JPS62299941A - カラ−フイルタの製造法 - Google Patents

カラ−フイルタの製造法

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JPS62299941A
JPS62299941A JP61145109A JP14510986A JPS62299941A JP S62299941 A JPS62299941 A JP S62299941A JP 61145109 A JP61145109 A JP 61145109A JP 14510986 A JP14510986 A JP 14510986A JP S62299941 A JPS62299941 A JP S62299941A
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color filter
electrode
protection film
transparent electrode
liquid crystal
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Tokihiko Shimizu
清水 時彦
Masaaki Yoshino
芳野 公明
Sanemori Soga
眞守 曽我
Narihiro Sato
成広 佐藤
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters
    • G02F1/133516Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明の詳細な説明 産業上の利用分野 本発明は、液晶と組み合わせたテレビ、ビデオモニタあ
るいはコンピュータのディスプレイに利用できるカラー
フィルタの製造法に関する。
従来の技術 光の透過量あるいは反射量を制御する液晶とカラーフィ
ルタを構成要素とするカラー液晶表示装置が近年多く開
発されている。そのカラーフィル2I、− タの製造方法には、染色法、印刷法、写真法、蒸着法、
及び電着法などがある。現在パターン形成の精度1色相
の面から染色法によるものが実用化されているが、量産
性の面から印刷法、電着法が試みられている。
第1図に本発明で使用する染色法によるカラーフィルタ
の断面と液晶TVパネル構成の一例を示す。1,1′は
、ガラス等からなる透明基板、2J2bはゼラチン等の
被染色材と染料からなる有機着色層であり、3は保護層
で、耐湿性、耐酸化性及び耐傷性の機能をもつアクリル
系樹脂等からなる。着色層は、赤、緑、青の一定形状の
画素2aを形成し配列されてカラーフィルタが構成され
ている。又色純度等を良好にするために画素間に黒色ス
トライプ2bを設けることもある。4はITO等からな
る無機透明共通電極、6はポリイばド等からなる配向膜
、6は液晶、7はTPT (薄膜トランジスタ)、8は
ソース線、9は透明画素電極、10はゲート電極である
発明が解決しようとする問題点 前述したカラー液晶パネル作製において、カラーフィル
タのITO電極電極作製面配向膜膜するだめに電極表面
の清浄化、及び配向膜の樹脂皮膜を作るために従来、1
50’C以上の温度で熱処理する工程が必要であった。
この時、有機層とITOの無機層の熱膨張係数の差によ
りシワが発生し、画素間に亀裂がはいり、断線状態にガ
ったり、又は画素及びブラックマトリック上のITO膜
が剥離しその導電性片が対向電極に接触して短絡状態に
なり、映像信号にともなったTPTの駆動がなされず、
液晶による光透過率の制御が不可能になり、ディスプレ
ーの画像を構成している画素が所定の色及び濃度を示さ
ない欠陥部となり著しく画質を悪化させる不都合があっ
た。
問題点を解決するだめの手段 透明基板上の有機着色層及び保護膜を重ねて構成される
カラーフィルタにおいて、前記保護膜上に無機質の透明
電極を形成後、80〜110℃。
111〜130′c、131〜170℃の各温度範囲で
少なくとも1点以上の温度で1o分間以上一定に保持す
ることにより上記問題を解決出来た。
作用 上記熱処理工程により、カラーフィルタ及び透明電極に
発生するシワの発生を抑制し、それによってカラーフィ
ルタの画素間の亀裂による電極の断線、及び画素上又は
ブラックマトリック」二のITO電極の剥離による対向
電極との短絡現象を無くし、それにともなうディスプレ
ー画像の欠陥による画質の低下を無くすることができる
実施例 透明ガラス基板上に重クロム酸ゼラチンを塗布したもの
をパターニング後、染料により着色l−て赤、緑、青の
各画素2aと画素間のブラックマトリックス2bを作成
し、次のその表面に熱硬化系のアクリル系樹脂の保護膜
を塗布、熱硬化し、さらにその面にスパッタ蒸着装置で
ITO電極を設ケタカラーフィルタを作成した。このカ
ラーフィルタを、(A)so〜110℃、111〜13
0℃。
131〜170℃の各温度範囲でステップ熱処理をした
サンプル、(B)111〜130℃、131〜5ベーン
゛ 170℃の各温度範囲でステップ熱処理したサンプル、
(C)131〜170℃の温度範囲で熱処理したサンプ
ルにおいて、各温度範囲で一定温度で保持する時間とカ
ラーフィルタの゛全面積を100とした場合のシワ発生
面積の割合(シワ発生率)を第2図に示した。又、シワ
の発生状態の一例を第3図に示した。第2図から明らか
な様に(ム)の場合は10分以上の保持時間でシワ発生
率は0となったが、(B) 、 (C)の場合は、シワ
発生率は0とはならなかった。
上記と同様のカラーフィルタを100℃1時間。
120℃1時間、150℃1時間のステップ熱処理をし
、次に水洗し、160℃で30分間乾燥後、さらに芳香
族ポリイミド配向膜を160℃の成膜条件で作成したも
の用いて液晶表示装置を作製した。次に、熱処理を全く
せずに同工程で液晶表示装置を作製した。この二種類の
液晶表示装置を80℃の環境下で寿命試験を1000時
間行なった結果、ITO剥離にともなう点欠陥は、本発
明品のものは、0であったが、従来品は、9万画素6、
−2・ 中8〜10個の範囲で発生した。
なお、ポリメチルアクリレート等の合成被染色材を用い
たカラーフィルタ、保護膜が光硬化型アクリル樹脂、無
機酸化化合物からなるカラーフィルタにおいても同様な
効果が得られた。
上記のように、有機着色層が、ゼラチン、カゼイン等の
天然被染色材と赤、緑、青及び黒のいづれかの染料から
構成されるもの、及び、感光部と染色部を有するポリメ
チルアクリレート等ノ合成被染色材と赤、緑、青及び黒
のいづれかの染料から構成されるものに適用できる。
また、保護膜が、熱硬化型アクリル樹脂や光硬化型アク
リル樹脂からなるもの、及びSi 、 Ti 。
zr及びムlの少なくとも一つの金属のアルコレート化
合物を加水分解し重合した酸化化合物薄膜からなるもの
に適用できる。
発明の効果 以上のように、本発明によれば、カラーフィルタの作成
工程において一定の熱処理を行なうととにより、品質の
安定な高寿命の液晶表示体を提供7/、− することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は液晶表示体の構成例を示す断面図、第2図はカ
ラーフィルタの熱処理条件とシワ発生率との関係を示す
図、第3図はシワ発生状態の一例を示した模式図である
。 1・・・・・・透明基板、21L・・・・・・カラーフ
ィルタ(画素)、2b・・・・・・ブラックマトリック
、3・・・・・・保護膜、4・・・・・・透明電極。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名1.
1’−一遣湖り板 4−一一艷6月電4石に 第2図 深看E8間

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 透明基板上に有機着色層及び保護膜を重ねて構成される
    カラーフィルタの製造法であって、前記保護膜上に無機
    質の透明電極を形成後、80〜110℃、111〜13
    0℃、131〜170℃の各温度範囲で少なくとも1点
    以上の温度で10分間以上保持する工程を有することを
    特徴とするカラーフィルタの製造法。
JP14510986A 1986-06-20 1986-06-20 カラ−フイルタの製造法 Expired - Lifetime JPH0792565B2 (ja)

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JPS62299941A true JPS62299941A (ja) 1987-12-26
JPH0792565B2 JPH0792565B2 (ja) 1995-10-09

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03120516A (ja) * 1989-10-04 1991-05-22 Stanley Electric Co Ltd カラーフィルタの製造方法
US5879973A (en) * 1992-08-07 1999-03-09 Fujitsu Limited Method for fabricating thin-film transistor

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03120516A (ja) * 1989-10-04 1991-05-22 Stanley Electric Co Ltd カラーフィルタの製造方法
US5879973A (en) * 1992-08-07 1999-03-09 Fujitsu Limited Method for fabricating thin-film transistor
US6338990B1 (en) 1992-08-07 2002-01-15 Fujitsu Limited Method for fabricating thin-film transistor

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JPH0792565B2 (ja) 1995-10-09

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