JPS6232663A - 光結合半導体装置の製造方法 - Google Patents

光結合半導体装置の製造方法

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Publication number
JPS6232663A
JPS6232663A JP60172607A JP17260785A JPS6232663A JP S6232663 A JPS6232663 A JP S6232663A JP 60172607 A JP60172607 A JP 60172607A JP 17260785 A JP17260785 A JP 17260785A JP S6232663 A JPS6232663 A JP S6232663A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light transmitting
resin
light
molding
emitting element
Prior art date
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Pending
Application number
JP60172607A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuharu Sakamoto
坂本 康晴
Toshihiro Nakajima
中嶋 利廣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPS6232663A publication Critical patent/JPS6232663A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Photo Coupler, Interrupter, Optical-To-Optical Conversion Devices (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、光結合半導体装置の製造方法に関するもの
である。
〔従来の技術〕
第2図は従来の光結合半導体装置の一例であるフォトサ
イリスタカプラの構造図で、1は入力側(−次側)のカ
ソードリード、2は発光ダイオード等からなる発光素子
、3は入力側のポンディングワイヤ、4は出力側(二次
@)のカソードリード、5は受光素子、6は出力側のポ
ンディングワイヤ、Tは充填剤の添加された透光性樹脂
、8は不透光性樹脂、9は透光性のシリコンフェスであ
るO 第2図に示した二重成製構造のフォトサイリスクカプラ
は、入出力間の内部界面に沿う絶縁距離が十分長くとれ
るため、入力側では1次側のカソードリード1の先端部
に発光素子2を取着し、さらに、この発光素子20表面
に設げられている電極と図示しない1次側の7ノードリ
ードの先端部とをポンディングワイヤ3によって接続し
、出力側では2次側のカソードリード4の先端部にフォ
トサイリスク等の受光素子5を取着して前記発光素子2
と対向させ、さらK、この受光素子50表面に設げられ
ている電極と図示しない2次側のアノードリードの先端
部とをポンディングワイヤ6によって接続し、発光素子
チップ上にシリコンフェス9等でコーティングし、さら
K、入力側およ、び出力側のカソードリード1.4をエ
ポキシ等の透光性樹脂Tでモールディングして光伝達経
絡を形成し、またさらに、この透光性樹脂Tを覆うよ5
に不透光性樹脂8でモールディングした後、透光性樹脂
7および不透光性樹脂8のモールドキュアを行った構成
となっている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記のような従来の二重成型構造のフォトサイリスタカ
ブラでは、内側の成型に用いられる透光性樹脂7とシリ
コンワニス9との熱膨張係数が異なるので、通電状態を
続けると内部モールドとシリコンワニス9との密着性が
悪くなるとともに。
クリアランスが生じるため第3図にモールドキュアなし
とし−て示すよ5に、発光素子2から受光素子5への光
伝達効率は著しく低下するという問題点があった。
この発明は、かかる問題点を解決するためになされたも
ので、光伝達効率の向上およびその信頼性の向上を図っ
た光結合半導体装置の製造方法を得ることを目的とする
〔問題点を解決するための手段〕
この発明に係る光結合半導体装置の製造方法は、透光性
樹脂によるモールディング後、モールドキュアを行い、
その後、不透光性樹脂でモールディングするようにした
ものである・ 〔作用〕 この発明においては、透光性樹脂とXA光素子または受
光素子をコーティングする透光性ワニスとの密着がよく
なる。
〔実施例〕
第1図(a)、  (b)はこの発明の光結合半導体装
置の製造方法の一実施例の工程を示す因で、第2図と同
一符号は同一部分を示す。以下、工程について説明する
第1図(a)に示すように入力側のカソードリード1の
先鴻部に発光素子2を堆層し、さらに、この発光素子2
の我面に設けられている電極と図示しない入力側の7フ
ードリードの先端部とをボンディングワイヤ3によって
接続し1次VC発光素子2′lt透光性ワニス、例えば
シリコンワニス9によってコーティングする。そして、
次に出力側のカ元素子50表面に設けられている電極と
図示しない出力側の7フードリードの先端部とをボンデ
ィングワイヤ6によって接続した後、発光素子2と受光
素子5とが対向するように配置する。そして。
シリカ等の充填剤が添加されている透光性樹脂Tによっ
てモールディングを行った後、モールドキュアを実施す
る。その後、第1図(b)に示すように不透光性樹脂8
によってそ一ルディングを行った後、透光性樹脂Tおよ
び不透光性樹脂8のモールドキュアを行う。したがって
、透光性樹脂Tとシリコンワニス9との界面にクリアラ
ンスを生ずることがなく信頼性が向上する。例えば、第
3図にモールドキュアありとして示すように通電連続試
験での光トリガ電流の変化が全くなくなる。
なお、上記実施例においては、フォトサイリスタカブラ
について述べたが、同様にフォトトランジスタカプラ、
フォトトライアックカプラについても適用できることは
いうまでもない。
〔発明の効果〕
この発明は以上説明したとおり、透光性樹脂でモールデ
ィング後直ちにモールドキュアを行うよ5にしたので、
透光性樹脂と透光性フェスとの密着性が向上し、前記透
光性樹脂と透光性フェスとのクリアランスが全くなくな
り、光伝達効率、信頼性および製造歩留りが向上すると
いう効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)、  (b)はこの発明の光結合半導体装
置の製造方法の一実施例の工程を示す図、第2図は光結
合半導体装置の一例であるフォトサイリスタカブラの構
造図、第3図は通電連続試験の結果を示す図である。 図において、1は入力側のカソードリード、2は発光素
子、3は入力側のボンディングワイヤ、4は出力側のカ
ソードリード、5は受光素子、6は出力側のボンディン
グワイヤ、Tは透光性樹脂。 8は不透光性樹脂、Sはシリコンワニスである。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。 第1図 9シリコンワニス (b) 普 第2図 へ 第3図 晦閏□ 手続補正書(自発) 昭和  年  月  日 特許庁長官殿                域へ1
・事件の表示   特願日召Go−0172807号2
・発明の名称   光結合半導体装置の製造方法3、補
正をする者 5、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 6、補正の内容 明細書第5頁18行の「フォトトライアックカプラに」
を、「フォトトライアックカプラ等のカプラ製品に」と
補正する。 以上

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 発光素子およびこの発光素子と対向する受光素子の少な
    くとも一方を透光性ワニスで覆い、前記発光素子と受光
    素子を透光性樹脂でモールディングして封止したのち、
    モールドキユアを行い、その後、不透光性樹脂によつて
    モールディングして封止することを特徴とする光結合半
    導体装置の製造方法。
JP60172607A 1985-08-05 1985-08-05 光結合半導体装置の製造方法 Pending JPS6232663A (ja)

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