JPS62280751A - 印刷配線板の現像方法 - Google Patents

印刷配線板の現像方法

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JPS62280751A
JPS62280751A JP12341086A JP12341086A JPS62280751A JP S62280751 A JPS62280751 A JP S62280751A JP 12341086 A JP12341086 A JP 12341086A JP 12341086 A JP12341086 A JP 12341086A JP S62280751 A JPS62280751 A JP S62280751A
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JP
Japan
Prior art keywords
substrate
printed wiring
wiring board
developer
nozzle
Prior art date
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Pending
Application number
JP12341086A
Other languages
English (en)
Inventor
Hidekatsu Itayama
板山 秀勝
Nobuo Uozu
魚津 信夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lincstech Circuit Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Condenser Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Condenser Co Ltd filed Critical Hitachi Condenser Co Ltd
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Publication of JPS62280751A publication Critical patent/JPS62280751A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明の詳細な説明 産業上の利用分野 本発明は印す11配線板の現像方法の改良に関する。
従来の技術 従来、フルアブイブイブ法により印刷配線板の製造方法
は触媒入り接着剤を塗布した絶縁基板を用い、この絶縁
基板にスルーホール用の孔明けを行い、この孔の内側に
シーダーを付着させるためのシーグー処理を行い、この
後めっきレジストを塗布する。めっきレジストはスクリ
ーン印刷法で基板上の必要な箇所を塗布する方法か、又
は液状或はフィルム状のめつぎレジストを全面付着し、
不必要な箇所を除ムするために、光や熱エネルギーで露
光した後、現像処理し、無電解めっき液に基板を浸漬し
て銅めつきを析出させ電気回路を形成していた。
この現像処理工程は、スプレー型の現像装置を用いて現
像していた。第3〜第5図はこの装置の断面であって、
上下の搬送ローラ1.3で基板5が搬送されている途中
で、上下に設けられたスプレー装置7,9から、現像液
10が吐出され、基板5の現像を行っていた。下部ロー
ル3は凹凸が形成されたしのを用いることが多く、ステ
ンレス製のシτ・フトにコツトンを1&覆した耐薬品性
を有したものを用いている。上下のスプレー装置7゜9
で吐出される現像液10の圧力はi Kg/ ci程度
である。基板5とスプレー装置7.9との間には空間1
1.13が設けられている。
発明が解決しようとする問題点 従来の現像方法は、スプレー型の現像装釘を用い現像を
行い、基板5は搬送ローラ1,3で搬送しているので、
前工程で基板に形成されためつぎレジストの端部や表面
に微小な傷跡が発生し、このことが原因となって、無電
解めっきを形成した際に、直径10〜1100Lt程度
のgllIIllな銅粒子が無作為に付着(以下これを
銅ふりという)してしまう。
基板上の不必要な箇所に銅ふりが発生した印刷配線板は
、エツチングにより取除く作業を行うが、鋼ぶりの部分
をナイフやサンドペーパーを使って手作業で削り除去し
ている。
これらの作業を行うことにより、銅ふりによるショート
不良や外観不良の防止対策を行っているが、完全とはい
、えず、熟練を要していた。
一方、印刷配線板は、ますます超高密度化(ライン/ス
ペース:100〜75μ77L)が進み、この超高密度
基板において銅ふり現像が生じると殆んどショート不良
につながることになる。従って、銅ぶりの除去作業で取
り残しのミスがあると、ショート不良を生じる。無電解
めっきで回路を形成する印刷配線板は銅ふり現像が製品
の品質上の大きな問題点であった。
問題点を解決するための手段 本発明は銅ふり問題を解決するためのものである。
本発明は無電解めっきにより回路を形成する印刷配線板
において、基板の表面にめっきレジストを付着した後、
所定箇所を露光し、現像する際に基板を現像液中に浸漬
し、基板に対し、ノズルから吐出する噴流で現像を行う
印刷配線板の現像方法を提供する。
木光明は、現像する際に、基板をm像液に浸漬し、現像
液が吐出する噴流方法を用いると共に、基板を左動させ
て現像を行う現像方法を提供する。
作用 本発明の印刷配線板の現像方法は、基板を現像液に浸漬
し、かつ基板に対しノズルから吐出する噴流方式で行う
ために、従来のような搬送ロールにより発生していたキ
ズによる銅ふり現像を防止できた。
実施例 実施例1 触媒入り接着剤が塗布された絶縁基板(日立化成工業製
ACL−E−144)を基材とし、孔明は加工、シーダ
ー処理を行った後、厚さ25μ汎の光m金回樹脂フィル
ム(日立化成工業製5R−3000) をロー/I、[
度140’C、ラミネート速度1.2m/linで基材
両面にラミネート付着させる。これにネガフィルムを被
せ光Ei、3001/cmで紫外線の露光を行う。この
基板20を第1図に示す如く、底面部に2φmmのノズ
ル22を配設した4!24内に充填したトリクロロエタ
ン現像液26に浸漬する。基板20はラック28に収納
され、ラック28のフック3oで吊り下げられている。
ノズル22からの吐出ff1251/linの噴流で基
板20が現像処理される。
この現像処理した基板20は、さらに光量31′!lJ
/c肩の後露光、160°C,30分間の後加熱を行う
。次に無電解めっき液に浸漬し25μ汎厚の銅めっきを
付着して回路を形成し、印刷配線板を製造する。
この印刷配線板の銅ふり発生状況を調査したが異常は発
見されなかった。
実施例2 実施例1ど同一方法で紫外線露光を行った基板20を第
2図に示す方法で現像する。すなわら、この方法は基板
20をトリクロロエタン現像液26を充填した槽24内
に浸漬し、ノズル22からの噴流方法と、基板20をラ
ック28ごとストローク2 cm 、間隔3回/秒のサ
イクルで往復運動の流φ力作用を加える。この後工程は
実施例1と同一方法で行い印刷配線板を製造した。
この印刷配線板の銅ふり発生状況を調査したが好結果が
をられた。
実施例3 実施例1と同一の基材を用い、めっきレジスト層を形成
するために、液状の光重合性樹脂(アサヒ化学研究所製
フォーカスコーt−DPR−105>を用い、基材の片
面に樹脂の厚さ25μ汎に塗工し、90℃、15分間加
熱乾燥した後反転し、別面に樹脂厚25μR塗工し、9
0℃、30分間加熱乾燥して基板20を作成した。
この基板にネガフィルムを用い30011J/Ciの紫
外線露光を行い、実施例1又は実施例2の現像方法で現
像処理し、烈電解銅めっき厚25μmの回路形成を行っ
た印刷配線板を製造した。
この印刷配線板の銅ふり発生状況を調査したが、異常は
認められなかった。
比較例1 実施例1と同一方法でめっきレジスト層形成のための紫
外線露光工程を行う。この基板5を第3図で示した、従
来の現像装置を用い、現像液10をスプレー装置7,9
で1.0Kg/cirのスプレー圧力で現像処理した。
以後の工程は実施例1と同球の方法で銅めっき厚25μ
汎の回路を形成した印刷配線板を製造した。
この結果は、めっきレジストの端部及び表面部分に烈数
の銅ふり現像を認めた。
比較例2 比較例1において、基板の現像装置として第4図に示し
た装置を用い、上下の搬送ローラ1゜3間で基板5を搬
送しながら、上下のスプレー装置7.9で現像液10を
吹付は現像処理し、印刷配線板を製造した。
この結果、この方法で作成した印刷配線板も多数の銅ふ
り現像が認められた。
比較ρJ3 比較例1において、他の現像装置として、第5図に示し
た装置を用い、現像処理を行った後、無電!M鋼めっき
を形成して印刷配置?2板を”AI Jaした。
この場合も、印刷配線板上に多数の銅ふり現像が認めら
れた。
発明の効果 本発明の印刷配線板の現像方法は、従来の現像装置が上
下の搬送ローラで基板を搬送している途中で、スプレー
装置で現像液を噴射しながら現像していたために、基板
上のめつぎレジスト層に微細なキズがでさ、銅ぶりを発
生していたものを、本発明はローラを用いた搬送は行わ
ず、現像するので、搬送ローラによるキズ発生で生じて
いた直線状の銅ふり現像を回避できるようになった。ま
た、本発明の実施例で製造したとぎにはめつきレジスト
フィルムがライン/スペース:50μmのaiに設けら
れたものも確実に残存するが、従来の搬送ロール方式の
場合には間失してしまうものプメあった。さらに、従来
のスプレ一方式は空中で噴霧状となり、排気ダクトから
強制排出して消耗凸が多かったが、本発明の場合は浸漬
法を用いているので、人体に態形♂をおよぼす現像液の
瀦費Qを減少でき公害対策上も望ましい発明である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の現像方法を示す断面図、第2図は本発
明の他の実施例を示す断面図、第3図〜第5図は従来の
現像方法を示す断面図である。 図面において、 20:基板、 22:ノズル、24:
椿、 26:現像液、 28ニラツク、30:フック。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)無電解めっきにより回路を形成する印刷配線板の
    製造方法において、基板の表面に液状又はフィルム状の
    めっきレジストを付着し、写真フィルムを用い露光した
    後、この基板を現像液中に浸漬すると共に、ノズルから
    吐出する現像液の噴流によって現像処理を行うことを特
    徴とする印刷配線板の現像方法。
  2. (2)特許請求範囲第1項の印刷配線板の現像方法にお
    いて、基板を現像液中に浸漬すると共に、この基板に揺
    動作用を与えて現像処理を行うこと。
JP12341086A 1986-05-30 1986-05-30 印刷配線板の現像方法 Pending JPS62280751A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02106757A (ja) * 1988-10-14 1990-04-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd カラーフィルタの現像処理方法
JPH02118662A (ja) * 1988-10-28 1990-05-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 現像処理方法
JPH02127647A (ja) * 1988-11-08 1990-05-16 Nec Corp レジスト現像方法
WO1998002786A1 (fr) * 1996-07-11 1998-01-22 Seiko Epson Corporation Procede et appareil pour le developpement de resist
CN1300640C (zh) * 2002-08-30 2007-02-14 株式会社东芝 显影方法、衬底处理方法和衬底处理装置

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