JP2509909B2 - 薄膜磁気ヘツド用浮上スライダ - Google Patents
薄膜磁気ヘツド用浮上スライダInfo
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- JP2509909B2 JP2509909B2 JP17132985A JP17132985A JP2509909B2 JP 2509909 B2 JP2509909 B2 JP 2509909B2 JP 17132985 A JP17132985 A JP 17132985A JP 17132985 A JP17132985 A JP 17132985A JP 2509909 B2 JP2509909 B2 JP 2509909B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- slider
- film magnetic
- magnetic head
- protective film
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Description
【発明の詳細な説明】 〔概要〕 磁気ディスク装置に用いられる薄膜磁気ヘッド用浮上
スライダ構造であって、基板の浮上面となる部分を削っ
て、薄膜磁気センサを保護する保護膜と同一の材料を積
層し、精度の必要な浮上面を保護膜と同一平面加工を容
易にし、特性の向上を図る。
スライダ構造であって、基板の浮上面となる部分を削っ
て、薄膜磁気センサを保護する保護膜と同一の材料を積
層し、精度の必要な浮上面を保護膜と同一平面加工を容
易にし、特性の向上を図る。
本発明は磁気ディスク装置に用いられる薄膜磁気ヘッ
ド用浮上スライダ構造に関する。
ド用浮上スライダ構造に関する。
磁気ディスク装置は、例えば第３図に示すように、モ
ータ１を有するスピンドル２により回転する複数のディ
スク媒体３と、ヘッド駆動用の回転アクチュエータ４に
取り付けられたアーム５と、該アーム５にスペーサ６を
介して固定される加圧バネ７と、該加圧バネ７に図示し
ないジンバルバネを介し磁気センサを有する磁気ヘッド
スライダ８を設けている。なお、９は装置ベース、10は
アーム５を回転させる為の回転軸を示す。
ータ１を有するスピンドル２により回転する複数のディ
スク媒体３と、ヘッド駆動用の回転アクチュエータ４に
取り付けられたアーム５と、該アーム５にスペーサ６を
介して固定される加圧バネ７と、該加圧バネ７に図示し
ないジンバルバネを介し磁気センサを有する磁気ヘッド
スライダ８を設けている。なお、９は装置ベース、10は
アーム５を回転させる為の回転軸を示す。
磁気ヘッドスライダ８はアクチュエータ４の回転によ
り、ディスク媒体３の半径方向に移動し、所定トラック
に位置づけられて、磁気センサによりリード／ライトさ
れる。
り、ディスク媒体３の半径方向に移動し、所定トラック
に位置づけられて、磁気センサによりリード／ライトさ
れる。
磁気ヘッドはコンタクト・スタート・ストップ（以下
CSSという）方式により、ディスク媒体３上に接してい
る磁気ヘッドスライダ８は、ディスク媒体３の回転によ
り浮上し、ディスク媒体３の回転停止により降下して止
まる。
CSSという）方式により、ディスク媒体３上に接してい
る磁気ヘッドスライダ８は、ディスク媒体３の回転によ
り浮上し、ディスク媒体３の回転停止により降下して止
まる。
上記磁気ヘッドスライダ８の浮上量は0.2〜0.3μｍと
僅かであり、今後益々小さく設定される傾向にあり、そ
の為ディスク媒体３面、磁気ヘッドスライダ８面の面精
度が要求される。
僅かであり、今後益々小さく設定される傾向にあり、そ
の為ディスク媒体３面、磁気ヘッドスライダ８面の面精
度が要求される。
第４図は従来の薄膜磁気ヘッドスライダを説明する斜
視図である。
視図である。
図において、磁気ヘッドスライダ８はフラットな複数
（図では２つ）の側レール11と該側レール11の前端に、
空気流入のためのテーパ13を、後端に薄膜磁気センサ14
を設けている。16は溝を示す。
（図では２つ）の側レール11と該側レール11の前端に、
空気流入のためのテーパ13を、後端に薄膜磁気センサ14
を設けている。16は溝を示す。
第５図は従来の磁気ヘッドスライダの製作プロセスを
説明する図である。図（イ）に示すフェライトやアルミ
ナ系基板８の上面に、薄膜プロセスにより図（ロ）のよ
うに、薄膜磁気センサ14及び保護膜19（薄膜磁気センサ
14の上で図示せず）を形成した後、Ｘ、Ｙ方向に切断
し、図（ハ）から図（ニ）のように切断、研磨加工によ
りスライダ形状へと加工する。この磁気ヘッドスライダ
を、加圧バネ７に取り付け、図（ホ）のようなヘッド組
立体とする。
説明する図である。図（イ）に示すフェライトやアルミ
ナ系基板８の上面に、薄膜プロセスにより図（ロ）のよ
うに、薄膜磁気センサ14及び保護膜19（薄膜磁気センサ
14の上で図示せず）を形成した後、Ｘ、Ｙ方向に切断
し、図（ハ）から図（ニ）のように切断、研磨加工によ
りスライダ形状へと加工する。この磁気ヘッドスライダ
を、加圧バネ７に取り付け、図（ホ）のようなヘッド組
立体とする。
従来の磁気ヘッドスライダの側レール（スライダ面）
11は、精度を要しラップ加工している。そのラップ加工
の際、スライダ（基板はアルミナ系セラミック）11と保
護膜（アルミナ）19の硬度差により、研削、研磨速度の
差が発生し、第６図（イ）（ロ）に示すような段差ｅ
（ｅ＝0.1〜0.05μｍ）が生じる。その為、浮上時のデ
ィスク媒体３と薄膜磁気センサ14の磁極迄の距離が遠く
なり、特性が劣化すると云う問題点があった。
11は、精度を要しラップ加工している。そのラップ加工
の際、スライダ（基板はアルミナ系セラミック）11と保
護膜（アルミナ）19の硬度差により、研削、研磨速度の
差が発生し、第６図（イ）（ロ）に示すような段差ｅ
（ｅ＝0.1〜0.05μｍ）が生じる。その為、浮上時のデ
ィスク媒体３と薄膜磁気センサ14の磁極迄の距離が遠く
なり、特性が劣化すると云う問題点があった。
第１図は本発明の原理を説明する図で、（イ）は断面
図、（ロ）は磁気センサ部の拡大図を示す。
図、（ロ）は磁気センサ部の拡大図を示す。
第１図において、磁気ヘッドスライダ８′はフラット
状の複数（図では２つ）の側レール11′と該側レール1
1′の前端に、空気流入のためのテーパ13を、後端に薄
膜磁気センサ14と保護膜19を設けている。なお、16は溝
を示し、また側レール11はアルミナ系セラミック基板の
浮上面を削り、その部分に保護膜19と同一の材料を積層
して構成した。
状の複数（図では２つ）の側レール11′と該側レール1
1′の前端に、空気流入のためのテーパ13を、後端に薄
膜磁気センサ14と保護膜19を設けている。なお、16は溝
を示し、また側レール11はアルミナ系セラミック基板の
浮上面を削り、その部分に保護膜19と同一の材料を積層
して構成した。
〔作用〕 即ち、上記磁気ヘッドスライダの製作プロセスにおい
て、加工精度を必要とする浮上スライダの浮上面11′
に、センサ部と同一の材料で成膜しているので、成形加
工の際、指定寸法まで研磨加工した時に、研磨速度の差
がないので、浮上面11′と保護膜面19とが同一平面に加
工出来、特性の劣化はない。
て、加工精度を必要とする浮上スライダの浮上面11′
に、センサ部と同一の材料で成膜しているので、成形加
工の際、指定寸法まで研磨加工した時に、研磨速度の差
がないので、浮上面11′と保護膜面19とが同一平面に加
工出来、特性の劣化はない。
第２図は本発明の実施例を説明する図で、図（イ）〜
図（ニ）は薄膜磁気ヘッドの製作プロセスを示す。
図（ニ）は薄膜磁気ヘッドの製作プロセスを示す。
従来と同様な方法でフェライトやアルミナ系基板の上
面に、薄膜プロセスにより薄膜磁気センサ15と保護膜19
を形成した後、図（イ）のように複数の磁気センサ14を
含む横の棒状に切断した後、将来の浮上面となる部分
を、図（ロ）のようにイオンミール等の加工により５〜
10μｍ削る。
面に、薄膜プロセスにより薄膜磁気センサ15と保護膜19
を形成した後、図（イ）のように複数の磁気センサ14を
含む横の棒状に切断した後、将来の浮上面となる部分
を、図（ロ）のようにイオンミール等の加工により５〜
10μｍ削る。
その部分をスパッタリング等の手法により、図（ハ）
のように保護膜と同材質で成膜ａする。
のように保護膜と同材質で成膜ａする。
次ぎに、図（ニ）のように所定寸法まで研削、研磨を
行い切断、スライダ完成体とする。
行い切断、スライダ完成体とする。
上記研磨加工の際、〔第１図（ロ）参照〕浮上面11′
と保護膜部材19とが同一材質であるので、研削、研磨が
ほぼ同一に進行し、ほぼ完全な平面が得られる。
と保護膜部材19とが同一材質であるので、研削、研磨が
ほぼ同一に進行し、ほぼ完全な平面が得られる。
その結果、従来のように保護膜19部分が浮上面11′か
ら引っ込み、実質浮上量の増大したような特性劣化を防
ぐことが出来る。
ら引っ込み、実質浮上量の増大したような特性劣化を防
ぐことが出来る。
本発明の薄膜磁気ヘッドスライダと従来の薄膜磁気ヘ
ッドスライダとを比較したところ、分解能で従来54％で
あったものが、本発明では58％となり、特性の向上があ
った。
ッドスライダとを比較したところ、分解能で従来54％で
あったものが、本発明では58％となり、特性の向上があ
った。
以上説明したように本発明によれば、浮上スライダ面
に薄膜磁気センサの保護膜と同質の材料で形成し、成形
加工することにより浮上面と保護膜を同一平面を得るこ
とが出来る。
に薄膜磁気センサの保護膜と同質の材料で形成し、成形
加工することにより浮上面と保護膜を同一平面を得るこ
とが出来る。
第１図（イ）（ロ）は本発明の原理を説明する図、 第２図（イ）〜（ニ）は本発明の実施例を説明する図、 第３図は磁気ディスク装置を説明する図、 第４図は従来の薄膜磁気ヘッドスライダを説明する図、 第５図（イ）〜（ホ）は従来の磁気ヘッドスライダの製
作プロセスを説明する図、 第６図（イ）（ロ）は第４図のA-A断面図である。 図において、 ３はディスク媒体、８′は磁気ヘッドスライダ、11′は
側レール（スライダ面）、13はテーパ、14は薄膜磁気セ
ンサ、19は保護膜を示す。
作プロセスを説明する図、 第６図（イ）（ロ）は第４図のA-A断面図である。 図において、 ３はディスク媒体、８′は磁気ヘッドスライダ、11′は
側レール（スライダ面）、13はテーパ、14は薄膜磁気セ
ンサ、19は保護膜を示す。
Claims (1)
- 【請求項１】ディスク媒体（３）の回転により薄膜磁気
センサ（14）を浮上させるための浮上スライダ（８′）
であって、 前記ディスク媒体（３）と対向するスライダ浮上面（1
1′）を、前記薄膜磁気センサ（14）を保護する保護膜
（19）と同質の材料で形成し、 成形加工時に、該スライダ浮上面（11′）を前記保護膜
（19）面と同一面に形成することを特徴とする薄膜磁気
ヘッド用浮上スライダ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17132985A JP2509909B2 (ja) | 1985-08-02 | 1985-08-02 | 薄膜磁気ヘツド用浮上スライダ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17132985A JP2509909B2 (ja) | 1985-08-02 | 1985-08-02 | 薄膜磁気ヘツド用浮上スライダ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6231016A JPS6231016A (ja) | 1987-02-10 |
| JP2509909B2 true JP2509909B2 (ja) | 1996-06-26 |
Family
ID=15921213
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17132985A Expired - Lifetime JP2509909B2 (ja) | 1985-08-02 | 1985-08-02 | 薄膜磁気ヘツド用浮上スライダ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2509909B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7237323B2 (en) | 2001-06-06 | 2007-07-03 | Tdk Corporation | Method for manufacturing a magnetic head |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1175317A (zh) * | 1994-12-19 | 1998-03-04 | 海门科技公司 | 盘驱动滑动触头的部分蚀刻的保护外敷层 |
-
1985
- 1985-08-02 JP JP17132985A patent/JP2509909B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7237323B2 (en) | 2001-06-06 | 2007-07-03 | Tdk Corporation | Method for manufacturing a magnetic head |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6231016A (ja) | 1987-02-10 |
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