4,5.6− トリメトキシイソイ
ンドリン、4,5.7−トリメトキシイソインドリンま
たは5,6.7−トリメトキシイソインドリン等が挙げ
られる。
チルの置換イソインドリン環としては、例えば、無置換
イソインドリン、5−ヒドロキシイソインドリン、6−
ヒドロキシイソインドリン、5−アセトキシイソインド
リン、6−アセトキシイソインドリン、5−メトキシイ
ソインドリン、6−メトキシイソインドリン、4.5−
ジヒドロキシインインドリン、5.6−ジヒドロキシイ
ンインドリン、6.7−ジヒドロキシインインドリン、
4.5−ジアセトキシイソインドリン、5.6−ジアセ
トキシイソインドリン、6.7−ジアセトキシイソイン
ドリン、4.5−ジメトキシイソインドリン、5.6−
ジメトキシイソインドリン、6.7−ジメトキシイソイ
ンドリン、4.5−ジヒドロキシ−〇−メトキシイソイ
ンドリン、4.5−ジヒドロキシ−7−メトキシイソイ
ンドリン、5.6−シヒドロキシー4−メトキシイソイ
ンドリン、5.6−シヒドロキシー7−メトキシイソイ
ンドリン、6,7−シヒドロキシー4−メトキシイソイ
ンドリン、6.1−ジヒドロキシ−5−メトキシイソイ
ンドリン、4.5−ジアセトキシ−7−メトキシイソイ
ンドリン、5.6−ジアセドキシー4−メトキシイソイ
ンドリン、5.6−ジアセドキシー7−メトキシイソイ
ンドリン、6.7−ジアセドキシー4−メトキシイソイ
ンドリン、6.1−ジアセトキシ−5−メトキシイソイ
ンドリン、4,5.6−トリヒドロキシイソインドリン
、4,5.7−トリヒドロキシイソインドリン、5,6
.7− トリヒドロキシイソインドリン、4.5..6
− トリアセトキシイソインドリン、4,5.7−トリ
アセトキシイソインドリン、5,6.7−トリアセトキ
シイソインドリン、4,5.6− トリメトキシイソイ
ンドリン、4,5.7−トリメトキシイソインドリンま
たは5,6.7−トリメトキシイソインドリン等が挙げ
られる。
式■の化合物は、下記の方法により製造できる。
一般式
れたカルボキシル基により置換されていてもよい環状の
低級アルキル基、Xはハロゲン原子又は脱離基、Y!、
tSまたはSOを示す)で表わされる化合物又はその塩
を、一般式 (式中R、R及びR10は同一でも異なっても素原子又
はメチル基を示す)で表わされるアミンと反応さけて、
一般式 を示す)で表わされる化合物となし、これを必要に応じ
メチル化及び/又は還元したのち、保護基を除去する(
A法)。
低級アルキル基、Xはハロゲン原子又は脱離基、Y!、
tSまたはSOを示す)で表わされる化合物又はその塩
を、一般式 (式中R、R及びR10は同一でも異なっても素原子又
はメチル基を示す)で表わされるアミンと反応さけて、
一般式 を示す)で表わされる化合物となし、これを必要に応じ
メチル化及び/又は還元したのち、保護基を除去する(
A法)。
一般式
(式中R6、R8、R9、RIO及びXoは前記の意味
を有する)で表わされる化合物、そのJg又はそのシリ
ル化合物を、一般式 (式中R及びR7は前記の意味を有する)で表わされる
カルボン酸の反応性誘導体によりアシル化して、一般式 式■及び式VIのカルボン酸の置換基R5のためのアミ
ノ保ifMとしては、例えばトリチル基、ホルミル基、
クロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、ter−
ブトキシカルボニル基、トリメチルシリル基、ter−
ブチルジメチルシリル基等が挙げられる。酸処理によっ
て容易に除去できるトリチル基が特に好ましい。置換基
R6及びR7のためのカルボキシル保護基としては例え
ば下記の基が挙げられる。低級アルキル基例えばter
−ブチル基、ハロアルキル基例えば2,2.2− トリ
クロロエチル基、アルカノイルオキシアルキル基例えば
アセトキシメチル基、プロピオニルオキシメチル基、ピ
バロイルオキシメチル基、2−アセトキシエチル基、2
−プロピオニルオキシメチル基、1−(エトキシカルボ
ニルオキシ)−1−エチル基等、1−フタリジル基、ア
ルカンスルホニルアルキル基例えばメシルメチル基、2
−メシルエチル基等、アラルキル基例えばベンジル基、
4−メトキシベンジル基、4−ニトロベンジル基、フェ
ネチル基、トリチル基、ペンツヒドリル基、ビス(メト
キシフェニル)メチル基、3.4−ジメトキシベンジル
基、5−置換−2−オキソ−1,3−ジオキソ−ルー4
−イル−メチル基例えば5−メチル−2−オキソ−1,
3−ジオキソ−ルー4−イル−メチル基、アルキルシリ
ル基例えばトリメチルシリル基、ter−ブチルジメチ
ルシリル基等。酸処理によって容易に除去できるペンツ
ヒドリル基又はter−ブチル基が特に好ましい。式■
の化合物の置換基Xのためのハロゲン原子としては、例
えばJg素、臭素、ヨウ素等、脱1111f基としては
例えばアセトキシ基、トリフルオロアセ]へキシ基、メ
タンスルホニルオキシ基、1〜リフルオロメタンスル小
ニルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基、p−トル
エンスルホニルオキシ基等が挙げられる。特に臭素又は
ヨウ素が好ましい。
を有する)で表わされる化合物、そのJg又はそのシリ
ル化合物を、一般式 (式中R及びR7は前記の意味を有する)で表わされる
カルボン酸の反応性誘導体によりアシル化して、一般式 式■及び式VIのカルボン酸の置換基R5のためのアミ
ノ保ifMとしては、例えばトリチル基、ホルミル基、
クロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、ter−
ブトキシカルボニル基、トリメチルシリル基、ter−
ブチルジメチルシリル基等が挙げられる。酸処理によっ
て容易に除去できるトリチル基が特に好ましい。置換基
R6及びR7のためのカルボキシル保護基としては例え
ば下記の基が挙げられる。低級アルキル基例えばter
−ブチル基、ハロアルキル基例えば2,2.2− トリ
クロロエチル基、アルカノイルオキシアルキル基例えば
アセトキシメチル基、プロピオニルオキシメチル基、ピ
バロイルオキシメチル基、2−アセトキシエチル基、2
−プロピオニルオキシメチル基、1−(エトキシカルボ
ニルオキシ)−1−エチル基等、1−フタリジル基、ア
ルカンスルホニルアルキル基例えばメシルメチル基、2
−メシルエチル基等、アラルキル基例えばベンジル基、
4−メトキシベンジル基、4−ニトロベンジル基、フェ
ネチル基、トリチル基、ペンツヒドリル基、ビス(メト
キシフェニル)メチル基、3.4−ジメトキシベンジル
基、5−置換−2−オキソ−1,3−ジオキソ−ルー4
−イル−メチル基例えば5−メチル−2−オキソ−1,
3−ジオキソ−ルー4−イル−メチル基、アルキルシリ
ル基例えばトリメチルシリル基、ter−ブチルジメチ
ルシリル基等。酸処理によって容易に除去できるペンツ
ヒドリル基又はter−ブチル基が特に好ましい。式■
の化合物の置換基Xのためのハロゲン原子としては、例
えばJg素、臭素、ヨウ素等、脱1111f基としては
例えばアセトキシ基、トリフルオロアセ]へキシ基、メ
タンスルホニルオキシ基、1〜リフルオロメタンスル小
ニルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基、p−トル
エンスルホニルオキシ基等が挙げられる。特に臭素又は
ヨウ素が好ましい。
式VIのカルボン酸の反応性誘導体としては、例えば酸
ハロゲン化物は、カルボンII(Vl)をハロゲン化剤
と反応さけることにより得られる。反応は不活性溶媒、
例えば塩化メチレン、クロロホルム、ジクロルエタン、
ベンゼン、1〜ルーLン等又はこれらの混合物中で行わ
れる。ハロゲン化剤としては例えば塩化チオニル、三塩
化燐、1i塩化燐、オキシ塩化燐、三臭化燐、オキザリ
ルクロライド、ホスゲン等が用いられる。ハ[lゲン化
剤の使用品は、カルボンM(Vl)1モルに対し、1〜
10モル好ましくは1〜145モルで、反応温度は−4
0〜+100℃好ましくは一20〜+20℃、反応時間
は10〜60分である。
ハロゲン化物は、カルボンII(Vl)をハロゲン化剤
と反応さけることにより得られる。反応は不活性溶媒、
例えば塩化メチレン、クロロホルム、ジクロルエタン、
ベンゼン、1〜ルーLン等又はこれらの混合物中で行わ
れる。ハロゲン化剤としては例えば塩化チオニル、三塩
化燐、1i塩化燐、オキシ塩化燐、三臭化燐、オキザリ
ルクロライド、ホスゲン等が用いられる。ハ[lゲン化
剤の使用品は、カルボンM(Vl)1モルに対し、1〜
10モル好ましくは1〜145モルで、反応温度は−4
0〜+100℃好ましくは一20〜+20℃、反応時間
は10〜60分である。
式Vlのカルボン酸の混合酸無水物は、Vlをクロル炭
酸アルキル、脂肪族のカルボン酸クロライド等と反応さ
せることにより得られる。反応は不活性溶媒例えばアセ
トン、ジオキサン、アセトニトリル、テ]−ラヒドロフ
ラン、塩化メチレン、クロロホルム、ベンぎン、酢酸エ
チル、ジメチルホルムアミド等又はこれらの混合物の中
で行われる。
酸アルキル、脂肪族のカルボン酸クロライド等と反応さ
せることにより得られる。反応は不活性溶媒例えばアセ
トン、ジオキサン、アセトニトリル、テ]−ラヒドロフ
ラン、塩化メチレン、クロロホルム、ベンぎン、酢酸エ
チル、ジメチルホルムアミド等又はこれらの混合物の中
で行われる。
反応は三級アミン例えばトリエチルアミン、N−メチル
モルホリン等の存在下に行うことが好ましく、反応温度
は−30〜+2000好ましくは一15〜0℃、反応時
間は10〜30分である。
モルホリン等の存在下に行うことが好ましく、反応温度
は−30〜+2000好ましくは一15〜0℃、反応時
間は10〜30分である。
式vIのカルボン酸の活性エステルは、カルボン酸(V
T )を好ましくは1〜1.2モルのN−ヒドロキシ化
合物又はフェノール化合物と反応させることによりIL
Jられる。反応は不活性溶媒例えばアごトン、ジオキサ
ン、アセトニトリル、テ1ヘラヒドロフラン、塩化メチ
レン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルホルムアミ
ド等又はこれらの混合物の中で行われる。N−ヒドロキ
シ化合物としては例えばN−ヒドロキシスクシンイミド
、N−ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキシベンズ
トリアゾール等、フェノール化合物としては例えば4−
ニトロフェノール、2.4−ジニトロフェノール、トリ
クロロフェノール、ペンタクロロフェノール等が用いら
れる。反応は縮合剤例えばN。
T )を好ましくは1〜1.2モルのN−ヒドロキシ化
合物又はフェノール化合物と反応させることによりIL
Jられる。反応は不活性溶媒例えばアごトン、ジオキサ
ン、アセトニトリル、テ1ヘラヒドロフラン、塩化メチ
レン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルホルムアミ
ド等又はこれらの混合物の中で行われる。N−ヒドロキ
シ化合物としては例えばN−ヒドロキシスクシンイミド
、N−ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキシベンズ
トリアゾール等、フェノール化合物としては例えば4−
ニトロフェノール、2.4−ジニトロフェノール、トリ
クロロフェノール、ペンタクロロフェノール等が用いら
れる。反応は縮合剤例えばN。
N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド1、2モルの存
在下に行うことが好ましい。反応温度は−30〜+40
℃好ましくは一10〜+25℃、反応時間は30〜12
0分である。
在下に行うことが好ましい。反応温度は−30〜+40
℃好ましくは一10〜+25℃、反応時間は30〜12
0分である。
MYがSである式■の化合物は、一般式(■)
(式中R6及びXは前記の意味を有し、Zは水素原子又
はアシル基を示す)で表わされる化合物を式Vlのカル
ボン酸の反応性誘導体を用いてアシル化することにより
得られる。またMYがS○である式■の化合物は、基Y
がSである式■の化合物を酸化することにより得られる
。置換基Xがヨウ素である式■の化合物は、X′h<j
n素である式■の化合物をヨウ化すトリウムと反応させ
て製造することが好ましい。
はアシル基を示す)で表わされる化合物を式Vlのカル
ボン酸の反応性誘導体を用いてアシル化することにより
得られる。またMYがS○である式■の化合物は、基Y
がSである式■の化合物を酸化することにより得られる
。置換基Xがヨウ素である式■の化合物は、X′h<j
n素である式■の化合物をヨウ化すトリウムと反応させ
て製造することが好ましい。
弐Vの化合物は、Zがアシル基である式■の化合物をR
11がメチル基である式■のアミンと反応させたのち、
脱アシル化することにより得られる。
11がメチル基である式■のアミンと反応させたのち、
脱アシル化することにより得られる。
式■の化合物は、一般式
(t’X)
(式中R6は及びZは前記の意味を有する)で表わされ
る化合物から容易に製造することができる。
る化合物から容易に製造することができる。
A法により式■の化合物を製j^づるに際しては、まず
溶媒中で式■の化合物を弐■の遊離アミン又はアミンj
8と反応させる。アミン塩としては塩酸塩、臭化水素酸
塩、硫酸塩及び酢酸塩等を°用いる場合は、中用量の3
級アミン例えばトリエチルアミン等の存在下に反応を行
う。溶媒としては例えばJg化メチレン、クロロホルム
、エーテル、酢酔エチル、酢酸ブチル、テトラヒドロフ
ラン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキサイド等の非水有機溶媒又はこれらの混合物
が用いられる。弐■のアミンは、前記溶媒中で、N、0
−ビス1〜リメチルシリルアセ1ヘアミド等のシリル化
剤でシリル化して使用することもできる。
溶媒中で式■の化合物を弐■の遊離アミン又はアミンj
8と反応させる。アミン塩としては塩酸塩、臭化水素酸
塩、硫酸塩及び酢酸塩等を°用いる場合は、中用量の3
級アミン例えばトリエチルアミン等の存在下に反応を行
う。溶媒としては例えばJg化メチレン、クロロホルム
、エーテル、酢酔エチル、酢酸ブチル、テトラヒドロフ
ラン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキサイド等の非水有機溶媒又はこれらの混合物
が用いられる。弐■のアミンは、前記溶媒中で、N、0
−ビス1〜リメチルシリルアセ1ヘアミド等のシリル化
剤でシリル化して使用することもできる。
弐■のアミンの使用間は、式■の化合物1モルに対し、
1〜2モルである。反応温度は0〜35°Cで、反応は
0.5〜5時間で終了する。
1〜2モルである。反応温度は0〜35°Cで、反応は
0.5〜5時間で終了する。
置換基R11が水素原子である式■の2級アミンを用い
る場合には、その生成物(IV)を単離することなく反
応溶液のまま、あるいはその生成物(1v)を分離精製
して、ヨウ化メチルと反応させ、アンモニオ化合物(I
V)とする。このメチル化反応を前記の非水有機溶媒中
で行う場合、ヨウ化メチルの使用量は生成物(IV)1
モルに対し、1〜30モル好ましくは3〜15モルで、
反応温度は一30〜+35℃、反応は数時間ないし数日
で終了する。
る場合には、その生成物(IV)を単離することなく反
応溶液のまま、あるいはその生成物(1v)を分離精製
して、ヨウ化メチルと反応させ、アンモニオ化合物(I
V)とする。このメチル化反応を前記の非水有機溶媒中
で行う場合、ヨウ化メチルの使用量は生成物(IV)1
モルに対し、1〜30モル好ましくは3〜15モルで、
反応温度は一30〜+35℃、反応は数時間ないし数日
で終了する。
また溶媒の不存下に生成物(IV )に過剰のヨウ化メ
チルを10〜35℃で、5〜20時間反応させることに
よってもアンモニオ化合物(rV)が得られる。
チルを10〜35℃で、5〜20時間反応させることに
よってもアンモニオ化合物(rV)が得られる。
基Yが>S=Oである式■の化合物を用いる場合には、
アンモニオ(rV )を公知の方法、例えばジャーナル
オブ オーガニック ケミストリーrJournal
or 0tr)anic Chemistry、35
2430(1970)]、シンセシス[5ynthes
is 58(1979)]又はジャーナルオブ ケミカ
ル リサーチ[JOurnal Of chemtca
tResearcb 341(1979)1等に記載の
方法により還元する。例えば生成物(IV )を不活性
有機溶媒例えばアセトン、塩化メチレン、クロロホルム
、テトラヒドロフラン、酢酸エチル等に溶解し、ヨウ化
カリウム又はヨウ化ナトリウムを加え、−40〜0℃で
アセチルクロライドを滴下し、−20〜−10℃で1〜
2時間反応させることにより還元できる。
アンモニオ(rV )を公知の方法、例えばジャーナル
オブ オーガニック ケミストリーrJournal
or 0tr)anic Chemistry、35
2430(1970)]、シンセシス[5ynthes
is 58(1979)]又はジャーナルオブ ケミカ
ル リサーチ[JOurnal Of chemtca
tResearcb 341(1979)1等に記載の
方法により還元する。例えば生成物(IV )を不活性
有機溶媒例えばアセトン、塩化メチレン、クロロホルム
、テトラヒドロフラン、酢酸エチル等に溶解し、ヨウ化
カリウム又はヨウ化ナトリウムを加え、−40〜0℃で
アセチルクロライドを滴下し、−20〜−10℃で1〜
2時間反応させることにより還元できる。
ヨウ化物の使用量は、生成物(IV)1モルに対し、3
.5〜10モル、アセチルクロライドの使用量は、1.
5〜5モルである。こうして得られた化合物から保[を
除去すると式■の化合物が得られる。
.5〜10モル、アセチルクロライドの使用量は、1.
5〜5モルである。こうして得られた化合物から保[を
除去すると式■の化合物が得られる。
保護基の除去方法はその保W!基の種類に応じて常用の
方法を適宜選択して行うことができる。酸による方法が
好ましく、酸としては例えば義酸、トリフルオロ酢酸、
ベンゼンスルホン酸、p −t−ルエンスルホン酸、塩
酸等の無機もしくは有機酸等があげられ、トリフルオロ
F[が好ましい。
方法を適宜選択して行うことができる。酸による方法が
好ましく、酸としては例えば義酸、トリフルオロ酢酸、
ベンゼンスルホン酸、p −t−ルエンスルホン酸、塩
酸等の無機もしくは有機酸等があげられ、トリフルオロ
F[が好ましい。
なお酸としてはトリフルオロ酢酸を用いる場合には、ア
ニソールを添加することにより反応が促進される。また
この反応は不活性溶媒、例えば塩化メチレン、塩化エチ
レン、ベンゼン等の有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒
の中で、好ましくは塩化メチレン中で行うこともできる
。反応温度は特に限定されず、原料化合物及び反応生成
物の化学的性質、保護基の種類、除去方法等の種類に応
じて適宜選択するが、冷却下ないし加温程度の緩和な条
件で行うのが好ましい。
ニソールを添加することにより反応が促進される。また
この反応は不活性溶媒、例えば塩化メチレン、塩化エチ
レン、ベンゼン等の有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒
の中で、好ましくは塩化メチレン中で行うこともできる
。反応温度は特に限定されず、原料化合物及び反応生成
物の化学的性質、保護基の種類、除去方法等の種類に応
じて適宜選択するが、冷却下ないし加温程度の緩和な条
件で行うのが好ましい。
方法により式■の化合物を製造するに際しては、まず溶
媒中で式Vの化合物を式■のカルボン酸の反応性誘導体
と反応させる。反応は不活性溶媒例えば水、アセトン、
ジオキサン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、塩
化メチレン、クロロホルム、ベンゼン、酢酸エチル、ジ
メチルホルムアミド等又はこれらの混合物の中で行われ
る。カルボン酸(vl)の反応性誘導体の使用間は、式
Vの化合物1モルに対し、1〜1.5モルである。反応
温度は−40〜+40℃好ましくは一20〜+30℃で
ある。
媒中で式Vの化合物を式■のカルボン酸の反応性誘導体
と反応させる。反応は不活性溶媒例えば水、アセトン、
ジオキサン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、塩
化メチレン、クロロホルム、ベンゼン、酢酸エチル、ジ
メチルホルムアミド等又はこれらの混合物の中で行われ
る。カルボン酸(vl)の反応性誘導体の使用間は、式
Vの化合物1モルに対し、1〜1.5モルである。反応
温度は−40〜+40℃好ましくは一20〜+30℃で
ある。
カルボンII(Vl)の酸クロライド又は混合酸無水物
を用いる場合は、炭酸アルカリ金属又は有機アミン例え
ばトリメチルアミン、トリエチルアミン、N−メチルモ
ルホリン等の存在下に反応させることか好ましい。
を用いる場合は、炭酸アルカリ金属又は有機アミン例え
ばトリメチルアミン、トリエチルアミン、N−メチルモ
ルホリン等の存在下に反応させることか好ましい。
反応終了後、生成物(Vl)を分離し、A法と同様に保
護基を除去すると、弐丁の化合物が得られる。
護基を除去すると、弐丁の化合物が得られる。
式1の化合物は常法により塩又は生理的に加水分解可能
なエステルとすることができる。
なエステルとすることができる。
式■の化合物の塩としては医療上許容さ°れる慣用的な
もの、例えばナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、
カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属、N、
N′−ジベンジルエチレンジアミン、プロ力イン等の有
機アミン、塩酸、硫M、硝酸、過クロル酸、臭化水素酸
等の無機酸、酢酸、乳酸、プロピオン酸、マレイン酸、
フマール酸、りんご酸、酒石酸、くえん酸等の有機酸、
メタンスルホン酸、イセチオン酸、p−トルエンスルホ
ン酸等の有機スルホン酸、アスパラギン酸、グルタミン
酸のアミノ酸の塩が挙げられる。生理的に加水分解可能
なエステルとしては、例えばアt?1〜キシメチルエス
テル、ピバロイルオキシメチル等のアセトキシアルキル
エステル類、1−(エトキシカルボニルオキシ)−1−
エチル等のアルコキシカルボニルオキシアルキルエステ
ル類、1−フタリジルエステル、5−メチル−2−オキ
ソ−1,3−ジオキソ−ルー4−イルメチル等の5=置
換−2−オキソ−1,3−ジオキソ−ルー4−イルメチ
ルエステル類等が好ましい。
もの、例えばナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、
カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属、N、
N′−ジベンジルエチレンジアミン、プロ力イン等の有
機アミン、塩酸、硫M、硝酸、過クロル酸、臭化水素酸
等の無機酸、酢酸、乳酸、プロピオン酸、マレイン酸、
フマール酸、りんご酸、酒石酸、くえん酸等の有機酸、
メタンスルホン酸、イセチオン酸、p−トルエンスルホ
ン酸等の有機スルホン酸、アスパラギン酸、グルタミン
酸のアミノ酸の塩が挙げられる。生理的に加水分解可能
なエステルとしては、例えばアt?1〜キシメチルエス
テル、ピバロイルオキシメチル等のアセトキシアルキル
エステル類、1−(エトキシカルボニルオキシ)−1−
エチル等のアルコキシカルボニルオキシアルキルエステ
ル類、1−フタリジルエステル、5−メチル−2−オキ
ソ−1,3−ジオキソ−ルー4−イルメチル等の5=置
換−2−オキソ−1,3−ジオキソ−ルー4−イルメチ
ルエステル類等が好ましい。
本発明の化合物の種々の細菌に対する最小阻止濃度(M
IC:μg/d)を、セフォタキシム及びセフタジブイ
ムを比較化合物として、センシテイビテイ ディスク
アガールにツスイ)を用いて寒天平板希釈法で測定した
(菌数:106CFU/Idり。その結果を下記表に示
す。
IC:μg/d)を、セフォタキシム及びセフタジブイ
ムを比較化合物として、センシテイビテイ ディスク
アガールにツスイ)を用いて寒天平板希釈法で測定した
(菌数:106CFU/Idり。その結果を下記表に示
す。
この成績から明らかなように、イソインドリン核に2個
の置換基を有する弐■の化合物は、グラム陰性菌特にぶ
どう糖非醗酵グラム陰性桿菌例えばシュードモナス・エ
ルギノーザ、シュードモナス・セパシア(Pseudo
■nas cepacia) 、シュードモナス−フル
トフイリア(Pseudomonas maltoph
ilia) 、アシネトバクタ−・カルコアセティカス
等に対して優れた抗菌活性を示す。特にこれら化合物は
公知のセファロスポリン誘導体に耐性を有するシュード
モナス・エルギノーザA K R−17及びセフタジブ
イムに耐性を有するシュードモナス・マルトフイリアN
D 1275に対しても強い抗菌活性を示す点で優れ
ている。
の置換基を有する弐■の化合物は、グラム陰性菌特にぶ
どう糖非醗酵グラム陰性桿菌例えばシュードモナス・エ
ルギノーザ、シュードモナス・セパシア(Pseudo
■nas cepacia) 、シュードモナス−フル
トフイリア(Pseudomonas maltoph
ilia) 、アシネトバクタ−・カルコアセティカス
等に対して優れた抗菌活性を示す。特にこれら化合物は
公知のセファロスポリン誘導体に耐性を有するシュード
モナス・エルギノーザA K R−17及びセフタジブ
イムに耐性を有するシュードモナス・マルトフイリアN
D 1275に対しても強い抗菌活性を示す点で優れ
ている。
イソインドリン核の5.6位にとドロキシも(を導入す
ると、グラム陰性菌一般、特にシュードモナス及びアク
ネ1〜バクターに対する抗菌力は飛躍的に増大し、例え
ばシュードモナス・エルギノーザAK109に対し、実
施例1E、2F及び3Cの化合物は、アシル側鎖にメト
キシイミノ、イソインドリン核上に置VJ!lのない化
合物(参考例)と比較して、それぞれ62倍以上の抗菌
活性を示した。
ると、グラム陰性菌一般、特にシュードモナス及びアク
ネ1〜バクターに対する抗菌力は飛躍的に増大し、例え
ばシュードモナス・エルギノーザAK109に対し、実
施例1E、2F及び3Cの化合物は、アシル側鎖にメト
キシイミノ、イソインドリン核上に置VJ!lのない化
合物(参考例)と比較して、それぞれ62倍以上の抗菌
活性を示した。
セフタジブイムを含む全てのセファロスポリンに耐性で
あるシュードモナス・エルギノーザAKR17に対して
実施例IE、2F及び3Cの化合物は無置換の化合物(
参考例)のそれぞれ125倍以上の抗菌活性を示した。
あるシュードモナス・エルギノーザAKR17に対して
実施例IE、2F及び3Cの化合物は無置換の化合物(
参考例)のそれぞれ125倍以上の抗菌活性を示した。
シュードモナス・セパシア23に対しては実施例IE、
2F及び3Cの化合物は参考例の化合物のそれぞれ12
5倍以上の抗菌活性を示した。アシネトバクタ−・カル
コアセティカスに対しては実施例IE、2F及び3Cの
化合物は参考例の化合物のそれぞれ125倍、250倍
及び125倍の抗菌活性を示した。またセフタジブイム
耐性であるシュードモナス・マルトフィリアに対しては
、実施例1F、2F及び3Cの化合物はそれぞれ8倍、
16倍及び4倍以上の抗菌活性を示した。
2F及び3Cの化合物は参考例の化合物のそれぞれ12
5倍以上の抗菌活性を示した。アシネトバクタ−・カル
コアセティカスに対しては実施例IE、2F及び3Cの
化合物は参考例の化合物のそれぞれ125倍、250倍
及び125倍の抗菌活性を示した。またセフタジブイム
耐性であるシュードモナス・マルトフィリアに対しては
、実施例1F、2F及び3Cの化合物はそれぞれ8倍、
16倍及び4倍以上の抗菌活性を示した。
本発明の化合物は感受性並びに耐性のグラム陽性菌及び
グラム陰性菌、特に耐性のシュードモナス・エルギノー
ザ、シュードモナス・セパシア、7シネトバクター・カ
ルコアセティカス等に強い抗菌力を示した。
グラム陰性菌、特に耐性のシュードモナス・エルギノー
ザ、シュードモナス・セパシア、7シネトバクター・カ
ルコアセティカス等に強い抗菌力を示した。
本発明はさらに、式■の化合物の塩又は生理的に加水分
解可能なそのエステルを有効成分として含有する抗菌剤
として有用である。
解可能なそのエステルを有効成分として含有する抗菌剤
として有用である。
本発明の化合物は、固体又は液体の賦形剤の担体と混合
し、経口投与、非経口投与又は外部投与に適した医薬製
剤の形で使用することができる。
し、経口投与、非経口投与又は外部投与に適した医薬製
剤の形で使用することができる。
医薬製剤としては注射剤、シロップ剤、乳剤等の液剤、
錠剤、カプセル剤、顆粒剤等の固形剤、軟膏、坐剤等の
外用剤等が挙げられる。
錠剤、カプセル剤、顆粒剤等の固形剤、軟膏、坐剤等の
外用剤等が挙げられる。
前記の製剤には、助剤、安定剤、湿潤剤、乳化剤等の通
常使用される添加剤が含まれていてもよい。例えば注射
剤には注射用蒸留水、生理食塩水、リンゲル液等の溶解
液、パラオキシ安息香酸メチル、パラオキシ安息香酸プ
ロピル等の保存剤等の添加剤を含有してもよい。シロッ
プ剤、乳剤等の液剤には、ソルビトールシロップ、メチ
ルセルロース、グルコース、しよ糖シロップ、ゼラチン
、ヒドロキシエチルセルロ−ス ルロース 食用油、扁桃浦、ココナツ油、油性エステル、ソルビタ
ンモノオレエート、プロピレングリコール、グリセリン
、エチルアルコール、水等のほか、アラビアゴム、ゼラ
チン、レシチン等の乳化剤、ツイーン、スパン等の界面
活性剤等を含有してもよい。固形剤としては乳糖、しよ
糖、とうもろこし殿粉、燐酸カルシウム、ステアリン酸
マグネシウム、タルク、珪酸、アラビアゴム、ゼラチン
、ソルビトール、トラガント、ポリビニルピロリドン、
ポリエチレングリコール、ラウリル硫酸ナトリウム等が
用いられる。軟膏、坐剤の基剤としては例えばカカオ脂
、グリセリド類、ポリエチレングリコール類、白色グリ
セリン等が用いられる。必要に応じて界面活性剤や吸収
促進剤を含有してもよい。
常使用される添加剤が含まれていてもよい。例えば注射
剤には注射用蒸留水、生理食塩水、リンゲル液等の溶解
液、パラオキシ安息香酸メチル、パラオキシ安息香酸プ
ロピル等の保存剤等の添加剤を含有してもよい。シロッ
プ剤、乳剤等の液剤には、ソルビトールシロップ、メチ
ルセルロース、グルコース、しよ糖シロップ、ゼラチン
、ヒドロキシエチルセルロ−ス ルロース 食用油、扁桃浦、ココナツ油、油性エステル、ソルビタ
ンモノオレエート、プロピレングリコール、グリセリン
、エチルアルコール、水等のほか、アラビアゴム、ゼラ
チン、レシチン等の乳化剤、ツイーン、スパン等の界面
活性剤等を含有してもよい。固形剤としては乳糖、しよ
糖、とうもろこし殿粉、燐酸カルシウム、ステアリン酸
マグネシウム、タルク、珪酸、アラビアゴム、ゼラチン
、ソルビトール、トラガント、ポリビニルピロリドン、
ポリエチレングリコール、ラウリル硫酸ナトリウム等が
用いられる。軟膏、坐剤の基剤としては例えばカカオ脂
、グリセリド類、ポリエチレングリコール類、白色グリ
セリン等が用いられる。必要に応じて界面活性剤や吸収
促進剤を含有してもよい。
本発明の化合物(I)は細菌感染症例えば呼吸器感染症
、尿路感染症、産婦人科感染症、化膿性疾患、外科感染
症等の治療及び予防に用いることができる。投与aは患
者の年齢及び状態によって異なるが、通常は1日当り1
〜100mg/Kgの範囲で使用され、1日当り5〜3
0Rg7Kgで2〜4回に分けて投与げることが好まし
い。
、尿路感染症、産婦人科感染症、化膿性疾患、外科感染
症等の治療及び予防に用いることができる。投与aは患
者の年齢及び状態によって異なるが、通常は1日当り1
〜100mg/Kgの範囲で使用され、1日当り5〜3
0Rg7Kgで2〜4回に分けて投与げることが好まし
い。
次に実施例をあげて本発明を更に詳説するが、本発明は
これに限定されるものではない。
これに限定されるものではない。
実施例
実施例1
(^)ペンツヒドリル 7− [(1)−2−(1−t
er−ブトキシカルボニル− キシイミノ)−2− (2−t−リチルアミノチアゾー
ルー4ーイル)アセトアミド]−3−ヨードメチル−3
−セフェム−4−カルボキシレート 1−オキサイド ペンツヒドリル 7−[(2) −2 − ( 1 −
ter−ブトキシカルボニル− ノ)−2− (2−トリチルアミノチアゾール−4−イ
ル)アセトアミド1−3−クロロメチル−3−セフェム
−4−カルホキシレー1〜+/1.2g(14.7ミリ
モル)を塩化メチレン280dに溶解し、水冷下メタク
ロル過安息香M 2.98 y (14.7ミリモル)
を加え10分間撹拌した。反応溶液に10%チオ硫酸ナ
トリウム水溶液6(7を加えた後、この水溶液を5%庚
酸水索ナトリウム水溶液中に注ぎ、塩化メチレンで抽出
し、無水硫酸ナトリウムで脱水した。
er−ブトキシカルボニル− キシイミノ)−2− (2−t−リチルアミノチアゾー
ルー4ーイル)アセトアミド]−3−ヨードメチル−3
−セフェム−4−カルボキシレート 1−オキサイド ペンツヒドリル 7−[(2) −2 − ( 1 −
ter−ブトキシカルボニル− ノ)−2− (2−トリチルアミノチアゾール−4−イ
ル)アセトアミド1−3−クロロメチル−3−セフェム
−4−カルホキシレー1〜+/1.2g(14.7ミリ
モル)を塩化メチレン280dに溶解し、水冷下メタク
ロル過安息香M 2.98 y (14.7ミリモル)
を加え10分間撹拌した。反応溶液に10%チオ硫酸ナ
トリウム水溶液6(7を加えた後、この水溶液を5%庚
酸水索ナトリウム水溶液中に注ぎ、塩化メチレンで抽出
し、無水硫酸ナトリウムで脱水した。
減圧濃縮して(qた残漬をアセトン30(7に溶解した
後、O′Cでヨウ化ナトリウム4.4g(29.4ミリ
モル)を加え、室温で15分間撹拌した。反応溶液をチ
オ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した後、有
機溶媒層を無水硫酸ナトリウムで脱水した。減圧濃縮し
て得た残漬をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラ
フィー(酢酸エチル二nーヘキサン−1:2)に付し、
標記化合物9.52g(収率60%)を(qだ。
後、O′Cでヨウ化ナトリウム4.4g(29.4ミリ
モル)を加え、室温で15分間撹拌した。反応溶液をチ
オ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した後、有
機溶媒層を無水硫酸ナトリウムで脱水した。減圧濃縮し
て得た残漬をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラ
フィー(酢酸エチル二nーヘキサン−1:2)に付し、
標記化合物9.52g(収率60%)を(qだ。
(B)ペンツヒドリル 7− [(7) −2− (1
−ter−ブトキシカルボニル− キシイミノ)−2− (2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド]−3−( 5.6−ージ
ヒドロキシイソインドリンー2−イル)メチル−3−セ
フェム−4−カルボキシレート 1−オキサイド (A)で(qた化合物2.5g< 2.3ミリモル)を
ジメチルボルムアミド25dに溶解し、5.6−シヒド
ロキシイソインドリン・臭化水8M石0.67 9(
2.フロミリモル)及びトリエチルアミン0.77戒(
5.52ミリモル)を加え、室温で2時間撹拌した。
−ter−ブトキシカルボニル− キシイミノ)−2− (2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド]−3−( 5.6−ージ
ヒドロキシイソインドリンー2−イル)メチル−3−セ
フェム−4−カルボキシレート 1−オキサイド (A)で(qた化合物2.5g< 2.3ミリモル)を
ジメチルボルムアミド25dに溶解し、5.6−シヒド
ロキシイソインドリン・臭化水8M石0.67 9(
2.フロミリモル)及びトリエチルアミン0.77戒(
5.52ミリモル)を加え、室温で2時間撹拌した。
減圧下に濃縮し、残漬をシリカゲルフラッシュカラムク
ロマトグラフィー(酢酸エチル二〇ーヘキサン=3 :
1 ’)に付し、無晶形の標記化合物1.64 9
(収率64%)を19だ。
ロマトグラフィー(酢酸エチル二〇ーヘキサン=3 :
1 ’)に付し、無晶形の標記化合物1.64 9
(収率64%)を19だ。
3、20〜3.80(811,i)、5.08(Ill
, d, J=4112)、 5. 90(ill,
m)6、58(211,s)、 6.88(111,s
)。
, d, J=4112)、 5. 90(ill,
m)6、58(211,s)、 6.88(111,s
)。
7、00(III, S)、 7. 10〜7.60(
2511,m)、8.50 〜8.90(211m) (C)ペンツヒドリル 7− [(7) −2− (1
−ter−ブトキシカルボニル− キシイミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−
4−イル)アセトアミド]−3−(5,6−シヒドロキ
シー2−メチル−2−イソインドリニウム)メチル−3
−セフェム−4−カルボキシレート 1−オキサイド・
ヨード塩 (8)でIJだ化合物1.64 g( 1.48ミリモ
ル)をヨウ化メチル16d (14.8ミリモル)に溶
解し、室温で2.5時間放置した。減圧上過剰のヨウ化
メチルを留去した侵、残漬をシリカゲルフラッシュカラ
ムクロマトグラフィー(5%メタノール・塩化メチレン
)に付し、無晶形の標記化合物1、13g(収率61%
)を得た。
2511,m)、8.50 〜8.90(211m) (C)ペンツヒドリル 7− [(7) −2− (1
−ter−ブトキシカルボニル− キシイミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−
4−イル)アセトアミド]−3−(5,6−シヒドロキ
シー2−メチル−2−イソインドリニウム)メチル−3
−セフェム−4−カルボキシレート 1−オキサイド・
ヨード塩 (8)でIJだ化合物1.64 g( 1.48ミリモ
ル)をヨウ化メチル16d (14.8ミリモル)に溶
解し、室温で2.5時間放置した。減圧上過剰のヨウ化
メチルを留去した侵、残漬をシリカゲルフラッシュカラ
ムクロマトグラフィー(5%メタノール・塩化メチレン
)に付し、無晶形の標記化合物1、13g(収率61%
)を得た。
90(3+1, bs)、 4. 10〜4、90(8
11, m)、 5. 22 (111, d, J=
411z)6、 00(Ill, dd, J=4及び
7117)6、 76(2tl, S)、 6. 89
(ill, s)。
11, m)、 5. 22 (111, d, J=
411z)6、 00(Ill, dd, J=4及び
7117)6、 76(2tl, S)、 6. 89
(ill, s)。
7、 01(III, s)、 7. 10〜1.60
(2511,m)、8.80(III,M,J=711
z)、 9.28(IH, bs)(D)ペンツヒドリ
ル 7−r(Z)−2−(1−ter−ブトキシカルボ
ニル− キシイミノ) −:g− (2−トリチルアミンチアゾ
ール−4−イル)アレドアミド1−3〜( 56−シヒ
ドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メチ
ル−3−【?フエムー4ーカルボキシレート (C)で151だ化合物1.IJ ( 0.88ミリモ
ル)をアセトン20dに溶解し、ヨウ化カリウム0.5
8 g( 3。5ミリモル)を加え、−5°Cでアセチ
ルクロライド0.12 m ( 1.75ミリモル)
を滴下し、1時間撹拌した。反応溶液にメタ重!11!
硫酸ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。
(2511,m)、8.80(III,M,J=711
z)、 9.28(IH, bs)(D)ペンツヒドリ
ル 7−r(Z)−2−(1−ter−ブトキシカルボ
ニル− キシイミノ) −:g− (2−トリチルアミンチアゾ
ール−4−イル)アレドアミド1−3〜( 56−シヒ
ドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メチ
ル−3−【?フエムー4ーカルボキシレート (C)で151だ化合物1.IJ ( 0.88ミリモ
ル)をアセトン20dに溶解し、ヨウ化カリウム0.5
8 g( 3。5ミリモル)を加え、−5°Cでアセチ
ルクロライド0.12 m ( 1.75ミリモル)
を滴下し、1時間撹拌した。反応溶液にメタ重!11!
硫酸ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。
抽出液を無水硫酸ナトリウムで脱水した後、減圧上溶媒
を留去し、残漬について再び上記の反応操作を行なつt
こ。上記同様の後処理を行ない無晶形の標記化合物1.
43 gを得、精製することなく次の反応に用いた。
を留去し、残漬について再び上記の反応操作を行なつt
こ。上記同様の後処理を行ない無晶形の標記化合物1.
43 gを得、精製することなく次の反応に用いた。
(E) 7− [(2) −2− ( 2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2− (1−力lレボキシー1ー
シクロプロポキシイミノ)アセトアミド1−3−(5.
6−シヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウ
ム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート (D)で(qだ化合物1.43 gを塩化メチレン2d
及びアンソール2dの溶液に溶解した後、−5°Cでト
リフルオD酢酸5dを加え1時Fffl Iff拌した
。
ゾール−4−イル)−2− (1−力lレボキシー1ー
シクロプロポキシイミノ)アセトアミド1−3−(5.
6−シヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウ
ム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート (D)で(qだ化合物1.43 gを塩化メチレン2d
及びアンソール2dの溶液に溶解した後、−5°Cでト
リフルオD酢酸5dを加え1時Fffl Iff拌した
。
反応溶液を減圧濃縮し、残漬を塩化メチレンに溶解し水
で抽出した。水層を逆相カラムクロマグラフィー (
Waters Pre Pack 500/C−18
: 2%テ1〜ラヒドロフラン・水)に付し、目的物を
含む分画を集め、減圧濃縮した後凍結乾燥し、標記の目
的化合物41mg(前工程からの収率74%)を得た。
で抽出した。水層を逆相カラムクロマグラフィー (
Waters Pre Pack 500/C−18
: 2%テ1〜ラヒドロフラン・水)に付し、目的物を
含む分画を集め、減圧濃縮した後凍結乾燥し、標記の目
的化合物41mg(前工程からの収率74%)を得た。
融点 =164℃(分解)
IR(KBr) : 3425, 1780. 16
22cm−11JHR(CF3 COO11) δ
: 1.38(411,m)、2.98(311,b
S)。
22cm−11JHR(CF3 COO11) δ
: 1.38(411,m)、2.98(311,b
S)。
3、28(2+1、bS)、4.20 。
4、70(611,m)、4.90(111,cl,J
−4tlz)、 5. 48(111, dd, J=
4及び7flz)、 6. 50(211, s)、
6. 89(18St, 8.08(111,bd,
J=7NZ)実施例2 (A)ベンツヒドリル 7− [(Z) −2− (1
−ベンツヒドリルオキシカルボニル− ロブトキシイミノ)−2− (2i〜リチルアミノチア
ゾール−4−イル)アセトアミド1−3−クロロメチル
−3−セフェム−4−カルボキシレート [(2)−2− (1−ベンツヒドリルオ゛キシカルボ
ニル−1−シクロブトキシイミノ) −2− (2=ト
リチルアミノチアゾール−4−イル>*SV。
−4tlz)、 5. 48(111, dd, J=
4及び7flz)、 6. 50(211, s)、
6. 89(18St, 8.08(111,bd,
J=7NZ)実施例2 (A)ベンツヒドリル 7− [(Z) −2− (1
−ベンツヒドリルオキシカルボニル− ロブトキシイミノ)−2− (2i〜リチルアミノチア
ゾール−4−イル)アセトアミド1−3−クロロメチル
−3−セフェム−4−カルボキシレート [(2)−2− (1−ベンツヒドリルオ゛キシカルボ
ニル−1−シクロブトキシイミノ) −2− (2=ト
リチルアミノチアゾール−4−イル>*SV。
1、82 g( 2.62ミリモル)及びペンツヒドリ
ル7−アミノ−3−クロロメチル−3−ピッエム−4−
カルボキシレート 1.09 9 ( 2.62ミリモ
ル)を塩化メチレン40rd!に溶解した後、水u1十
N。
ル7−アミノ−3−クロロメチル−3−ピッエム−4−
カルボキシレート 1.09 9 ( 2.62ミリモ
ル)を塩化メチレン40rd!に溶解した後、水u1十
N。
N′−ジメチルアニリン1.06 d ( 8.39ミ
リ七ル)及びオキシj8化リン0.26 d ( 2.
75ミリモル)を滴下し、同温度で4時間撹拌した。反
応溶液にクロロホルム30d及び水30m加え、有機層
を水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸す1〜リウ
ムで脱水、濃縮して標記化合物残渣を得、精製すること
なく、次の反応に用いた。
リ七ル)及びオキシj8化リン0.26 d ( 2.
75ミリモル)を滴下し、同温度で4時間撹拌した。反
応溶液にクロロホルム30d及び水30m加え、有機層
を水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸す1〜リウ
ムで脱水、濃縮して標記化合物残渣を得、精製すること
なく、次の反応に用いた。
(B)ペンツヒドリル 7− [(Z) −2− (1
−ベンツヒドリルオキシカルボニル−1−シフロブ1
〜キシイミノ)−2−(2−1−ジチルアミノチアゾー
ル−4ーイル)アセトアミド]−3−クロロメチル−3
−セフェム−4−力ルポキシレート 1−オキサイド (A)で(qた残漬を塩化メチレン50idに溶解し、
水冷下メタクロル過安息香M(純度80%) 620
mg( 2.87ミリモル)を加え、20分間撹拌した
。反応溶液に塩化メチレン30戴及び5%炭酸水索す1
〜リウム水溶液を加えた後、有機層を分液し、水及び飽
和食塩水で洗浄した。有#J層を無水硫酸ナトリウムで
脱水した後、濃縮して標記化合物残漬を得、精製するこ
となく、次の反応に用いた。
−ベンツヒドリルオキシカルボニル−1−シフロブ1
〜キシイミノ)−2−(2−1−ジチルアミノチアゾー
ル−4ーイル)アセトアミド]−3−クロロメチル−3
−セフェム−4−力ルポキシレート 1−オキサイド (A)で(qた残漬を塩化メチレン50idに溶解し、
水冷下メタクロル過安息香M(純度80%) 620
mg( 2.87ミリモル)を加え、20分間撹拌した
。反応溶液に塩化メチレン30戴及び5%炭酸水索す1
〜リウム水溶液を加えた後、有機層を分液し、水及び飽
和食塩水で洗浄した。有#J層を無水硫酸ナトリウムで
脱水した後、濃縮して標記化合物残漬を得、精製するこ
となく、次の反応に用いた。
(C)ペンツヒドリル 7− [(Z) −2− (1
−ベンツヒドリルオキシカルボニル− ロブトキシイミノ)−2− (2−トリチルアミノチア
ゾール−4−イル)アセトアミド]−3−ヨードメチル
−3−セフェム−4−カルボキシレート 1−オキサイ
ド (B)で得た残漬をアセ1〜ン40mに溶解し、ヨウ化
ナトリウム870mg (2,62ミリモル)を加え、
室)品で30分間撹拌した。反応溶液に酢酸エチル12
0d及び5%チオ[fナトリ「クム20af7を加え分
液した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水
硫酸ナトリウムで脱水し減圧下濶縮した。濃縮残漬をシ
リカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー(酢酸エ
チル:n−ヘキサン=1:2)に付し、目的物を含む分
画を集め、減圧濃縮し残漬にイソプロピルエーテルを加
え粉末状の標記化合物2.63 g(Aからの収率83
.1%)を得た。
−ベンツヒドリルオキシカルボニル− ロブトキシイミノ)−2− (2−トリチルアミノチア
ゾール−4−イル)アセトアミド]−3−ヨードメチル
−3−セフェム−4−カルボキシレート 1−オキサイ
ド (B)で得た残漬をアセ1〜ン40mに溶解し、ヨウ化
ナトリウム870mg (2,62ミリモル)を加え、
室)品で30分間撹拌した。反応溶液に酢酸エチル12
0d及び5%チオ[fナトリ「クム20af7を加え分
液した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水
硫酸ナトリウムで脱水し減圧下濶縮した。濃縮残漬をシ
リカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー(酢酸エ
チル:n−ヘキサン=1:2)に付し、目的物を含む分
画を集め、減圧濃縮し残漬にイソプロピルエーテルを加
え粉末状の標記化合物2.63 g(Aからの収率83
.1%)を得た。
flit(にBr) : 1800,1730,16
90,1520,1495,1450゜1370cIn
−1 N)lit (DH3O−九)δ: 2.00(2+
1.[0)、 2.45(411,m)。
90,1520,1495,1450゜1370cIn
−1 N)lit (DH3O−九)δ: 2.00(2+
1.[0)、 2.45(411,m)。
3.90(211,101,4,25(2+1.ABQ
)J・911Z)、 5.10(IH□d、J=5tl
z)5.95 (111,dd、J=5及び911z)
6.78(ill、 s)、6.85(ltl、 s)
。
)J・911Z)、 5.10(IH□d、J=5tl
z)5.95 (111,dd、J=5及び911z)
6.78(ill、 s)、6.85(ltl、 s)
。
7.00(111,S)、7.30(35N、m)。
8.87(III、d、J=9112)、 8.82
(ill、bs) (D)ベンツヒドリル 7− [(Z) −2−(1−
ベンツヒドリルオキシカルボニル− ロブi〜キシイミノ’)−2−(2−トリチルアミノチ
アゾール−4−イル)アセトアミド]−3−(5.6−
シヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)
メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート 1−オ
キリーイド・ヨードjn 5、6−シヒドロキシー2−メチルイソインドリン46
4■( 2.80ミリモル)を酢酸ブチル26dに懸濁
し、N.O−ビストリメチルシリルアセトアミド1.4
d ( 5.62ミリモル)を加え、50℃で30分間
撹拌した後水冷した。この溶液を(C)で得た粉末2.
59 g< 2.16ミリモル)を含む酢酸ブチル溶液
26dに、水冷下一度に加え同温度で3時間撹拌した。
(ill、bs) (D)ベンツヒドリル 7− [(Z) −2−(1−
ベンツヒドリルオキシカルボニル− ロブi〜キシイミノ’)−2−(2−トリチルアミノチ
アゾール−4−イル)アセトアミド]−3−(5.6−
シヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)
メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート 1−オ
キリーイド・ヨードjn 5、6−シヒドロキシー2−メチルイソインドリン46
4■( 2.80ミリモル)を酢酸ブチル26dに懸濁
し、N.O−ビストリメチルシリルアセトアミド1.4
d ( 5.62ミリモル)を加え、50℃で30分間
撹拌した後水冷した。この溶液を(C)で得た粉末2.
59 g< 2.16ミリモル)を含む酢酸ブチル溶液
26dに、水冷下一度に加え同温度で3時間撹拌した。
反応溶液をそのままシリカゲルフラッシュカラムクロマ
トグラフィー(4%メタノール・塩化メチレン)に付し
、粉末状の標記化合物を1、60 g(収率54,3%
)を得た。
トグラフィー(4%メタノール・塩化メチレン)に付し
、粉末状の標記化合物を1、60 g(収率54,3%
)を得た。
IR(KBr) :1790,1730,1660,
1520,1450,1390。
1520,1450,1390。
1350、 1300, 1250. 1150 cr
t −1([)ベンツヒドリル 7− [(2) −2
− (1 −ベンツヒドリルオキシカルボニル− ロブトキシイミノ)−2− (2−トリチルアミノチア
ゾール−4−イル)アセトアミド]−3−(5.6−シ
ヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メ
チル−3−セフェム−4−カルボキシレート・ヨード塩
(D)で1qた粉末1.60 g( 1.17ミリモル
)をアセトン35ateに溶解し、ヨウ化カリウム97
4η(5.85ミリモル)を加え、−20℃でアセチル
クロライド0.21 d ( 2.93ミリモル)を滴
下した。
t −1([)ベンツヒドリル 7− [(2) −2
− (1 −ベンツヒドリルオキシカルボニル− ロブトキシイミノ)−2− (2−トリチルアミノチア
ゾール−4−イル)アセトアミド]−3−(5.6−シ
ヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メ
チル−3−セフェム−4−カルボキシレート・ヨード塩
(D)で1qた粉末1.60 g( 1.17ミリモル
)をアセトン35ateに溶解し、ヨウ化カリウム97
4η(5.85ミリモル)を加え、−20℃でアセチル
クロライド0.21 d ( 2.93ミリモル)を滴
下した。
1時間1ft拌した後、ヨウ化カリウlい974IIf
J( 5,a5ミリモル)及びアセチルクロライド0.
21 d( 2.93ミリモル)を加え、1時間撹拌し
た。反応溶液に1g化メチレン140m及び5%メタル
亜硫酸ナトリウム水溶液35gdlを加え分液した。有
機層を水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリ
ウムで脱水し、濃縮して標記化合物の残漬を得、精製す
ることなく次の反応に用いた。
J( 5,a5ミリモル)及びアセチルクロライド0.
21 d( 2.93ミリモル)を加え、1時間撹拌し
た。反応溶液に1g化メチレン140m及び5%メタル
亜硫酸ナトリウム水溶液35gdlを加え分液した。有
機層を水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリ
ウムで脱水し、濃縮して標記化合物の残漬を得、精製す
ることなく次の反応に用いた。
(F)7− [(Z)−2− (2−アミノチアゾール
−4−イル)−2− (1−カルボキシ−1−シクロブ
トキシイミノ)アセトアミド]−3− ( 5.6−シ
ヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メ
チル−3−セフェム−4−カルボキシレート (E)で得た残漬をアニソール1.6d及び塩化メチレ
ン13dに溶解し、水冷下、トリフルオロ酢酸16mと
塩化メチレン3InIlの溶液を20分間で滴下した。
−4−イル)−2− (1−カルボキシ−1−シクロブ
トキシイミノ)アセトアミド]−3− ( 5.6−シ
ヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メ
チル−3−セフェム−4−カルボキシレート (E)で得た残漬をアニソール1.6d及び塩化メチレ
ン13dに溶解し、水冷下、トリフルオロ酢酸16mと
塩化メチレン3InIlの溶液を20分間で滴下した。
同温度で1時間撹拌した後減圧下に溶媒を留去した。残
留物に酢酸エチル30dを加え減圧下に濃縮した(この
操作を2回繰り返した)。この残留物に酢酸エチル40
蛇を加え、不溶物を濾取した。
留物に酢酸エチル30dを加え減圧下に濃縮した(この
操作を2回繰り返した)。この残留物に酢酸エチル40
蛇を加え、不溶物を濾取した。
この不溶物を95%ギ酸35dに溶解し40℃で1時間
撹拌した後減圧下に濃縮した。残留物に酢酸エチル40
ateを加え不溶物を濾取した。この不溶物に水100
−を加え30分間撹拌した後不溶物を濾別し、濾液を逆
相カラムクロマトグラフィー(005,107;吸着、
水洗後、2%テトラヒドロフラン・水)にて精製し、減
圧下に有機溶媒を留去した後、凍結乾燥して標記化合物
46ay([:からの収率6.4%〉を得た。
撹拌した後減圧下に濃縮した。残留物に酢酸エチル40
ateを加え不溶物を濾取した。この不溶物に水100
−を加え30分間撹拌した後不溶物を濾別し、濾液を逆
相カラムクロマトグラフィー(005,107;吸着、
水洗後、2%テトラヒドロフラン・水)にて精製し、減
圧下に有機溶媒を留去した後、凍結乾燥して標記化合物
46ay([:からの収率6.4%〉を得た。
融点 :157℃(分解)
In(KBr) : 1775,1660,162
0,1540,1400゜1350c111−1 J=511z)、5.80(111,dd、J=5及び
911z)、 6.90(311,s)、 9.70(
111,d、’J・’112) 実施例3 (A)ベンツヒドリル 7− [(2) −2−(1−
ベンツにドリルオキシカルボニル− ロペンチルオキシイミノ)−2−(2−1−クチルアミ
ノチアゾール−4ーイル)アセトアミド]−3−(5.
6−ジヒドロキシ−2〜メチル−2−イソインドリニウ
ム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート 1
−オキサイド・ヨード塩 5、6−シヒドロキシー2−メチルイソインドリン51
7mg ( 3.13ミリモル〉を酢酸ブチル26af
tに懸濁し、N.O−ビストリメチルシリルアセトアミ
ド1.3rd!( 6.26ミリモル)を加え、50℃
で30分間撹拌した後水冷した。この溶液を実施例2(
A)、 (B)及び(C)と同様の操作を行なって得た
ペンツヒドリル 7− [(Z)−2− (1−ベンツ
ヒドリルオキシカルボニル− キシイミノ)−2− (2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド]−3−ヨードメチル−3−
セフェム−4−カルボキシレート 1−オキサイド2.
92 g( 2.41ミリモル)を含む酢酸ブチル溶液
26dに、水冷下一度に加え同温度で3時間撹拌した。
0,1540,1400゜1350c111−1 J=511z)、5.80(111,dd、J=5及び
911z)、 6.90(311,s)、 9.70(
111,d、’J・’112) 実施例3 (A)ベンツヒドリル 7− [(2) −2−(1−
ベンツにドリルオキシカルボニル− ロペンチルオキシイミノ)−2−(2−1−クチルアミ
ノチアゾール−4ーイル)アセトアミド]−3−(5.
6−ジヒドロキシ−2〜メチル−2−イソインドリニウ
ム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート 1
−オキサイド・ヨード塩 5、6−シヒドロキシー2−メチルイソインドリン51
7mg ( 3.13ミリモル〉を酢酸ブチル26af
tに懸濁し、N.O−ビストリメチルシリルアセトアミ
ド1.3rd!( 6.26ミリモル)を加え、50℃
で30分間撹拌した後水冷した。この溶液を実施例2(
A)、 (B)及び(C)と同様の操作を行なって得た
ペンツヒドリル 7− [(Z)−2− (1−ベンツ
ヒドリルオキシカルボニル− キシイミノ)−2− (2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド]−3−ヨードメチル−3−
セフェム−4−カルボキシレート 1−オキサイド2.
92 g( 2.41ミリモル)を含む酢酸ブチル溶液
26dに、水冷下一度に加え同温度で3時間撹拌した。
反応溶液をそのままシリカゲルフラッシュカラムクロマ
トグラフィー(5%メタノール・塩化メチレン)に付し
、粉末状の標記化合物1.48 g(収率44.6%)
を得た。
トグラフィー(5%メタノール・塩化メチレン)に付し
、粉末状の標記化合物1.48 g(収率44.6%)
を得た。
IR(KBr) : 1800,1730,1670
,1520,1450,1300。
,1520,1450,1300。
1250、1170,1060,1030, 845
, 750。
, 750。
700 cIR−1
(8)ペンツヒドリル 7−[(Z) −2− (1
−ベンツヒドリルオキシカルボニル−1−シクロペンチ
ルオキシイミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド]−3−(5.6−シヒド
ロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メチル
−3−セフェム−4−カルボキシレート・ヨード塩 rA)で1qた粉末1.48 !7 ( 1.07ミリ
モル)をアセトン30威に溶解し、ヨウ化カリウム89
0■( 5.37ミリモル)を加え、−20℃でアセチ
ルクaライド0.19 d ( 2.69ミリモル)を
滴下した。
−ベンツヒドリルオキシカルボニル−1−シクロペンチ
ルオキシイミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド]−3−(5.6−シヒド
ロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メチル
−3−セフェム−4−カルボキシレート・ヨード塩 rA)で1qた粉末1.48 !7 ( 1.07ミリ
モル)をアセトン30威に溶解し、ヨウ化カリウム89
0■( 5.37ミリモル)を加え、−20℃でアセチ
ルクaライド0.19 d ( 2.69ミリモル)を
滴下した。
1時間撹拌した後ヨウ化カリウム890■( 5.37
ミリモル)及びアセチルクロライド0.19 d(2。
ミリモル)及びアセチルクロライド0.19 d(2。
69ミリモル)を更に加え、1詩間撹拌した。反応溶液
に塩化メチレン120d及び5%メタ市亜tailナト
リウム水溶液30dを加え分液した。有機層を水及び飽
和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで脱水し、
濃縮して標記化合物の残漬を得、精製することなく次の
反応に用いた。
に塩化メチレン120d及び5%メタ市亜tailナト
リウム水溶液30dを加え分液した。有機層を水及び飽
和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで脱水し、
濃縮して標記化合物の残漬を得、精製することなく次の
反応に用いた。
IR(にBr) : 1790,1730,1680
,1520,1495,1450。
,1520,1495,1450。
1180、1000, 750, 700 cIR−1
(C)7− [(Z)−2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2− (1−カルボキシ−1−シクロペン
チルオキシイミノ)アセトアミド]−3−(5.6−シ
ヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メ
チル−3−セフェム−4−カルボキシレート (8)で得た残漬をアニソール1.5Id及び塩化メチ
レン101dlに溶解し、水冷下、トリフルオロ酢酸1
5dと塩化メチレン5 rnQの溶液を15分間で滴下
した。同温度で1時間撹拌した後減圧下に溶媒を留去し
た。残留物に酢酸エチル30−を加え減圧下に濃縮した
(この操作を2回繰り返した)。この残留物に酢酸エチ
ル40m!!を加え不溶物を濾取した。
(C)7− [(Z)−2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2− (1−カルボキシ−1−シクロペン
チルオキシイミノ)アセトアミド]−3−(5.6−シ
ヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メ
チル−3−セフェム−4−カルボキシレート (8)で得た残漬をアニソール1.5Id及び塩化メチ
レン101dlに溶解し、水冷下、トリフルオロ酢酸1
5dと塩化メチレン5 rnQの溶液を15分間で滴下
した。同温度で1時間撹拌した後減圧下に溶媒を留去し
た。残留物に酢酸エチル30−を加え減圧下に濃縮した
(この操作を2回繰り返した)。この残留物に酢酸エチ
ル40m!!を加え不溶物を濾取した。
この不溶物を95%ギ酸30−に溶解し、40℃で1時
間撹拌した41)1mm縮した。残留物に酢酸エチル4
0dを加え不溶物を濾取した。この不溶物に水100
mQを加え30分撹拌した(り不溶物を濾別し、濾液を
逆相カラムクロマi・グラフィー(ODS、100 d
:吸着、水洗後、3%テトラヒドロフラン・水)にて
[Jし、減圧下に有機溶媒を留去した後、凍結乾燥して
標記化合物7!M1g(Aからの収率106%)を得た
。
間撹拌した41)1mm縮した。残留物に酢酸エチル4
0dを加え不溶物を濾取した。この不溶物に水100
mQを加え30分撹拌した(り不溶物を濾別し、濾液を
逆相カラムクロマi・グラフィー(ODS、100 d
:吸着、水洗後、3%テトラヒドロフラン・水)にて
[Jし、減圧下に有機溶媒を留去した後、凍結乾燥して
標記化合物7!M1g(Aからの収率106%)を得た
。
融点 =165℃(分解)
IR(KBr) : 1775,1660,162
0,1540,1400,1350゜1200、100
0cm −1 NHIII(DMSO7d6 ) δ : 1.7
0(411,n+)、2.10(411,m)。
0,1540,1400,1350゜1200、100
0cm −1 NHIII(DMSO7d6 ) δ : 1.7
0(411,n+)、2.10(411,m)。
3.05(311,bsl、5.15(Ill、d。
J=5112)、5.乃(Ill、 dd、 J=5及
び9112)、 6.8(1(3+1. S)、 9.
70111、 +l、 J=911z) 実施例4 (A)ハτンツヒドリル ”l−[m−2−シクロペン
チルオキシイミノ−2−(2−トリチルアミンデアゾー
ル−4−イル)アセトアミド]−3−(5,6−シヒド
ロキシイソイントリン=2−イル)−3−セフェム−4
−カルボキシレート 1−オキサイド ペンツヒドリル 7−[(Zl−2−シクロペンチルオ
キシイミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−
4−イル)アセトアミド]−3−ヨートメデル−3−セ
フェム−4−カルボキシレート 1−オキサイド2.6
4 g(2,65ミリモル)をジメチルホルムアミド2
6.4−に溶解し、5,6−シヒドロキシイソインドリ
ン・臭化水素酸塩0.649 (2,65ミリモル)を
加えた後、トリエチルアミン0.74 d (5,30
ミリモル)を室温で滴下した。反応溶液を1時間撹拌し
た後、減圧下にジメチルホルムアミドを留去し、残漬を
シリカゲルカラムクロマ1〜グラフィー(酢酸エチル:
n−ヘキサン−3:1)にて精製し、標記化合物1.4
2 g(収率52%)を得た。
び9112)、 6.8(1(3+1. S)、 9.
70111、 +l、 J=911z) 実施例4 (A)ハτンツヒドリル ”l−[m−2−シクロペン
チルオキシイミノ−2−(2−トリチルアミンデアゾー
ル−4−イル)アセトアミド]−3−(5,6−シヒド
ロキシイソイントリン=2−イル)−3−セフェム−4
−カルボキシレート 1−オキサイド ペンツヒドリル 7−[(Zl−2−シクロペンチルオ
キシイミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−
4−イル)アセトアミド]−3−ヨートメデル−3−セ
フェム−4−カルボキシレート 1−オキサイド2.6
4 g(2,65ミリモル)をジメチルホルムアミド2
6.4−に溶解し、5,6−シヒドロキシイソインドリ
ン・臭化水素酸塩0.649 (2,65ミリモル)を
加えた後、トリエチルアミン0.74 d (5,30
ミリモル)を室温で滴下した。反応溶液を1時間撹拌し
た後、減圧下にジメチルホルムアミドを留去し、残漬を
シリカゲルカラムクロマ1〜グラフィー(酢酸エチル:
n−ヘキサン−3:1)にて精製し、標記化合物1.4
2 g(収率52%)を得た。
N)IR(D)130−d6)δ: 1.70 (8
11,m)、3.10〜4、10(811,m)、 4
.70(ill、 m)。
11,m)、3.10〜4、10(811,m)、 4
.70(ill、 m)。
5.10(111,d、J=51iz)、5.90(I
II、dd、J=5及7J’811Z)、6.60(2
tl、 bs)、 6.83(111,s)、 7.0
1(11I、 s)、 7. TO〜 7.80(25
11゜m)、 8.56(tll、 bd、 J=81
1z)(8)ペンツヒドリル 7−[(2)−2−シク
ロペンチルオキシイミノ) −2−(2−トリチルアミ
ノチアゾール−4−イル)アセトアミド]−3−(5,
6−シヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウ
ム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート 1
−オキサイド・ヨード塩 (A)で得た化合物1.42 g(1,38ミリモル)
をヨウ化メチル14m (225ミリモル)に溶解し、
室温で16時間放置した。反応溶液を減圧上濃縮し、残
rllをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(5%メ
タノール・塩化メヂレン)にて精製し標記化合物1.2
5 g(収率77%)を得た。
II、dd、J=5及7J’811Z)、6.60(2
tl、 bs)、 6.83(111,s)、 7.0
1(11I、 s)、 7. TO〜 7.80(25
11゜m)、 8.56(tll、 bd、 J=81
1z)(8)ペンツヒドリル 7−[(2)−2−シク
ロペンチルオキシイミノ) −2−(2−トリチルアミ
ノチアゾール−4−イル)アセトアミド]−3−(5,
6−シヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウ
ム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート 1
−オキサイド・ヨード塩 (A)で得た化合物1.42 g(1,38ミリモル)
をヨウ化メチル14m (225ミリモル)に溶解し、
室温で16時間放置した。反応溶液を減圧上濃縮し、残
rllをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(5%メ
タノール・塩化メヂレン)にて精製し標記化合物1.2
5 g(収率77%)を得た。
NHR(DH3O−d6’Iδ: 1.70(8+1
.m)、2.90(31+、bS)。
.m)、2.90(31+、bS)。
3.42(211,bS)、4.20(111,It)
。
。
4.60(611,m)、5.20(111,d、J=
5Hz)、5.98(ill、dd、J=5及び711
z)、6.77(211,bs)、6.80(1+t、
S)、 7.03(IH,S)、 7.10〜7.8
0(2511,m)、8.86(IH,bd。
5Hz)、5.98(ill、dd、J=5及び711
z)、6.77(211,bs)、6.80(1+t、
S)、 7.03(IH,S)、 7.10〜7.8
0(2511,m)、8.86(IH,bd。
J=7tlz)
(C)ペンツヒドリル 7−[(Z)−2−シクロペン
チルオキシイミノ)−2−(24リチルアミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド] −3−(5,6−シヒ
ドロキシー2−メチル−イソインドリニウム)メチル−
3−セフェム−4−カルボキシレート・ヨード塩(B)
で得た化合物1.25 g (1,07ミリモル)をア
セトン25ae (1,07ミリモル)に溶解した後、
ヨウ化カリウム0.719 (4,28ミリモル)を加
え、0℃でアセチルクロライド0.15 d (2,1
4ミリモル)を滴下した。反応溶液を0℃で1時間撹拌
した後、氷冷したメタ重亜硫酸ナトリウム水溶液に注ぎ
、酢酸エチルで抽出し粗製の標記化合物残漬を精製する
ことなく次工程に用いた。
チルオキシイミノ)−2−(24リチルアミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド] −3−(5,6−シヒ
ドロキシー2−メチル−イソインドリニウム)メチル−
3−セフェム−4−カルボキシレート・ヨード塩(B)
で得た化合物1.25 g (1,07ミリモル)をア
セトン25ae (1,07ミリモル)に溶解した後、
ヨウ化カリウム0.719 (4,28ミリモル)を加
え、0℃でアセチルクロライド0.15 d (2,1
4ミリモル)を滴下した。反応溶液を0℃で1時間撹拌
した後、氷冷したメタ重亜硫酸ナトリウム水溶液に注ぎ
、酢酸エチルで抽出し粗製の標記化合物残漬を精製する
ことなく次工程に用いた。
(D)7− [(Z)−2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−シクロペンチルオキシイミノアセトア
ミド]−3−(5,6−ジヒドロキシ−2−メチル−イ
ソインドリニウム)メチル−3−セフェム−4−カルボ
キシレート〜(C)で得た残漬を塩化メチレン2献及び
アニソール2mlに溶解した後、水冷下トリフル3口醋
酸5mlを滴下した。反応溶液を1時間撹拌した(長、
減圧上濃縮し残漬に耐酸エチル及び水を加えた。
4−イル)−2−シクロペンチルオキシイミノアセトア
ミド]−3−(5,6−ジヒドロキシ−2−メチル−イ
ソインドリニウム)メチル−3−セフェム−4−カルボ
キシレート〜(C)で得た残漬を塩化メチレン2献及び
アニソール2mlに溶解した後、水冷下トリフル3口醋
酸5mlを滴下した。反応溶液を1時間撹拌した(長、
減圧上濃縮し残漬に耐酸エチル及び水を加えた。
水層を11!縮したのbODSカラムクロマ]ヘゲラフ
−r −(Bondapack : 30%メタノール
−水)テvi製し、標記化合物196Ing(前工程か
らの収率30%)を得た。
−r −(Bondapack : 30%メタノール
−水)テvi製し、標記化合物196Ing(前工程か
らの収率30%)を得た。
融点 :159°C(分解)
[R(KBr) : 3425,1775,161
9 ctn14.47(711,m)、4.90(lt
l、d、J=5tlz)、5.48(ill、dd、J
=5及び711z)、 6.49(211,bsl、
6.89(III、 s)、 8.11(ill、 b
d、 J=711z)参考例 ペンツヒドリル 3−ヨードメチル−7−[m−2−メ
トキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾール−
4−イル)アセトアミド]−3−セフェム−4−カルボ
キシレート 1−オキサイド及び2−メチルイソインド
リンを用い、実施例1〜3に記載したと同様な方法で7
−[(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−メトキシイミノアセトアミド] −3−(2−メ
チル−2−イソインドリニウム)メチル−3−セフェム
−4−カルボキシレートを得た。
9 ctn14.47(711,m)、4.90(lt
l、d、J=5tlz)、5.48(ill、dd、J
=5及び711z)、 6.49(211,bsl、
6.89(III、 s)、 8.11(ill、 b
d、 J=711z)参考例 ペンツヒドリル 3−ヨードメチル−7−[m−2−メ
トキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾール−
4−イル)アセトアミド]−3−セフェム−4−カルボ
キシレート 1−オキサイド及び2−メチルイソインド
リンを用い、実施例1〜3に記載したと同様な方法で7
−[(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−メトキシイミノアセトアミド] −3−(2−メ
チル−2−イソインドリニウム)メチル−3−セフェム
−4−カルボキシレートを得た。
融点 : 150’C(分解)
IR(KBr) : 7770,1660,162
0,1530,1345゜1030CM−1 030C,d、 J=4.5112)、 5.76(1
11,d、 J=4.511z)、6.93(III、
s)、 7.38(411゜bs) ル」Jと兜里 本発明の化合物は感受性並びに耐性のグラム陰性菌及び
グラム陰性菌、特に耐性のシュードモナス・エルギノー
ザ、シュードモナス・セパシア、?ネシトバクター・カ
ルコアセティカス等に強い抗菌力を示し、細菌感染症治
療薬として期待される。特に7位の側鎖として2−(2
−7ミノチアゾールー4−イル)−2−H換オキシイミ
ノアセチル基を有し、3位に2−メチル−5,6−ジ置
換イソインドリニウムメチル基を有する化合物(実施例
1 (E) 、 2(F) 、 3(C)及び4(D)
)は強い抗菌活性を示す。
0,1530,1345゜1030CM−1 030C,d、 J=4.5112)、 5.76(1
11,d、 J=4.511z)、6.93(III、
s)、 7.38(411゜bs) ル」Jと兜里 本発明の化合物は感受性並びに耐性のグラム陰性菌及び
グラム陰性菌、特に耐性のシュードモナス・エルギノー
ザ、シュードモナス・セパシア、?ネシトバクター・カ
ルコアセティカス等に強い抗菌力を示し、細菌感染症治
療薬として期待される。特に7位の側鎖として2−(2
−7ミノチアゾールー4−イル)−2−H換オキシイミ
ノアセチル基を有し、3位に2−メチル−5,6−ジ置
換イソインドリニウムメチル基を有する化合物(実施例
1 (E) 、 2(F) 、 3(C)及び4(D)
)は強い抗菌活性を示す。
特許出願人 亀有製薬株式会ネ1
手続補正書(自発)
昭和00年916日
特許庁長官 宇 賀 道 部 殿
1、事件の表示 昭和60年特許願第171839号3
、?1正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 の103 東京都中央区日本橋本町2丁目7番地85、 MM(1
)H& −:、−7明細書の「特許請求
の範囲」のt[1IIL″・および「発明の詳細な説明
」の欄 訂 正 明 細 書 1、発明の名称 新規セフ10スポリン誘導体 2、特許請求の範囲 (1)一般式 (式中R1はカルボキシル基により置換されていR4は
同一でも異なってもよく、それぞれ水素原子、水F1M
、メトキシ基又はアセトキシ基を示す)で表わされる化
合物、その塩又は生理的に加水分解可能なそのエステル
。
、?1正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 の103 東京都中央区日本橋本町2丁目7番地85、 MM(1
)H& −:、−7明細書の「特許請求
の範囲」のt[1IIL″・および「発明の詳細な説明
」の欄 訂 正 明 細 書 1、発明の名称 新規セフ10スポリン誘導体 2、特許請求の範囲 (1)一般式 (式中R1はカルボキシル基により置換されていR4は
同一でも異なってもよく、それぞれ水素原子、水F1M
、メトキシ基又はアセトキシ基を示す)で表わされる化
合物、その塩又は生理的に加水分解可能なそのエステル
。
(2)一般式
(式中Rは水素原子又はアミノ保WI基、R6は水素原
子又はカルボキシル保護基、R7は保護されたカルボキ
シル 環状の低級アルキル阜、Xはハロゲン原子又は脱[0、
YはS又はSOを示づ)で表わされる化合物又はその塩
を、一般式 (式中R 、R 及びR は同一でも異なってもよ
く、それぞれ水素原子、保護されていてもよい水酸基、
メトキシ基又はアセトキシ基、R 1 1は水素原子又
はメチル基を示す)で表わされるアミンと反応させて、
一般式 R11およびYは前記の意味を有し、Xoは陰イオンを
示す)で表わされる化合物となし、これを必要に応じ、
メチル化及び/又は還元したのち、保Imを除去するこ
とを特徴とする、一般式(式中R1はカルボキシル基に
より置換されていR4は同一でも異なってもよく、それ
ぞれ水素原子、水M’S、メトキシ基又はアセトキシ基
を示す)で表わされる化合物、その塩又は生理的に加水
分解可能なそのエステルの製法。
子又はカルボキシル保護基、R7は保護されたカルボキ
シル 環状の低級アルキル阜、Xはハロゲン原子又は脱[0、
YはS又はSOを示づ)で表わされる化合物又はその塩
を、一般式 (式中R 、R 及びR は同一でも異なってもよ
く、それぞれ水素原子、保護されていてもよい水酸基、
メトキシ基又はアセトキシ基、R 1 1は水素原子又
はメチル基を示す)で表わされるアミンと反応させて、
一般式 R11およびYは前記の意味を有し、Xoは陰イオンを
示す)で表わされる化合物となし、これを必要に応じ、
メチル化及び/又は還元したのち、保Imを除去するこ
とを特徴とする、一般式(式中R1はカルボキシル基に
より置換されていR4は同一でも異なってもよく、それ
ぞれ水素原子、水M’S、メトキシ基又はアセトキシ基
を示す)で表わされる化合物、その塩又は生理的に加水
分解可能なそのエステルの製法。
(3)一般式
それぞれ水素原子、保護されていてもよい水酸基、メト
キシ基又はアセトキシ基、Xoは陰イオンを示づ)で表
わされる化合物、その塩又はそのシリル化合物を、一般
式 (式中115は水素原子又はアミノ保護基、R7は保護
されたカルボキシル基により置換されていてもよい環状
の低級アルキル基を示づ)で表わされるカルボン酸の反
応性誘導体によりアシル化して、一般式 %式%) (式中R、R、R7、R、R、R及び Xoは前記の意味を右する)で表わされる化合物となし
、次いで保護基を除去することを特徴とする、一般式 (式中1<1はカルボキシル基により置換されていても
にい環状の低級アルキル基、R2,r<3及びR4は同
一でも異なってもよく、それぞれ水素原子、水酸基、メ
1へキシ基又はアセトキシ基を示す)ぐ表わされる化合
物、その塩又は生理的に加水分解可能なその土スプルの
製法。
キシ基又はアセトキシ基、Xoは陰イオンを示づ)で表
わされる化合物、その塩又はそのシリル化合物を、一般
式 (式中115は水素原子又はアミノ保護基、R7は保護
されたカルボキシル基により置換されていてもよい環状
の低級アルキル基を示づ)で表わされるカルボン酸の反
応性誘導体によりアシル化して、一般式 %式%) (式中R、R、R7、R、R、R及び Xoは前記の意味を右する)で表わされる化合物となし
、次いで保護基を除去することを特徴とする、一般式 (式中1<1はカルボキシル基により置換されていても
にい環状の低級アルキル基、R2,r<3及びR4は同
一でも異なってもよく、それぞれ水素原子、水酸基、メ
1へキシ基又はアセトキシ基を示す)ぐ表わされる化合
物、その塩又は生理的に加水分解可能なその土スプルの
製法。
(I)
(式中R1はカルボキシル基により置換されていてもよ
い環状の低級アルキル基、R、R及びR4は同一でも異
なってもよく、それぞれ水素原子、水酸基、メトキシ基
又はアセトキシ基を示す)で表わされる化合物、その塩
又は生理的に加水分解可能なそのエステルを有効成分と
して含有する抗菌剤。
い環状の低級アルキル基、R、R及びR4は同一でも異
なってもよく、それぞれ水素原子、水酸基、メトキシ基
又はアセトキシ基を示す)で表わされる化合物、その塩
又は生理的に加水分解可能なそのエステルを有効成分と
して含有する抗菌剤。
3、発明の詳細な説明
L1上立泄皿メ1
本発明は新規なセファ0スポリンvg導体に関するもの
である。
である。
β−ラクタム抗生物質は、細菌にのみ選択毒性を示し、
動物細胞に対しては影響を与えないことから、副作用の
少ない抗生物質として細菌による感染症の予防並びに治
療に重要な役割を果たしている。特にセファロスポリン
誘導体は一般にぺ二シリナーゼに対して安定であり、そ
の抗菌スペクトルが広く、細菌感染症の予防並びに治療
に供せられる頻度も多い。
動物細胞に対しては影響を与えないことから、副作用の
少ない抗生物質として細菌による感染症の予防並びに治
療に重要な役割を果たしている。特にセファロスポリン
誘導体は一般にぺ二シリナーゼに対して安定であり、そ
の抗菌スペクトルが広く、細菌感染症の予防並びに治療
に供せられる頻度も多い。
従来技術
4級アンモニウム塩構造を有づるセファロスポリン誘導
体の記載された公開技術としては、たとえば、特開昭5
3−53690号、同55−59196号、同58−1
74387号及び同58−198490号等が掲げられ
る。
体の記載された公開技術としては、たとえば、特開昭5
3−53690号、同55−59196号、同58−1
74387号及び同58−198490号等が掲げられ
る。
現在セフォタキシム(cefotax ime)アンテ
ィマイクロビアル エイジェント アンドケモテラピイ
(Antimicrobial Agents and
CC11e。
ィマイクロビアル エイジェント アンドケモテラピイ
(Antimicrobial Agents and
CC11e。
tlleraE)’/、 14749(1978)]等
、第三世代と呼ばれるセファロスポリン誘導体はグラム
陽性菌、グラム陰性菌、特に腸内細菌群に優れた抗菌力
を示す。
、第三世代と呼ばれるセファロスポリン誘導体はグラム
陽性菌、グラム陰性菌、特に腸内細菌群に優れた抗菌力
を示す。
セフタジブイム(ceftaz id ime)アンテ
ィマイクロビアル エイジェント アンドケモテラピイ
(へntimicrobialへQelltS and
C11elllOt11erapy、 17876(
1980) )はシュードモナス・エルギノーザ(Ps
eudomonas aeruginosa)及びアシ
ネトバクタ−(ACtnetobacter)に対して
、これまで知られている中で最も優れたセファロスポリ
ン誘導体である。
ィマイクロビアル エイジェント アンドケモテラピイ
(へntimicrobialへQelltS and
C11elllOt11erapy、 17876(
1980) )はシュードモナス・エルギノーザ(Ps
eudomonas aeruginosa)及びアシ
ネトバクタ−(ACtnetobacter)に対して
、これまで知られている中で最も優れたセファロスポリ
ン誘導体である。
尺」が解決しようとする問題点
既存のセファ0スポリン誘導体は、種々の耐性の機構を
もつ耐性のブドウ球菌又は耐性のシュードモナス・エル
ギノーザ(Pseudomonas aerugin。
もつ耐性のブドウ球菌又は耐性のシュードモナス・エル
ギノーザ(Pseudomonas aerugin。
Sa) 、アシネトバクタ−・カルコアセティカス(^
cinetobacter calcoaceticu
s)、セラチア−フルレッセンス(Serratia
marcescens)等のブドウ糖汁醗酵グラム陰性
桿菌に対する抗菌活性が低い。
cinetobacter calcoaceticu
s)、セラチア−フルレッセンス(Serratia
marcescens)等のブドウ糖汁醗酵グラム陰性
桿菌に対する抗菌活性が低い。
従って、これらの菌による難治性感染症の治療のために
、より強力で広範囲のスペクトルをもつ新規セファロス
ポリン誘導体が求められている。
、より強力で広範囲のスペクトルをもつ新規セファロス
ポリン誘導体が求められている。
また、前掲のセフオタキシム等、第31!!代と呼ばれ
るセファ0スポリン14体は、グラム陽性菌、グラム陰
性菌、特に腸内用菌群に優れた抗菌力を示すが、シュー
ドモナス及びアシネトバクタ−に強力な抗菌作用を示す
ものは稀である。したがって、これらの菌、あるいはこ
れらの菌と他の菌との混合感染による重篤な感染症の治
療に、もっと強力で有効な治療薬が望まれている。さら
には、前掲のセフタジブイムには、耐性菌が存在し、か
ならずしも満足なものではない。
るセファ0スポリン14体は、グラム陽性菌、グラム陰
性菌、特に腸内用菌群に優れた抗菌力を示すが、シュー
ドモナス及びアシネトバクタ−に強力な抗菌作用を示す
ものは稀である。したがって、これらの菌、あるいはこ
れらの菌と他の菌との混合感染による重篤な感染症の治
療に、もっと強力で有効な治療薬が望まれている。さら
には、前掲のセフタジブイムには、耐性菌が存在し、か
ならずしも満足なものではない。
問題を解決するための手段
本発明者らは、セフェム(cephem)3位に2−メ
ヂルー置換イソインドリニウムメチル基を有する新規セ
フェム化合物についてωl究した結果、イソインドリン
核にヒドロキシ基又はアセトキシ基を導入した化合物が
、イソインドリン核に無置換の化合物と比較して、グラ
ム陰性菌、特にbl凛菌、シュードモナス・セパシア(
Pseudomonas cepacia)その他のブ
ドウ糖汁醗酵グラム陰性桿菌に対し、抗菌力が著しく強
力であることを見出した。
ヂルー置換イソインドリニウムメチル基を有する新規セ
フェム化合物についてωl究した結果、イソインドリン
核にヒドロキシ基又はアセトキシ基を導入した化合物が
、イソインドリン核に無置換の化合物と比較して、グラ
ム陰性菌、特にbl凛菌、シュードモナス・セパシア(
Pseudomonas cepacia)その他のブ
ドウ糖汁醗酵グラム陰性桿菌に対し、抗菌力が著しく強
力であることを見出した。
中でも、7位の側鎖として2−(2−アミノチアゾール
−4−イル)−2−置換オキシイミノアレチル基を有し
、3位に2−メチル−5,6−ジ置換イソインドリニウ
ムメチルを有する化合物は、特に抗菌作用が漬れている
。
−4−イル)−2−置換オキシイミノアレチル基を有し
、3位に2−メチル−5,6−ジ置換イソインドリニウ
ムメチルを有する化合物は、特に抗菌作用が漬れている
。
作用
木f芒明は、一般j(
(I)
(式中R1はカルボキシル基により置換されていでもよ
い環状の低級アルキル基、R、R及びR4は同一でも異
なってもよく、それぞれ水素原子、水rItUm、メ[
・キシ阜又はア1!1〜キシ基を示す)で表わされる化
合物、その塩又は生理的に加水分解可能なそのニスデル
である。
い環状の低級アルキル基、R、R及びR4は同一でも異
なってもよく、それぞれ水素原子、水rItUm、メ[
・キシ阜又はア1!1〜キシ基を示す)で表わされる化
合物、その塩又は生理的に加水分解可能なそのニスデル
である。
一般にΔキシイミノ基におIJる買換はF又は7の幾何
異性の構造をとりうるが、式■の化合物の7位のアシル
アミノ部分に含まれるAキシイミノ基の置換は2の構造
を有している。弐■の化合物の買換基R1においτカル
ボキシル基)基により胃1%されていてもよい環状の低
級アルキル基どじでは、例えば、シクロプロピル基、シ
クロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、
1−カルボキシ−1−シクロプロピル基、1−カルボキ
シ−1−シクロブチル基、1−力ルボキシ−1−シクロ
ペンチル基または1−カルボキシ−1−シクロヘキシル
基等が挙げられる。
異性の構造をとりうるが、式■の化合物の7位のアシル
アミノ部分に含まれるAキシイミノ基の置換は2の構造
を有している。弐■の化合物の買換基R1においτカル
ボキシル基)基により胃1%されていてもよい環状の低
級アルキル基どじでは、例えば、シクロプロピル基、シ
クロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、
1−カルボキシ−1−シクロプロピル基、1−カルボキ
シ−1−シクロブチル基、1−力ルボキシ−1−シクロ
ペンチル基または1−カルボキシ−1−シクロヘキシル
基等が挙げられる。
セフェム3位の2−メチル−置換イソインドリニウムメ
チルの置換イソインドリン環としては、例えば、無置換
イソインドリン、5−ヒドロキシイソインドリン、5−
アセトキシイソインドリン、5−メトキシイソインドリ
ン、4.5−ジヒドロキシイソインドリン、5,6−ジ
ヒドロキシイソインドリン、4.5−ジアセトキシイソ
インドリン、5.6−ジアセトキシイソインドリン、4
.5−ジメトキシイソインドリン、5.6−ジメトキシ
イソインドリン、4.5−ジヒドロキシ−6−メトキシ
イソインドリン、4,5−ジヒドロキシ−7−メトキシ
イソインドリン、5.6−シヒドロキシー4−メトキシ
イソインドリン、 4.5−ジアセトキシ−7−メ[・キジイソインドリン
、5,6−ジアセ1−キシー4−メトキシイソインドリ
ン、4.5−シアt?1−キシ−6−メドキシイソイン
ドリン、4,5.6−1−リヒドロキシイソインドリン
、4,5.7−トリヒドロキシイソインドリン、4.5
.6−トリアセトキシイソインドリン、4,5.7−ト
リアセトキシイソインドリン、4,5.6−トリメ[〜
キジイソインドリンまたは4,5.7− トリメトキシ
イソインドリン等が挙げられる。
チルの置換イソインドリン環としては、例えば、無置換
イソインドリン、5−ヒドロキシイソインドリン、5−
アセトキシイソインドリン、5−メトキシイソインドリ
ン、4.5−ジヒドロキシイソインドリン、5,6−ジ
ヒドロキシイソインドリン、4.5−ジアセトキシイソ
インドリン、5.6−ジアセトキシイソインドリン、4
.5−ジメトキシイソインドリン、5.6−ジメトキシ
イソインドリン、4.5−ジヒドロキシ−6−メトキシ
イソインドリン、4,5−ジヒドロキシ−7−メトキシ
イソインドリン、5.6−シヒドロキシー4−メトキシ
イソインドリン、 4.5−ジアセトキシ−7−メ[・キジイソインドリン
、5,6−ジアセ1−キシー4−メトキシイソインドリ
ン、4.5−シアt?1−キシ−6−メドキシイソイン
ドリン、4,5.6−1−リヒドロキシイソインドリン
、4,5.7−トリヒドロキシイソインドリン、4.5
.6−トリアセトキシイソインドリン、4,5.7−ト
リアセトキシイソインドリン、4,5.6−トリメ[〜
キジイソインドリンまたは4,5.7− トリメトキシ
イソインドリン等が挙げられる。
式■の化合物は、下2の方法により製造できる。
一般式
(式中R5は水素原子又はアミノ保]Ji、R6は水素
原子又はカルボキシル保i1、Rは保護されたカルボキ
シル基により買換されていてもよい環状の低級アルキル
基、Xはハロゲン原子又は11f21)iff阜、Yは
SまたはSOを示1)で表わされる化合物又はその塩を
、一般式 %式% ([) (式中R、R及びRGよ同一て゛ち巽なっでもよく、そ
れぞれ水素原子、保護されCい(ちよいと反応さUoて
、 一般式 %式%) (式中R5、R6、R7、R8、R9、RIOlRll
及びYは前記の意味を有し、Xoは陰イオンを示す)で
表わされる化合物となし、これを必要に応じメチル化及
び/又は還元したのら、保護基を除去する(△法)。
原子又はカルボキシル保i1、Rは保護されたカルボキ
シル基により買換されていてもよい環状の低級アルキル
基、Xはハロゲン原子又は11f21)iff阜、Yは
SまたはSOを示1)で表わされる化合物又はその塩を
、一般式 %式% ([) (式中R、R及びRGよ同一て゛ち巽なっでもよく、そ
れぞれ水素原子、保護されCい(ちよいと反応さUoて
、 一般式 %式%) (式中R5、R6、R7、R8、R9、RIOlRll
及びYは前記の意味を有し、Xoは陰イオンを示す)で
表わされる化合物となし、これを必要に応じメチル化及
び/又は還元したのら、保護基を除去する(△法)。
一般式
%式%
(式中R、R11、R及Cf X IJ 前++a
)意味を右りる)で表わされる化合物、その塩又はその
シリル化合物を、一般式 (式中R5及びR7は前記の意味を右りる)で表わされ
る/Jルボン酸の反応性誘導体ににリアシル化して、 一般式 (■) (式中R、R、R、R、R、R及び θ X は前記の意味を有づる)で表わされる化合物となし
、次いで保131を除去する(B法)。
)意味を右りる)で表わされる化合物、その塩又はその
シリル化合物を、一般式 (式中R5及びR7は前記の意味を右りる)で表わされ
る/Jルボン酸の反応性誘導体ににリアシル化して、 一般式 (■) (式中R、R、R、R、R、R及び θ X は前記の意味を有づる)で表わされる化合物となし
、次いで保131を除去する(B法)。
式■及び式v1のカルボン酸の置換基R5のためのアミ
ノ保Imとしては、例えばトリチル基、ホルミル基、ク
ロロアセチル基、トリフルオロアセデル基、tert−
ブトキシカルボニル基、トリメチルシリル基、tert
−ブチルジメチルシリル基等が挙げられる。酸処理によ
って容易に除去できるトリチル基が特に好ましい。置換
基R6及びR7のためのカルボキシル保IIとしては例
えば下記の基が挙げられる。
ノ保Imとしては、例えばトリチル基、ホルミル基、ク
ロロアセチル基、トリフルオロアセデル基、tert−
ブトキシカルボニル基、トリメチルシリル基、tert
−ブチルジメチルシリル基等が挙げられる。酸処理によ
って容易に除去できるトリチル基が特に好ましい。置換
基R6及びR7のためのカルボキシル保IIとしては例
えば下記の基が挙げられる。
低級アルキル基例えばtert−ブチル基、ハロアルキ
ル基例えば2,2.2−トリクロロエチル基、アルカノ
イルオキシアルキル ル基、プロピオニルオキシメチル基、ピバロイルオキシ
メチル基、2−アセトキシエチル基、2−プロピオニル
オキシエチル基、1−(エトキシカルボニルオキシ)−
1−エチル基等、1−フタリジル基、アルカンスルホニ
ルアルキル基例えばメシルメチル基、2−メシルエチル
基等、アラルキル基例えばベンジル基、4−メ1〜キシ
ベンジル基、4−ニトロベンジル塞、フェネチル基、ト
リチル基、ベンツヒドリル基、ビス(4−メトキシフェ
ニル)メチル基、3.4−ジメトキシベンジル基、5−
置換−2−オキソ− 1.3−ジオキソ−ルー4−イル
−メチル基例えば5−メチル−2−オキソ−1.3−ジ
オキソ−ルー4−イル−メチル基、アルキルシリル基例
えばトリメチルシリル基、tert−ブチルジメチルシ
リル基等。酸処理によって容易に除去できるペンツヒド
リル基又はtert−ブチル基が特に好ましい。
ル基例えば2,2.2−トリクロロエチル基、アルカノ
イルオキシアルキル ル基、プロピオニルオキシメチル基、ピバロイルオキシ
メチル基、2−アセトキシエチル基、2−プロピオニル
オキシエチル基、1−(エトキシカルボニルオキシ)−
1−エチル基等、1−フタリジル基、アルカンスルホニ
ルアルキル基例えばメシルメチル基、2−メシルエチル
基等、アラルキル基例えばベンジル基、4−メ1〜キシ
ベンジル基、4−ニトロベンジル塞、フェネチル基、ト
リチル基、ベンツヒドリル基、ビス(4−メトキシフェ
ニル)メチル基、3.4−ジメトキシベンジル基、5−
置換−2−オキソ− 1.3−ジオキソ−ルー4−イル
−メチル基例えば5−メチル−2−オキソ−1.3−ジ
オキソ−ルー4−イル−メチル基、アルキルシリル基例
えばトリメチルシリル基、tert−ブチルジメチルシ
リル基等。酸処理によって容易に除去できるペンツヒド
リル基又はtert−ブチル基が特に好ましい。
式■の化合物の置換基Xのためのハロゲン原子としては
、例えば塩素、臭素、ヨウ素等、、脱離基としては例え
ばアセトキシ基、トリフルオロアセトキシ基、メタンス
ルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキ
シ基、フェニルスルホニルオキシ基、p−トルエンスル
ホニルオキシ基等が挙げられる。特に臭素又はヨウ素が
好ましい。
、例えば塩素、臭素、ヨウ素等、、脱離基としては例え
ばアセトキシ基、トリフルオロアセトキシ基、メタンス
ルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキ
シ基、フェニルスルホニルオキシ基、p−トルエンスル
ホニルオキシ基等が挙げられる。特に臭素又はヨウ素が
好ましい。
式Vlのカルボン酸の反応性誘導体としては、例えば酸
ハロゲン化物は、カルボンl!l(VI)をハロゲン化
剤と反応させることにより得られる。反応は不活性溶媒
、例えば塩化メチレン、クロロホルム、ジクロルエタン
、ベンゼン、トルエン等又はこれらの混合物中で行われ
る。ハロゲン化剤としては例えば塩化チオニル、三塩化
燐、五塩化燐、オキシ塩化燐、三臭化燐、オキザリルク
ロライド、ホスゲン等が用いられる。ハロゲン化剤の使
用量は、カルボン酸(Vl)1モルに対し、1〜10モ
ル好ましくは1〜1.5モルで、反応温度は−40〜+
100℃好ましくは一20〜+20℃、反応時間は10
〜60分である。
ハロゲン化物は、カルボンl!l(VI)をハロゲン化
剤と反応させることにより得られる。反応は不活性溶媒
、例えば塩化メチレン、クロロホルム、ジクロルエタン
、ベンゼン、トルエン等又はこれらの混合物中で行われ
る。ハロゲン化剤としては例えば塩化チオニル、三塩化
燐、五塩化燐、オキシ塩化燐、三臭化燐、オキザリルク
ロライド、ホスゲン等が用いられる。ハロゲン化剤の使
用量は、カルボン酸(Vl)1モルに対し、1〜10モ
ル好ましくは1〜1.5モルで、反応温度は−40〜+
100℃好ましくは一20〜+20℃、反応時間は10
〜60分である。
式■1のカルボン酸の混合酸無水物は、VIをクロル炭
酸アルキル、脂肪族のカルボン酎クロライド等と反応さ
せることにより得られる。反応は不活性溶媒例えばアセ
トン、ジオキサン、アセトニトリル、テトラヒドロフラ
ン、塩化メチレン、クロロホルム、ベンゼン、酢酸エチ
ル、ジメチルホルムアミド等又はこれらの混合物の中で
行われる。
酸アルキル、脂肪族のカルボン酎クロライド等と反応さ
せることにより得られる。反応は不活性溶媒例えばアセ
トン、ジオキサン、アセトニトリル、テトラヒドロフラ
ン、塩化メチレン、クロロホルム、ベンゼン、酢酸エチ
ル、ジメチルホルムアミド等又はこれらの混合物の中で
行われる。
反応は三級アミン例えばトリエチルアミン、N−メチル
モルホリン等の存在下に行うことが好ましく、反応温度
は−30〜+20℃好ましくは一15〜O℃、反応時間
は10〜30分である。
モルホリン等の存在下に行うことが好ましく、反応温度
は−30〜+20℃好ましくは一15〜O℃、反応時間
は10〜30分である。
式■1のカルボン酸の活性エステルは、カルボン1’l
Q(Vl)を好ましくは1〜1.2モルのN−ヒドロキ
シ化合物又はフェノール化合物と反応させることにより
得られる。反応は不活性溶媒例えばアセトン、ジオキサ
ン、アセト二1〜リル、テトラヒドロフラン、塩化メチ
レン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルホルムアミ
ド等又はこれらの混合物の中で行われる。
Q(Vl)を好ましくは1〜1.2モルのN−ヒドロキ
シ化合物又はフェノール化合物と反応させることにより
得られる。反応は不活性溶媒例えばアセトン、ジオキサ
ン、アセト二1〜リル、テトラヒドロフラン、塩化メチ
レン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルホルムアミ
ド等又はこれらの混合物の中で行われる。
ド、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール等、フェノール
化合物としては例えば4−二トロフェノール、2.4−
ジニトロフェノール、トリクロロフェノール、ペンタク
ロロフェノール等が用いられる。
化合物としては例えば4−二トロフェノール、2.4−
ジニトロフェノール、トリクロロフェノール、ペンタク
ロロフェノール等が用いられる。
反応は縮合剤例えばN。
N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド1、2モルの存
在下に行うことが好ましい。反応温度は−30〜+40
℃好ましくは一10〜+25℃、反応時間は30〜12
0分である。
在下に行うことが好ましい。反応温度は−30〜+40
℃好ましくは一10〜+25℃、反応時間は30〜12
0分である。
基YがSである式Hの化合物は、一般式(式中R6及び
Xは前記の意味を有し、Zは水素原子又はアシル基を示
す)で表わされる化合物を式Vlのカルボン酸の反応性
誘導体を用いてアシル化することにより19られる。ま
た基YがSOである式Hの化合物は、基Y lfi S
である式■の化合物を酸化プることにより得られる。置
tgJixがヨウ素である式Hの化合物は、Xが塩素で
ある式Hの化合物をヨウ化ナトリウムと反応させて製造
することができる。
Xは前記の意味を有し、Zは水素原子又はアシル基を示
す)で表わされる化合物を式Vlのカルボン酸の反応性
誘導体を用いてアシル化することにより19られる。ま
た基YがSOである式Hの化合物は、基Y lfi S
である式■の化合物を酸化プることにより得られる。置
tgJixがヨウ素である式Hの化合物は、Xが塩素で
ある式Hの化合物をヨウ化ナトリウムと反応させて製造
することができる。
式Vの化合物は、Zがアシル基である式■の化合物をR
がメチル基である弐■のアミンと反応させたのち、脱
アシル化することにより得られる。
がメチル基である弐■のアミンと反応させたのち、脱
アシル化することにより得られる。
式■の化合物は、一般式
(式中R6は及びZは前記の意味を有・する)で表わさ
れる化合物から容易に製造することができる。
れる化合物から容易に製造することができる。
、へ法により式■の化合物を製造するに際しては、まず
溶媒中で式■の化合物を弐■の遊離アミン又はアミン塩
と反応させる。アミン塩として塩酸塩、臭化水素i!!
塩、硫酸塩及び酢酸塩等を用いる場合は、中和量の3級
アミン例えばトリエチルアミン等の存在下に反応を行う
。溶媒としては例えば塩化メチレン、クロロホルム、エ
ーテル、酢酸エチル、酢酸ブチル、テトラヒドロフラン
、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキサイド等の非水有機溶媒又はこれらの混合物が用
いられる。弐■のアミンは、前記溶媒中で、N。
溶媒中で式■の化合物を弐■の遊離アミン又はアミン塩
と反応させる。アミン塩として塩酸塩、臭化水素i!!
塩、硫酸塩及び酢酸塩等を用いる場合は、中和量の3級
アミン例えばトリエチルアミン等の存在下に反応を行う
。溶媒としては例えば塩化メチレン、クロロホルム、エ
ーテル、酢酸エチル、酢酸ブチル、テトラヒドロフラン
、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキサイド等の非水有機溶媒又はこれらの混合物が用
いられる。弐■のアミンは、前記溶媒中で、N。
0−ビストリメデルシリルアセトアミド等のシリル化剤
でシリル化して使用することもできる。弐■のアミンの
使用量は、式■の化合物1モルに対し、1〜2モルであ
る。反応温度は0〜35℃で、反応は0.5〜srgr
間で終了する。
でシリル化して使用することもできる。弐■のアミンの
使用量は、式■の化合物1モルに対し、1〜2モルであ
る。反応温度は0〜35℃で、反応は0.5〜srgr
間で終了する。
置換穴R が水素原子である弐■の2級アミンを用いる
場合には、その生成物(IV)を単離することなく反応
溶液のまま、あるいはその生成物(1v)を分子!n精
製して、ヨウ化メチルと反応させ、アンモニオ化合物(
IV )とする。このメチル化反応を前記の非水有機
溶媒中で行う場合、ヨウ化メチルの使用部は生成物(I
V)1モルに対し、1〜30モル好ましくは3〜15モ
ルで、反応温度は一30〜+35℃、反応は数時間ない
し数日で終了する。
場合には、その生成物(IV)を単離することなく反応
溶液のまま、あるいはその生成物(1v)を分子!n精
製して、ヨウ化メチルと反応させ、アンモニオ化合物(
IV )とする。このメチル化反応を前記の非水有機
溶媒中で行う場合、ヨウ化メチルの使用部は生成物(I
V)1モルに対し、1〜30モル好ましくは3〜15モ
ルで、反応温度は一30〜+35℃、反応は数時間ない
し数日で終了する。
また溶媒の不在下に生成1(IV)に過剰のヨウ化メチ
ルを10〜35℃で、5〜20時間反応させることによ
ってもアンモニオ化合物(IV)が得られる。
ルを10〜35℃で、5〜20時間反応させることによ
ってもアンモニオ化合物(IV)が得られる。
IyがSOである式Hの化合物を用いる場合には、アン
モニオ(1■)を公知の方法、例えばジャーナル オブ
A−ガニツク ケミストリー[JOUrnal of
Oraanic Cbemistry.35 243
0(1970)]、シンセシス[Syntbesis
58(1979)]又はジャーナルオブ ケミカル リ
リ゛−チ[Journal or Cl+emical
Research 341(1979月等に記載の方法
により還元する。例えば生成物(IV )を不活性有機
溶媒例えばアレ1ヘン、塩化メヂレン、クロロホルム、
テトラヒドロフラン、酢酸エチル等に溶解し、ヨウ化カ
リウム又はヨウ化す1ヘリウムを加え、−40〜O℃で
アセデルクロライドを滴下し、−20〜−10℃で1〜
2時間反応さけることにより還元できる。
モニオ(1■)を公知の方法、例えばジャーナル オブ
A−ガニツク ケミストリー[JOUrnal of
Oraanic Cbemistry.35 243
0(1970)]、シンセシス[Syntbesis
58(1979)]又はジャーナルオブ ケミカル リ
リ゛−チ[Journal or Cl+emical
Research 341(1979月等に記載の方法
により還元する。例えば生成物(IV )を不活性有機
溶媒例えばアレ1ヘン、塩化メヂレン、クロロホルム、
テトラヒドロフラン、酢酸エチル等に溶解し、ヨウ化カ
リウム又はヨウ化す1ヘリウムを加え、−40〜O℃で
アセデルクロライドを滴下し、−20〜−10℃で1〜
2時間反応さけることにより還元できる。
ヨウ化物の使用間は、生成物(IV)1モルに対し、3
.5〜10モル、アセチルクロライドの使用間は、1.
5〜5モルである。こうして得られた化合物から保護基
を除去すると式Tの化合物が11られる。
.5〜10モル、アセチルクロライドの使用間は、1.
5〜5モルである。こうして得られた化合物から保護基
を除去すると式Tの化合物が11られる。
保護基の除去方法はその保護基の種類に応じて常用の方
法を適宜選択して行うことができる。酸による方法が好
ましく、酸としては例えばギ酸、1−リフルオロ酢酸、
ペンげンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、塩酸等
の無1もしくは有機酸等があげられ、トリフルオロ酢酸
が好ましい。
法を適宜選択して行うことができる。酸による方法が好
ましく、酸としては例えばギ酸、1−リフルオロ酢酸、
ペンげンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、塩酸等
の無1もしくは有機酸等があげられ、トリフルオロ酢酸
が好ましい。
なお酸としてトリフルオロ酢酸を用いる場合には、アニ
ソールを添加することにより反応が促進される。またこ
の反応は不活性溶媒、例えば塩化メチLノン、塩化エチ
レン、ベンゼン等の有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒
の中で、特に塩化メチレン中で行うのが好ましい。反応
温度は特に限定されず、原料化合物及び反応生成物の化
学的性質、保護基の種類、除去方法等の種類に応じて適
宜選択し、特に冷却下ないし加温程度の緩和な条件で行
うのが好ましい。
ソールを添加することにより反応が促進される。またこ
の反応は不活性溶媒、例えば塩化メチLノン、塩化エチ
レン、ベンゼン等の有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒
の中で、特に塩化メチレン中で行うのが好ましい。反応
温度は特に限定されず、原料化合物及び反応生成物の化
学的性質、保護基の種類、除去方法等の種類に応じて適
宜選択し、特に冷却下ないし加温程度の緩和な条件で行
うのが好ましい。
B法により式1の化合物を製造づるに際しては、まず溶
媒中で式Vの化合物を式Vlのカルボン酸の反応性誘導
体と反応さける。反応は不活性溶媒例えば水、アセトン
、ジオキサン、アt?Iへ二1〜リル、テトラヒドロフ
ラン、塩化メチレン、クロロホルム、ベンビン、酢酸エ
チル、ジメチルボルムアミド等又はこれらの混合物の中
で行われる。カルボンl’1(Vl)の反応性誘導体の
使用間は、式Vの化合物1モルに対し、1〜1.5モル
である。反応温度は−40〜+40℃好ましくは一20
〜+30℃である。
媒中で式Vの化合物を式Vlのカルボン酸の反応性誘導
体と反応さける。反応は不活性溶媒例えば水、アセトン
、ジオキサン、アt?Iへ二1〜リル、テトラヒドロフ
ラン、塩化メチレン、クロロホルム、ベンビン、酢酸エ
チル、ジメチルボルムアミド等又はこれらの混合物の中
で行われる。カルボンl’1(Vl)の反応性誘導体の
使用間は、式Vの化合物1モルに対し、1〜1.5モル
である。反応温度は−40〜+40℃好ましくは一20
〜+30℃である。
カルボンM (Vl )の酸クロライドを用いる場合は
、炭酸アルカリ金属又は有機アミン例えばトリメチルア
ミン、i〜リエエチアミン、N−メチルモルホリン等の
存在下に反応させ ることが好ましい。
、炭酸アルカリ金属又は有機アミン例えばトリメチルア
ミン、i〜リエエチアミン、N−メチルモルホリン等の
存在下に反応させ ることが好ましい。
反応終了後、生成物(■)を分離し9、A法と同様に保
護基を除去すると、式1の化合物が(qられる。
護基を除去すると、式1の化合物が(qられる。
式■の化合物は常法により塩又は生理的に加水分解可能
なエステルとすることができる。
なエステルとすることができる。
式1の化合物の塩としては医療上許容される1n用的な
もの、例えばナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、
カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属、N、
N′−ジベンジルエヂレンジアミン、プロ力イン等の右
懇アミン、塩酸、硫酸、硝酸、過クロル酸、臭化水素酸
等の無ti酸、酢酸、乳酸、プロピオン酸、マレイン酸
、フマール酸、りんご酸、酒石酸、くえん酸等の有機酸
、メタンスルホン酸、イレチオン酸1、p−トルエンス
ルホン酸等の有機スルボン酸、アスパラギン酸、グルタ
ミン酸等のアミノ酸の塩等が挙げられる。生理的に加水
分解可能なエステルとしては、例えばアヒトキシメチル
エステル、ピバロイルオキシメチル等のアルカノイルオ
キシエステル類、1−(工l〜キシカルボニルオキシ)
−1−エチル等のアルコキシカルボニルオキシアルキル
エステル−オキソ− 1.3−ジオキソ−ルー4−イル
メチル等の5=置換−2−、1−キソ− 1,3−ジオ
キソ−ルー4−イルメチルエステル類等が好ましい。
もの、例えばナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、
カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属、N、
N′−ジベンジルエヂレンジアミン、プロ力イン等の右
懇アミン、塩酸、硫酸、硝酸、過クロル酸、臭化水素酸
等の無ti酸、酢酸、乳酸、プロピオン酸、マレイン酸
、フマール酸、りんご酸、酒石酸、くえん酸等の有機酸
、メタンスルホン酸、イレチオン酸1、p−トルエンス
ルホン酸等の有機スルボン酸、アスパラギン酸、グルタ
ミン酸等のアミノ酸の塩等が挙げられる。生理的に加水
分解可能なエステルとしては、例えばアヒトキシメチル
エステル、ピバロイルオキシメチル等のアルカノイルオ
キシエステル類、1−(工l〜キシカルボニルオキシ)
−1−エチル等のアルコキシカルボニルオキシアルキル
エステル−オキソ− 1.3−ジオキソ−ルー4−イル
メチル等の5=置換−2−、1−キソ− 1,3−ジオ
キソ−ルー4−イルメチルエステル類等が好ましい。
本発明の化合物の秤々の細菌に対する最小阻止濃度(M
I C :μ!?/d)を、セフォタキシム及びセノ
タジディムを比較化合物として、センシティビティ デ
ィ、スフ アガールにッスイ)を用いて寒天平板希釈法
で測定したく菌数:106CFU/−)。その結果を下
記表に示す。
I C :μ!?/d)を、セフォタキシム及びセノ
タジディムを比較化合物として、センシティビティ デ
ィ、スフ アガールにッスイ)を用いて寒天平板希釈法
で測定したく菌数:106CFU/−)。その結果を下
記表に示す。
この成績から明らかなように、イソインドリン核に2個
の置換基を有する式■の化合°物は、グラム陰性菌特に
ぶどう糖非醗酵グラム陰性桿菌例えばシュードモナス・
エルギノーザ、シュードモナスやセパシア(Pseud
omonas cepacia) 、シュードモナス・
マルトフイリア(Pseudomonas malto
philia) 、アシネトバクター・カルコアセティ
カス等に対して優れた抗菌活性を示す。特にこれら化合
物は公知のせ710スポリン誘導体に耐性を有するシュ
ードモナス・エルギノーザAKR−17及びセフタジブ
イムに耐性を有するシュードモナス・フル1−フイリア
ll[)1275に対しても強い抗菌活性を示す点で優
れている。
の置換基を有する式■の化合°物は、グラム陰性菌特に
ぶどう糖非醗酵グラム陰性桿菌例えばシュードモナス・
エルギノーザ、シュードモナスやセパシア(Pseud
omonas cepacia) 、シュードモナス・
マルトフイリア(Pseudomonas malto
philia) 、アシネトバクター・カルコアセティ
カス等に対して優れた抗菌活性を示す。特にこれら化合
物は公知のせ710スポリン誘導体に耐性を有するシュ
ードモナス・エルギノーザAKR−17及びセフタジブ
イムに耐性を有するシュードモナス・フル1−フイリア
ll[)1275に対しても強い抗菌活性を示す点で優
れている。
イソインドリン核の5.6位にヒドロキシ基を導入する
と、グラム陰性菌一般、特にシュードモナス及びアシネ
トバクターに対する抗菌力は飛躍的に増大し、例えばシ
ュードモナス・エルギノーザA K 109に対し、実
施例1E、2F及び3Cの化合物は、アシル側鎖にメト
キシイミノ、イソインドリン核上に置換基のない化合物
く参考例)と比較して、それぞれ62倍以上の抗菌活性
を示した。
と、グラム陰性菌一般、特にシュードモナス及びアシネ
トバクターに対する抗菌力は飛躍的に増大し、例えばシ
ュードモナス・エルギノーザA K 109に対し、実
施例1E、2F及び3Cの化合物は、アシル側鎖にメト
キシイミノ、イソインドリン核上に置換基のない化合物
く参考例)と比較して、それぞれ62倍以上の抗菌活性
を示した。
セフタジブイムを含む全てのセファ0スポリンに耐性で
あるシュードモナス・エルギノーザAKR17に対して
実施例IF、2F及び3Cの化合物は無置換の化合物(
参考例)のそれぞれ125倍以上の抗菌活性を示した。
あるシュードモナス・エルギノーザAKR17に対して
実施例IF、2F及び3Cの化合物は無置換の化合物(
参考例)のそれぞれ125倍以上の抗菌活性を示した。
シュードモナス・セパシア23に対しては実施例1E、
2F及び3Cの化合物は参考例の化合物のそれぞれ12
5倍以上の抗菌活性を示した。アシネトバクター・カル
コアセティカスに対しては実施例1E、2F及び3Cの
化合物は参考例の化合物のそれぞれ125倍、250倍
及び125倍の抗菌活性を示した。またセフタジブイム
耐性であるシュードモナス・マルトフイリアに対しては
、実施例1E、2F及び3Cの化合物はそれぞれ8倍、
16倍及び4倍以上の抗菌活性を示した。
2F及び3Cの化合物は参考例の化合物のそれぞれ12
5倍以上の抗菌活性を示した。アシネトバクター・カル
コアセティカスに対しては実施例1E、2F及び3Cの
化合物は参考例の化合物のそれぞれ125倍、250倍
及び125倍の抗菌活性を示した。またセフタジブイム
耐性であるシュードモナス・マルトフイリアに対しては
、実施例1E、2F及び3Cの化合物はそれぞれ8倍、
16倍及び4倍以上の抗菌活性を示した。
本発明の化合物は感受性並びに耐性のグラム陰性菌及び
グラム陰性菌、特に耐性のシュードモナス・エルギノー
ザ、シュードモナス・セパシア、アシネトバクタ−・カ
ルコアセティカス等に強い抗菌力を示した。
グラム陰性菌、特に耐性のシュードモナス・エルギノー
ザ、シュードモナス・セパシア、アシネトバクタ−・カ
ルコアセティカス等に強い抗菌力を示した。
本発明はさらに、式■の化合物の塩又は生理的に加水分
解可能なそのエステルを有効成分として含有する抗菌剤
として有用である。
解可能なそのエステルを有効成分として含有する抗菌剤
として有用である。
本発明の化合物は、固体又は液体の屋形剤の担体と混合
し、経口投与、非経口投与又は外部投与に適した医薬製
剤の形で使用することができる。
し、経口投与、非経口投与又は外部投与に適した医薬製
剤の形で使用することができる。
医薬製剤としては注射剤、シロップ剤、乳剤等の液剤、
錠剤、カプセル剤、顆粒剤等の固形剤、軟膏、坐剤等の
外用剤等が挙げられる。
錠剤、カプセル剤、顆粒剤等の固形剤、軟膏、坐剤等の
外用剤等が挙げられる。
前記の製剤には、助剤、安定剤、湿潤剤、乳化剤等の通
常使用される添加剤が含まれていてもよい。例えば注射
剤には注射用蒸留水、生理食塩水、リンゲル液等の溶解
液、パラオキシ安息香酸メチル、パラオキシ安息香酸プ
ロピル等の保存剤等の添加剤を含有してもよい。シロッ
プ剤、乳剤等の液剤には、ソルビトールシロップ、メチ
ルセルロース、グルコース、しょ糖シロップ、ゼラチン
、ヒドロキシエチルセルロ−ス セルロース、ステアリン酸アルミニウムゲル、食用油、
扁桃油、ココナツ油、油性エステル、ソルビタンモノオ
レエート、プロピレングリコール、グリセリン、エチル
アルコール、水等のほか、アラビアゴム、ゼラチン、レ
シチン等の乳化剤、ツイーン、スパン等の界面活性剤等
を含有してもよい。固形剤としては乳糖、しよ糖、とう
もろこし殿粉、燐W jノルシウム、ステアリン酸マグ
ネシウム、タルク、珪酸、アラビアゴム、ゼラチン、ソ
ルビトール、1へラガント、ポリビニルピロリドン、ポ
リエチレングリコール、ラウリル硫酸ナトリウム等が用
いられる。軟膏、坐剤の基剤としては例えばカカオ脂、
グリセリド類、ポリエチレングリコール類、白色ワリセ
リン等が用いられる。必要に応じて界面活性剤や吸収促
進剤を含有してもよい。
常使用される添加剤が含まれていてもよい。例えば注射
剤には注射用蒸留水、生理食塩水、リンゲル液等の溶解
液、パラオキシ安息香酸メチル、パラオキシ安息香酸プ
ロピル等の保存剤等の添加剤を含有してもよい。シロッ
プ剤、乳剤等の液剤には、ソルビトールシロップ、メチ
ルセルロース、グルコース、しょ糖シロップ、ゼラチン
、ヒドロキシエチルセルロ−ス セルロース、ステアリン酸アルミニウムゲル、食用油、
扁桃油、ココナツ油、油性エステル、ソルビタンモノオ
レエート、プロピレングリコール、グリセリン、エチル
アルコール、水等のほか、アラビアゴム、ゼラチン、レ
シチン等の乳化剤、ツイーン、スパン等の界面活性剤等
を含有してもよい。固形剤としては乳糖、しよ糖、とう
もろこし殿粉、燐W jノルシウム、ステアリン酸マグ
ネシウム、タルク、珪酸、アラビアゴム、ゼラチン、ソ
ルビトール、1へラガント、ポリビニルピロリドン、ポ
リエチレングリコール、ラウリル硫酸ナトリウム等が用
いられる。軟膏、坐剤の基剤としては例えばカカオ脂、
グリセリド類、ポリエチレングリコール類、白色ワリセ
リン等が用いられる。必要に応じて界面活性剤や吸収促
進剤を含有してもよい。
本発明の化合物(I)は細菌感染症例えば呼吸器感染症
、尿路感染症、産婦人科感染症、化膿性疾患、外f4感
染症等の治療及び予防に用いることができる。投与量は
忠者の年齢及び状態によって異なるが、通常は1日当り
1〜100m’j/Kgの範囲で使用され、1日当り5
〜30my/ Kgで2〜4回に分【ノて投与づること
が好ましい。
、尿路感染症、産婦人科感染症、化膿性疾患、外f4感
染症等の治療及び予防に用いることができる。投与量は
忠者の年齢及び状態によって異なるが、通常は1日当り
1〜100m’j/Kgの範囲で使用され、1日当り5
〜30my/ Kgで2〜4回に分【ノて投与づること
が好ましい。
次に実施例をあげて本発明を更に詳説するが、本発明は
これに限定されるものではない。
これに限定されるものではない。
裏蓋」
実施例1
(八)ペンツヒドリル 7− [(Z) −2− (1
−tert−ブトキシカルボニル− ポキシイミノ)−2− (2−トリチルアミノデアゾー
ル−4−イル)アセトアミド1−3−ヨードメチル−3
−セフェム−4−カルボキシレート 1−オキサイド ペンツヒドリル 7 − [(Z) − 2 − (
1 −tert−ブ]・キシカルボニル−1−シクロプ
ロポキシイミノ)−2− (24リヂルアミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド1−3−クロロメチル−3
=ヒフエム−4−カルボキシレート14.2g(14.
7ミリモル)を塩化メチレン280dに溶解し、水冷下
メタクロル過安息香M 2.98 CI(14.7ミリ
モル)を加え10分間iff拌した。反応溶液に10%
チオ硫酸ナトリウム水溶液60Intlを加えた後、こ
の水溶液を5%炭酸水素ナトリウム水溶液中に注ぎ、塩
化メチレンで抽出し、無水@酸ナトリウムで脱水した。
−tert−ブトキシカルボニル− ポキシイミノ)−2− (2−トリチルアミノデアゾー
ル−4−イル)アセトアミド1−3−ヨードメチル−3
−セフェム−4−カルボキシレート 1−オキサイド ペンツヒドリル 7 − [(Z) − 2 − (
1 −tert−ブ]・キシカルボニル−1−シクロプ
ロポキシイミノ)−2− (24リヂルアミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド1−3−クロロメチル−3
=ヒフエム−4−カルボキシレート14.2g(14.
7ミリモル)を塩化メチレン280dに溶解し、水冷下
メタクロル過安息香M 2.98 CI(14.7ミリ
モル)を加え10分間iff拌した。反応溶液に10%
チオ硫酸ナトリウム水溶液60Intlを加えた後、こ
の水溶液を5%炭酸水素ナトリウム水溶液中に注ぎ、塩
化メチレンで抽出し、無水@酸ナトリウムで脱水した。
減圧濃縮して得た残渣をアセトン300dに溶解した侵
、0℃でヨウ化ナトリウム4.4g(29.4ミリモル
)を加え、室温で15分間撹拌した。反応溶液に酢酸エ
チル1000dを加え、チオ硫酸ナトリウム水溶液及び
飽和食塩水で洗浄した後、有機溶媒層を無水[1ナトリ
ウムで脱水した。減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルフ
ラッシュカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−
ヘキサン−1:2)に付し、標記化合物9.52 g(
収率60%)を得た。
、0℃でヨウ化ナトリウム4.4g(29.4ミリモル
)を加え、室温で15分間撹拌した。反応溶液に酢酸エ
チル1000dを加え、チオ硫酸ナトリウム水溶液及び
飽和食塩水で洗浄した後、有機溶媒層を無水[1ナトリ
ウムで脱水した。減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルフ
ラッシュカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−
ヘキサン−1:2)に付し、標記化合物9.52 g(
収率60%)を得た。
(B)ペンツヒドリル 7− [(2) −2− (1
−tert−ブトキシカルボニル−1−シクロプロポ
キシイミノ)−2− (2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド1−3− ( 5.6−シヒ
ドロキシイソインドリンー2−イル)メチル−3−セフ
ェム−4−カルボキシレート 1−オキサイド (A)で1りた化合物2.5g(2,3ミリモル)をジ
メチルホルムアミド25−に溶解し、5.6−シヒドロ
キシイソインドリン・臭化水素酸塩0.67 g(2,
フロミリモル)及び1−リエチルアミン0.77m1
(5,52ミリモル)を加え、室温で2時間撹拌した。
−tert−ブトキシカルボニル−1−シクロプロポ
キシイミノ)−2− (2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド1−3− ( 5.6−シヒ
ドロキシイソインドリンー2−イル)メチル−3−セフ
ェム−4−カルボキシレート 1−オキサイド (A)で1りた化合物2.5g(2,3ミリモル)をジ
メチルホルムアミド25−に溶解し、5.6−シヒドロ
キシイソインドリン・臭化水素酸塩0.67 g(2,
フロミリモル)及び1−リエチルアミン0.77m1
(5,52ミリモル)を加え、室温で2時間撹拌した。
減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲルフラッシュカラムク
ロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン−3:1
)に付し、無晶形の標記化合物1.649 (収率64
%)を得た。
ロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン−3:1
)に付し、無晶形の標記化合物1.649 (収率64
%)を得た。
N)IR(DH3O−d6)δ: 1.40(911
,s)、1.30(411,m)。
,s)、1.30(411,m)。
3.20〜3.80(811,m)、5.08(111
,d、 J=411z)、 5.90(Ill、 m)
6.58(2tl、s)、 6.88(III、s)。
,d、 J=411z)、 5.90(Ill、 m)
6.58(2tl、s)、 6.88(III、s)。
7.00(111,s)、7.10〜7.60(251
1,m)、8.50〜8.90(211m) (C)ペンツヒドリル 7− [(Z) −2−(1−
tert−ブトキシカルボニル−1−シクロプロポキシ
イミノ) −2−(2−トリチルアミンチアゾール−4
−イル)アセトアミド]−3−(5,6−シヒドロキシ
ー2−メチル−2−イソインドリニウム)メチル−3−
セフェム−4−カルボキシレート ヨード塩 (B)で冑た化合物1.64 g( 1.48ミリモ
ル)をヨウ化メチル1ht7 (14.8ミリモル)に
溶解し、室)品で2.5時間放置した。減圧上過剰のヨ
ウ化メチルを留去した後、残漬をシリカゲルフラッシュ
カラムクロマ1−グラフィー(5%メタノール・塩化メ
チレン)に付し、無晶形の標記化合物1.13g(収率
61%)を得た。
1,m)、8.50〜8.90(211m) (C)ペンツヒドリル 7− [(Z) −2−(1−
tert−ブトキシカルボニル−1−シクロプロポキシ
イミノ) −2−(2−トリチルアミンチアゾール−4
−イル)アセトアミド]−3−(5,6−シヒドロキシ
ー2−メチル−2−イソインドリニウム)メチル−3−
セフェム−4−カルボキシレート ヨード塩 (B)で冑た化合物1.64 g( 1.48ミリモ
ル)をヨウ化メチル1ht7 (14.8ミリモル)に
溶解し、室)品で2.5時間放置した。減圧上過剰のヨ
ウ化メチルを留去した後、残漬をシリカゲルフラッシュ
カラムクロマ1−グラフィー(5%メタノール・塩化メ
チレン)に付し、無晶形の標記化合物1.13g(収率
61%)を得た。
NMR(D)(SO−(16)δ: 1.38(41
1,m)、1.40(9H,S)。
1,m)、1.40(9H,S)。
2、90(311,bs)、4.10 〜4、90
(811,m)、5.22(ill,d。
(811,m)、5.22(ill,d。
J=411z) 6.00(III,dd,J=4及
び711z) 6. 76(211, s)。
び711z) 6. 76(211, s)。
6、89(Ill,s)、 7.01(III,s)。
1、10〜7. 60 (2511, m)。
8、80(III,bd,J=7 11z)。
9、28(III,bs)
(D)ペンツヒドリル 7− [(Z) −2− (1
−tert−ブトキシカルボニル− ポキシイミノ)−2− (2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド1−3− ( 5.6−シ
ヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メ
チル−3−セフェム−4−カルボキシレート・ヨード塩 (C)で得た化合物1.19 ( 0.88ミリモル)
をアセトン20dに溶解し、ヨウ化カリウム0.58
9(3.5ミリモル)を加え、−5℃でアセチルクロラ
イド0.12 d ( 1.75ミリモル)を滴下し、
1時間撹拌した。反応溶液にメタ重亜硫酸ナトリウム水
溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸
ナトリウムで脱水した後、減圧上溶媒を留去し、残渣に
ついて再び上記の反応操作を行なった。上記同様の後処
理を行ない無晶形の標記化合物1.43 gを得、精製
することなく次の反応に用いた。
−tert−ブトキシカルボニル− ポキシイミノ)−2− (2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド1−3− ( 5.6−シ
ヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メ
チル−3−セフェム−4−カルボキシレート・ヨード塩 (C)で得た化合物1.19 ( 0.88ミリモル)
をアセトン20dに溶解し、ヨウ化カリウム0.58
9(3.5ミリモル)を加え、−5℃でアセチルクロラ
イド0.12 d ( 1.75ミリモル)を滴下し、
1時間撹拌した。反応溶液にメタ重亜硫酸ナトリウム水
溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸
ナトリウムで脱水した後、減圧上溶媒を留去し、残渣に
ついて再び上記の反応操作を行なった。上記同様の後処
理を行ない無晶形の標記化合物1.43 gを得、精製
することなく次の反応に用いた。
(E) 7− [(7) −2− ( 2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2− (1−カルボキシ−1−シ
クロプロポキシイミノ)アセトアミド]−3−(5.6
−シヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム
)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート (0)で得た化合物1.43gを塩化メチレン2d及び
アンソール2Idの溶液に溶解した俊、−5℃で1−リ
フルオロ酢酸5dを加え1時間撹拌した。
ゾール−4−イル)−2− (1−カルボキシ−1−シ
クロプロポキシイミノ)アセトアミド]−3−(5.6
−シヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム
)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート (0)で得た化合物1.43gを塩化メチレン2d及び
アンソール2Idの溶液に溶解した俊、−5℃で1−リ
フルオロ酢酸5dを加え1時間撹拌した。
反応溶液を減圧濃縮し、残漬を塩化メチレンに溶解し水
で抽出した。水層を逆相カラムクロマグラフィー (
Waters Pre Pack 500/C−18
: 2%テトラヒドロフラン・水)に付し、目的物を含
む分画を集め、減圧濃縮した後凍結乾燥し、標記の目的
化合物4img(前工程からの収率1.4%)を得た。
で抽出した。水層を逆相カラムクロマグラフィー (
Waters Pre Pack 500/C−18
: 2%テトラヒドロフラン・水)に付し、目的物を含
む分画を集め、減圧濃縮した後凍結乾燥し、標記の目的
化合物4img(前工程からの収率1.4%)を得た。
融点 :164℃(分解)
tR(KBr) : 3425, 1780. 16
22aR−1NOR(CF3COOI+)δ: 1.
38(411,m)、2.98(311,bs)。
22aR−1NOR(CF3COOI+)δ: 1.
38(411,m)、2.98(311,bs)。
3、 28(21, bs)、 4.20〜4、 70
(611, m)、 4. 90(ltl, d, J
=411z)、5.48(III,dd,J−4及び7
11z)、6. 50(211, s)、 6. 89
(ltls)、 8.08(Ill、bd、J=71
1z)実施例2 (へンベンツヒドリル 7− [(Z) −2−(1−
ベンツヒドリルオキシカルボニル−1−シクロブトキシ
イミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−
イル)アセトアミド1−3−クロロメチル−3−セフェ
ム−4−カルボキシレート (z)−2−(1−ベンツヒドリルオキシカルボニル−
1−シクロブトキシイミノ)−2−(2−トリチルアミ
ノチアゾール−4−イル)酢酸1.829 (2,62
ミリモル)及びベンツヒドリル7−アミノ−3−クロロ
メチル−3−1?フエムー4−カルボキシレート 1.
09 g(2,62ミリモル)を塩化メチレン40m1
に溶解した後、氷NJ下 N。
(611, m)、 4. 90(ltl, d, J
=411z)、5.48(III,dd,J−4及び7
11z)、6. 50(211, s)、 6. 89
(ltls)、 8.08(Ill、bd、J=71
1z)実施例2 (へンベンツヒドリル 7− [(Z) −2−(1−
ベンツヒドリルオキシカルボニル−1−シクロブトキシ
イミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−
イル)アセトアミド1−3−クロロメチル−3−セフェ
ム−4−カルボキシレート (z)−2−(1−ベンツヒドリルオキシカルボニル−
1−シクロブトキシイミノ)−2−(2−トリチルアミ
ノチアゾール−4−イル)酢酸1.829 (2,62
ミリモル)及びベンツヒドリル7−アミノ−3−クロロ
メチル−3−1?フエムー4−カルボキシレート 1.
09 g(2,62ミリモル)を塩化メチレン40m1
に溶解した後、氷NJ下 N。
N−ジメチルアニリン1.06 d (8,39ミリモ
ル)及びオキシ塩化リン0.26 d (2,75ミリ
モル)を滴下し、同温度で4時間撹拌した。反応溶液に
クロロボルム3(7及び水30d加え、有機層を水及び
飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで脱水、
濃縮して標記化合物残渣を得、精製することなく、次の
反応に用いた。
ル)及びオキシ塩化リン0.26 d (2,75ミリ
モル)を滴下し、同温度で4時間撹拌した。反応溶液に
クロロボルム3(7及び水30d加え、有機層を水及び
飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで脱水、
濃縮して標記化合物残渣を得、精製することなく、次の
反応に用いた。
(B)ベンツヒドリル 7− [(Z) −i (1−
ベンツヒドリルオキシカルボニル− ロブトキシイミノ)−2− (2−トリチルアミノデア
ゾール−4−イル)アt?ドアミド1−3−クロロメチ
ル−3−セフェム−4−力ルポキシレー1〜 1−オキ
サイド (A)で1!7た残漬を塩化メチレン50mに溶解し、
水冷下メタクロル過安息香酸く純度80%) 620
ml( 2.87ミリモル)を加え、20分間撹拌した
。反応溶液に塩化メチレン30ml及び5%炭酸水素す
(〜リウム水溶液を加えた後、有Fjamを分液し、水
及び飽和食塩水で洗浄した。有橢層を無水硫酸す1ヘリ
ウムで脱水した後、濃縮して標記化合物残漬を得、精製
づることなく、次の反応に用いた。
ベンツヒドリルオキシカルボニル− ロブトキシイミノ)−2− (2−トリチルアミノデア
ゾール−4−イル)アt?ドアミド1−3−クロロメチ
ル−3−セフェム−4−力ルポキシレー1〜 1−オキ
サイド (A)で1!7た残漬を塩化メチレン50mに溶解し、
水冷下メタクロル過安息香酸く純度80%) 620
ml( 2.87ミリモル)を加え、20分間撹拌した
。反応溶液に塩化メチレン30ml及び5%炭酸水素す
(〜リウム水溶液を加えた後、有Fjamを分液し、水
及び飽和食塩水で洗浄した。有橢層を無水硫酸す1ヘリ
ウムで脱水した後、濃縮して標記化合物残漬を得、精製
づることなく、次の反応に用いた。
(C)ペンツヒドリル 7− [(Z)−2−(1 −
ベンツヒドリルオキシカルボニル−1−シクロブトキシ
イミノ)〜2−(2−1−リヂルアミノチアゾールー4
ーイル)アセi〜アミド]=3ーヨートメデル−3−セ
フェム−4−力ルポキシレート 1−オキサイド (B)で+qた残漬をアセミーン40dに溶解し、ヨウ
化ナトリウム870Rg( 2.62ミリモル)を加え
、空温で30分間1異拌した。反応溶液に酢酸エチル1
20IR1及び5%チチオMナトリウム20dを加え分
液した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水
硫酸ナトリウムで脱水し減圧下濃縮した。濃縮残漬をシ
リカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー(酢酸エ
チル二〇ーヘキサン−1:2)に付し、目的物を含む分
画を集め、減圧濃縮し残漬にイソプロピルエーテルを加
え粉末状の標記化合物2.63 9 (Aからの収率8
3,1%)を得た。
ベンツヒドリルオキシカルボニル−1−シクロブトキシ
イミノ)〜2−(2−1−リヂルアミノチアゾールー4
ーイル)アセi〜アミド]=3ーヨートメデル−3−セ
フェム−4−力ルポキシレート 1−オキサイド (B)で+qた残漬をアセミーン40dに溶解し、ヨウ
化ナトリウム870Rg( 2.62ミリモル)を加え
、空温で30分間1異拌した。反応溶液に酢酸エチル1
20IR1及び5%チチオMナトリウム20dを加え分
液した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水
硫酸ナトリウムで脱水し減圧下濃縮した。濃縮残漬をシ
リカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー(酢酸エ
チル二〇ーヘキサン−1:2)に付し、目的物を含む分
画を集め、減圧濃縮し残漬にイソプロピルエーテルを加
え粉末状の標記化合物2.63 9 (Aからの収率8
3,1%)を得た。
IR(KBr) : 1800,1730,1690
,1520,1495,1450。
,1520,1495,1450。
f370cIt−1
Nun(DHSO−d6)δ: 2.00(211,
i)、 2.45(411,m)。
i)、 2.45(411,m)。
3、90(211,m)、4.25(2tl,ABq)
J=911Z)、 5. 10(111, d, J=
5117)5、95 (ill,dd,J=5及び91
1z)6、 78Hlf, s)、 6. 85(II
I, s)。
J=911Z)、 5. 10(111, d, J=
5117)5、95 (ill,dd,J=5及び91
1z)6、 78Hlf, s)、 6. 85(II
I, s)。
1、 00(Ill, s)、 7. 30(3511
, ml。
, ml。
8、87(111,d,J=911z)、 8.82
(tit,bs) (D)ベンツヒドリル アー[(Z) −2− (1
−ベンツヒドリルオキシカルボニル− ロブトキシイミノ”)−2− (2−トリチルアミノチ
アゾール−4−イル)アセトアミド1−3−(5.6−
シヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)
メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート 1−オ
キサイド・ヨード塩 5、6−シヒドロキシー2−メチルイソインドリン4B
11#t!F ( 2.80ミリモル)を酢酸ブチル2
6成に懸濁し、N.O−ビストリメチルシリルアセトア
ミド1,4雇( 5.62ミリモル)を加え、50℃で
30分間撹拌した後水冷した。この溶液を(C)で得た
粉末2.59 9 ( 2.16ミリモル)を含む酢酸
ブチル溶液2hteに、水冷下一度に加え同温度で3時
間撹拌した。反応溶液をそのままシリカゲルフラッシュ
カラムクロマトグラフィー(4%メタノール・塩化メチ
レン)に付し、粉末状の標記化合物を1.609 (収
率54,3%)を得た。
(tit,bs) (D)ベンツヒドリル アー[(Z) −2− (1
−ベンツヒドリルオキシカルボニル− ロブトキシイミノ”)−2− (2−トリチルアミノチ
アゾール−4−イル)アセトアミド1−3−(5.6−
シヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)
メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート 1−オ
キサイド・ヨード塩 5、6−シヒドロキシー2−メチルイソインドリン4B
11#t!F ( 2.80ミリモル)を酢酸ブチル2
6成に懸濁し、N.O−ビストリメチルシリルアセトア
ミド1,4雇( 5.62ミリモル)を加え、50℃で
30分間撹拌した後水冷した。この溶液を(C)で得た
粉末2.59 9 ( 2.16ミリモル)を含む酢酸
ブチル溶液2hteに、水冷下一度に加え同温度で3時
間撹拌した。反応溶液をそのままシリカゲルフラッシュ
カラムクロマトグラフィー(4%メタノール・塩化メチ
レン)に付し、粉末状の標記化合物を1.609 (収
率54,3%)を得た。
[R(KBr) : 1790,1730,1660
,1520,1450,1390゜1350、1300
.1250.1150 cm −1(E)ベンツヒドリ
ル 7− [(Z) −2−(1−ベンツヒドリルオキ
シカルボニル− ロブトキシイミノ)−2− (2−トリチルアミノチア
ゾール−4−イル)アセトアミド]−3−(5.6−シ
ヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メ
チル−3−セフェム−4−カルボキシレート・ヨード塩
CD)で得た粉末1.60 g( 1.17ミリモル)
をアセトン35mlに溶解し、ヨウ化カリウム914■
(5.85ミリモル)を加え、−20℃でアセチルクロ
ライド0.21 d ( 2.93ミリモル)を滴下し
た。
,1520,1450,1390゜1350、1300
.1250.1150 cm −1(E)ベンツヒドリ
ル 7− [(Z) −2−(1−ベンツヒドリルオキ
シカルボニル− ロブトキシイミノ)−2− (2−トリチルアミノチア
ゾール−4−イル)アセトアミド]−3−(5.6−シ
ヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メ
チル−3−セフェム−4−カルボキシレート・ヨード塩
CD)で得た粉末1.60 g( 1.17ミリモル)
をアセトン35mlに溶解し、ヨウ化カリウム914■
(5.85ミリモル)を加え、−20℃でアセチルクロ
ライド0.21 d ( 2.93ミリモル)を滴下し
た。
1時間撹拌した後、ヨウ化カリウム974η(5.85
ミリモル)及びアセチルクロライド0.21 #ti!
( 2.93ミリモル)を加え、1時間撹拌した。反応
溶液に塩化メチレン140d及び5%メタ重亜硫酸ナト
リウム水溶液35rdを加え分液した。有機層を水及び
飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで脱水し
、Q縮して標記化合物の残漬を冑、精製することなく次
の反応に用いた。
ミリモル)及びアセチルクロライド0.21 #ti!
( 2.93ミリモル)を加え、1時間撹拌した。反応
溶液に塩化メチレン140d及び5%メタ重亜硫酸ナト
リウム水溶液35rdを加え分液した。有機層を水及び
飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで脱水し
、Q縮して標記化合物の残漬を冑、精製することなく次
の反応に用いた。
(r)7−[(7)−2− (2−アミノチアゾール−
4−イル)−2− (1−カルボキシ−1−シフロブ1
−キシイミノ)アセトアミド]−3− ( 5.6−シ
ヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メ
チル−3−セフェム−4−カルボキシレート (E)で得た残漬をアニソール1.6rnl及び塩化メ
チレン137に溶解し、水冷下、トリフルオロ酢酸16
dと塩化メチレン3dの溶液を20分間で滴下した。同
温度で1時間撹拌した後減圧下に溶媒を留去した。残留
物に酢酸エチル30Id!を加え減圧下に濃縮したくこ
の操作を2回繰り返した)。この残留物に′Fii 酸
エチル40!nlを加え、不溶物を濾取した。
4−イル)−2− (1−カルボキシ−1−シフロブ1
−キシイミノ)アセトアミド]−3− ( 5.6−シ
ヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メ
チル−3−セフェム−4−カルボキシレート (E)で得た残漬をアニソール1.6rnl及び塩化メ
チレン137に溶解し、水冷下、トリフルオロ酢酸16
dと塩化メチレン3dの溶液を20分間で滴下した。同
温度で1時間撹拌した後減圧下に溶媒を留去した。残留
物に酢酸エチル30Id!を加え減圧下に濃縮したくこ
の操作を2回繰り返した)。この残留物に′Fii 酸
エチル40!nlを加え、不溶物を濾取した。
この不溶物を95%ギ酸35fd.に溶解し40℃で1
時間撹拌した後減圧下に濃縮した。残留物に酢酸エチル
40dを加え不溶物を濾取した。この不溶物に水1 0
0InIlを加え30分間撹拌した後不溶物を濾別()
、濾液を逆相カラムクロマトグラフィー( ODS,
100d;吸着、水洗後、2%テトラヒドロフラン・水
)にて精製し、″減圧下に有機溶媒を留去した侵、凍結
乾燥して標記化合物46my(Eからの収率6.4%)
を得た。
時間撹拌した後減圧下に濃縮した。残留物に酢酸エチル
40dを加え不溶物を濾取した。この不溶物に水1 0
0InIlを加え30分間撹拌した後不溶物を濾別()
、濾液を逆相カラムクロマトグラフィー( ODS,
100d;吸着、水洗後、2%テトラヒドロフラン・水
)にて精製し、″減圧下に有機溶媒を留去した侵、凍結
乾燥して標記化合物46my(Eからの収率6.4%)
を得た。
融点 :157℃(分解)
IR(KBr) : 1775,1660,162
0,1540,1400。
0,1540,1400。
1350cm−1
NMR(DHSO−d6)δ: 1.90(211,
IR)、2.40(4H,m)。
IR)、2.40(4H,m)。
3、05(311,bs)、5. 15(lit,d。
J=511z)、5.80(III,dd,J=5及び
911z)、 6. 90(3tl, s)、 9.
70(ltl, d, J=911z) 実施例3 (八)ペンツヒドリル 7−[(Z) −2− (1
−ベンツヒドリルオキシカルボニル− ロペンチルオキシイミノ)−2− (2−トリチルアミ
ノチアゾール−4−イル)アセトアミド]−3−(5.
6−シヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウ
ム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート 1
−オキサイド・ヨード塩 5、6−シヒドロキシー2−メチルイソインドリン51
7q ( 3.13ミリモル)を酢酸ブチル26dに懸
濁し、N,O−ビストリメチルシリルアセトアミド1.
5d ( 6.26ミリモル)を加え、50℃で30分
間撹拌した侵水冷した。この溶液を実施例2(A)、(
B)及び(C)と同様の操作を行なって得たペンツヒド
リル 7− [(7)−2−(1−ベンツヒドリルオキ
シカルボニル−1−シクロペンチルオキシイミノ)−2
−(2−1−クチルアミノチアゾール−4ーイル)アセ
トアミド]−3−ヨードメチル−3−セフェム−4−カ
ルボキシレート 1−オキサイド2.92 g( 2.
41ミリモル)を含む酢酸ブチル溶液26dに、水冷下
一度に加え同温度で3時間撹拌した。反応溶液をそのま
まシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー(5
%メタノール・塩化メチレン)に付し、粉末状の標記化
合物1.48 9 (収率44.6%)を得た。
911z)、 6. 90(3tl, s)、 9.
70(ltl, d, J=911z) 実施例3 (八)ペンツヒドリル 7−[(Z) −2− (1
−ベンツヒドリルオキシカルボニル− ロペンチルオキシイミノ)−2− (2−トリチルアミ
ノチアゾール−4−イル)アセトアミド]−3−(5.
6−シヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウ
ム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート 1
−オキサイド・ヨード塩 5、6−シヒドロキシー2−メチルイソインドリン51
7q ( 3.13ミリモル)を酢酸ブチル26dに懸
濁し、N,O−ビストリメチルシリルアセトアミド1.
5d ( 6.26ミリモル)を加え、50℃で30分
間撹拌した侵水冷した。この溶液を実施例2(A)、(
B)及び(C)と同様の操作を行なって得たペンツヒド
リル 7− [(7)−2−(1−ベンツヒドリルオキ
シカルボニル−1−シクロペンチルオキシイミノ)−2
−(2−1−クチルアミノチアゾール−4ーイル)アセ
トアミド]−3−ヨードメチル−3−セフェム−4−カ
ルボキシレート 1−オキサイド2.92 g( 2.
41ミリモル)を含む酢酸ブチル溶液26dに、水冷下
一度に加え同温度で3時間撹拌した。反応溶液をそのま
まシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー(5
%メタノール・塩化メチレン)に付し、粉末状の標記化
合物1.48 9 (収率44.6%)を得た。
IR(にBr) :1800,1730,1670,
1520,1450.t300゜1250,1170,
1060,1030,845,750゜700 cm
−1 (B)ベンツヒドリル 7− [(Z) −2−(1−
ベンツヒドリルオキシカルボニル−1−シクロペンチル
オキシイミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド]−3−(5,6−シヒドロ
キシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メチル−
3−セフェム−4−カルボキシレート・ヨード塩 (A)で得た粉末1.48 (j (1,07ミリモル
)をアセトン30−に溶解し、ヨウ化カリウム890■
(5,37ミリモル)を加え、−20℃でアセチルクロ
ライド0.19 d (2,69ミリモル)を滴下した
。
1520,1450.t300゜1250,1170,
1060,1030,845,750゜700 cm
−1 (B)ベンツヒドリル 7− [(Z) −2−(1−
ベンツヒドリルオキシカルボニル−1−シクロペンチル
オキシイミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド]−3−(5,6−シヒドロ
キシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メチル−
3−セフェム−4−カルボキシレート・ヨード塩 (A)で得た粉末1.48 (j (1,07ミリモル
)をアセトン30−に溶解し、ヨウ化カリウム890■
(5,37ミリモル)を加え、−20℃でアセチルクロ
ライド0.19 d (2,69ミリモル)を滴下した
。
1時間撹拌した後ヨウ化カリウム890#1g(5,3
7ミリモルン及びアセチルクロライド0.19 d(2
゜69ミリモル)を更に加え、1時間撹拌した。反応溶
液に塩化メチレン120−及び5%メタ重亜(a酸ナト
リウム水溶液30dを加え分液した。有機層を水及び飽
和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで脱水し、
濃縮して標記化合物の残漬を得、精製することなく次の
反応に用いた。
7ミリモルン及びアセチルクロライド0.19 d(2
゜69ミリモル)を更に加え、1時間撹拌した。反応溶
液に塩化メチレン120−及び5%メタ重亜(a酸ナト
リウム水溶液30dを加え分液した。有機層を水及び飽
和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで脱水し、
濃縮して標記化合物の残漬を得、精製することなく次の
反応に用いた。
IR(KBr) : t790,1730,1680
,1520,1495,1450゜1180.1000
.750.700α−1(C)7− [(Z)−2−(
2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(1−カルボ
キシ−1−シクロペンデルオキシイミノ)アセトアミド
フ−3−(5,6−シヒドロキシー2−メチル−2−イ
ソインドリニウム)メチル−3−セフェム−4−カルボ
キシレート (B)で)りた残漬をアニソール1.5m及び塩化メチ
レン10dに溶解し、水冷下、トリフルオロ酢酸15d
と塩化メチレン5dの溶液を15分間で滴下した。同温
度で1時間tj1.拝した後減圧下に溶媒を留去した。
,1520,1495,1450゜1180.1000
.750.700α−1(C)7− [(Z)−2−(
2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(1−カルボ
キシ−1−シクロペンデルオキシイミノ)アセトアミド
フ−3−(5,6−シヒドロキシー2−メチル−2−イ
ソインドリニウム)メチル−3−セフェム−4−カルボ
キシレート (B)で)りた残漬をアニソール1.5m及び塩化メチ
レン10dに溶解し、水冷下、トリフルオロ酢酸15d
と塩化メチレン5dの溶液を15分間で滴下した。同温
度で1時間tj1.拝した後減圧下に溶媒を留去した。
残留物に酢酸エチル30dを加え減圧下に濃縮した(こ
の操作を2回繰り返した)。この残留物に酢酸エチル4
0dを加え不溶物を濾取した。
の操作を2回繰り返した)。この残留物に酢酸エチル4
0dを加え不溶物を濾取した。
この不溶物を95%ギ酎3耐rdに溶解し、40℃で1
時間撹拌した後濃縮した。残留物に酢酸エチル40In
lを加え不溶物を濾取した。この不溶物に水100m1
を加え30分撹拌した後不溶物を濾別し、濾液を逆相カ
ラムクロマトグラフィー(oos、ioo Inl;吸
着、水洗後、3%テトラヒドロフラン・水)にて精製し
、減圧下に有機溶媒を留去した後、凍結乾燥して標記化
合物75IRg(Aからの収率10,6%)を得た。
時間撹拌した後濃縮した。残留物に酢酸エチル40In
lを加え不溶物を濾取した。この不溶物に水100m1
を加え30分撹拌した後不溶物を濾別し、濾液を逆相カ
ラムクロマトグラフィー(oos、ioo Inl;吸
着、水洗後、3%テトラヒドロフラン・水)にて精製し
、減圧下に有機溶媒を留去した後、凍結乾燥して標記化
合物75IRg(Aからの収率10,6%)を得た。
融点 :165℃(分解)
In(KBr) : 1775,16G0,162
0,1540,1400,1350゜1200、100
0cm −1 N)fF?(DNSO−d 6 ン δ : ?、
70(411,m)、2.70(411,m)。
0,1540,1400,1350゜1200、100
0cm −1 N)fF?(DNSO−d 6 ン δ : ?、
70(411,m)、2.70(411,m)。
3.05(311,bs)、5.15(111,d。
J=511z)、5.75(lfl、dd、J−5及び
911z)、 6.80(311,s)、 9.701
11、d、 J−911z) 実施例4 (八)ペンツヒドリル 7−[(Z)−2−シクロペン
チルオキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド]−3−(5,6−シヒド
ロキシイソインドリンー2−イル)−3−セフェム−4
−カルボキシレート 1−オキサイド ペンツヒドリル 7−[(Z)−2−シクロペンチルオ
キシイミノ)−2−(2−1−ジチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド1−3−ヨードメチル−3−
セフェム−4−カルボキシレート をジメチルホルムアミド26.4mに溶解し、5.6−
。
911z)、 6.80(311,s)、 9.701
11、d、 J−911z) 実施例4 (八)ペンツヒドリル 7−[(Z)−2−シクロペン
チルオキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド]−3−(5,6−シヒド
ロキシイソインドリンー2−イル)−3−セフェム−4
−カルボキシレート 1−オキサイド ペンツヒドリル 7−[(Z)−2−シクロペンチルオ
キシイミノ)−2−(2−1−ジチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド1−3−ヨードメチル−3−
セフェム−4−カルボキシレート をジメチルホルムアミド26.4mに溶解し、5.6−
。
ジヒドロキシイソインドリン・臭化水素酸塩0.649
(2,65ミリモル)を加えた後、トリエチルアミン
0.74 d (5,30ミリモル)を室温で滴下した
。反応溶液を1時間撹拌した後、減圧下にジメチルホル
ムアミドを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン=3 : 1 )
にて精製し、標記化合物1.42 g(収率52%)を
得た。
(2,65ミリモル)を加えた後、トリエチルアミン
0.74 d (5,30ミリモル)を室温で滴下した
。反応溶液を1時間撹拌した後、減圧下にジメチルホル
ムアミドを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン=3 : 1 )
にて精製し、標記化合物1.42 g(収率52%)を
得た。
NHR(0830−d6)δ: 1.70 (811
,n+)、3.10〜4、10(811,m)、 4.
70(III、 m)。
,n+)、3.10〜4、10(811,m)、 4.
70(III、 m)。
5、10(tit、d、J=51tz)、5.90(I
II、dd、J=5及び811z)、 6.60(21
1,bs)、 6.83<III、 s)、1.01(
1,+1. S)、 7.10〜7.80(2511゜
m)、 8.56(111,bd; J−811z)(
B)ペンツヒドリル 7−[(Z)−2−シクロペンデ
ルオキシイミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド>3−(5,6−シヒドロ
キシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メチル−
3−セフェム−4−カルボキシレート 1−オキサイド
・ヨード塩 (八)で得た化合物1.42 g(1,38ミリモル)
をヨウ化メチル14d (225ミリモル)に溶解し、
空温で16時間放置した。反応溶液を減圧上濃縮し、残
)古をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(5%メタ
ノール・塩化メチレン)にて精製し標記化合物1.25
Lj(収率17%)を得た。
II、dd、J=5及び811z)、 6.60(21
1,bs)、 6.83<III、 s)、1.01(
1,+1. S)、 7.10〜7.80(2511゜
m)、 8.56(111,bd; J−811z)(
B)ペンツヒドリル 7−[(Z)−2−シクロペンデ
ルオキシイミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド>3−(5,6−シヒドロ
キシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メチル−
3−セフェム−4−カルボキシレート 1−オキサイド
・ヨード塩 (八)で得た化合物1.42 g(1,38ミリモル)
をヨウ化メチル14d (225ミリモル)に溶解し、
空温で16時間放置した。反応溶液を減圧上濃縮し、残
)古をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(5%メタ
ノール・塩化メチレン)にて精製し標記化合物1.25
Lj(収率17%)を得た。
NHII(DH3O−d6)δ: 1.70(811
,m)、2.90(311,bs)。
,m)、2.90(311,bs)。
3.42(211,bs)、4.20(III、m)。
4.60(6H,m)、5.20(111,d、J−5
11z)、5.98(Ill、dd、J=5及び711
z)、6.77(211,bs)、6.80(11f、
s)、 7.03(Ill、 s)、 7.10〜7
.80(251!、m)、8.86(111,bd。
11z)、5.98(Ill、dd、J=5及び711
z)、6.77(211,bs)、6.80(11f、
s)、 7.03(Ill、 s)、 7.10〜7
.80(251!、m)、8.86(111,bd。
J=7112)
(C)ペンツヒドリル 7−[(1)−2−シクロペン
チルオキシイミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾ
ール−4−イル)アセトアミド]−3−(5,6−シヒ
ドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メチ
ル−3−セフェム−4−カルボキシレート−・ヨード塩
(8)で冑た化合物1.25 g(1,07ミリモル)
をアセトン25d (1,07ミリモル)に溶解した後
、ヨウ化カリウム0.71 g(4,28ミリモル)を
加え、0℃でアセチルクロライド0.15 d (2,
14ミリモル)を滴下した。反応溶液を0℃で1時間撹
拌した後、水冷したメタ重亜硫酸す]ヘリウム水溶液に
注ぎ、酢酸エチルで抽出し粗製の標記化合物残漬を精¥
Fj−Jることなく次工程に用いた。
チルオキシイミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾ
ール−4−イル)アセトアミド]−3−(5,6−シヒ
ドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メチ
ル−3−セフェム−4−カルボキシレート−・ヨード塩
(8)で冑た化合物1.25 g(1,07ミリモル)
をアセトン25d (1,07ミリモル)に溶解した後
、ヨウ化カリウム0.71 g(4,28ミリモル)を
加え、0℃でアセチルクロライド0.15 d (2,
14ミリモル)を滴下した。反応溶液を0℃で1時間撹
拌した後、水冷したメタ重亜硫酸す]ヘリウム水溶液に
注ぎ、酢酸エチルで抽出し粗製の標記化合物残漬を精¥
Fj−Jることなく次工程に用いた。
(D)7− [(Z)−2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−シクロベシチルオキシイミノアセトア
ミド]−3−(5,6−シヒドロキシー2−メチル−2
−イソインドリニウム)メチル−3−廿フエムー4−カ
ルボキシレート (C)で1qた残渣を塩化メチレン2−及びアニソール
2dに溶解した後、水冷下トリフルオロ酢酸5rnIl
を滴下した。反応溶液を1時間撹拌した後、減圧上濃縮
し残漬に酢酸エチル及び水を加えた。
4−イル)−2−シクロベシチルオキシイミノアセトア
ミド]−3−(5,6−シヒドロキシー2−メチル−2
−イソインドリニウム)メチル−3−廿フエムー4−カ
ルボキシレート (C)で1qた残渣を塩化メチレン2−及びアニソール
2dに溶解した後、水冷下トリフルオロ酢酸5rnIl
を滴下した。反応溶液を1時間撹拌した後、減圧上濃縮
し残漬に酢酸エチル及び水を加えた。
水層を濃縮したのもODSカラムクロマトグラフィー
(Bondapack : 30%メタノール・水)で
精製し、標記化合物196ay (前工程からの収率3
0%)を1qた。
(Bondapack : 30%メタノール・水)で
精製し、標記化合物196ay (前工程からの収率3
0%)を1qた。
融点 =159℃(分解)
111(KBr) : 3425,1775.16
t9 cm−1N)IR(CF3COOI+)δ:
1.40(411,m)、1.51(411,m)。
t9 cm−1N)IR(CF3COOI+)δ:
1.40(411,m)、1.51(411,m)。
2.97(311,bs)、3.40(211,bs)
4、47(711,n)、 4.90(ill、 d、
J=511z)、5.48(111,dd、J=5及
び7tlz)、6.49(2tl、bs)、6.89(
III、 s)、 8.11 (ill、 bd、 J
=711z)参考例 ペンツヒドリル 3−ヨードメチル−7−[(2)−2
−メトキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド]−3−セフェム−4−カ
ルボキシレート 1−オキサイド及び2−メチルイソイ
ンドリンを用い、実施例1〜3に記載したと同様な方法
で7−[(7)−2−(2−アミノデアゾール−4−イ
ル)−2−メ1〜キシイミノアセトアミド] −3−(
2−メチル−2−イソインドリニウム)メチル−3−セ
フェム−4−カルボキシレートを得た。
4、47(711,n)、 4.90(ill、 d、
J=511z)、5.48(111,dd、J=5及
び7tlz)、6.49(2tl、bs)、6.89(
III、 s)、 8.11 (ill、 bd、 J
=711z)参考例 ペンツヒドリル 3−ヨードメチル−7−[(2)−2
−メトキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド]−3−セフェム−4−カ
ルボキシレート 1−オキサイド及び2−メチルイソイ
ンドリンを用い、実施例1〜3に記載したと同様な方法
で7−[(7)−2−(2−アミノデアゾール−4−イ
ル)−2−メ1〜キシイミノアセトアミド] −3−(
2−メチル−2−イソインドリニウム)メチル−3−セ
フェム−4−カルボキシレートを得た。
融点 =150℃(分解)
IR(にBr) : 1770.1660.162
0.1530.1345゜1030c!R−1 NHR(D 20)δ: 3.23(311,s)、
3.98(311,s)、5.16(III、 d、
J−4,511z)、 5.76(11I、 d、 J
讃4、511z)、 6.93(ltl、 s)、 7
.38(411゜bs) 発m九里 本発明の化合物は感受性並びに耐性のグラム陰性菌及び
グラム陰性菌、特に耐性のシュードモナス・エルギノー
ザ、シュードモナス・セパシア、アネシトバクター・カ
ルコアセティカス等に強い抗菌力を示し、細菌感染症治
療薬として期待される。特に7位の側鎖として2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)−2−置換オキシイミ
ノアセチル基を有し、3位に2−メチル−5,6−ジ置
換イソインドリニウムメチル基を右づる化合物(実施例
1 (E) 、 2(F) 、 3(C)及び4(D)
)は強い抗菌活性を示す。
0.1530.1345゜1030c!R−1 NHR(D 20)δ: 3.23(311,s)、
3.98(311,s)、5.16(III、 d、
J−4,511z)、 5.76(11I、 d、 J
讃4、511z)、 6.93(ltl、 s)、 7
.38(411゜bs) 発m九里 本発明の化合物は感受性並びに耐性のグラム陰性菌及び
グラム陰性菌、特に耐性のシュードモナス・エルギノー
ザ、シュードモナス・セパシア、アネシトバクター・カ
ルコアセティカス等に強い抗菌力を示し、細菌感染症治
療薬として期待される。特に7位の側鎖として2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)−2−置換オキシイミ
ノアセチル基を有し、3位に2−メチル−5,6−ジ置
換イソインドリニウムメチル基を右づる化合物(実施例
1 (E) 、 2(F) 、 3(C)及び4(D)
)は強い抗菌活性を示す。
Claims (4)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R^1はカルボキシル基により置換されていても
よい環状の低級アルキル基、R^2、R^3及びR^4
は同一でも異なってもよく、それぞれ水素原子、水酸基
、メトキシ基又はアセトキシ基を示す)で表わされる化
合物、その塩又は生理的に加水分解可能なそのエステル
。 - (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中R^5は水素原子又はアミノ保護基、R^6は水
素原子又はカルボキシル保護基、R^7は保護されたカ
ルボキシル基により置換されていてもよい環状の低級ア
ルキル基、Xはハロゲン原子又は脱離基、YはS又はS
Oを示す)で表わされる化合物又はその塩を、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中R^8、R^9及びR^1^0は同一でも異なっ
てもよく、それぞれ水素原子、保護されていてもよい水
酸基、メトキシ基又はアセトキシ基、R^1^1は水素
原子又はメチル基を示す)で表わされるアミンと反応さ
せて、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中R^5、R^6、R^7、R^8、R^9、R^
1^0、R^1^1およびYは前記の意味を有し、X^
■は陰イオンを示す)で表わされる化合物となし、これ
を必要に応じ、メチル化及び/又は還元したのち、保護
基を除去することを特徴とする、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中R^1はカルボキシル基により置換されていてもよ
い環状の低級アルキル基、R^2、R^3及びR^4は
同一でも異なってもよく、それぞれ水素原子、水酸基、
メトキシ基又はアセトキシ基を示す)で表わされる化合
物、その塩又は生理的に加水分解可能なそのエステルの
製法。 - (3)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(V) (式中R^6は水素原子又はカルボキシル保護基、R^
8、R^9およびR^1^0は同一でも異なってもよく
それぞれ水素原子、保護されていてもよい水酸基、メト
キシ基又はアセトキシ基、X^■は陰イオンを示す)で
表わされる化合物、その塩又はそのシリル化合物を、一
般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) (式中R^5は水素原子又はアミノ保護基、R^7は保
護されたカルボキシル基により置換されていてもよい環
状の低級アルキル基を示す)で表わされるカルボン酸の
反応性誘導体によりアシル化して、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) (式中R^5、R^6、R^7、R^8、R^9、R^
1^0及びX^■は前記の意味を有する)で表わされる
化合物となし、次いで保護基を除去することを特徴とす
る、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R^1はカルボキシル基により置換されていても
よい環状の低級アルキル基、R^2、R^3及びR^4
は同一でも異なってもよく、それぞれ水素原子、水酸基
、メトキシ基又はアセトキシ基を示す)で表わされる化
合物、その塩又は生理的に加水分解可能なそのエステル
の製法。 - (4)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R^1はカルボキシル基により置換されていても
よい環状の低級アルキル基、R^2、R^3及びR^4
は同一でも異なってもよく、それぞれ水素原子、水酸基
、メトキシ基又はアセトキシ基を示す)で表わされる化
合物、その塩又は生理的に加水分解可能なそのエステル
を有効成分として含有する抗菌剤。
Priority Applications (14)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60171839A JPH0645629B2 (ja) | 1985-08-06 | 1985-08-06 | 新規セフアロスポリン誘導体 |
EP85116502A EP0186187B1 (en) | 1984-12-27 | 1985-12-23 | Cephalosporin derivatives |
DE8585116502T DE3585434D1 (de) | 1984-12-27 | 1985-12-23 | Cephalosporinverbindungen. |
ES550369A ES8704943A1 (es) | 1984-12-27 | 1985-12-23 | Un procedimiento para la fabricacion de derivados de cefalosporina. |
DE3587997T DE3587997D1 (de) | 1984-12-27 | 1985-12-23 | Isoindolinderivate. |
CA000498490A CA1267647A (en) | 1984-12-27 | 1985-12-23 | Cephalosporin derivatives |
EP91110486A EP0452987B1 (en) | 1984-12-27 | 1985-12-23 | Isoindoline derivatives |
US06/813,614 US4677100A (en) | 1984-12-27 | 1985-12-26 | Cephalosporin derivatives |
CN85109769A CN1013274B (zh) | 1984-12-27 | 1985-12-26 | 头孢菌素衍生物的制备方法 |
KR1019850009834A KR930005589B1 (ko) | 1984-12-27 | 1985-12-26 | 세팔로스포린 유도체의 제조방법 |
ES557051A ES8801288A1 (es) | 1984-12-27 | 1986-09-03 | Un procedimiento para la preparacion de derivados de cefalosporina |
US07/064,462 US4883868A (en) | 1984-12-27 | 1987-06-22 | 7-amino-3-(substituted isoindolinium)methyl-3-cephem derivatives |
US07/315,917 US4959469A (en) | 1984-12-27 | 1989-02-27 | Crystalline cephalosporin compounds |
US07/522,817 US5068322A (en) | 1984-12-27 | 1990-05-14 | Crystalline cephalosporin compounds |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60171839A JPH0645629B2 (ja) | 1985-08-06 | 1985-08-06 | 新規セフアロスポリン誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6233187A true JPS6233187A (ja) | 1987-02-13 |
JPH0645629B2 JPH0645629B2 (ja) | 1994-06-15 |
Family
ID=15930711
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60171839A Expired - Lifetime JPH0645629B2 (ja) | 1984-12-27 | 1985-08-06 | 新規セフアロスポリン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0645629B2 (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59219292A (ja) * | 1983-03-30 | 1984-12-10 | Bristol Mayers Kenkyusho Kk | 有機化合物 |
-
1985
- 1985-08-06 JP JP60171839A patent/JPH0645629B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59219292A (ja) * | 1983-03-30 | 1984-12-10 | Bristol Mayers Kenkyusho Kk | 有機化合物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0645629B2 (ja) | 1994-06-15 |
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