JPS6231016A - 薄膜磁気ヘツド用浮上スライダ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 磁気ディスク装置に用いられる薄膜磁気ヘッド用浮上ス
ライダ構造であって、基板の浮上面となる部分を削って
、薄膜磁気センサを保護する保護膜と同一の材料を積層
し、精度の必要な浮上面を保１膜と同一平面加工を容易
にし、特性の向上を図る。

〔産業上の利用分野〕

本発明は磁気ディスク装置に用いられる薄膜磁気ヘッド
用浮上スライダ構造に関する。

磁気ディスク装置は、例えば第３図に示すように、モー
タ１を有するスピンドル２により回転する複数のディス
ク媒体３と、ヘッド駆動用の回転アクチェエータ４に取
り付けられたアーム５と、該アーム５にスペーサ６を介
して固定される加圧バネ７と、該加圧バネ７に図示しな
いジンバルバネを介し磁気センサを有する磁気へラドス
ライダ８を設けている。なお、９は装置ベース、１０は
アーム５を回転させる為の回転軸を示す。

磁気ヘントスライダ８はアクチュエータ４の回転により
、ディスク媒体３の半径方向に移動し、所定トラックに
位置づけられて、磁気センサによりリード／ライトされ
る。

磁気ヘッドはコンタクト・スタート・ストップ（以下Ｃ
８Ｓという）方式により、ディスク媒体３上に接してい
る磁気へ、トスライダ８は、ディスク媒体３の回転によ
り浮上し、ディスク媒体３の回転停止により降下して止
まる。

上記磁気へノドスライダ８の浮上量は０．２〜０．３μ
ｍと僅かであり、今後益々小さく設定される傾向にあり
、その為ディスク媒体３面、磁気へノドスライダ８面の
面積度が要求される。

〔従来の技術〕

第４図は従来の薄膜磁気ヘントスライダを説明する斜視
図である。

図において、磁気ヘントスライダ８はフラットな複数（
図では２つ）の側レール１１と該側レール１１の前端に
、空気流入のためのテーパ１３を、後端に薄膜磁気セン
サ１４を設けている。１６は溝を示す。

第５図は従来の磁気ヘントスライダの製作プロセスを説
明する図である。図（イ）に示すフェライトや班アルミ
ナ系基板８の上面に、薄膜プロセスにより図（ロ）のよ
うに、薄膜磁気センサ１４及び保護膜１９（Ｉ膜磁気セ
ンサ１４の上で図示せず）を形成した後、Ｘ、Ｙ方向に
切断し、図（ハ）から図（ニ）のように切断、研磨加工
によりスライダ形状へと加工する。この磁気へノドスラ
イダを、加圧バネ７に取り付け、図（ホ）のようなヘッ
ド組立体とする。

Ｃ発明が解決しようとする問題点〕 従来の磁気ヘッドスライダの側レール（スライダ面）１
１は、精度を要しラップ加工している。

そのラップ加工の際、スライダ（基板はアルミナ系セラ
ミック）１１と保護膜（アルミナ）１９の硬度差により
、研削、研磨速度の差が発生し、第６図（イ）（ロ）に
示すような段差ｅ（ｅ＝０．１〜０．０５μｍ）が生じ
る。その為、浮上時のディスク媒体３と薄膜磁気センサ
１４の磁極迄の距離が遠くなり、特性が劣化すると云う
問題点があった。

ｃ問題点を解決するための手段〕 第１図は本発明の詳細な説明する図で、（イ）は断面図
、（ロ）は磁気センサ部の拡大図を示す。

第１図において、磁気へノドスライダ８′はフラット状
の複数（図では２つ）の側レール１１’と核側レール１
１′の前端に、空気流入のためのテーパ１３を、後端に
薄膜磁気センサ１４と保護膜１９を設けている。なお、
１６は溝を示し、また側レール１１はアルミナ系セラミ
ック基板の浮上面を削り、その部分に保護膜１９と同一
の材料を積層して構成した。

〔作用〕

即ち、上記磁気へノドスライダの製作プロセスにおいて
、加工精度を必要とする浮上スライダの浮り面１１′に
、センサ部と同一の材料で成膜しているので、成形加工
の際、指定寸法まで研磨加工した時に、研磨速度の差が
ないので、浮上面１１′と保護膜面１９とが同一平面に
加工出来、特性の劣化はない。

〔実施例〕

第２図は本発明の詳細な説明する図で、図（イ）〜図（
ニ）は薄膜磁気ヘッドの製作プロセスを示す。

従来と同様な方法でフェライトやアルミナ系基板の上面
に、薄膜プロセスにより薄膜磁気センサ１５と保護膜１
９を形成した後、図（イ）のように複数の磁気センサ１
４を含む横の棒状に切断した後、将来の浮上面となる部
分を、図（ロ）のようにイオンミール等の加工により５
〜１０μｎ１削る。

その部分をスパッタリング等の手法により、図（ハ）の
ように保護膜と同材質で成膜ａする。

次ぎに、図（ニ）のように所定寸法まで研削、研磨を行
い切断、スライダ完成体とする。

上記研磨加工の際、〔第１図（口〕参照〕浮上面！１’
と保護膜部材１９とが同一材質であるので、研削、研磨
がほぼ同一に進行し、はぼ完全な平面が得られる。

その結果、従来のような保護膜１９部分が浮上面１１′
から引っ込み、実質浮上量の増大したような特性劣化を
防ぐことが出来る。

本発明の薄膜磁気ヘントスライダと従来のｇｔ膜磁気ヘ
ントスライダとを比較したところ、分解能で従来５４％
であったものが、本発明では５８％となり、特性の向上
があった。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明によれば、浮上スライダ面に
薄膜磁気センサの保護膜と同質の材料で形成し、成形加
工することにより浮上面と保護膜を同一平面を得ること
が出来る。

【図面の簡単な説明】

第１図（イ）（ロ）は本発明の詳細な説明する図、 第２図（イ）〜（ニ）は本発明の詳細な説明する図、 第３図は磁気ディスク装置を説明する図、第４図は従来
の薄膜磁気へラドスライダを説明する図、 第５図（イ）〜（ホ）は従来の磁気ヘントスライダの製
作プロセスを説明する図、 第６図（イ）（ロ）は第４図のＡ−Ａ断面図である。 図において、 ３はディスク媒体、− ８′は磁気ヘントスライダ、 １１′は側レール（スライダ面）、 １３はテーパ、 １４は薄膜磁気センサ、 １９は保護膜を示す。 木谷期ｆ）尺険が・■ε説、明ゼ阿 垢　２　図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ディスク媒体（３）の回転により薄膜磁気センサ（１４
   ）を浮上させるための浮上スライダ（８′）であって、 前記ディスク媒体（３）と対向するスライダ浮上面（１
   １′）を、前記薄膜磁気センサ（１４）を保護する保護
   膜（１９）と同質の材料で形成し、成形加工時に、該ス
   ライダ浮上面（１１′）を前記保護膜（１９）面と同一
   面に形成することを特徴とする薄膜磁気ヘッド用浮上ス
   ライダ。