JPS6233187A - 新規セフアロスポリン誘導体 - Google Patents

新規セフアロスポリン誘導体

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JPS6233187A
JPS6233187A JP60171839A JP17183985A JPS6233187A JP S6233187 A JPS6233187 A JP S6233187A JP 60171839 A JP60171839 A JP 60171839A JP 17183985 A JP17183985 A JP 17183985A JP S6233187 A JPS6233187 A JP S6233187A
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hydrogen atom
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晋 中川
Ryosuke Ushijima
牛嶋 良輔
Fumio Nakano
文雄 中野
Koji Yamada
耕司 山田
Eiichi Mano
栄一 真野
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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  • Cephalosporin Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は新規なセファロスポリン誘導体に関するもので
ある。
β−ラクタム抗生物質は、細菌にのみ選択毒性を示し、
動物細胞に対しては影響を与えないことから、副作用の
少ない抗生物質として細菌による感染症の予防並びに治
療に徂要な役割を果たしている。特にセファ0スポリン
誘導体は一般にぺ二シリナーゼに対して安定であり、そ
の抗菌スペクトルが広く、細菌感染症の予防並びに治療
に供せられる頻度も多い。
従来技術 4級アンモニウム塩構造を有するセファロスポリン誘導
体の記載された公開技術としては、たとえば、特開昭5
3−53690号、同55−59196号、同58−1
74387号及び同58−198490M等が掲げられ
る。
現在セフオタキシム(cefotax ime)アンテ
ィマイクロビアル エイジェント アンドケモテラピイ
(Antimicrobia! A(lents an
d CheQIOtherapy、14749(197
8)]等、第三11!代と呼ばれるセファロスポリン誘
導体、はグラム陽性菌、グラム陽性菌、特に腸内細菌群
に滑れた抗菌力を示ず。
セフタジブイム(cet’taz id ime)アン
ティマイクロビアル エイジェント アンドケモテラビ
イ(Antimicrobial A(lents a
n(I C11elllOtherapy、17876
(1980))はシュードモナス・エルギノーザ(PS
elldOfflOnaS aerll(IinO3a
)及びアシネトバクタ−(ACinetObaCtf3
r)に対して、これまで知られている中で最も優れたセ
ファロスポリン;人導体である。
発明が解決しようとする問題点 既存のセファ0スポリンMm体は、種々の耐性の機構を
もつ耐性のブドウ球菌又は耐性のシュードモナス・エル
ギノーザ(Pseudomonas aerugin。
Sa)、アシネトバクタ−・カルコアセティカス(Ac
inetobacter calcoaceticus
)、セラチア−?ルセッlzンス(serrat;a 
marcescens)等のブドウ糖非醗酵グラム陰性
桿菌に対する抗菌活性が低い。。
従って、これらの菌による難治性感染症の治療のために
、より強力で広範囲のスペクトルをもつ新規セファロス
ポリン誘導体が求められている。
また、前掲のセフォタキシム等、第3世代と呼ばれるセ
ファ0スポリン誘導体は、グラム陽性菌、グラム陽性菌
、特に腸内細菌群に優れた抗菌力を示すが、シュードモ
ナス及びアシネトバクタ−に強力な抗菌作用を示すもの
は稀である。したがって、これらの菌、あるいはこれら
の菌と他の菌との混合感染による小篤な感染症の治療に
、もっと強力で有効な治療薬が望まれている。さらには
、前掲のセフタジブイムには、耐性菌が存在し、かなら
ずしも満足なものではない。
問題を解決するための手段 本発明者らは、セフェム(cephem)3位に2−メ
チル−置換イソインドリニウムメチル基を有する新規セ
フェム化合物について研究した結果、イソインドリン核
にヒドロキシ基又はアセトキシ基を導入した化合物が、
イソインドリン核に無置換の化合物と比較して、グラム
陽性菌、特に緑膿菌、シュードモナス争セパシア(Ps
eudomonas cepacia)その他のブドウ
糖非醗醇グラム陰性桿菌に対し、抗菌力が著しく強力で
あることを見出した。
中でも、7位の側鎖として2−(2−アミノチアゾール
−4−イル)−2−置換オキシイミノアセチル基を有し
、3位に2−メチル−5,6−ジ置換イソインドリニウ
ムメチルを有する化合物は、特に抗菌作用が優れている
1月 本発明は、一般式 R4は同一でも異なってもよく、それぞれ水素原子、水
酸基、メi・キシ基又はアセトキシ基を示す)で表わさ
れる化合物、その塩又は生理的に加水分解可能なそのエ
ステルである。
一般にオキシイミノ基における置換はE又はZの幾何異
性の構造をとりうるが、式■の化合物の7位のアシルア
ミノ部分に含まれるオキシイミノ基の置換は2の構造を
有している。式Iの化合物の置換基R1においてカルボ
キシル基により置換されていてもよい環状の低級アルキ
ル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチ
ル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、1−カル
ボキシ−1−シクロプロピル基、1−カルボキシ−1−
シクロブチル基、1−カルボキシ−1−シクロペンチル
基または1−カルボキシ−1−シクロヘキシル基等が挙
げられる。
セフェム3位の2−メチル−置換イソインドリニウムメ
チルの置換イソインドリン環としては、例えば、無置換
イソインドリン、5−ヒドロキシイソインドリン、6−
ヒドロキシイソインドリン、5−アセトキシイソインド
リン、6−アセトキシイソインドリン、5−メトキシイ
ソインドリン、6−メトキシイソインドリン、4.5−
ジヒドロキシインインドリン、5.6−ジヒドロキシイ
ンインドリン、6.7−ジヒドロキシインインドリン、
4.5−ジアセトキシイソインドリン、5.6−ジアセ
トキシイソインドリン、6.7−ジアセトキシイソイン
ドリン、4.5−ジメトキシイソインドリン、5.6−
ジメトキシイソインドリン、6.7−ジメトキシイソイ
ンドリン、4.5−ジヒドロキシ−〇−メトキシイソイ
ンドリン、4.5−ジヒドロキシ−7−メトキシイソイ
ンドリン、5.6−シヒドロキシー4−メトキシイソイ
ンドリン、5.6−シヒドロキシー7−メトキシイソイ
ンドリン、6,7−シヒドロキシー4−メトキシイソイ
ンドリン、6.1−ジヒドロキシ−5−メトキシイソイ
ンドリン、4.5−ジアセトキシ−7−メトキシイソイ
ンドリン、5.6−ジアセドキシー4−メトキシイソイ
ンドリン、5.6−ジアセドキシー7−メトキシイソイ
ンドリン、6.7−ジアセドキシー4−メトキシイソイ
ンドリン、6.1−ジアセトキシ−5−メトキシイソイ
ンドリン、4,5.6−トリヒドロキシイソインドリン
、4,5.7−トリヒドロキシイソインドリン、5,6
.7− トリヒドロキシイソインドリン、4.5..6
− トリアセトキシイソインドリン、4,5.7−トリ
アセトキシイソインドリン、5,6.7−トリアセトキ
シイソインドリン、4,5.6− トリメトキシイソイ
ンドリン、4,5.7−トリメトキシイソインドリンま
たは5,6.7−トリメトキシイソインドリン等が挙げ
られる。
式■の化合物は、下記の方法により製造できる。
一般式 れたカルボキシル基により置換されていてもよい環状の
低級アルキル基、Xはハロゲン原子又は脱離基、Y!、
tSまたはSOを示す)で表わされる化合物又はその塩
を、一般式 (式中R、R及びR10は同一でも異なっても素原子又
はメチル基を示す)で表わされるアミンと反応さけて、
一般式 を示す)で表わされる化合物となし、これを必要に応じ
メチル化及び/又は還元したのち、保護基を除去する(
A法)。
一般式 (式中R6、R8、R9、RIO及びXoは前記の意味
を有する)で表わされる化合物、そのJg又はそのシリ
ル化合物を、一般式 (式中R及びR7は前記の意味を有する)で表わされる
カルボン酸の反応性誘導体によりアシル化して、一般式 式■及び式VIのカルボン酸の置換基R5のためのアミ
ノ保ifMとしては、例えばトリチル基、ホルミル基、
クロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、ter−
ブトキシカルボニル基、トリメチルシリル基、ter−
ブチルジメチルシリル基等が挙げられる。酸処理によっ
て容易に除去できるトリチル基が特に好ましい。置換基
R6及びR7のためのカルボキシル保護基としては例え
ば下記の基が挙げられる。低級アルキル基例えばter
−ブチル基、ハロアルキル基例えば2,2.2− トリ
クロロエチル基、アルカノイルオキシアルキル基例えば
アセトキシメチル基、プロピオニルオキシメチル基、ピ
バロイルオキシメチル基、2−アセトキシエチル基、2
−プロピオニルオキシメチル基、1−(エトキシカルボ
ニルオキシ)−1−エチル基等、1−フタリジル基、ア
ルカンスルホニルアルキル基例えばメシルメチル基、2
−メシルエチル基等、アラルキル基例えばベンジル基、
4−メトキシベンジル基、4−ニトロベンジル基、フェ
ネチル基、トリチル基、ペンツヒドリル基、ビス(メト
キシフェニル)メチル基、3.4−ジメトキシベンジル
基、5−置換−2−オキソ−1,3−ジオキソ−ルー4
−イル−メチル基例えば5−メチル−2−オキソ−1,
3−ジオキソ−ルー4−イル−メチル基、アルキルシリ
ル基例えばトリメチルシリル基、ter−ブチルジメチ
ルシリル基等。酸処理によって容易に除去できるペンツ
ヒドリル基又はter−ブチル基が特に好ましい。式■
の化合物の置換基Xのためのハロゲン原子としては、例
えばJg素、臭素、ヨウ素等、脱1111f基としては
例えばアセトキシ基、トリフルオロアセ]へキシ基、メ
タンスルホニルオキシ基、1〜リフルオロメタンスル小
ニルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基、p−トル
エンスルホニルオキシ基等が挙げられる。特に臭素又は
ヨウ素が好ましい。
式VIのカルボン酸の反応性誘導体としては、例えば酸
ハロゲン化物は、カルボンII(Vl)をハロゲン化剤
と反応さけることにより得られる。反応は不活性溶媒、
例えば塩化メチレン、クロロホルム、ジクロルエタン、
ベンゼン、1〜ルーLン等又はこれらの混合物中で行わ
れる。ハロゲン化剤としては例えば塩化チオニル、三塩
化燐、1i塩化燐、オキシ塩化燐、三臭化燐、オキザリ
ルクロライド、ホスゲン等が用いられる。ハ[lゲン化
剤の使用品は、カルボンM(Vl)1モルに対し、1〜
10モル好ましくは1〜145モルで、反応温度は−4
0〜+100℃好ましくは一20〜+20℃、反応時間
は10〜60分である。
式Vlのカルボン酸の混合酸無水物は、Vlをクロル炭
酸アルキル、脂肪族のカルボン酸クロライド等と反応さ
せることにより得られる。反応は不活性溶媒例えばアセ
トン、ジオキサン、アセトニトリル、テ]−ラヒドロフ
ラン、塩化メチレン、クロロホルム、ベンぎン、酢酸エ
チル、ジメチルホルムアミド等又はこれらの混合物の中
で行われる。
反応は三級アミン例えばトリエチルアミン、N−メチル
モルホリン等の存在下に行うことが好ましく、反応温度
は−30〜+2000好ましくは一15〜0℃、反応時
間は10〜30分である。
式vIのカルボン酸の活性エステルは、カルボン酸(V
T )を好ましくは1〜1.2モルのN−ヒドロキシ化
合物又はフェノール化合物と反応させることによりIL
Jられる。反応は不活性溶媒例えばアごトン、ジオキサ
ン、アセトニトリル、テ1ヘラヒドロフラン、塩化メチ
レン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルホルムアミ
ド等又はこれらの混合物の中で行われる。N−ヒドロキ
シ化合物としては例えばN−ヒドロキシスクシンイミド
、N−ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキシベンズ
トリアゾール等、フェノール化合物としては例えば4−
ニトロフェノール、2.4−ジニトロフェノール、トリ
クロロフェノール、ペンタクロロフェノール等が用いら
れる。反応は縮合剤例えばN。
N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド1、2モルの存
在下に行うことが好ましい。反応温度は−30〜+40
℃好ましくは一10〜+25℃、反応時間は30〜12
0分である。
MYがSである式■の化合物は、一般式(■) (式中R6及びXは前記の意味を有し、Zは水素原子又
はアシル基を示す)で表わされる化合物を式Vlのカル
ボン酸の反応性誘導体を用いてアシル化することにより
得られる。またMYがS○である式■の化合物は、基Y
がSである式■の化合物を酸化することにより得られる
。置換基Xがヨウ素である式■の化合物は、X′h<j
n素である式■の化合物をヨウ化すトリウムと反応させ
て製造することが好ましい。
弐Vの化合物は、Zがアシル基である式■の化合物をR
11がメチル基である式■のアミンと反応させたのち、
脱アシル化することにより得られる。
式■の化合物は、一般式 (t’X) (式中R6は及びZは前記の意味を有する)で表わされ
る化合物から容易に製造することができる。
A法により式■の化合物を製j^づるに際しては、まず
溶媒中で式■の化合物を弐■の遊離アミン又はアミンj
8と反応させる。アミン塩としては塩酸塩、臭化水素酸
塩、硫酸塩及び酢酸塩等を°用いる場合は、中用量の3
級アミン例えばトリエチルアミン等の存在下に反応を行
う。溶媒としては例えばJg化メチレン、クロロホルム
、エーテル、酢酔エチル、酢酸ブチル、テトラヒドロフ
ラン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキサイド等の非水有機溶媒又はこれらの混合物
が用いられる。弐■のアミンは、前記溶媒中で、N、0
−ビス1〜リメチルシリルアセ1ヘアミド等のシリル化
剤でシリル化して使用することもできる。
弐■のアミンの使用間は、式■の化合物1モルに対し、
1〜2モルである。反応温度は0〜35°Cで、反応は
0.5〜5時間で終了する。
置換基R11が水素原子である式■の2級アミンを用い
る場合には、その生成物(IV)を単離することなく反
応溶液のまま、あるいはその生成物(1v)を分離精製
して、ヨウ化メチルと反応させ、アンモニオ化合物(I
V)とする。このメチル化反応を前記の非水有機溶媒中
で行う場合、ヨウ化メチルの使用量は生成物(IV)1
モルに対し、1〜30モル好ましくは3〜15モルで、
反応温度は一30〜+35℃、反応は数時間ないし数日
で終了する。
また溶媒の不存下に生成物(IV )に過剰のヨウ化メ
チルを10〜35℃で、5〜20時間反応させることに
よってもアンモニオ化合物(rV)が得られる。
基Yが>S=Oである式■の化合物を用いる場合には、
アンモニオ(rV )を公知の方法、例えばジャーナル
 オブ オーガニック ケミストリーrJournal
 or 0tr)anic Chemistry、35
2430(1970)]、シンセシス[5ynthes
is 58(1979)]又はジャーナルオブ ケミカ
ル リサーチ[JOurnal Of chemtca
tResearcb 341(1979)1等に記載の
方法により還元する。例えば生成物(IV )を不活性
有機溶媒例えばアセトン、塩化メチレン、クロロホルム
、テトラヒドロフラン、酢酸エチル等に溶解し、ヨウ化
カリウム又はヨウ化ナトリウムを加え、−40〜0℃で
アセチルクロライドを滴下し、−20〜−10℃で1〜
2時間反応させることにより還元できる。
ヨウ化物の使用量は、生成物(IV)1モルに対し、3
.5〜10モル、アセチルクロライドの使用量は、1.
5〜5モルである。こうして得られた化合物から保[を
除去すると式■の化合物が得られる。
保護基の除去方法はその保W!基の種類に応じて常用の
方法を適宜選択して行うことができる。酸による方法が
好ましく、酸としては例えば義酸、トリフルオロ酢酸、
ベンゼンスルホン酸、p −t−ルエンスルホン酸、塩
酸等の無機もしくは有機酸等があげられ、トリフルオロ
F[が好ましい。
なお酸としてはトリフルオロ酢酸を用いる場合には、ア
ニソールを添加することにより反応が促進される。また
この反応は不活性溶媒、例えば塩化メチレン、塩化エチ
レン、ベンゼン等の有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒
の中で、好ましくは塩化メチレン中で行うこともできる
。反応温度は特に限定されず、原料化合物及び反応生成
物の化学的性質、保護基の種類、除去方法等の種類に応
じて適宜選択するが、冷却下ないし加温程度の緩和な条
件で行うのが好ましい。
方法により式■の化合物を製造するに際しては、まず溶
媒中で式Vの化合物を式■のカルボン酸の反応性誘導体
と反応させる。反応は不活性溶媒例えば水、アセトン、
ジオキサン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、塩
化メチレン、クロロホルム、ベンゼン、酢酸エチル、ジ
メチルホルムアミド等又はこれらの混合物の中で行われ
る。カルボン酸(vl)の反応性誘導体の使用間は、式
Vの化合物1モルに対し、1〜1.5モルである。反応
温度は−40〜+40℃好ましくは一20〜+30℃で
ある。
カルボンII(Vl)の酸クロライド又は混合酸無水物
を用いる場合は、炭酸アルカリ金属又は有機アミン例え
ばトリメチルアミン、トリエチルアミン、N−メチルモ
ルホリン等の存在下に反応させることか好ましい。
反応終了後、生成物(Vl)を分離し、A法と同様に保
護基を除去すると、弐丁の化合物が得られる。
式1の化合物は常法により塩又は生理的に加水分解可能
なエステルとすることができる。
式■の化合物の塩としては医療上許容さ°れる慣用的な
もの、例えばナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、
カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属、N、
N′−ジベンジルエチレンジアミン、プロ力イン等の有
機アミン、塩酸、硫M、硝酸、過クロル酸、臭化水素酸
等の無機酸、酢酸、乳酸、プロピオン酸、マレイン酸、
フマール酸、りんご酸、酒石酸、くえん酸等の有機酸、
メタンスルホン酸、イセチオン酸、p−トルエンスルホ
ン酸等の有機スルホン酸、アスパラギン酸、グルタミン
酸のアミノ酸の塩が挙げられる。生理的に加水分解可能
なエステルとしては、例えばアt?1〜キシメチルエス
テル、ピバロイルオキシメチル等のアセトキシアルキル
エステル類、1−(エトキシカルボニルオキシ)−1−
エチル等のアルコキシカルボニルオキシアルキルエステ
ル類、1−フタリジルエステル、5−メチル−2−オキ
ソ−1,3−ジオキソ−ルー4−イルメチル等の5=置
換−2−オキソ−1,3−ジオキソ−ルー4−イルメチ
ルエステル類等が好ましい。
本発明の化合物の種々の細菌に対する最小阻止濃度(M
IC:μg/d)を、セフォタキシム及びセフタジブイ
ムを比較化合物として、センシテイビテイ ディスク 
アガールにツスイ)を用いて寒天平板希釈法で測定した
(菌数:106CFU/Idり。その結果を下記表に示
す。
この成績から明らかなように、イソインドリン核に2個
の置換基を有する弐■の化合物は、グラム陰性菌特にぶ
どう糖非醗酵グラム陰性桿菌例えばシュードモナス・エ
ルギノーザ、シュードモナス・セパシア(Pseudo
■nas cepacia) 、シュードモナス−フル
トフイリア(Pseudomonas maltoph
ilia) 、アシネトバクタ−・カルコアセティカス
等に対して優れた抗菌活性を示す。特にこれら化合物は
公知のセファロスポリン誘導体に耐性を有するシュード
モナス・エルギノーザA K R−17及びセフタジブ
イムに耐性を有するシュードモナス・マルトフイリアN
 D 1275に対しても強い抗菌活性を示す点で優れ
ている。
イソインドリン核の5.6位にとドロキシも(を導入す
ると、グラム陰性菌一般、特にシュードモナス及びアク
ネ1〜バクターに対する抗菌力は飛躍的に増大し、例え
ばシュードモナス・エルギノーザAK109に対し、実
施例1E、2F及び3Cの化合物は、アシル側鎖にメト
キシイミノ、イソインドリン核上に置VJ!lのない化
合物(参考例)と比較して、それぞれ62倍以上の抗菌
活性を示した。
セフタジブイムを含む全てのセファロスポリンに耐性で
あるシュードモナス・エルギノーザAKR17に対して
実施例IE、2F及び3Cの化合物は無置換の化合物(
参考例)のそれぞれ125倍以上の抗菌活性を示した。
シュードモナス・セパシア23に対しては実施例IE、
2F及び3Cの化合物は参考例の化合物のそれぞれ12
5倍以上の抗菌活性を示した。アシネトバクタ−・カル
コアセティカスに対しては実施例IE、2F及び3Cの
化合物は参考例の化合物のそれぞれ125倍、250倍
及び125倍の抗菌活性を示した。またセフタジブイム
耐性であるシュードモナス・マルトフィリアに対しては
、実施例1F、2F及び3Cの化合物はそれぞれ8倍、
16倍及び4倍以上の抗菌活性を示した。
本発明の化合物は感受性並びに耐性のグラム陽性菌及び
グラム陰性菌、特に耐性のシュードモナス・エルギノー
ザ、シュードモナス・セパシア、7シネトバクター・カ
ルコアセティカス等に強い抗菌力を示した。
本発明はさらに、式■の化合物の塩又は生理的に加水分
解可能なそのエステルを有効成分として含有する抗菌剤
として有用である。
本発明の化合物は、固体又は液体の賦形剤の担体と混合
し、経口投与、非経口投与又は外部投与に適した医薬製
剤の形で使用することができる。
医薬製剤としては注射剤、シロップ剤、乳剤等の液剤、
錠剤、カプセル剤、顆粒剤等の固形剤、軟膏、坐剤等の
外用剤等が挙げられる。
前記の製剤には、助剤、安定剤、湿潤剤、乳化剤等の通
常使用される添加剤が含まれていてもよい。例えば注射
剤には注射用蒸留水、生理食塩水、リンゲル液等の溶解
液、パラオキシ安息香酸メチル、パラオキシ安息香酸プ
ロピル等の保存剤等の添加剤を含有してもよい。シロッ
プ剤、乳剤等の液剤には、ソルビトールシロップ、メチ
ルセルロース、グルコース、しよ糖シロップ、ゼラチン
、ヒドロキシエチルセルロ−ス ルロース 食用油、扁桃浦、ココナツ油、油性エステル、ソルビタ
ンモノオレエート、プロピレングリコール、グリセリン
、エチルアルコール、水等のほか、アラビアゴム、ゼラ
チン、レシチン等の乳化剤、ツイーン、スパン等の界面
活性剤等を含有してもよい。固形剤としては乳糖、しよ
糖、とうもろこし殿粉、燐酸カルシウム、ステアリン酸
マグネシウム、タルク、珪酸、アラビアゴム、ゼラチン
、ソルビトール、トラガント、ポリビニルピロリドン、
ポリエチレングリコール、ラウリル硫酸ナトリウム等が
用いられる。軟膏、坐剤の基剤としては例えばカカオ脂
、グリセリド類、ポリエチレングリコール類、白色グリ
セリン等が用いられる。必要に応じて界面活性剤や吸収
促進剤を含有してもよい。
本発明の化合物(I)は細菌感染症例えば呼吸器感染症
、尿路感染症、産婦人科感染症、化膿性疾患、外科感染
症等の治療及び予防に用いることができる。投与aは患
者の年齢及び状態によって異なるが、通常は1日当り1
〜100mg/Kgの範囲で使用され、1日当り5〜3
0Rg7Kgで2〜4回に分けて投与げることが好まし
い。
次に実施例をあげて本発明を更に詳説するが、本発明は
これに限定されるものではない。
実施例 実施例1 (^)ペンツヒドリル 7− [(1)−2−(1−t
er−ブトキシカルボニル− キシイミノ)−2− (2−t−リチルアミノチアゾー
ルー4ーイル)アセトアミド]−3−ヨードメチル−3
−セフェム−4−カルボキシレート 1−オキサイド ペンツヒドリル 7−[(2) −2 − ( 1 −
ter−ブトキシカルボニル− ノ)−2− (2−トリチルアミノチアゾール−4−イ
ル)アセトアミド1−3−クロロメチル−3−セフェム
−4−カルホキシレー1〜+/1.2g(14.7ミリ
モル)を塩化メチレン280dに溶解し、水冷下メタク
ロル過安息香M 2.98 y (14.7ミリモル)
を加え10分間撹拌した。反応溶液に10%チオ硫酸ナ
トリウム水溶液6(7を加えた後、この水溶液を5%庚
酸水索ナトリウム水溶液中に注ぎ、塩化メチレンで抽出
し、無水硫酸ナトリウムで脱水した。
減圧濃縮して(qた残漬をアセトン30(7に溶解した
後、O′Cでヨウ化ナトリウム4.4g(29.4ミリ
モル)を加え、室温で15分間撹拌した。反応溶液をチ
オ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した後、有
機溶媒層を無水硫酸ナトリウムで脱水した。減圧濃縮し
て得た残漬をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラ
フィー(酢酸エチル二nーヘキサン−1:2)に付し、
標記化合物9.52g(収率60%)を(qだ。
(B)ペンツヒドリル 7− [(7) −2− (1
 −ter−ブトキシカルボニル− キシイミノ)−2− (2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド]−3−(  5.6−ージ
ヒドロキシイソインドリンー2−イル)メチル−3−セ
フェム−4−カルボキシレート 1−オキサイド (A)で(qた化合物2.5g< 2.3ミリモル)を
ジメチルボルムアミド25dに溶解し、5.6−シヒド
ロキシイソインドリン・臭化水8M石0.67 9( 
2.フロミリモル)及びトリエチルアミン0.77戒(
 5.52ミリモル)を加え、室温で2時間撹拌した。
減圧下に濃縮し、残漬をシリカゲルフラッシュカラムク
ロマトグラフィー(酢酸エチル二〇ーヘキサン=3 :
 1 ’)に付し、無晶形の標記化合物1.64 9 
(収率64%)を19だ。
3、20〜3.80(811,i)、5.08(Ill
, d, J=4112)、 5. 90(ill, 
m)6、58(211,s)、 6.88(111,s
)。
7、00(III, S)、 7. 10〜7.60(
2511,m)、8.50 〜8.90(211m) (C)ペンツヒドリル 7− [(7) −2− (1
 −ter−ブトキシカルボニル− キシイミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−
4−イル)アセトアミド]−3−(5,6−シヒドロキ
シー2−メチル−2−イソインドリニウム)メチル−3
−セフェム−4−カルボキシレート 1−オキサイド・
ヨード塩 (8)でIJだ化合物1.64 g( 1.48ミリモ
ル)をヨウ化メチル16d (14.8ミリモル)に溶
解し、室温で2.5時間放置した。減圧上過剰のヨウ化
メチルを留去した侵、残漬をシリカゲルフラッシュカラ
ムクロマトグラフィー(5%メタノール・塩化メチレン
)に付し、無晶形の標記化合物1、13g(収率61%
)を得た。
90(3+1, bs)、 4. 10〜4、90(8
11, m)、 5. 22 (111, d, J=
411z)6、 00(Ill, dd, J=4及び
7117)6、 76(2tl, S)、 6. 89
(ill, s)。
7、 01(III, s)、 7. 10〜1.60
(2511,m)、8.80(III,M,J=711
z)、 9.28(IH, bs)(D)ペンツヒドリ
ル 7−r(Z)−2−(1−ter−ブトキシカルボ
ニル− キシイミノ) −:g− (2−トリチルアミンチアゾ
ール−4−イル)アレドアミド1−3〜( 56−シヒ
ドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メチ
ル−3−【?フエムー4ーカルボキシレート (C)で151だ化合物1.IJ ( 0.88ミリモ
ル)をアセトン20dに溶解し、ヨウ化カリウム0.5
8 g( 3。5ミリモル)を加え、−5°Cでアセチ
ルクロライド0.12 m (  1.75ミリモル)
を滴下し、1時間撹拌した。反応溶液にメタ重!11!
硫酸ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。
抽出液を無水硫酸ナトリウムで脱水した後、減圧上溶媒
を留去し、残漬について再び上記の反応操作を行なつt
こ。上記同様の後処理を行ない無晶形の標記化合物1.
43 gを得、精製することなく次の反応に用いた。
(E) 7− [(2) −2− ( 2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2− (1−力lレボキシー1ー
シクロプロポキシイミノ)アセトアミド1−3−(5.
6−シヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウ
ム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート (D)で(qだ化合物1.43 gを塩化メチレン2d
及びアンソール2dの溶液に溶解した後、−5°Cでト
リフルオD酢酸5dを加え1時Fffl Iff拌した
反応溶液を減圧濃縮し、残漬を塩化メチレンに溶解し水
で抽出した。水層を逆相カラムクロマグラフィー ( 
Waters Pre Pack 500/C−18 
: 2%テ1〜ラヒドロフラン・水)に付し、目的物を
含む分画を集め、減圧濃縮した後凍結乾燥し、標記の目
的化合物41mg(前工程からの収率74%)を得た。
融点  =164℃(分解) IR(KBr)  : 3425, 1780. 16
22cm−11JHR(CF3 COO11)  δ 
:  1.38(411,m)、2.98(311,b
S)。
3、28(2+1、bS)、4.20 。
4、70(611,m)、4.90(111,cl,J
−4tlz)、 5. 48(111, dd, J=
4及び7flz)、 6. 50(211, s)、 
6. 89(18St,  8.08(111,bd,
J=7NZ)実施例2 (A)ベンツヒドリル 7− [(Z) −2− (1
 −ベンツヒドリルオキシカルボニル− ロブトキシイミノ)−2− (2i〜リチルアミノチア
ゾール−4−イル)アセトアミド1−3−クロロメチル
−3−セフェム−4−カルボキシレート [(2)−2− (1−ベンツヒドリルオ゛キシカルボ
ニル−1−シクロブトキシイミノ) −2− (2=ト
リチルアミノチアゾール−4−イル>*SV。
1、82 g( 2.62ミリモル)及びペンツヒドリ
ル7−アミノ−3−クロロメチル−3−ピッエム−4−
カルボキシレート 1.09 9 ( 2.62ミリモ
ル)を塩化メチレン40rd!に溶解した後、水u1十
 N。
N′−ジメチルアニリン1.06 d ( 8.39ミ
リ七ル)及びオキシj8化リン0.26 d ( 2.
75ミリモル)を滴下し、同温度で4時間撹拌した。反
応溶液にクロロホルム30d及び水30m加え、有機層
を水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸す1〜リウ
ムで脱水、濃縮して標記化合物残渣を得、精製すること
なく、次の反応に用いた。
(B)ペンツヒドリル 7− [(Z) −2− (1
 −ベンツヒドリルオキシカルボニル−1−シフロブ1
〜キシイミノ)−2−(2−1−ジチルアミノチアゾー
ル−4ーイル)アセトアミド]−3−クロロメチル−3
−セフェム−4−力ルポキシレート 1−オキサイド (A)で(qた残漬を塩化メチレン50idに溶解し、
水冷下メタクロル過安息香M(純度80%)  620
mg( 2.87ミリモル)を加え、20分間撹拌した
。反応溶液に塩化メチレン30戴及び5%炭酸水索す1
〜リウム水溶液を加えた後、有機層を分液し、水及び飽
和食塩水で洗浄した。有#J層を無水硫酸ナトリウムで
脱水した後、濃縮して標記化合物残漬を得、精製するこ
となく、次の反応に用いた。
(C)ペンツヒドリル 7− [(Z) −2− (1
 −ベンツヒドリルオキシカルボニル− ロブトキシイミノ)−2− (2−トリチルアミノチア
ゾール−4−イル)アセトアミド]−3−ヨードメチル
−3−セフェム−4−カルボキシレート 1−オキサイ
ド (B)で得た残漬をアセ1〜ン40mに溶解し、ヨウ化
ナトリウム870mg (2,62ミリモル)を加え、
室)品で30分間撹拌した。反応溶液に酢酸エチル12
0d及び5%チオ[fナトリ「クム20af7を加え分
液した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水
硫酸ナトリウムで脱水し減圧下濶縮した。濃縮残漬をシ
リカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー(酢酸エ
チル:n−ヘキサン=1:2)に付し、目的物を含む分
画を集め、減圧濃縮し残漬にイソプロピルエーテルを加
え粉末状の標記化合物2.63 g(Aからの収率83
.1%)を得た。
flit(にBr)  : 1800,1730,16
90,1520,1495,1450゜1370cIn
−1 N)lit (DH3O−九)δ:  2.00(2+
1.[0)、 2.45(411,m)。
3.90(211,101,4,25(2+1.ABQ
)J・911Z)、 5.10(IH□d、J=5tl
z)5.95 (111,dd、J=5及び911z)
6.78(ill、 s)、6.85(ltl、 s)
7.00(111,S)、7.30(35N、m)。
8.87(III、d、J=9112)、  8.82
(ill、bs) (D)ベンツヒドリル 7− [(Z) −2−(1−
ベンツヒドリルオキシカルボニル− ロブi〜キシイミノ’)−2−(2−トリチルアミノチ
アゾール−4−イル)アセトアミド]−3−(5.6−
シヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)
メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート 1−オ
キリーイド・ヨードjn 5、6−シヒドロキシー2−メチルイソインドリン46
4■( 2.80ミリモル)を酢酸ブチル26dに懸濁
し、N.O−ビストリメチルシリルアセトアミド1.4
d ( 5.62ミリモル)を加え、50℃で30分間
撹拌した後水冷した。この溶液を(C)で得た粉末2.
59 g< 2.16ミリモル)を含む酢酸ブチル溶液
26dに、水冷下一度に加え同温度で3時間撹拌した。
反応溶液をそのままシリカゲルフラッシュカラムクロマ
トグラフィー(4%メタノール・塩化メチレン)に付し
、粉末状の標記化合物を1、60 g(収率54,3%
)を得た。
IR(KBr)  :1790,1730,1660,
1520,1450,1390。
1350、 1300, 1250. 1150 cr
t −1([)ベンツヒドリル 7− [(2) −2
− (1 −ベンツヒドリルオキシカルボニル− ロブトキシイミノ)−2− (2−トリチルアミノチア
ゾール−4−イル)アセトアミド]−3−(5.6−シ
ヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メ
チル−3−セフェム−4−カルボキシレート・ヨード塩
(D)で1qた粉末1.60 g( 1.17ミリモル
)をアセトン35ateに溶解し、ヨウ化カリウム97
4η(5.85ミリモル)を加え、−20℃でアセチル
クロライド0.21 d ( 2.93ミリモル)を滴
下した。
1時間1ft拌した後、ヨウ化カリウlい974IIf
J( 5,a5ミリモル)及びアセチルクロライド0.
21 d( 2.93ミリモル)を加え、1時間撹拌し
た。反応溶液に1g化メチレン140m及び5%メタル
亜硫酸ナトリウム水溶液35gdlを加え分液した。有
機層を水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリ
ウムで脱水し、濃縮して標記化合物の残漬を得、精製す
ることなく次の反応に用いた。
(F)7− [(Z)−2− (2−アミノチアゾール
−4−イル)−2− (1−カルボキシ−1−シクロブ
トキシイミノ)アセトアミド]−3− ( 5.6−シ
ヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メ
チル−3−セフェム−4−カルボキシレート (E)で得た残漬をアニソール1.6d及び塩化メチレ
ン13dに溶解し、水冷下、トリフルオロ酢酸16mと
塩化メチレン3InIlの溶液を20分間で滴下した。
同温度で1時間撹拌した後減圧下に溶媒を留去した。残
留物に酢酸エチル30dを加え減圧下に濃縮した(この
操作を2回繰り返した)。この残留物に酢酸エチル40
蛇を加え、不溶物を濾取した。
この不溶物を95%ギ酸35dに溶解し40℃で1時間
撹拌した後減圧下に濃縮した。残留物に酢酸エチル40
ateを加え不溶物を濾取した。この不溶物に水100
−を加え30分間撹拌した後不溶物を濾別し、濾液を逆
相カラムクロマトグラフィー(005,107;吸着、
水洗後、2%テトラヒドロフラン・水)にて精製し、減
圧下に有機溶媒を留去した後、凍結乾燥して標記化合物
46ay([:からの収率6.4%〉を得た。
融点  :157℃(分解) In(KBr)  :  1775,1660,162
0,1540,1400゜1350c111−1 J=511z)、5.80(111,dd、J=5及び
911z)、 6.90(311,s)、 9.70(
111,d、’J・’112) 実施例3 (A)ベンツヒドリル 7− [(2) −2−(1−
ベンツにドリルオキシカルボニル− ロペンチルオキシイミノ)−2−(2−1−クチルアミ
ノチアゾール−4ーイル)アセトアミド]−3−(5.
6−ジヒドロキシ−2〜メチル−2−イソインドリニウ
ム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート 1
−オキサイド・ヨード塩 5、6−シヒドロキシー2−メチルイソインドリン51
7mg ( 3.13ミリモル〉を酢酸ブチル26af
tに懸濁し、N.O−ビストリメチルシリルアセトアミ
ド1.3rd!( 6.26ミリモル)を加え、50℃
で30分間撹拌した後水冷した。この溶液を実施例2(
A)、 (B)及び(C)と同様の操作を行なって得た
ペンツヒドリル 7− [(Z)−2− (1−ベンツ
ヒドリルオキシカルボニル− キシイミノ)−2− (2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド]−3−ヨードメチル−3−
セフェム−4−カルボキシレート 1−オキサイド2.
92 g( 2.41ミリモル)を含む酢酸ブチル溶液
26dに、水冷下一度に加え同温度で3時間撹拌した。
反応溶液をそのままシリカゲルフラッシュカラムクロマ
トグラフィー(5%メタノール・塩化メチレン)に付し
、粉末状の標記化合物1.48 g(収率44.6%)
を得た。
IR(KBr)  : 1800,1730,1670
,1520,1450,1300。
1250、1170,1060,1030,  845
,  750。
700  cIR−1 (8)ペンツヒドリル 7−[(Z) −2− (1 
−ベンツヒドリルオキシカルボニル−1−シクロペンチ
ルオキシイミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド]−3−(5.6−シヒド
ロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メチル
−3−セフェム−4−カルボキシレート・ヨード塩 rA)で1qた粉末1.48 !7 ( 1.07ミリ
モル)をアセトン30威に溶解し、ヨウ化カリウム89
0■( 5.37ミリモル)を加え、−20℃でアセチ
ルクaライド0.19 d ( 2.69ミリモル)を
滴下した。
1時間撹拌した後ヨウ化カリウム890■( 5.37
ミリモル)及びアセチルクロライド0.19 d(2。
69ミリモル)を更に加え、1詩間撹拌した。反応溶液
に塩化メチレン120d及び5%メタ市亜tailナト
リウム水溶液30dを加え分液した。有機層を水及び飽
和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで脱水し、
濃縮して標記化合物の残漬を得、精製することなく次の
反応に用いた。
IR(にBr)  : 1790,1730,1680
,1520,1495,1450。
1180、1000, 750, 700 cIR−1
(C)7− [(Z)−2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2− (1−カルボキシ−1−シクロペン
チルオキシイミノ)アセトアミド]−3−(5.6−シ
ヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メ
チル−3−セフェム−4−カルボキシレート (8)で得た残漬をアニソール1.5Id及び塩化メチ
レン101dlに溶解し、水冷下、トリフルオロ酢酸1
5dと塩化メチレン5 rnQの溶液を15分間で滴下
した。同温度で1時間撹拌した後減圧下に溶媒を留去し
た。残留物に酢酸エチル30−を加え減圧下に濃縮した
(この操作を2回繰り返した)。この残留物に酢酸エチ
ル40m!!を加え不溶物を濾取した。
この不溶物を95%ギ酸30−に溶解し、40℃で1時
間撹拌した41)1mm縮した。残留物に酢酸エチル4
0dを加え不溶物を濾取した。この不溶物に水100 
mQを加え30分撹拌した(り不溶物を濾別し、濾液を
逆相カラムクロマi・グラフィー(ODS、100 d
 :吸着、水洗後、3%テトラヒドロフラン・水)にて
[Jし、減圧下に有機溶媒を留去した後、凍結乾燥して
標記化合物7!M1g(Aからの収率106%)を得た
融点  =165℃(分解) IR(KBr)  :  1775,1660,162
0,1540,1400,1350゜1200、100
0cm −1 NHIII(DMSO7d6 )  δ :  1.7
0(411,n+)、2.10(411,m)。
3.05(311,bsl、5.15(Ill、d。
J=5112)、5.乃(Ill、 dd、 J=5及
び9112)、 6.8(1(3+1. S)、 9.
70111、 +l、 J=911z) 実施例4 (A)ハτンツヒドリル ”l−[m−2−シクロペン
チルオキシイミノ−2−(2−トリチルアミンデアゾー
ル−4−イル)アセトアミド]−3−(5,6−シヒド
ロキシイソイントリン=2−イル)−3−セフェム−4
−カルボキシレート 1−オキサイド ペンツヒドリル 7−[(Zl−2−シクロペンチルオ
キシイミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−
4−イル)アセトアミド]−3−ヨートメデル−3−セ
フェム−4−カルボキシレート 1−オキサイド2.6
4 g(2,65ミリモル)をジメチルホルムアミド2
6.4−に溶解し、5,6−シヒドロキシイソインドリ
ン・臭化水素酸塩0.649 (2,65ミリモル)を
加えた後、トリエチルアミン0.74 d (5,30
ミリモル)を室温で滴下した。反応溶液を1時間撹拌し
た後、減圧下にジメチルホルムアミドを留去し、残漬を
シリカゲルカラムクロマ1〜グラフィー(酢酸エチル:
n−ヘキサン−3:1)にて精製し、標記化合物1.4
2 g(収率52%)を得た。
N)IR(D)130−d6)δ:  1.70 (8
11,m)、3.10〜4、10(811,m)、 4
.70(ill、 m)。
5.10(111,d、J=51iz)、5.90(I
II、dd、J=5及7J’811Z)、6.60(2
tl、 bs)、 6.83(111,s)、 7.0
1(11I、 s)、 7. TO〜 7.80(25
11゜m)、 8.56(tll、 bd、 J=81
1z)(8)ペンツヒドリル 7−[(2)−2−シク
ロペンチルオキシイミノ) −2−(2−トリチルアミ
ノチアゾール−4−イル)アセトアミド]−3−(5,
6−シヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウ
ム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート 1
−オキサイド・ヨード塩 (A)で得た化合物1.42 g(1,38ミリモル)
をヨウ化メチル14m (225ミリモル)に溶解し、
室温で16時間放置した。反応溶液を減圧上濃縮し、残
rllをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(5%メ
タノール・塩化メヂレン)にて精製し標記化合物1.2
5 g(収率77%)を得た。
NHR(DH3O−d6’Iδ:  1.70(8+1
.m)、2.90(31+、bS)。
3.42(211,bS)、4.20(111,It)
4.60(611,m)、5.20(111,d、J=
5Hz)、5.98(ill、dd、J=5及び711
z)、6.77(211,bs)、6.80(1+t、
 S)、 7.03(IH,S)、 7.10〜7.8
0(2511,m)、8.86(IH,bd。
J=7tlz) (C)ペンツヒドリル 7−[(Z)−2−シクロペン
チルオキシイミノ)−2−(24リチルアミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド] −3−(5,6−シヒ
ドロキシー2−メチル−イソインドリニウム)メチル−
3−セフェム−4−カルボキシレート・ヨード塩(B)
で得た化合物1.25 g (1,07ミリモル)をア
セトン25ae (1,07ミリモル)に溶解した後、
ヨウ化カリウム0.719 (4,28ミリモル)を加
え、0℃でアセチルクロライド0.15 d (2,1
4ミリモル)を滴下した。反応溶液を0℃で1時間撹拌
した後、氷冷したメタ重亜硫酸ナトリウム水溶液に注ぎ
、酢酸エチルで抽出し粗製の標記化合物残漬を精製する
ことなく次工程に用いた。
(D)7− [(Z)−2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−シクロペンチルオキシイミノアセトア
ミド]−3−(5,6−ジヒドロキシ−2−メチル−イ
ソインドリニウム)メチル−3−セフェム−4−カルボ
キシレート〜(C)で得た残漬を塩化メチレン2献及び
アニソール2mlに溶解した後、水冷下トリフル3口醋
酸5mlを滴下した。反応溶液を1時間撹拌した(長、
減圧上濃縮し残漬に耐酸エチル及び水を加えた。
水層を11!縮したのbODSカラムクロマ]ヘゲラフ
−r −(Bondapack : 30%メタノール
−水)テvi製し、標記化合物196Ing(前工程か
らの収率30%)を得た。
融点  :159°C(分解) [R(KBr)  :  3425,1775,161
9 ctn14.47(711,m)、4.90(lt
l、d、J=5tlz)、5.48(ill、dd、J
=5及び711z)、 6.49(211,bsl、 
6.89(III、 s)、 8.11(ill、 b
d、 J=711z)参考例 ペンツヒドリル 3−ヨードメチル−7−[m−2−メ
トキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾール−
4−イル)アセトアミド]−3−セフェム−4−カルボ
キシレート 1−オキサイド及び2−メチルイソインド
リンを用い、実施例1〜3に記載したと同様な方法で7
−[(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−メトキシイミノアセトアミド] −3−(2−メ
チル−2−イソインドリニウム)メチル−3−セフェム
−4−カルボキシレートを得た。
融点  :  150’C(分解) IR(KBr)  :  7770,1660,162
0,1530,1345゜1030CM−1 030C,d、 J=4.5112)、 5.76(1
11,d、 J=4.511z)、6.93(III、
s)、 7.38(411゜bs) ル」Jと兜里 本発明の化合物は感受性並びに耐性のグラム陰性菌及び
グラム陰性菌、特に耐性のシュードモナス・エルギノー
ザ、シュードモナス・セパシア、?ネシトバクター・カ
ルコアセティカス等に強い抗菌力を示し、細菌感染症治
療薬として期待される。特に7位の側鎖として2−(2
−7ミノチアゾールー4−イル)−2−H換オキシイミ
ノアセチル基を有し、3位に2−メチル−5,6−ジ置
換イソインドリニウムメチル基を有する化合物(実施例
1 (E) 、 2(F) 、 3(C)及び4(D)
)は強い抗菌活性を示す。
特許出願人  亀有製薬株式会ネ1 手続補正書(自発) 昭和00年916日 特許庁長官  宇 賀 道 部  殿 1、事件の表示 昭和60年特許願第171839号3
、?1正をする者 事件との関係  特許出願人 住所 の103 東京都中央区日本橋本町2丁目7番地85、 MM(1
)H&        −:、−7明細書の「特許請求
の範囲」のt[1IIL″・および「発明の詳細な説明
」の欄 訂  正  明  細  書 1、発明の名称 新規セフ10スポリン誘導体 2、特許請求の範囲 (1)一般式 (式中R1はカルボキシル基により置換されていR4は
同一でも異なってもよく、それぞれ水素原子、水F1M
、メトキシ基又はアセトキシ基を示す)で表わされる化
合物、その塩又は生理的に加水分解可能なそのエステル
(2)一般式 (式中Rは水素原子又はアミノ保WI基、R6は水素原
子又はカルボキシル保護基、R7は保護されたカルボキ
シル 環状の低級アルキル阜、Xはハロゲン原子又は脱[0、
YはS又はSOを示づ)で表わされる化合物又はその塩
を、一般式 (式中R  、R  及びR は同一でも異なってもよ
く、それぞれ水素原子、保護されていてもよい水酸基、
メトキシ基又はアセトキシ基、R 1 1は水素原子又
はメチル基を示す)で表わされるアミンと反応させて、
一般式 R11およびYは前記の意味を有し、Xoは陰イオンを
示す)で表わされる化合物となし、これを必要に応じ、
メチル化及び/又は還元したのち、保Imを除去するこ
とを特徴とする、一般式(式中R1はカルボキシル基に
より置換されていR4は同一でも異なってもよく、それ
ぞれ水素原子、水M’S、メトキシ基又はアセトキシ基
を示す)で表わされる化合物、その塩又は生理的に加水
分解可能なそのエステルの製法。
(3)一般式 それぞれ水素原子、保護されていてもよい水酸基、メト
キシ基又はアセトキシ基、Xoは陰イオンを示づ)で表
わされる化合物、その塩又はそのシリル化合物を、一般
式 (式中115は水素原子又はアミノ保護基、R7は保護
されたカルボキシル基により置換されていてもよい環状
の低級アルキル基を示づ)で表わされるカルボン酸の反
応性誘導体によりアシル化して、一般式 %式%) (式中R、R、R7、R、R、R及び Xoは前記の意味を右する)で表わされる化合物となし
、次いで保護基を除去することを特徴とする、一般式 (式中1<1はカルボキシル基により置換されていても
にい環状の低級アルキル基、R2,r<3及びR4は同
一でも異なってもよく、それぞれ水素原子、水酸基、メ
1へキシ基又はアセトキシ基を示す)ぐ表わされる化合
物、その塩又は生理的に加水分解可能なその土スプルの
製法。
(I) (式中R1はカルボキシル基により置換されていてもよ
い環状の低級アルキル基、R、R及びR4は同一でも異
なってもよく、それぞれ水素原子、水酸基、メトキシ基
又はアセトキシ基を示す)で表わされる化合物、その塩
又は生理的に加水分解可能なそのエステルを有効成分と
して含有する抗菌剤。
3、発明の詳細な説明 L1上立泄皿メ1 本発明は新規なセファ0スポリンvg導体に関するもの
である。
β−ラクタム抗生物質は、細菌にのみ選択毒性を示し、
動物細胞に対しては影響を与えないことから、副作用の
少ない抗生物質として細菌による感染症の予防並びに治
療に重要な役割を果たしている。特にセファロスポリン
誘導体は一般にぺ二シリナーゼに対して安定であり、そ
の抗菌スペクトルが広く、細菌感染症の予防並びに治療
に供せられる頻度も多い。
従来技術 4級アンモニウム塩構造を有づるセファロスポリン誘導
体の記載された公開技術としては、たとえば、特開昭5
3−53690号、同55−59196号、同58−1
74387号及び同58−198490号等が掲げられ
る。
現在セフォタキシム(cefotax ime)アンテ
ィマイクロビアル エイジェント アンドケモテラピイ
(Antimicrobial Agents and
 CC11e。
tlleraE)’/、 14749(1978)]等
、第三世代と呼ばれるセファロスポリン誘導体はグラム
陽性菌、グラム陰性菌、特に腸内細菌群に優れた抗菌力
を示す。
セフタジブイム(ceftaz id ime)アンテ
ィマイクロビアル エイジェント アンドケモテラピイ
(へntimicrobialへQelltS and
 C11elllOt11erapy、 17876(
1980) )はシュードモナス・エルギノーザ(Ps
eudomonas aeruginosa)及びアシ
ネトバクタ−(ACtnetobacter)に対して
、これまで知られている中で最も優れたセファロスポリ
ン誘導体である。
尺」が解決しようとする問題点 既存のセファ0スポリン誘導体は、種々の耐性の機構を
もつ耐性のブドウ球菌又は耐性のシュードモナス・エル
ギノーザ(Pseudomonas aerugin。
Sa) 、アシネトバクタ−・カルコアセティカス(^
cinetobacter calcoaceticu
s)、セラチア−フルレッセンス(Serratia 
marcescens)等のブドウ糖汁醗酵グラム陰性
桿菌に対する抗菌活性が低い。
従って、これらの菌による難治性感染症の治療のために
、より強力で広範囲のスペクトルをもつ新規セファロス
ポリン誘導体が求められている。
また、前掲のセフオタキシム等、第31!!代と呼ばれ
るセファ0スポリン14体は、グラム陽性菌、グラム陰
性菌、特に腸内用菌群に優れた抗菌力を示すが、シュー
ドモナス及びアシネトバクタ−に強力な抗菌作用を示す
ものは稀である。したがって、これらの菌、あるいはこ
れらの菌と他の菌との混合感染による重篤な感染症の治
療に、もっと強力で有効な治療薬が望まれている。さら
には、前掲のセフタジブイムには、耐性菌が存在し、か
ならずしも満足なものではない。
問題を解決するための手段 本発明者らは、セフェム(cephem)3位に2−メ
ヂルー置換イソインドリニウムメチル基を有する新規セ
フェム化合物についてωl究した結果、イソインドリン
核にヒドロキシ基又はアセトキシ基を導入した化合物が
、イソインドリン核に無置換の化合物と比較して、グラ
ム陰性菌、特にbl凛菌、シュードモナス・セパシア(
Pseudomonas cepacia)その他のブ
ドウ糖汁醗酵グラム陰性桿菌に対し、抗菌力が著しく強
力であることを見出した。
中でも、7位の側鎖として2−(2−アミノチアゾール
−4−イル)−2−置換オキシイミノアレチル基を有し
、3位に2−メチル−5,6−ジ置換イソインドリニウ
ムメチルを有する化合物は、特に抗菌作用が漬れている
作用 木f芒明は、一般j( (I) (式中R1はカルボキシル基により置換されていでもよ
い環状の低級アルキル基、R、R及びR4は同一でも異
なってもよく、それぞれ水素原子、水rItUm、メ[
・キシ阜又はア1!1〜キシ基を示す)で表わされる化
合物、その塩又は生理的に加水分解可能なそのニスデル
である。
一般にΔキシイミノ基におIJる買換はF又は7の幾何
異性の構造をとりうるが、式■の化合物の7位のアシル
アミノ部分に含まれるAキシイミノ基の置換は2の構造
を有している。弐■の化合物の買換基R1においτカル
ボキシル基)基により胃1%されていてもよい環状の低
級アルキル基どじでは、例えば、シクロプロピル基、シ
クロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、
1−カルボキシ−1−シクロプロピル基、1−カルボキ
シ−1−シクロブチル基、1−力ルボキシ−1−シクロ
ペンチル基または1−カルボキシ−1−シクロヘキシル
基等が挙げられる。
セフェム3位の2−メチル−置換イソインドリニウムメ
チルの置換イソインドリン環としては、例えば、無置換
イソインドリン、5−ヒドロキシイソインドリン、5−
アセトキシイソインドリン、5−メトキシイソインドリ
ン、4.5−ジヒドロキシイソインドリン、5,6−ジ
ヒドロキシイソインドリン、4.5−ジアセトキシイソ
インドリン、5.6−ジアセトキシイソインドリン、4
.5−ジメトキシイソインドリン、5.6−ジメトキシ
イソインドリン、4.5−ジヒドロキシ−6−メトキシ
イソインドリン、4,5−ジヒドロキシ−7−メトキシ
イソインドリン、5.6−シヒドロキシー4−メトキシ
イソインドリン、 4.5−ジアセトキシ−7−メ[・キジイソインドリン
、5,6−ジアセ1−キシー4−メトキシイソインドリ
ン、4.5−シアt?1−キシ−6−メドキシイソイン
ドリン、4,5.6−1−リヒドロキシイソインドリン
、4,5.7−トリヒドロキシイソインドリン、4.5
.6−トリアセトキシイソインドリン、4,5.7−ト
リアセトキシイソインドリン、4,5.6−トリメ[〜
キジイソインドリンまたは4,5.7− トリメトキシ
イソインドリン等が挙げられる。
式■の化合物は、下2の方法により製造できる。
一般式 (式中R5は水素原子又はアミノ保]Ji、R6は水素
原子又はカルボキシル保i1、Rは保護されたカルボキ
シル基により買換されていてもよい環状の低級アルキル
基、Xはハロゲン原子又は11f21)iff阜、Yは
SまたはSOを示1)で表わされる化合物又はその塩を
、一般式 %式% ([) (式中R、R及びRGよ同一て゛ち巽なっでもよく、そ
れぞれ水素原子、保護されCい(ちよいと反応さUoて
、 一般式 %式%) (式中R5、R6、R7、R8、R9、RIOlRll
及びYは前記の意味を有し、Xoは陰イオンを示す)で
表わされる化合物となし、これを必要に応じメチル化及
び/又は還元したのら、保護基を除去する(△法)。
一般式 %式% (式中R、R11、R及Cf X  IJ 前++a 
)意味を右りる)で表わされる化合物、その塩又はその
シリル化合物を、一般式 (式中R5及びR7は前記の意味を右りる)で表わされ
る/Jルボン酸の反応性誘導体ににリアシル化して、 一般式 (■) (式中R、R、R、R、R、R及び θ X は前記の意味を有づる)で表わされる化合物となし
、次いで保131を除去する(B法)。
式■及び式v1のカルボン酸の置換基R5のためのアミ
ノ保Imとしては、例えばトリチル基、ホルミル基、ク
ロロアセチル基、トリフルオロアセデル基、tert−
ブトキシカルボニル基、トリメチルシリル基、tert
−ブチルジメチルシリル基等が挙げられる。酸処理によ
って容易に除去できるトリチル基が特に好ましい。置換
基R6及びR7のためのカルボキシル保IIとしては例
えば下記の基が挙げられる。
低級アルキル基例えばtert−ブチル基、ハロアルキ
ル基例えば2,2.2−トリクロロエチル基、アルカノ
イルオキシアルキル ル基、プロピオニルオキシメチル基、ピバロイルオキシ
メチル基、2−アセトキシエチル基、2−プロピオニル
オキシエチル基、1−(エトキシカルボニルオキシ)−
1−エチル基等、1−フタリジル基、アルカンスルホニ
ルアルキル基例えばメシルメチル基、2−メシルエチル
基等、アラルキル基例えばベンジル基、4−メ1〜キシ
ベンジル基、4−ニトロベンジル塞、フェネチル基、ト
リチル基、ベンツヒドリル基、ビス(4−メトキシフェ
ニル)メチル基、3.4−ジメトキシベンジル基、5−
置換−2−オキソ− 1.3−ジオキソ−ルー4−イル
−メチル基例えば5−メチル−2−オキソ−1.3−ジ
オキソ−ルー4−イル−メチル基、アルキルシリル基例
えばトリメチルシリル基、tert−ブチルジメチルシ
リル基等。酸処理によって容易に除去できるペンツヒド
リル基又はtert−ブチル基が特に好ましい。
式■の化合物の置換基Xのためのハロゲン原子としては
、例えば塩素、臭素、ヨウ素等、、脱離基としては例え
ばアセトキシ基、トリフルオロアセトキシ基、メタンス
ルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキ
シ基、フェニルスルホニルオキシ基、p−トルエンスル
ホニルオキシ基等が挙げられる。特に臭素又はヨウ素が
好ましい。
式Vlのカルボン酸の反応性誘導体としては、例えば酸
ハロゲン化物は、カルボンl!l(VI)をハロゲン化
剤と反応させることにより得られる。反応は不活性溶媒
、例えば塩化メチレン、クロロホルム、ジクロルエタン
、ベンゼン、トルエン等又はこれらの混合物中で行われ
る。ハロゲン化剤としては例えば塩化チオニル、三塩化
燐、五塩化燐、オキシ塩化燐、三臭化燐、オキザリルク
ロライド、ホスゲン等が用いられる。ハロゲン化剤の使
用量は、カルボン酸(Vl)1モルに対し、1〜10モ
ル好ましくは1〜1.5モルで、反応温度は−40〜+
100℃好ましくは一20〜+20℃、反応時間は10
〜60分である。
式■1のカルボン酸の混合酸無水物は、VIをクロル炭
酸アルキル、脂肪族のカルボン酎クロライド等と反応さ
せることにより得られる。反応は不活性溶媒例えばアセ
トン、ジオキサン、アセトニトリル、テトラヒドロフラ
ン、塩化メチレン、クロロホルム、ベンゼン、酢酸エチ
ル、ジメチルホルムアミド等又はこれらの混合物の中で
行われる。
反応は三級アミン例えばトリエチルアミン、N−メチル
モルホリン等の存在下に行うことが好ましく、反応温度
は−30〜+20℃好ましくは一15〜O℃、反応時間
は10〜30分である。
式■1のカルボン酸の活性エステルは、カルボン1’l
Q(Vl)を好ましくは1〜1.2モルのN−ヒドロキ
シ化合物又はフェノール化合物と反応させることにより
得られる。反応は不活性溶媒例えばアセトン、ジオキサ
ン、アセト二1〜リル、テトラヒドロフラン、塩化メチ
レン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルホルムアミ
ド等又はこれらの混合物の中で行われる。
ド、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール等、フェノール
化合物としては例えば4−二トロフェノール、2.4−
ジニトロフェノール、トリクロロフェノール、ペンタク
ロロフェノール等が用いられる。
反応は縮合剤例えばN。
N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド1、2モルの存
在下に行うことが好ましい。反応温度は−30〜+40
℃好ましくは一10〜+25℃、反応時間は30〜12
0分である。
基YがSである式Hの化合物は、一般式(式中R6及び
Xは前記の意味を有し、Zは水素原子又はアシル基を示
す)で表わされる化合物を式Vlのカルボン酸の反応性
誘導体を用いてアシル化することにより19られる。ま
た基YがSOである式Hの化合物は、基Y lfi S
である式■の化合物を酸化プることにより得られる。置
tgJixがヨウ素である式Hの化合物は、Xが塩素で
ある式Hの化合物をヨウ化ナトリウムと反応させて製造
することができる。
式Vの化合物は、Zがアシル基である式■の化合物をR
 がメチル基である弐■のアミンと反応させたのち、脱
アシル化することにより得られる。
式■の化合物は、一般式 (式中R6は及びZは前記の意味を有・する)で表わさ
れる化合物から容易に製造することができる。
、へ法により式■の化合物を製造するに際しては、まず
溶媒中で式■の化合物を弐■の遊離アミン又はアミン塩
と反応させる。アミン塩として塩酸塩、臭化水素i!!
塩、硫酸塩及び酢酸塩等を用いる場合は、中和量の3級
アミン例えばトリエチルアミン等の存在下に反応を行う
。溶媒としては例えば塩化メチレン、クロロホルム、エ
ーテル、酢酸エチル、酢酸ブチル、テトラヒドロフラン
、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキサイド等の非水有機溶媒又はこれらの混合物が用
いられる。弐■のアミンは、前記溶媒中で、N。
0−ビストリメデルシリルアセトアミド等のシリル化剤
でシリル化して使用することもできる。弐■のアミンの
使用量は、式■の化合物1モルに対し、1〜2モルであ
る。反応温度は0〜35℃で、反応は0.5〜srgr
間で終了する。
置換穴R が水素原子である弐■の2級アミンを用いる
場合には、その生成物(IV)を単離することなく反応
溶液のまま、あるいはその生成物(1v)を分子!n精
製して、ヨウ化メチルと反応させ、アンモニオ化合物(
 IV )とする。このメチル化反応を前記の非水有機
溶媒中で行う場合、ヨウ化メチルの使用部は生成物(I
V)1モルに対し、1〜30モル好ましくは3〜15モ
ルで、反応温度は一30〜+35℃、反応は数時間ない
し数日で終了する。
また溶媒の不在下に生成1(IV)に過剰のヨウ化メチ
ルを10〜35℃で、5〜20時間反応させることによ
ってもアンモニオ化合物(IV)が得られる。
IyがSOである式Hの化合物を用いる場合には、アン
モニオ(1■)を公知の方法、例えばジャーナル オブ
 A−ガニツク ケミストリー[JOUrnal of
 Oraanic Cbemistry.35 243
0(1970)]、シンセシス[Syntbesis 
58(1979)]又はジャーナルオブ ケミカル リ
リ゛−チ[Journal or Cl+emical
Research 341(1979月等に記載の方法
により還元する。例えば生成物(IV )を不活性有機
溶媒例えばアレ1ヘン、塩化メヂレン、クロロホルム、
テトラヒドロフラン、酢酸エチル等に溶解し、ヨウ化カ
リウム又はヨウ化す1ヘリウムを加え、−40〜O℃で
アセデルクロライドを滴下し、−20〜−10℃で1〜
2時間反応さけることにより還元できる。
ヨウ化物の使用間は、生成物(IV)1モルに対し、3
.5〜10モル、アセチルクロライドの使用間は、1.
5〜5モルである。こうして得られた化合物から保護基
を除去すると式Tの化合物が11られる。
保護基の除去方法はその保護基の種類に応じて常用の方
法を適宜選択して行うことができる。酸による方法が好
ましく、酸としては例えばギ酸、1−リフルオロ酢酸、
ペンげンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、塩酸等
の無1もしくは有機酸等があげられ、トリフルオロ酢酸
が好ましい。
なお酸としてトリフルオロ酢酸を用いる場合には、アニ
ソールを添加することにより反応が促進される。またこ
の反応は不活性溶媒、例えば塩化メチLノン、塩化エチ
レン、ベンゼン等の有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒
の中で、特に塩化メチレン中で行うのが好ましい。反応
温度は特に限定されず、原料化合物及び反応生成物の化
学的性質、保護基の種類、除去方法等の種類に応じて適
宜選択し、特に冷却下ないし加温程度の緩和な条件で行
うのが好ましい。
B法により式1の化合物を製造づるに際しては、まず溶
媒中で式Vの化合物を式Vlのカルボン酸の反応性誘導
体と反応さける。反応は不活性溶媒例えば水、アセトン
、ジオキサン、アt?Iへ二1〜リル、テトラヒドロフ
ラン、塩化メチレン、クロロホルム、ベンビン、酢酸エ
チル、ジメチルボルムアミド等又はこれらの混合物の中
で行われる。カルボンl’1(Vl)の反応性誘導体の
使用間は、式Vの化合物1モルに対し、1〜1.5モル
である。反応温度は−40〜+40℃好ましくは一20
〜+30℃である。
カルボンM (Vl )の酸クロライドを用いる場合は
、炭酸アルカリ金属又は有機アミン例えばトリメチルア
ミン、i〜リエエチアミン、N−メチルモルホリン等の
存在下に反応させ ることが好ましい。
反応終了後、生成物(■)を分離し9、A法と同様に保
護基を除去すると、式1の化合物が(qられる。
式■の化合物は常法により塩又は生理的に加水分解可能
なエステルとすることができる。
式1の化合物の塩としては医療上許容される1n用的な
もの、例えばナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、
カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属、N、
N′−ジベンジルエヂレンジアミン、プロ力イン等の右
懇アミン、塩酸、硫酸、硝酸、過クロル酸、臭化水素酸
等の無ti酸、酢酸、乳酸、プロピオン酸、マレイン酸
、フマール酸、りんご酸、酒石酸、くえん酸等の有機酸
、メタンスルホン酸、イレチオン酸1、p−トルエンス
ルホン酸等の有機スルボン酸、アスパラギン酸、グルタ
ミン酸等のアミノ酸の塩等が挙げられる。生理的に加水
分解可能なエステルとしては、例えばアヒトキシメチル
エステル、ピバロイルオキシメチル等のアルカノイルオ
キシエステル類、1−(工l〜キシカルボニルオキシ)
−1−エチル等のアルコキシカルボニルオキシアルキル
エステル−オキソ− 1.3−ジオキソ−ルー4−イル
メチル等の5=置換−2−、1−キソ− 1,3−ジオ
キソ−ルー4−イルメチルエステル類等が好ましい。
本発明の化合物の秤々の細菌に対する最小阻止濃度(M
 I C :μ!?/d)を、セフォタキシム及びセノ
タジディムを比較化合物として、センシティビティ デ
ィ、スフ アガールにッスイ)を用いて寒天平板希釈法
で測定したく菌数:106CFU/−)。その結果を下
記表に示す。
この成績から明らかなように、イソインドリン核に2個
の置換基を有する式■の化合°物は、グラム陰性菌特に
ぶどう糖非醗酵グラム陰性桿菌例えばシュードモナス・
エルギノーザ、シュードモナスやセパシア(Pseud
omonas cepacia) 、シュードモナス・
マルトフイリア(Pseudomonas malto
philia) 、アシネトバクター・カルコアセティ
カス等に対して優れた抗菌活性を示す。特にこれら化合
物は公知のせ710スポリン誘導体に耐性を有するシュ
ードモナス・エルギノーザAKR−17及びセフタジブ
イムに耐性を有するシュードモナス・フル1−フイリア
ll[)1275に対しても強い抗菌活性を示す点で優
れている。
イソインドリン核の5.6位にヒドロキシ基を導入する
と、グラム陰性菌一般、特にシュードモナス及びアシネ
トバクターに対する抗菌力は飛躍的に増大し、例えばシ
ュードモナス・エルギノーザA K 109に対し、実
施例1E、2F及び3Cの化合物は、アシル側鎖にメト
キシイミノ、イソインドリン核上に置換基のない化合物
く参考例)と比較して、それぞれ62倍以上の抗菌活性
を示した。
セフタジブイムを含む全てのセファ0スポリンに耐性で
あるシュードモナス・エルギノーザAKR17に対して
実施例IF、2F及び3Cの化合物は無置換の化合物(
参考例)のそれぞれ125倍以上の抗菌活性を示した。
シュードモナス・セパシア23に対しては実施例1E、
2F及び3Cの化合物は参考例の化合物のそれぞれ12
5倍以上の抗菌活性を示した。アシネトバクター・カル
コアセティカスに対しては実施例1E、2F及び3Cの
化合物は参考例の化合物のそれぞれ125倍、250倍
及び125倍の抗菌活性を示した。またセフタジブイム
耐性であるシュードモナス・マルトフイリアに対しては
、実施例1E、2F及び3Cの化合物はそれぞれ8倍、
16倍及び4倍以上の抗菌活性を示した。
本発明の化合物は感受性並びに耐性のグラム陰性菌及び
グラム陰性菌、特に耐性のシュードモナス・エルギノー
ザ、シュードモナス・セパシア、アシネトバクタ−・カ
ルコアセティカス等に強い抗菌力を示した。
本発明はさらに、式■の化合物の塩又は生理的に加水分
解可能なそのエステルを有効成分として含有する抗菌剤
として有用である。
本発明の化合物は、固体又は液体の屋形剤の担体と混合
し、経口投与、非経口投与又は外部投与に適した医薬製
剤の形で使用することができる。
医薬製剤としては注射剤、シロップ剤、乳剤等の液剤、
錠剤、カプセル剤、顆粒剤等の固形剤、軟膏、坐剤等の
外用剤等が挙げられる。
前記の製剤には、助剤、安定剤、湿潤剤、乳化剤等の通
常使用される添加剤が含まれていてもよい。例えば注射
剤には注射用蒸留水、生理食塩水、リンゲル液等の溶解
液、パラオキシ安息香酸メチル、パラオキシ安息香酸プ
ロピル等の保存剤等の添加剤を含有してもよい。シロッ
プ剤、乳剤等の液剤には、ソルビトールシロップ、メチ
ルセルロース、グルコース、しょ糖シロップ、ゼラチン
、ヒドロキシエチルセルロ−ス セルロース、ステアリン酸アルミニウムゲル、食用油、
扁桃油、ココナツ油、油性エステル、ソルビタンモノオ
レエート、プロピレングリコール、グリセリン、エチル
アルコール、水等のほか、アラビアゴム、ゼラチン、レ
シチン等の乳化剤、ツイーン、スパン等の界面活性剤等
を含有してもよい。固形剤としては乳糖、しよ糖、とう
もろこし殿粉、燐W jノルシウム、ステアリン酸マグ
ネシウム、タルク、珪酸、アラビアゴム、ゼラチン、ソ
ルビトール、1へラガント、ポリビニルピロリドン、ポ
リエチレングリコール、ラウリル硫酸ナトリウム等が用
いられる。軟膏、坐剤の基剤としては例えばカカオ脂、
グリセリド類、ポリエチレングリコール類、白色ワリセ
リン等が用いられる。必要に応じて界面活性剤や吸収促
進剤を含有してもよい。
本発明の化合物(I)は細菌感染症例えば呼吸器感染症
、尿路感染症、産婦人科感染症、化膿性疾患、外f4感
染症等の治療及び予防に用いることができる。投与量は
忠者の年齢及び状態によって異なるが、通常は1日当り
1〜100m’j/Kgの範囲で使用され、1日当り5
〜30my/ Kgで2〜4回に分【ノて投与づること
が好ましい。
次に実施例をあげて本発明を更に詳説するが、本発明は
これに限定されるものではない。
裏蓋」 実施例1 (八)ペンツヒドリル 7− [(Z) −2− (1
 −tert−ブトキシカルボニル− ポキシイミノ)−2− (2−トリチルアミノデアゾー
ル−4−イル)アセトアミド1−3−ヨードメチル−3
−セフェム−4−カルボキシレート 1−オキサイド ペンツヒドリル 7 − [(Z) − 2 − ( 
1 −tert−ブ]・キシカルボニル−1−シクロプ
ロポキシイミノ)−2− (24リヂルアミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド1−3−クロロメチル−3
=ヒフエム−4−カルボキシレート14.2g(14.
7ミリモル)を塩化メチレン280dに溶解し、水冷下
メタクロル過安息香M 2.98 CI(14.7ミリ
モル)を加え10分間iff拌した。反応溶液に10%
チオ硫酸ナトリウム水溶液60Intlを加えた後、こ
の水溶液を5%炭酸水素ナトリウム水溶液中に注ぎ、塩
化メチレンで抽出し、無水@酸ナトリウムで脱水した。
減圧濃縮して得た残渣をアセトン300dに溶解した侵
、0℃でヨウ化ナトリウム4.4g(29.4ミリモル
)を加え、室温で15分間撹拌した。反応溶液に酢酸エ
チル1000dを加え、チオ硫酸ナトリウム水溶液及び
飽和食塩水で洗浄した後、有機溶媒層を無水[1ナトリ
ウムで脱水した。減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルフ
ラッシュカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−
ヘキサン−1:2)に付し、標記化合物9.52 g(
収率60%)を得た。
(B)ペンツヒドリル 7− [(2) −2− (1
 −tert−ブトキシカルボニル−1−シクロプロポ
キシイミノ)−2− (2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド1−3− ( 5.6−シヒ
ドロキシイソインドリンー2−イル)メチル−3−セフ
ェム−4−カルボキシレート 1−オキサイド (A)で1りた化合物2.5g(2,3ミリモル)をジ
メチルホルムアミド25−に溶解し、5.6−シヒドロ
キシイソインドリン・臭化水素酸塩0.67 g(2,
フロミリモル)及び1−リエチルアミン0.77m1 
(5,52ミリモル)を加え、室温で2時間撹拌した。
減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲルフラッシュカラムク
ロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン−3:1
)に付し、無晶形の標記化合物1.649 (収率64
%)を得た。
N)IR(DH3O−d6)δ:  1.40(911
,s)、1.30(411,m)。
3.20〜3.80(811,m)、5.08(111
,d、 J=411z)、 5.90(Ill、 m)
6.58(2tl、s)、 6.88(III、s)。
7.00(111,s)、7.10〜7.60(251
1,m)、8.50〜8.90(211m) (C)ペンツヒドリル 7− [(Z) −2−(1−
tert−ブトキシカルボニル−1−シクロプロポキシ
イミノ) −2−(2−トリチルアミンチアゾール−4
−イル)アセトアミド]−3−(5,6−シヒドロキシ
ー2−メチル−2−イソインドリニウム)メチル−3−
セフェム−4−カルボキシレート ヨード塩 (B)で冑た化合物1.64 g(  1.48ミリモ
ル)をヨウ化メチル1ht7 (14.8ミリモル)に
溶解し、室)品で2.5時間放置した。減圧上過剰のヨ
ウ化メチルを留去した後、残漬をシリカゲルフラッシュ
カラムクロマ1−グラフィー(5%メタノール・塩化メ
チレン)に付し、無晶形の標記化合物1.13g(収率
61%)を得た。
NMR(D)(SO−(16)δ:  1.38(41
1,m)、1.40(9H,S)。
2、90(311,bs)、4.10 〜4、90  
(811,m)、5.22(ill,d。
J=411z)  6.00(III,dd,J=4及
び711z) 6. 76(211, s)。
6、89(Ill,s)、 7.01(III,s)。
1、10〜7. 60  (2511, m)。
8、80(III,bd,J=7  11z)。
9、28(III,bs) (D)ペンツヒドリル 7− [(Z) −2− (1
 −tert−ブトキシカルボニル− ポキシイミノ)−2− (2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド1−3− ( 5.6−シ
ヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メ
チル−3−セフェム−4−カルボキシレート・ヨード塩 (C)で得た化合物1.19 ( 0.88ミリモル)
をアセトン20dに溶解し、ヨウ化カリウム0.58 
9(3.5ミリモル)を加え、−5℃でアセチルクロラ
イド0.12 d ( 1.75ミリモル)を滴下し、
1時間撹拌した。反応溶液にメタ重亜硫酸ナトリウム水
溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸
ナトリウムで脱水した後、減圧上溶媒を留去し、残渣に
ついて再び上記の反応操作を行なった。上記同様の後処
理を行ない無晶形の標記化合物1.43 gを得、精製
することなく次の反応に用いた。
(E) 7− [(7) −2− ( 2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2− (1−カルボキシ−1−シ
クロプロポキシイミノ)アセトアミド]−3−(5.6
−シヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム
)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート (0)で得た化合物1.43gを塩化メチレン2d及び
アンソール2Idの溶液に溶解した俊、−5℃で1−リ
フルオロ酢酸5dを加え1時間撹拌した。
反応溶液を減圧濃縮し、残漬を塩化メチレンに溶解し水
で抽出した。水層を逆相カラムクロマグラフィー ( 
Waters Pre Pack 500/C−18 
: 2%テトラヒドロフラン・水)に付し、目的物を含
む分画を集め、減圧濃縮した後凍結乾燥し、標記の目的
化合物4img(前工程からの収率1.4%)を得た。
融点  :164℃(分解) tR(KBr)  : 3425, 1780. 16
22aR−1NOR(CF3COOI+)δ:  1.
38(411,m)、2.98(311,bs)。
3、 28(21, bs)、 4.20〜4、 70
(611, m)、 4. 90(ltl, d, J
=411z)、5.48(III,dd,J−4及び7
11z)、6. 50(211, s)、 6. 89
(ltls)、  8.08(Ill、bd、J=71
1z)実施例2 (へンベンツヒドリル 7− [(Z) −2−(1−
ベンツヒドリルオキシカルボニル−1−シクロブトキシ
イミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−
イル)アセトアミド1−3−クロロメチル−3−セフェ
ム−4−カルボキシレート (z)−2−(1−ベンツヒドリルオキシカルボニル−
1−シクロブトキシイミノ)−2−(2−トリチルアミ
ノチアゾール−4−イル)酢酸1.829 (2,62
ミリモル)及びベンツヒドリル7−アミノ−3−クロロ
メチル−3−1?フエムー4−カルボキシレート 1.
09 g(2,62ミリモル)を塩化メチレン40m1
に溶解した後、氷NJ下 N。
N−ジメチルアニリン1.06 d (8,39ミリモ
ル)及びオキシ塩化リン0.26 d (2,75ミリ
モル)を滴下し、同温度で4時間撹拌した。反応溶液に
クロロボルム3(7及び水30d加え、有機層を水及び
飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで脱水、
濃縮して標記化合物残渣を得、精製することなく、次の
反応に用いた。
(B)ベンツヒドリル 7− [(Z) −i (1−
ベンツヒドリルオキシカルボニル− ロブトキシイミノ)−2− (2−トリチルアミノデア
ゾール−4−イル)アt?ドアミド1−3−クロロメチ
ル−3−セフェム−4−力ルポキシレー1〜 1−オキ
サイド (A)で1!7た残漬を塩化メチレン50mに溶解し、
水冷下メタクロル過安息香酸く純度80%)  620
ml( 2.87ミリモル)を加え、20分間撹拌した
。反応溶液に塩化メチレン30ml及び5%炭酸水素す
(〜リウム水溶液を加えた後、有Fjamを分液し、水
及び飽和食塩水で洗浄した。有橢層を無水硫酸す1ヘリ
ウムで脱水した後、濃縮して標記化合物残漬を得、精製
づることなく、次の反応に用いた。
(C)ペンツヒドリル 7− [(Z)−2−(1 −
ベンツヒドリルオキシカルボニル−1−シクロブトキシ
イミノ)〜2−(2−1−リヂルアミノチアゾールー4
ーイル)アセi〜アミド]=3ーヨートメデル−3−セ
フェム−4−力ルポキシレート 1−オキサイド (B)で+qた残漬をアセミーン40dに溶解し、ヨウ
化ナトリウム870Rg( 2.62ミリモル)を加え
、空温で30分間1異拌した。反応溶液に酢酸エチル1
20IR1及び5%チチオMナトリウム20dを加え分
液した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水
硫酸ナトリウムで脱水し減圧下濃縮した。濃縮残漬をシ
リカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー(酢酸エ
チル二〇ーヘキサン−1:2)に付し、目的物を含む分
画を集め、減圧濃縮し残漬にイソプロピルエーテルを加
え粉末状の標記化合物2.63 9 (Aからの収率8
3,1%)を得た。
IR(KBr)  : 1800,1730,1690
,1520,1495,1450。
f370cIt−1 Nun(DHSO−d6)δ:  2.00(211,
i)、 2.45(411,m)。
3、90(211,m)、4.25(2tl,ABq)
J=911Z)、 5. 10(111, d, J=
5117)5、95 (ill,dd,J=5及び91
1z)6、 78Hlf, s)、 6. 85(II
I, s)。
1、 00(Ill, s)、 7. 30(3511
, ml。
8、87(111,d,J=911z)、  8.82
(tit,bs) (D)ベンツヒドリル アー[(Z) −2− (1 
−ベンツヒドリルオキシカルボニル− ロブトキシイミノ”)−2− (2−トリチルアミノチ
アゾール−4−イル)アセトアミド1−3−(5.6−
シヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)
メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート 1−オ
キサイド・ヨード塩 5、6−シヒドロキシー2−メチルイソインドリン4B
11#t!F ( 2.80ミリモル)を酢酸ブチル2
6成に懸濁し、N.O−ビストリメチルシリルアセトア
ミド1,4雇( 5.62ミリモル)を加え、50℃で
30分間撹拌した後水冷した。この溶液を(C)で得た
粉末2.59 9 ( 2.16ミリモル)を含む酢酸
ブチル溶液2hteに、水冷下一度に加え同温度で3時
間撹拌した。反応溶液をそのままシリカゲルフラッシュ
カラムクロマトグラフィー(4%メタノール・塩化メチ
レン)に付し、粉末状の標記化合物を1.609 (収
率54,3%)を得た。
[R(KBr)  : 1790,1730,1660
,1520,1450,1390゜1350、1300
.1250.1150 cm −1(E)ベンツヒドリ
ル 7− [(Z) −2−(1−ベンツヒドリルオキ
シカルボニル− ロブトキシイミノ)−2− (2−トリチルアミノチア
ゾール−4−イル)アセトアミド]−3−(5.6−シ
ヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メ
チル−3−セフェム−4−カルボキシレート・ヨード塩
CD)で得た粉末1.60 g( 1.17ミリモル)
をアセトン35mlに溶解し、ヨウ化カリウム914■
(5.85ミリモル)を加え、−20℃でアセチルクロ
ライド0.21 d ( 2.93ミリモル)を滴下し
た。
1時間撹拌した後、ヨウ化カリウム974η(5.85
ミリモル)及びアセチルクロライド0.21 #ti!
( 2.93ミリモル)を加え、1時間撹拌した。反応
溶液に塩化メチレン140d及び5%メタ重亜硫酸ナト
リウム水溶液35rdを加え分液した。有機層を水及び
飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで脱水し
、Q縮して標記化合物の残漬を冑、精製することなく次
の反応に用いた。
(r)7−[(7)−2− (2−アミノチアゾール−
4−イル)−2− (1−カルボキシ−1−シフロブ1
−キシイミノ)アセトアミド]−3− ( 5.6−シ
ヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メ
チル−3−セフェム−4−カルボキシレート (E)で得た残漬をアニソール1.6rnl及び塩化メ
チレン137に溶解し、水冷下、トリフルオロ酢酸16
dと塩化メチレン3dの溶液を20分間で滴下した。同
温度で1時間撹拌した後減圧下に溶媒を留去した。残留
物に酢酸エチル30Id!を加え減圧下に濃縮したくこ
の操作を2回繰り返した)。この残留物に′Fii 酸
エチル40!nlを加え、不溶物を濾取した。
この不溶物を95%ギ酸35fd.に溶解し40℃で1
時間撹拌した後減圧下に濃縮した。残留物に酢酸エチル
40dを加え不溶物を濾取した。この不溶物に水1 0
0InIlを加え30分間撹拌した後不溶物を濾別()
、濾液を逆相カラムクロマトグラフィー( ODS, 
100d;吸着、水洗後、2%テトラヒドロフラン・水
)にて精製し、″減圧下に有機溶媒を留去した侵、凍結
乾燥して標記化合物46my(Eからの収率6.4%)
を得た。
融点  :157℃(分解) IR(KBr)  :  1775,1660,162
0,1540,1400。
1350cm−1 NMR(DHSO−d6)δ:  1.90(211,
IR)、2.40(4H,m)。
3、05(311,bs)、5. 15(lit,d。
J=511z)、5.80(III,dd,J=5及び
911z)、 6. 90(3tl, s)、 9. 
70(ltl, d, J=911z) 実施例3 (八)ペンツヒドリル 7−[(Z) −2− (1 
−ベンツヒドリルオキシカルボニル− ロペンチルオキシイミノ)−2− (2−トリチルアミ
ノチアゾール−4−イル)アセトアミド]−3−(5.
6−シヒドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウ
ム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート 1
−オキサイド・ヨード塩 5、6−シヒドロキシー2−メチルイソインドリン51
7q ( 3.13ミリモル)を酢酸ブチル26dに懸
濁し、N,O−ビストリメチルシリルアセトアミド1.
5d ( 6.26ミリモル)を加え、50℃で30分
間撹拌した侵水冷した。この溶液を実施例2(A)、(
B)及び(C)と同様の操作を行なって得たペンツヒド
リル 7− [(7)−2−(1−ベンツヒドリルオキ
シカルボニル−1−シクロペンチルオキシイミノ)−2
−(2−1−クチルアミノチアゾール−4ーイル)アセ
トアミド]−3−ヨードメチル−3−セフェム−4−カ
ルボキシレート 1−オキサイド2.92 g( 2.
41ミリモル)を含む酢酸ブチル溶液26dに、水冷下
一度に加え同温度で3時間撹拌した。反応溶液をそのま
まシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー(5
%メタノール・塩化メチレン)に付し、粉末状の標記化
合物1.48 9 (収率44.6%)を得た。
IR(にBr)  :1800,1730,1670,
1520,1450.t300゜1250,1170,
1060,1030,845,750゜700  cm
−1 (B)ベンツヒドリル 7− [(Z) −2−(1−
ベンツヒドリルオキシカルボニル−1−シクロペンチル
オキシイミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド]−3−(5,6−シヒドロ
キシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メチル−
3−セフェム−4−カルボキシレート・ヨード塩 (A)で得た粉末1.48 (j (1,07ミリモル
)をアセトン30−に溶解し、ヨウ化カリウム890■
(5,37ミリモル)を加え、−20℃でアセチルクロ
ライド0.19 d (2,69ミリモル)を滴下した
1時間撹拌した後ヨウ化カリウム890#1g(5,3
7ミリモルン及びアセチルクロライド0.19 d(2
゜69ミリモル)を更に加え、1時間撹拌した。反応溶
液に塩化メチレン120−及び5%メタ重亜(a酸ナト
リウム水溶液30dを加え分液した。有機層を水及び飽
和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで脱水し、
濃縮して標記化合物の残漬を得、精製することなく次の
反応に用いた。
IR(KBr)  : t790,1730,1680
,1520,1495,1450゜1180.1000
.750.700α−1(C)7− [(Z)−2−(
2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(1−カルボ
キシ−1−シクロペンデルオキシイミノ)アセトアミド
フ−3−(5,6−シヒドロキシー2−メチル−2−イ
ソインドリニウム)メチル−3−セフェム−4−カルボ
キシレート (B)で)りた残漬をアニソール1.5m及び塩化メチ
レン10dに溶解し、水冷下、トリフルオロ酢酸15d
と塩化メチレン5dの溶液を15分間で滴下した。同温
度で1時間tj1.拝した後減圧下に溶媒を留去した。
残留物に酢酸エチル30dを加え減圧下に濃縮した(こ
の操作を2回繰り返した)。この残留物に酢酸エチル4
0dを加え不溶物を濾取した。
この不溶物を95%ギ酎3耐rdに溶解し、40℃で1
時間撹拌した後濃縮した。残留物に酢酸エチル40In
lを加え不溶物を濾取した。この不溶物に水100m1
を加え30分撹拌した後不溶物を濾別し、濾液を逆相カ
ラムクロマトグラフィー(oos、ioo Inl;吸
着、水洗後、3%テトラヒドロフラン・水)にて精製し
、減圧下に有機溶媒を留去した後、凍結乾燥して標記化
合物75IRg(Aからの収率10,6%)を得た。
融点  :165℃(分解) In(KBr)  :  1775,16G0,162
0,1540,1400,1350゜1200、100
0cm −1 N)fF?(DNSO−d 6 ン δ :   ?、
70(411,m)、2.70(411,m)。
3.05(311,bs)、5.15(111,d。
J=511z)、5.75(lfl、dd、J−5及び
911z)、 6.80(311,s)、 9.701
11、d、 J−911z) 実施例4 (八)ペンツヒドリル 7−[(Z)−2−シクロペン
チルオキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド]−3−(5,6−シヒド
ロキシイソインドリンー2−イル)−3−セフェム−4
−カルボキシレート 1−オキサイド ペンツヒドリル 7−[(Z)−2−シクロペンチルオ
キシイミノ)−2−(2−1−ジチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド1−3−ヨードメチル−3−
セフェム−4−カルボキシレート をジメチルホルムアミド26.4mに溶解し、5.6−
ジヒドロキシイソインドリン・臭化水素酸塩0.649
 (2,65ミリモル)を加えた後、トリエチルアミン
0.74 d (5,30ミリモル)を室温で滴下した
。反応溶液を1時間撹拌した後、減圧下にジメチルホル
ムアミドを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン=3 : 1 )
にて精製し、標記化合物1.42 g(収率52%)を
得た。
NHR(0830−d6)δ:  1.70 (811
,n+)、3.10〜4、10(811,m)、 4.
70(III、 m)。
5、10(tit、d、J=51tz)、5.90(I
II、dd、J=5及び811z)、 6.60(21
1,bs)、 6.83<III、 s)、1.01(
1,+1. S)、 7.10〜7.80(2511゜
m)、 8.56(111,bd; J−811z)(
B)ペンツヒドリル 7−[(Z)−2−シクロペンデ
ルオキシイミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド>3−(5,6−シヒドロ
キシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メチル−
3−セフェム−4−カルボキシレート 1−オキサイド
・ヨード塩 (八)で得た化合物1.42 g(1,38ミリモル)
をヨウ化メチル14d (225ミリモル)に溶解し、
空温で16時間放置した。反応溶液を減圧上濃縮し、残
)古をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(5%メタ
ノール・塩化メチレン)にて精製し標記化合物1.25
 Lj(収率17%)を得た。
NHII(DH3O−d6)δ:  1.70(811
,m)、2.90(311,bs)。
3.42(211,bs)、4.20(III、m)。
4.60(6H,m)、5.20(111,d、J−5
11z)、5.98(Ill、dd、J=5及び711
z)、6.77(211,bs)、6.80(11f、
 s)、 7.03(Ill、 s)、 7.10〜7
.80(251!、m)、8.86(111,bd。
J=7112) (C)ペンツヒドリル 7−[(1)−2−シクロペン
チルオキシイミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾ
ール−4−イル)アセトアミド]−3−(5,6−シヒ
ドロキシー2−メチル−2−イソインドリニウム)メチ
ル−3−セフェム−4−カルボキシレート−・ヨード塩
(8)で冑た化合物1.25 g(1,07ミリモル)
をアセトン25d (1,07ミリモル)に溶解した後
、ヨウ化カリウム0.71 g(4,28ミリモル)を
加え、0℃でアセチルクロライド0.15 d (2,
14ミリモル)を滴下した。反応溶液を0℃で1時間撹
拌した後、水冷したメタ重亜硫酸す]ヘリウム水溶液に
注ぎ、酢酸エチルで抽出し粗製の標記化合物残漬を精¥
Fj−Jることなく次工程に用いた。
(D)7− [(Z)−2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−シクロベシチルオキシイミノアセトア
ミド]−3−(5,6−シヒドロキシー2−メチル−2
−イソインドリニウム)メチル−3−廿フエムー4−カ
ルボキシレート (C)で1qた残渣を塩化メチレン2−及びアニソール
2dに溶解した後、水冷下トリフルオロ酢酸5rnIl
を滴下した。反応溶液を1時間撹拌した後、減圧上濃縮
し残漬に酢酸エチル及び水を加えた。
水層を濃縮したのもODSカラムクロマトグラフィー 
(Bondapack : 30%メタノール・水)で
精製し、標記化合物196ay (前工程からの収率3
0%)を1qた。
融点  =159℃(分解) 111(KBr)  :  3425,1775.16
t9 cm−1N)IR(CF3COOI+)δ:  
1.40(411,m)、1.51(411,m)。
2.97(311,bs)、3.40(211,bs)
4、47(711,n)、 4.90(ill、 d、
 J=511z)、5.48(111,dd、J=5及
び7tlz)、6.49(2tl、bs)、6.89(
III、 s)、 8.11 (ill、 bd、 J
=711z)参考例 ペンツヒドリル 3−ヨードメチル−7−[(2)−2
−メトキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド]−3−セフェム−4−カ
ルボキシレート 1−オキサイド及び2−メチルイソイ
ンドリンを用い、実施例1〜3に記載したと同様な方法
で7−[(7)−2−(2−アミノデアゾール−4−イ
ル)−2−メ1〜キシイミノアセトアミド] −3−(
2−メチル−2−イソインドリニウム)メチル−3−セ
フェム−4−カルボキシレートを得た。
融点  =150℃(分解) IR(にBr)  :  1770.1660.162
0.1530.1345゜1030c!R−1 NHR(D 20)δ:  3.23(311,s)、
3.98(311,s)、5.16(III、 d、 
J−4,511z)、 5.76(11I、 d、 J
讃4、511z)、 6.93(ltl、 s)、 7
.38(411゜bs) 発m九里 本発明の化合物は感受性並びに耐性のグラム陰性菌及び
グラム陰性菌、特に耐性のシュードモナス・エルギノー
ザ、シュードモナス・セパシア、アネシトバクター・カ
ルコアセティカス等に強い抗菌力を示し、細菌感染症治
療薬として期待される。特に7位の側鎖として2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)−2−置換オキシイミ
ノアセチル基を有し、3位に2−メチル−5,6−ジ置
換イソインドリニウムメチル基を右づる化合物(実施例
1 (E) 、 2(F) 、 3(C)及び4(D)
)は強い抗菌活性を示す。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R^1はカルボキシル基により置換されていても
    よい環状の低級アルキル基、R^2、R^3及びR^4
    は同一でも異なってもよく、それぞれ水素原子、水酸基
    、メトキシ基又はアセトキシ基を示す)で表わされる化
    合物、その塩又は生理的に加水分解可能なそのエステル
  2. (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中R^5は水素原子又はアミノ保護基、R^6は水
    素原子又はカルボキシル保護基、R^7は保護されたカ
    ルボキシル基により置換されていてもよい環状の低級ア
    ルキル基、Xはハロゲン原子又は脱離基、YはS又はS
    Oを示す)で表わされる化合物又はその塩を、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中R^8、R^9及びR^1^0は同一でも異なっ
    てもよく、それぞれ水素原子、保護されていてもよい水
    酸基、メトキシ基又はアセトキシ基、R^1^1は水素
    原子又はメチル基を示す)で表わされるアミンと反応さ
    せて、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中R^5、R^6、R^7、R^8、R^9、R^
    1^0、R^1^1およびYは前記の意味を有し、X^
    ■は陰イオンを示す)で表わされる化合物となし、これ
    を必要に応じ、メチル化及び/又は還元したのち、保護
    基を除去することを特徴とする、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中R^1はカルボキシル基により置換されていてもよ
    い環状の低級アルキル基、R^2、R^3及びR^4は
    同一でも異なってもよく、それぞれ水素原子、水酸基、
    メトキシ基又はアセトキシ基を示す)で表わされる化合
    物、その塩又は生理的に加水分解可能なそのエステルの
    製法。
  3. (3)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(V) (式中R^6は水素原子又はカルボキシル保護基、R^
    8、R^9およびR^1^0は同一でも異なってもよく
    それぞれ水素原子、保護されていてもよい水酸基、メト
    キシ基又はアセトキシ基、X^■は陰イオンを示す)で
    表わされる化合物、その塩又はそのシリル化合物を、一
    般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) (式中R^5は水素原子又はアミノ保護基、R^7は保
    護されたカルボキシル基により置換されていてもよい環
    状の低級アルキル基を示す)で表わされるカルボン酸の
    反応性誘導体によりアシル化して、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) (式中R^5、R^6、R^7、R^8、R^9、R^
    1^0及びX^■は前記の意味を有する)で表わされる
    化合物となし、次いで保護基を除去することを特徴とす
    る、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R^1はカルボキシル基により置換されていても
    よい環状の低級アルキル基、R^2、R^3及びR^4
    は同一でも異なってもよく、それぞれ水素原子、水酸基
    、メトキシ基又はアセトキシ基を示す)で表わされる化
    合物、その塩又は生理的に加水分解可能なそのエステル
    の製法。
  4. (4)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R^1はカルボキシル基により置換されていても
    よい環状の低級アルキル基、R^2、R^3及びR^4
    は同一でも異なってもよく、それぞれ水素原子、水酸基
    、メトキシ基又はアセトキシ基を示す)で表わされる化
    合物、その塩又は生理的に加水分解可能なそのエステル
    を有効成分として含有する抗菌剤。
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