JPS6231625B2 - - Google Patents
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- JPS6231625B2 JPS6231625B2 JP13152682A JP13152682A JPS6231625B2 JP S6231625 B2 JPS6231625 B2 JP S6231625B2 JP 13152682 A JP13152682 A JP 13152682A JP 13152682 A JP13152682 A JP 13152682A JP S6231625 B2 JPS6231625 B2 JP S6231625B2
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- Japan
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- coating
- nozzle
- coating liquid
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- slit
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Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Paper (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はエアーナイフ装置を用いる塗布方法に
関し、特に低粘度塗液の薄層塗布に適したエアー
ナイフ式塗布方法に関する。
関し、特に低粘度塗液の薄層塗布に適したエアー
ナイフ式塗布方法に関する。
エアーナイフ式塗布方法は、連続走行するウエ
ブ面に、先ず目的とする所定の塗布量よりも余剰
の塗液を塗布し、続いてエアーナイフ装置から吹
き出るエアージエツトで余剰の塗液を吹き落して
目的とする所定の塗布量を得る塗布方式である。
ブ面に、先ず目的とする所定の塗布量よりも余剰
の塗液を塗布し、続いてエアーナイフ装置から吹
き出るエアージエツトで余剰の塗液を吹き落して
目的とする所定の塗布量を得る塗布方式である。
従来、この塗布方式で余剰の塗液を塗布する方
法としてロール方式及びデイツプ方式が主に使用
されている。ロール方式は塗液内にロールの一部
を浸漬させたアプリケーターロールにより塗液を
持ち上げ、これにウエブ面を直接接触させるかあ
るいは別のロールを経由してウエブ面に余剰の塗
液を塗布する方式であるが、この方式は塗液に泡
が発生しやすく、特に泡の発生しやすい塗液はア
プリケーターロールにより多量の泡が持ち上げら
れ、泡の多い部分での塗液のカスレ現象が生じる
など均一な塗布層が得られにくいこと、又ロール
間のニツプ部で塗液にかなりの圧力がかかり、圧
力により悪影響を受ける成分を含有する塗液には
不適当であること、更には低粘度塗液の場合は余
剰の塗液供給量のコントロールが困難であり、高
精度の薄層塗布は困難であるばかりでなく、塗布
層に液割れ状態が発生しやすく、均一な塗層が得
られにくいという欠点がある。デイツプ方式の場
合も、余剰の塗液量のコントロールができず、又
低粘度塗液の高精度薄層塗布は不可能であると同
時に、高速塗布に適していない。
法としてロール方式及びデイツプ方式が主に使用
されている。ロール方式は塗液内にロールの一部
を浸漬させたアプリケーターロールにより塗液を
持ち上げ、これにウエブ面を直接接触させるかあ
るいは別のロールを経由してウエブ面に余剰の塗
液を塗布する方式であるが、この方式は塗液に泡
が発生しやすく、特に泡の発生しやすい塗液はア
プリケーターロールにより多量の泡が持ち上げら
れ、泡の多い部分での塗液のカスレ現象が生じる
など均一な塗布層が得られにくいこと、又ロール
間のニツプ部で塗液にかなりの圧力がかかり、圧
力により悪影響を受ける成分を含有する塗液には
不適当であること、更には低粘度塗液の場合は余
剰の塗液供給量のコントロールが困難であり、高
精度の薄層塗布は困難であるばかりでなく、塗布
層に液割れ状態が発生しやすく、均一な塗層が得
られにくいという欠点がある。デイツプ方式の場
合も、余剰の塗液量のコントロールができず、又
低粘度塗液の高精度薄層塗布は不可能であると同
時に、高速塗布に適していない。
本発明の目的は泡及び液割れの発生の少ない均
一な薄層塗布の可能なエアーナイフ式塗布方法を
提供するにある。
一な薄層塗布の可能なエアーナイフ式塗布方法を
提供するにある。
本発明の別の目的は低粘度塗液の薄層塗布に適
したエアーナイフ式塗布方法を提供するにある。
したエアーナイフ式塗布方法を提供するにある。
本発明の更に別の目的は低粘度塗液の薄層高速
塗布に適したエアーナイフ式塗布方法を提供する
にある。
塗布に適したエアーナイフ式塗布方法を提供する
にある。
本発明の上記目的は、所定の塗布量よりも余剰
の塗液を塗布する方法として、均一巾のスリツト
を有するノズル型塗工手段によるフアウンテン方
式を用いることにより達成される。すなわち本発
明は、連続走行しているウエブ面に、均一巾のス
リツトを有するノズル型塗工手段により、目的と
する所定の塗布量よりも余剰の塗液を塗布し、こ
れをエアーナイフ装置を用いて目的とする所定の
塗布量に調節することを特徴とする低粘度塗液の
塗布方法である。
の塗液を塗布する方法として、均一巾のスリツト
を有するノズル型塗工手段によるフアウンテン方
式を用いることにより達成される。すなわち本発
明は、連続走行しているウエブ面に、均一巾のス
リツトを有するノズル型塗工手段により、目的と
する所定の塗布量よりも余剰の塗液を塗布し、こ
れをエアーナイフ装置を用いて目的とする所定の
塗布量に調節することを特徴とする低粘度塗液の
塗布方法である。
フアウンテン方式を用いたエアーナイフ塗布方
法は従来から知られているが、従来のフアウンテ
ン方式はスリツト状先端を有するノズル型塗工手
段を用いるものではなく、ウエブ表面への余剰の
塗液塗布量は厳密にコントロールするものではな
い。又従来のフアウンテン方式を用いたエアーナ
イフ塗布方式は、目的とする所定の塗布量に対し
20倍を越える余剰の塗布量を塗布し、エアーナイ
フから吹出すエアージエツトにより1/20量以下に
吹落すものであり、目的とする所定の塗布量も40
g/m2を超えるもので、均一な薄層塗布には不適
切なものであつた。
法は従来から知られているが、従来のフアウンテ
ン方式はスリツト状先端を有するノズル型塗工手
段を用いるものではなく、ウエブ表面への余剰の
塗液塗布量は厳密にコントロールするものではな
い。又従来のフアウンテン方式を用いたエアーナ
イフ塗布方式は、目的とする所定の塗布量に対し
20倍を越える余剰の塗布量を塗布し、エアーナイ
フから吹出すエアージエツトにより1/20量以下に
吹落すものであり、目的とする所定の塗布量も40
g/m2を超えるもので、均一な薄層塗布には不適
切なものであつた。
本発明によれば、、前記本発明の種々の目的を
達成することができると同時に、前述した従来の
フアウンテン方式では達成することの出来なかつ
た均一な薄層塗布が達成される。
達成することができると同時に、前述した従来の
フアウンテン方式では達成することの出来なかつ
た均一な薄層塗布が達成される。
第１図は本発明による均一巾のスリツトを有す
るノズル型塗工手段を用いたエアーナイフ式塗布
方法の一例を示したものである。連続して走行す
るウエブ８が塗布バツキングロール７に到達した
時点で、対設されている均一巾のスリツト１′を
有するノズル１から余剰の塗液がウエブ８の表面
に押し出し塗布され、さらに目的とする所定の塗
布量とするため、塗布された余剰の塗液がエアー
ナイフ装置２の先端から吹き出すエアージエツト
によつて吹き落される。吹き落された塗液は塗液
回収装置３に流れ込み、釜４で一旦集められ、ポ
ンプで釜５に戻される。釜５では、ウエブ８に塗
布される塗液を釜６から供給され、常に一定の塗
液を保持し、ノズル１に塗液が送液される。釜５
には、通常、回収された塗液に含まれる泡を効果
的に脱泡する装置（図示ず）が装備される。ノズ
ルから押し出される塗液の流量調節は、ノズル１
と釜５との落差を利用した自然重力圧制御法、ポ
ンプ送液ではポンプの回転数制御による方法及び
これらの制御法に電磁流量計を組合せた方法等に
よりなされる。
るノズル型塗工手段を用いたエアーナイフ式塗布
方法の一例を示したものである。連続して走行す
るウエブ８が塗布バツキングロール７に到達した
時点で、対設されている均一巾のスリツト１′を
有するノズル１から余剰の塗液がウエブ８の表面
に押し出し塗布され、さらに目的とする所定の塗
布量とするため、塗布された余剰の塗液がエアー
ナイフ装置２の先端から吹き出すエアージエツト
によつて吹き落される。吹き落された塗液は塗液
回収装置３に流れ込み、釜４で一旦集められ、ポ
ンプで釜５に戻される。釜５では、ウエブ８に塗
布される塗液を釜６から供給され、常に一定の塗
液を保持し、ノズル１に塗液が送液される。釜５
には、通常、回収された塗液に含まれる泡を効果
的に脱泡する装置（図示ず）が装備される。ノズ
ルから押し出される塗液の流量調節は、ノズル１
と釜５との落差を利用した自然重力圧制御法、ポ
ンプ送液ではポンプの回転数制御による方法及び
これらの制御法に電磁流量計を組合せた方法等に
よりなされる。
本発明において低粘度塗液とは約20センチポイ
ズ以下の塗液をいい、厳密には約10センチポイズ
以下、更に厳密には５センチポイズ以下の塗液を
いう。
ズ以下の塗液をいい、厳密には約10センチポイズ
以下、更に厳密には５センチポイズ以下の塗液を
いう。
本発明において高速塗布とは50m／分以上をい
い、更に厳密には80m／分以上をいう。
い、更に厳密には80m／分以上をいう。
本発明の好ましい態様は連続走行しているウエ
ブ面に均一巾のスリツトを有するノズル型塗工手
段により、目的とする所定の塗布量よりも余剰の
塗液を塗布し、これをエアーナイフ装置を用いて
目的とする所定の塗布量を40g/m2以下に厳密に
は30g/m2以下に調節する低粘度塗液の塗布方法
である。
ブ面に均一巾のスリツトを有するノズル型塗工手
段により、目的とする所定の塗布量よりも余剰の
塗液を塗布し、これをエアーナイフ装置を用いて
目的とする所定の塗布量を40g/m2以下に厳密に
は30g/m2以下に調節する低粘度塗液の塗布方法
である。
本発明の更に好ましい態様は、連続走行してい
るウエブ面に均一巾のスリツトを有するノズル型
塗工手段により、目的とする所定の塗布量よりも
余剰の塗液を塗布し、これをエアーナイフ装置を
用いて目的とする所定の塗布量を40g/m2以下、
厳密には30g/m2以下に調節する低粘度塗液の塗
布方法において、余剰の塗布量が目的とする所定
の塗布量の20倍以下、厳密には15倍以下、さらに
厳密には５〜10倍であることを特徴とする塗布方
法である。
るウエブ面に均一巾のスリツトを有するノズル型
塗工手段により、目的とする所定の塗布量よりも
余剰の塗液を塗布し、これをエアーナイフ装置を
用いて目的とする所定の塗布量を40g/m2以下、
厳密には30g/m2以下に調節する低粘度塗液の塗
布方法において、余剰の塗布量が目的とする所定
の塗布量の20倍以下、厳密には15倍以下、さらに
厳密には５〜10倍であることを特徴とする塗布方
法である。
本発明の塗布方法を実施するに用いられるノズ
ル型塗工手段のスリツト巾は100〜500μの均一巾
であることが好ましく、ノズル先端部と走行する
ウエブ面との間隔は200〜700μの範囲が好まし
い。スリツト巾はこの範囲よりまずれるとウエブ
面への均一な塗液の供給が困難となつて、不均一
な塗布層となりやすく、又ノズル先端部とウエブ
面との間隔はこの範囲より狭くなるとゴミ等の異
物がノズル先端につまりやすくなつてスジムラの
原因となり、広くなるとスリツトから出た塗液が
均一にウエブ面に塗布されにくくなつて、液流れ
現象が生じるので好ましくない。
ル型塗工手段のスリツト巾は100〜500μの均一巾
であることが好ましく、ノズル先端部と走行する
ウエブ面との間隔は200〜700μの範囲が好まし
い。スリツト巾はこの範囲よりまずれるとウエブ
面への均一な塗液の供給が困難となつて、不均一
な塗布層となりやすく、又ノズル先端部とウエブ
面との間隔はこの範囲より狭くなるとゴミ等の異
物がノズル先端につまりやすくなつてスジムラの
原因となり、広くなるとスリツトから出た塗液が
均一にウエブ面に塗布されにくくなつて、液流れ
現象が生じるので好ましくない。
本発明において用いられる均一巾のスリツトを
有するノズル型塗布手段のスリツトは、ノズル先
端に連結しているが、このスリツト長さ、すなわ
ちノズル内からノズル先端部迄のスリツト長さは
特に限定されず、通常数センチメートルで、具体
的には２〜５センチメートルの範囲が好ましい。
第１図に示されたノズは一例であるが、ノズル内
部にはスリツトに通じる液溜りがあつてもよい。
又スリツトのノズル先端部はノズル内部のスリツ
ト巾より若干広い巾となつていてもよい。
有するノズル型塗布手段のスリツトは、ノズル先
端に連結しているが、このスリツト長さ、すなわ
ちノズル内からノズル先端部迄のスリツト長さは
特に限定されず、通常数センチメートルで、具体
的には２〜５センチメートルの範囲が好ましい。
第１図に示されたノズは一例であるが、ノズル内
部にはスリツトに通じる液溜りがあつてもよい。
又スリツトのノズル先端部はノズル内部のスリツ
ト巾より若干広い巾となつていてもよい。
本発明の塗布方法は薄層の均一層が要求される
写真層の塗布に有効に適用することができる。写
真層とはハロゲン化銀乳剤層、下塗層、中間層、
保護層、ハレーシヨン防止層、フイルター層、バ
ツキング層、銀錯塩拡散転写用銀沈澱核含有層等
種々のものが包含される。
写真層の塗布に有効に適用することができる。写
真層とはハロゲン化銀乳剤層、下塗層、中間層、
保護層、ハレーシヨン防止層、フイルター層、バ
ツキング層、銀錯塩拡散転写用銀沈澱核含有層等
種々のものが包含される。
本発明に係るウエブとしてはバライタ紙、紙の
両面にポリエチレン等のポリオレフインを被覆し
た積層紙、ポリエチレンテレフタレート、三酢酸
セルロース、ポリスチレン等のプラスチツクフイ
ルム等種々のものが挙げられるが、これらに限定
されない。
両面にポリエチレン等のポリオレフインを被覆し
た積層紙、ポリエチレンテレフタレート、三酢酸
セルロース、ポリスチレン等のプラスチツクフイ
ルム等種々のものが挙げられるが、これらに限定
されない。
次に本発明の実施例を挙げるが、本発明はこれ
に限定されない。
に限定されない。
実施例 １
第１図に示した塗布装置を用い、厚さ170ミク
ロンのポリエチレンテレフタレートフイルム支持
体を100m／分の速度で走行させ、ベタイン型界
面活性剤を含有する粘度２センチポイズのゼラチ
ン水溶液を、目的とする所定の塗布量が10g/m2
となるようにエアーナイフのエアー圧を調節し、
ハロゲン化銀写真フイルムのカール防止用裏塗層
を塗布した。ノズルから供給するゼラチン水溶液
の塗布量は80g/m2になるように押し出し流量を
調節した。
ロンのポリエチレンテレフタレートフイルム支持
体を100m／分の速度で走行させ、ベタイン型界
面活性剤を含有する粘度２センチポイズのゼラチ
ン水溶液を、目的とする所定の塗布量が10g/m2
となるようにエアーナイフのエアー圧を調節し、
ハロゲン化銀写真フイルムのカール防止用裏塗層
を塗布した。ノズルから供給するゼラチン水溶液
の塗布量は80g/m2になるように押し出し流量を
調節した。
使用したノズルのスリツト巾は均一な200ミク
ロン巾とし、ノズル先端部と走行する支持体面と
の間隔は300ミクロンに設定した。
ロン巾とし、ノズル先端部と走行する支持体面と
の間隔は300ミクロンに設定した。
フイルム支持体上に乾燥ゼラチン量0.5g/m2の
泡のない均一な薄層が得られた。
泡のない均一な薄層が得られた。
実施例 ２
第１図に示した塗布装置を用い、坪量150gの
紙基体の両面にそれぞれ30ミクロンの厚さのポリ
エチレン層を被覆した支持体を80m／分で走行さ
せコロナ放電処理後銀錯塩拡散転写用の銀沈澱核
及びアニオン性界面活性剤を含有する粘度５セン
チポイズのゼラチン水溶液を目的とする所定の塗
布量が20g/m2となるようにエアーナイフのエア
ー圧を調節して塗布した。ノズルから供給する塗
液の塗布量は140g/m2になるように押し出し流量
を調節した。
紙基体の両面にそれぞれ30ミクロンの厚さのポリ
エチレン層を被覆した支持体を80m／分で走行さ
せコロナ放電処理後銀錯塩拡散転写用の銀沈澱核
及びアニオン性界面活性剤を含有する粘度５セン
チポイズのゼラチン水溶液を目的とする所定の塗
布量が20g/m2となるようにエアーナイフのエア
ー圧を調節して塗布した。ノズルから供給する塗
液の塗布量は140g/m2になるように押し出し流量
を調節した。
使用したノズルのスリツト巾は均一な300ミク
ロン巾に設定し、ノズル先端部と走行する支持体
面との間隔は400ミクロンに設定した。
ロン巾に設定し、ノズル先端部と走行する支持体
面との間隔は400ミクロンに設定した。
支持体上に乾燥ゼラチン量0.9g/m2の泡のない
均一な銀錯塩拡散転写用の受像層が得られた。
均一な銀錯塩拡散転写用の受像層が得られた。
第１図は本発明の塗布方法の概略説明図。
１……ノズル、１′……スリツト、２……エア
ーナイフ、７……バツキングロール、８……ウエ
ブ。
ーナイフ、７……バツキングロール、８……ウエ
ブ。
Claims (1)
- １ 連続走行しているウエブ面に、均一巾のスリ
ツトを有するノズル型塗工手段により、目的とす
る所定の塗布量よりも余剰の塗液を塗布し、これ
をエアーナイフ装置を用いて目的とする所定の塗
布量に調節する塗布方法であつて、前記ノズル型
塗工手段としてスリツト巾が100〜500ミクロンの
ものを用い、該ノズル型塗工手段の先端部と走行
するウエブ面との間隔を200〜700ミクロンに設定
し、余剰の塗液の余剰量を目的とする所定の塗布
量に対して10倍以下とし、目的とする所定の塗布
量が30g/m2以下となるように粘度５センチポイ
ズ以下の低粘度塗液を塗布することを特徴とする
塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13152682A JPS5922684A (ja) | 1982-07-27 | 1982-07-27 | 塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13152682A JPS5922684A (ja) | 1982-07-27 | 1982-07-27 | 塗布方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5922684A JPS5922684A (ja) | 1984-02-04 |
| JPS6231625B2 true JPS6231625B2 (ja) | 1987-07-09 |
Family
ID=15060121
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13152682A Granted JPS5922684A (ja) | 1982-07-27 | 1982-07-27 | 塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5922684A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0476849U (ja) * | 1990-11-17 | 1992-07-06 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5217533A (en) * | 1991-07-08 | 1993-06-08 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Coating apparatus for continuous fibers |
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- 1982-07-27 JP JP13152682A patent/JPS5922684A/ja active Granted
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Also Published As
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|---|---|
| JPS5922684A (ja) | 1984-02-04 |
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