JPS5936732B2 - 写真感光材料の製造方法 - Google Patents

写真感光材料の製造方法

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JPS5936732B2
JPS5936732B2 JP51065453A JP6545376A JPS5936732B2 JP S5936732 B2 JPS5936732 B2 JP S5936732B2 JP 51065453 A JP51065453 A JP 51065453A JP 6545376 A JP6545376 A JP 6545376A JP S5936732 B2 JPS5936732 B2 JP S5936732B2
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JP
Japan
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coating
additive
additives
support
present
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JP51065453A
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JPS52149113A (en
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修三 「ふち」上
寿雄 宮代
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/74Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/136Coating process making radiation sensitive element
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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    • Y10S430/151Matting or other surface reflectivity altering material

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  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は写真感光材料(以下、単に憾光材料」という。
)の製造方法に関するものであり、更に詳細には感光材
料に添加剤を添加する方法に関するものである。感光材
料は一般に支持体上に種々の添加剤を含むハロゲン化銀
−ゼラチン乳剤及び非感光性の中間層用塗布剤等の塗布
液(以下、単に「塗布液」という。
)を塗布し、次いで冷却セット、乾燥することにより製
造されている。この場合、種々の添加剤は塗布液の調製
工程において、塗布液に添加、混合されるのが一般であ
つた。しかしながら、添加剤の種類によつては、塗布液
中の他の薬品、ゼラチン等と反応して塗布液の物性や写
真特性、膜物性に悪影響を与えるものがあり、このよう
な添加剤を添加する場合にはかかる影響を避けるために
塗布液調製後直ちに塗布をおこなわなければならないと
いう制約を受けていた。このため即効性のある添加剤を
使用することもまた妨げられる結果となつていた。更に
かかる方法においては、分布を調整することが望ましい
添加剤、たとえぱ表面改質剤の如く塗膜の表面近くに集
中的に分布せしめることが望ましい添加剤を、望ましい
分布状態に添加することは不可能であつた。本発明のか
かる従来の感光材料製造方法の欠点を除去し、塗布液調
製後塗布に至るまでに時間的制約を受けることがなく、
即効性ある添加剤を添加することが可能であり、また所
望の分布状態で添加剤を塗膜中に添加しうる感光材料製
造方法を提供することを目的とする。
本発明のかかる目的は、添加剤を支持体上にまたは支持
体上に塗布された塗膜上に超音波振動を利用して霧化し
た添加剤を噴霧することにより達成される。
以下、添付図面に基き、本発明の実施態様について詳細
に説明を加える。
第1図は本発明の一実施態様を示す感光材料製造装置の
要部概略図である。
第1図において、1は冷却セットした未乾燥の塗布液よ
り成る塗膜を有する支持体、2は噴霧室、3は送風機、
4は超音波霧化器、5は添加剤ストックタンク、6は循
環ポンプ、Tは温度調節器、8は排風機、9は添加剤回
収タンクである。噴霧室2内には、超音波霧化器4によ
り霧化された添加剤を支持体1上の塗膜表面に噴霧する
ための吹出しノズル10が設けられている。霧化すべき
添加剤は超音波振動による温度上昇を防ぐために温度調
節器Tにより液温を調節されつつ、一定の流量で超音波
霧化器4とストックタンク5の間を循環せしめられ、そ
の一部が超音波霧化器4により連続的に霧化され、送風
機3からの空気流によつて噴霧室2内に送られ、吹出し
ノズル10から塗膜に噴霧せしめられる。
かようにして添加剤を噴霧された未乾燥の塗膜を有する
支持体1は更に乾燥工程、調湿工程へ送られる。このよ
うに添加剤の噴霧終了後、感光材料は直ちに乾燥される
ので、添加剤と乳剤及びその含有成分とが望ましくない
反応をおこすこともなく、即効性のある添加剤や時間経
過により塗布液の物性や写真特住に悪影響を与えるよう
な添加剤を何らの制約を受けることなく使用することが
可能となる。また本実施態様においては、添加剤は塗膜
の表面近傍に高濃度に存在する結果となるから、塗膜の
表面近傍に分布せしめることが望ましい表面改質剤の如
き添加剤にあつては、これを有効に働かせることが出来
る。噴霧後、霧化された添加剤は噴霧室2より排風機8
によつて空気と共に排出され、適当な溶媒を満たした回
収タンク9内に送られて回収がおこなわれる。
排風機8は送風機3より送風量のやや大きいものを用い
、噴霧室2から添加剤を含んだ空気が流出しないように
することが要求される。第2図は本発明の他の実施態様
を示す感光材料製造装置の要部概略図である。第2図に
おいては、霧化された添加剤は塗布前の支持体1の表面
に噴霧せしめられ、しかる後噴霧された添加剤が完全に
乾かないうちに、塗布装置11により塗布液が塗布され
、直ちに冷却セツトされた後、乾燥、調湿工程へ送られ
る。
この実施態様によれば、塗膜の支持体側の面近傍に添加
剤を高濃度に分布せしめることが出来る。本発明は上記
実施態様に限定されることなく種々の変更が可能である
ことはいうまでもない。
たとえば、第1図に係る実施態様においては、冷却セツ
ト後の未乾燥の塗膜に添加剤を噴霧しているが、これは
噴霧により塗膜を乱すおそれのないように配慮したもの
であり、必ずしも冷却セツト後に噴霧しなければならな
いわけではない。また噴霧方法としても吹出しノズルに
依らず、静電塗装の原理を応用した力法を用いることも
出来る。この方法によれば、添加剤の付着効率を大幅に
向上せしめることが出来、未乾燥の塗膜に限定されるこ
となく、乾燥後の塗膜に添加剤を噴霧しても十分効率良
く付着せしめることも可能となる。本発明において、即
効性のある添加剤としては硬膜剤が代表的なものである
が、必ずしもこれに限定されない。本発明において、分
布を調整することが望ましい添加剤としては、スタテイ
ツク防止剤、マツト剤、界面活性剤等が代表的なもので
ある。
本発明において、噴霧される液滴は極めて微細でしかも
粒径分布の狭いものであることが要求される。
具体的には、0.5〜15μ、好ましくは0.5〜10
μ、更に好ましくは0.5〜5μの粒径分布中心を有す
るものが適当である。液滴の大きさが15μより大であ
ると、乾燥負荷が増大し未乾燥塗膜をつくるおそれがあ
ると共に送風機によつては液滴を運び切れない場合が生
じ、また一方液滴の大きさが0.5μ以下の場合には液
滴がウエブに付着しにくくなり望ましくない。添加剤よ
り成る液滴の噴霧量は添加剤の種類、塗布液の種類、液
滴を支持体又はその上の塗膜にいかなる位置で供給する
か等により適切な値を異にするが、一般に0.1〜10
CC/ 771″、好ましくは0.2〜 7CC/ m
″、更に好ましくは0.5〜 5CC/ Trlが適当
であろう。
このように微細でかつ粒径分布の狭い液滴を供給するた
めには、超音波霧化方法に依らなくてはならない。
霧化方法として従来より良く知られたエアージエツト法
或いはスブレー法による場合には、その粒径分布は一般
に0.5〜 50μ程度となり、広すぎて本発明の如く
微細でかつ粒径分布の狭い液滴を形成するためには用い
ることが出来ない。本発明によれば、次の如き新規な効
果が得られる。
(i)塗布液中において、経時的に他の添加薬品、ゼラ
チン等と反応して塗布液の物性や写真特性、膜物性に影
響を与えるおそれのある即効性のある添加剤等を、かか
る影響を与えることなく塗膜中に含有せしめることが可
能となる。
(11)塗膜中において分布を調整することが望ましい
添加剤を、所望の分布状態に添加せしめることが可能と
なる。
実施例 1 第1表に示す塗布液を基準とし、これにシクロローS−
トリアジン系硬化剤を段階的に添加して、50m/分で
走行している幅14007Igt、厚さ250μのポリ
エチレンテレフタレートフイルムベース上に100CC
/イの塗布量で塗布し、しかる後に乾燥させてA群の試
料を得た。
ついで、第1表に示す塗布液を塗布し、セツトさせた塗
膜上に、第2表に示す条件で前記硬化剤を噴霧し、乾燥
させてB群の試料を得た。
上記A群及びB群の試料について、硬化剤の添加量と硬
膜度との関係を測定した結果が第3図に示される。
ここに硬膜度は20℃の水に3分間浸した時の膨潤変化
を測定し、最終到達膨潤膜厚をA〔μ〕としたとき、次
式により表わした。
たマし、硬膜剤の添加量がゼロの場合には、3分間の連
続測定をおこなうと塗膜が溶けてしまうため、この場合
の硬膜度を便宜上0としている。
第3図より、硬化剤を噴霧により添加する本発明の方法
によれば、予め塗布液中に添加する場合に比べ、1/2
弱の添加量で同等の硬膜度の得られることがわかる。実
施例 2 実施例1と全く同様な力法により、スタテイツク防止剤
としてポリオキシエチレンドデシルエーテル(n=10
)を添加した。
A群及びB群の試料について、スタテイツク防止剤の添
加量と表面抵抗値との関係を測定した結果が第4図に示
される。
第4図より、スタテイツク防止剤を噴霧により添加する
本発明の方法によれば、予め塗布液中に添加する場合に
比べ、1/2弱の添加量で同等の表面抵抗値の得られる
ことがわかる。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本発明の実施態様を示す感光材料製
造装置の要部略断面図である。 第3図、第4図はそれぞれ実施例1,2の実験結果を示
すグラフである。1・・・・・・支持体、2・・・・・
・噴霧室、3・・・・・・送風機、4・・・・・・超音
波霧化器、5・・・・・・添加剤ストツクタンク、6・
・・・・・循環ポンプ、7・・・・・・温度調節器、8
・・・・・・排風機、9・・・・・・添加剤回収タンク
、10・・・・・・吹出しノズル、11・・・・・・塗
布装置。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 連続走行している支持体に塗布液を塗布し、ついで
    冷却セット、乾燥する感光材料製造方法において、塗布
    液の添加剤の一部もしくは全部を超音波振動により霧化
    し、前記支持体上に設けられた塗膜上に供給するか、も
    しくは支持体上に供給し、該添加剤が完全に乾かないう
    ちに塗布液を塗布することを特徴とする感光材料製造方
    法。
JP51065453A 1976-06-04 1976-06-04 写真感光材料の製造方法 Expired JPS5936732B2 (ja)

Priority Applications (2)

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JP51065453A JPS5936732B2 (ja) 1976-06-04 1976-06-04 写真感光材料の製造方法
US05/803,187 US4218533A (en) 1976-06-04 1977-06-03 Process for producing photographic material

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JPS52149113A JPS52149113A (en) 1977-12-12
JPS5936732B2 true JPS5936732B2 (ja) 1984-09-05

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