JPS62288489A - 多室式竪型加圧雰囲気炉 - Google Patents

多室式竪型加圧雰囲気炉

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JPS62288489A
JPS62288489A JP13060986A JP13060986A JPS62288489A JP S62288489 A JPS62288489 A JP S62288489A JP 13060986 A JP13060986 A JP 13060986A JP 13060986 A JP13060986 A JP 13060986A JP S62288489 A JPS62288489 A JP S62288489A
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JP
Japan
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chamber
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turntable
bestible
vertical
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JP13060986A
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調子 忠行
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Chugai Ro Co Ltd
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Chugai Ro Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明の詳細な説明 (産業上の利用分野) 本発明は、多室式竪型雰囲気炉に関するものである。
(従来技術とその問題点) 従来、たとえば、ファインセラミックス部品等を焼成す
るには、一般に、両側に、装入、抽出ベスチブルを備え
るとともに、予熱室、加熱室を中火、前記各室を移動さ
せて熱処理を行っている。
しかしながら、特に、加熱室では、2300℃にも達す
るため、処理材の炉内搬送手段を高耐熱性を有するもの
としなければならず、その選択が問題となる。
また、処理材を、加圧雰囲気中で焼成する場合、中間扉
を含めて耐圧構造部分が多く、設備費がコストアップに
なる。さらに、近年、多品極少ロット生産が多いが、多
室式横型炉では、このような生産に適しない等多くの問
題点を有する。
本発明は、前記問題点を解決するためになされたもので
、構成が簡単で、炉内搬送手段が高温にさらされず、か
つ、処理材を加圧雰囲気で処理する場合においても、耐
圧構造部分を少なくすることができる多室式竪型雰囲気
炉を提供することを目的とする。
(問題点を解決するための手段) 本発明は、前記目的を達成するために、多室式たて竪型
雰囲気炉を、移送室の天井部に、同一円「苓iI−+−
;l−6ReII’Fj−ツに6−−ツごず一イ11.
シ〜し1C鴛8【1Fllhnml=≠?メ叶−配設す
るとともに、前記移送室内に、材料支持台。
炉床および仕切弁からなる処理材積載装置を前記間隔で
設けたターンテーブルと、このターンテーブルを支持す
る昇降台、とを設けて構成したものである。
(実施例) つぎに、本発明を一実施例である図面にしたがって説明
する。
図に示す多室式竪型雰囲気炉Tは、大略、移送室1、ベ
スチブル2、竪型処理室3、昇降台6、処理材積載装置
18とからなる。
そして、前記竪型処理室3は、第1処理室3aおよび第
2処理室3bとからなり、前記ベスチブル2および第1
2第2処理室3 a、 3 bは、前記移送室1の天井
部に同一円周上に等間隔で配置されている。なお、前記
ベスチブル2および第1.第2処理室3a、3bは、下
部に開口5を有し、かっ、真空排気源とN、ガス供給管
(いずれも図示せず)に連通ずる一方、第1.第2処理
室3 a、 3 bにはヒータ4が設けである。
前記昇降台6は、昇降用モータ7によって回転するスク
リュシャフト8と螺合し、かつ、ガイドロッド9にガイ
ドされて昇降可能となっている。
なお、10は昇降用モータ7の回転力をスクリュシャフ
ト8に伝達するためのチェーンである。
前記処理材積載装置18は、前記昇降台6にボールスプ
ライン12を介して、ローラ11により回転可能に載置
されたターンテーブル19上に設けたもので、材料支持
台22.炉床21および前記開口5を閉鎖する仕切弁2
0とからなり、実施例では3組設けである。
すなわち、ボールスプライン12のボール軸受13の外
輪14は前記昇降台6を貫通して装着され、その内輪1
5は、前記処理材積載装置18を設けたターンテーブル
19の中央部に位置しである。
したがって、ターンテーブル19は前記昇降台6が昇降
するとき、キー16により一体に昇降するとともに、ス
プライン軸17の回転により昇降台6上を回転する。
さらに、前記ベスチブル2および竪型処理室3の下部開
口5には、クラッチリング23が設けである。
このクラッチリング23は、第3図に示すように、ベス
チブル2、第1.第2処理室3 a、 3 bの下部開
口5に所定角度可能に取り付けられ、前記仕切弁20と
嵌合して、処理時、前記開口5を耐圧シールするもので
ある。
つぎに、前記構成からなる多室式竪型雰囲気炉Tを用い
て、セラミックス製品を焼結処理する場合について説明
する。
まず、前記各炉床21をベスチブル2、第1゜第2処理
室3 a、 3 bの下部開口5と対応する位置とし、
昇降台6を上昇させて下部開口5を炉床21で閉鎖する
とともに、仕切弁20とクラッチリング23とにより、
開口5を耐圧シールする。
ついで、ベスチブル2内に位置する支持台22上に処理
材Wを載置し、図示しない手段でベスチブル2内を真空
排気(約10−3Torr)したのち、内を復圧する。
その後、仕切弁20とクラッチリング23との係合を外
し、スクリュシャフト8を回転させ昇降台6を下降する
ことにより、処理材WをあらかじめN、ガス雰囲気とし
である移送室1内に位置させるとともに、スプライン軸
17を回転させターンテーブル19を1ピッチ回転し、
処理材Wを第1処理室3aの下方に位置させる。
そして、前記スクリュシャフト8の回転により、前述と
同様、昇降台6(処理材積載装置18)を上昇させ、処
理材Wを大気圧近くのN、雰囲気となっている第1処理
室3a内に装入するとともに、約600〜1000℃で
加熱し、脱ワツクス処理と予熱を行なう。一方、ベスチ
ブル2においては、前述と同様工程により支持台22に
新たな処理材Wが載置される。
前記のようにして、処理材Wの予熱が終了すると、再び
、各処理材Wは移送室1に降下するとともにターンテー
ブル19が1ピッチ回転し、再度←H,l    h几
RL!t#W (+ 5試 1   笛 9hlLN宏
 QaQhrJ3z−装入される。第2処理室3bにお
いては、処理材Wは1300℃〜1400℃までN、雰
囲気中で加熱され、引き続きN、ガスを供給して9 、
5 kg/cn+”の加圧N、雰囲気中で1850℃に
加熱され、焼結が完了すると、第2処理室3b内を約1
000℃まで炉冷し、その後、第2処理室3b内の圧力
を大気圧近くまで降下させる。その間、ベスチブル2に
は次の処理材Wが装入され、一方、第1処理室3aでは
前記同様、処理室Wが予熱される。
その後、処理材積載装置18は、下降−lピッチ回転−
上昇を行ない順次、処理材Wは熱処理されるが、第2処
理室3bからの処理材Wは、ベスチブル2に装入され、
約150℃以下に冷却されて、ここから炉外に抽出する
とともに、新しい処理材Wがベスチブル2に装入され、
以後、前記工程を繰り返すことになる。
前記実施例では処理室3を2つ設けたものを示したが、
3つ以上でもよく、また、下部開口5の耐圧シールは、
クラッチリング方式に限らないでよいことは勿論である
(発明の効果) 以上の説明から明らかなように、本発明によれば、ベス
チブルおよび複数の処理室を移送室の天井部に設け、各
室へ処理材を搬送する搬送手段は、すべて移送室内に配
設しである。
したがって、搬送手段は、高耐熱性を考慮する必要がな
いため、それだけ安価になる。
また、処理材を加圧雰囲気で処理する場合でも、耐圧構
造は、移送室の天井部に設けた処理室だけでよいため安
価であり、かつ、各処理室において任意の温度、圧カバ
ターンが選択でき、多品種少量生産を効率よく行なうこ
とができる。
さらに、搬送手段は、各処理室毎に設けることなく1つ
のターンテーブルで行なうため、機構の簡素化および搬
送の確実化を図ることができる等の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明にかかる多室式竪型雰囲気炉の概略断面
正面図、第2図は第1図の■−■線断面図で、第3図は
耐圧シール機構の部分断面図であ1〜移送室、2〜ベス
チブル、3(3a、3b)〜処理室、5〜下部開口、6
〜昇降台、8〜スクリユシヤフト、9〜ガイドロツド、
12〜ボールスプライン、13〜ボール軸受、17〜ス
プライン軸、18〜処理材積載装置、19〜ターンテー
ブル、20〜仕切弁、21〜炉床、22〜支持台、23
〜クラツチリング、W〜処理材。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)移送室の天井部に、同一円周上に所定間隔でベス
    チブルおよび竪型処理室を配設するとともに、前記移送
    室内に、材料支持台、炉床および仕切弁からなる処理材
    積載装置を前記間隔で設けたターンテーブルと、このタ
    ーンテーブルを支持する昇降台と、を設けたことを特徴
    とする多室式竪型雰囲気炉。
JP13060986A 1986-06-04 1986-06-04 多室式竪型加圧雰囲気炉 Granted JPS62288489A (ja)

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JP13060986A JPS62288489A (ja) 1986-06-04 1986-06-04 多室式竪型加圧雰囲気炉

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JPS62288489A true JPS62288489A (ja) 1987-12-15
JPH0517476B2 JPH0517476B2 (ja) 1993-03-09

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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS536085A (en) * 1976-07-06 1978-01-20 Mitsubishi Electric Corp Digital temperature display device
JPS5812983A (ja) * 1981-07-15 1983-01-25 株式会社ヤマザキ電機 連続加熱炉
JPS59197145A (ja) * 1979-12-21 1984-11-08 バリアン・アソシエイツ・インコ−ポレイテツド ウエ−ハ処理装置
JPS6176876A (ja) * 1984-09-19 1986-04-19 株式会社神戸製鋼所 ロ−タリ式連続熱間静水圧加圧設備

Patent Citations (4)

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JPH0517476B2 (ja) 1993-03-09

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