JPS62283944A - シネンサ−ルの製造方法 - Google Patents

シネンサ−ルの製造方法

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JPS62283944A
JPS62283944A JP12540586A JP12540586A JPS62283944A JP S62283944 A JPS62283944 A JP S62283944A JP 12540586 A JP12540586 A JP 12540586A JP 12540586 A JP12540586 A JP 12540586A JP S62283944 A JPS62283944 A JP S62283944A
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JP12540586A
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English (en)
Inventor
Kikumasa Sato
佐藤 菊正
Seiichi Inoue
誠一 井上
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Kuraray Co Ltd
Original Assignee
Kuraray Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS62283944A publication Critical patent/JPS62283944A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はシネンサールの製造方法並びにその製造方法に
おいて利用する台底中間体に関する。
本発明の方法により製造さ詐るシネンサールはα−シネ
ンサール(2,6,10−)リメチル−2,6゜9.1
1−ドデカテトラエナール)若しくはβ−シネンサール
(2,6〜ジメチル−10−メチレン−2、6,11−
ドデカトリエナール)又はこnらの混會物であり、こn
らは゛いずれも香料の香気成分として有用である。
〔従来の技術〕
従来、シネンサールは次に示すような方法で製造される
ことが昶られている。
(1)  β−ミルセン(7−メチル−3−メチレン−
1,6−オクタジエン)を二酸化セレンで酸化し、得ら
nた2−メチル−6−メテレンー2.7−オクタレニン
−1−オールを1−エトキシ−2−メチル−1,3−ブ
タジェンと加熱条件下で反応させることからなるβ−シ
ネンサールの製造方法:〔ケミカル奉コミュニケーショ
ンズ(ChemicalCommunications
 )、1967年、第947頁及びジャーナル・オプ・
ジ・アメリカン・ケミカル・ソサエティー(Journ
al of the American Chemic
alSociety )、第91巻、第3281頁(1
969年)参照〕 (2ン  β−ミルセンを二酸化セレンで酸化し、得ら
れ7?、2−メチル−6−メチレ7−2.7−オクタレ
ニン−1−オールを三臭化リンと反応させて8−ブロモ
−7−メチル−3−メチレン−1,6−オクタジエ/と
し、該8−ブロモ−7−メチル−3−メチレン−1,6
−オクタジエンをリチウムジイソプロピルアばドの存在
下にN−エチリデンtert −ブチルアミンと反応さ
せたのち加水分解して4−メチル−8−メチレン−4,
9−デカジェナールヲ得、次いで該4−メチル−8−メ
チレン−4,9−デカジェナールをリチウムジイソプロ
ピルアミドの存在下にN−プロピリデンt、ert−ブ
チルアミンと反応させたのち加水分解することからなる
β−シネンサールの製造方法: 〔ヘルペテ力・キミカ・アクタ(HelveticaC
himica Acta )、第50巻、第2440頁
(1967年)及び特公昭47−47365号公報参照
〕(al  β−ミルセンを出発原料として使用し、ウ
イツテツヒ(wittig )反応を利用することを特
、徴とするβ−シ不ンサールの製造方法: 0νζへ人−ノψ 〔ヘルベチ力・キミカ・アクタ(HalveticaC
himiCa Acta ) 、第50巻、第2445
頁(1967年)参照〕 (4) β−オシメン(3,7−シメチルー1.3.6
−オクタトリエン)又はβ−ミルセンを有機過酸で酸化
し、得られ次エボキンドをエポキシ環の開環反応に伺し
て第2級アルコールとし、該第2級アルコールをアルキ
ルビニルエーテルと縮合させて4゜8−ジメチル−4,
7,9−デカトリエナール又は4−メチル−8−メチレ
ン−4,9−デカジェナールを得、次いで該アルデヒド
ヲリチウムジイソブロピルアミドの存在下をてN−プロ
ピリデンt#!rt −ブチルアミンと反応させ九のち
加水分解することからなる。t−シネンサール又はβ−
シネンサールの製造方法: アルキルビニルエーテル □0vVQQゾ (式中点線はこれによって指示された位置のいずれか一
方に二重結合が存在することを表わす)(特公昭47−
15807号公報及び特公昭47−47364号公報参
照) (5)11.11−ジェトキシ−6,10−ジメチル−
5,9−ウンデカジエン−2−オンを出発原料として使
用してα−シネンサール又はβ−シネンサー2)H2 (式中点線はこnによって指示され次位置のいずれか一
方に二重結合が存在することを表わす)(西ドイツ国特
許公開第2143992号公報参照)(6)8−プロモ
ー7−メチル−3−メチレ/−1゜6−オクタジエン又
は6−プロモーアーメチルー3−メチレン−1,7−オ
クタジエンをニッケルカルボニルと反応させ、得られ次
π−アリル鳳ニッケル錯体を4−ハロー2−メチル−2
−ブチナールのアセタールと反応させて2,6−ジメテ
ルーl〇−メチレン−2,6,11−ドデカトリエナー
ルのアセタールとし、次いで該アセタール金加水分解づ
ることからなるβ−シネンサールの製造方法:(式中R
3及びR4はそれぞれエチル基1&:表わすか又は−緒
になってエチレン基を表わし、Mal、は塩素原子又は
臭素原子を表わし、点線は半結合を表わす) (特公昭60−31814号公報参照)〔発明が解決し
ようとする問題点〕 上記の従来法はいずれもシネンサールを工業的に製造す
るうえで種々の問題点を有する。上記(1)の方法及び
(2)の方法で多量に使用する二酸化セレンは毒性を有
しており、しかも高価である。ま次(1)の方法で原料
として使用する1−エトキシ−2−メチル−1,3−ブ
タジェンは工業的に入手することが難しい。(2)の方
法では副原料であるリチウムジイソプロピルアミドの調
製の友めに高価なリチウム金属を使用することが必要と
なり、ま念リチウムジイソプロピルアミドは水の不存在
下に使用することが必要である光めにその取扱いには注
意を要する。上記(3)の方法ではウイツテツヒ試薬X
Sのtめに多量のトリフェニルホスフィンを使用するこ
とが必要となり、しかもウイツテツヒ反応によって副生
する多量のトリフェニルホスフィンオキシトを効率的に
再利用することが難しい。
上記免)の方法では(2)の方法と同様に副原料として
リチウムジイソプロピルアミドが使用さnる。上記(6
)の方法で原料として使用する11.11−ジェトキシ
−6,10−ジメチル−5,9−ウンデカジエン−2−
オンは工業的に入手することが難しい。ま九上記(6)
の方法では毒性を有するニッケルカルボニルを多量に使
用することが必要でちる。
しかして、本発明の目的の1つは、安価にかつ容易に入
手できる工業原料からシネンサールを容易に製造する方
法を提供することにおる。まt本発明の他の目的は該製
造方法に必須の合成中間体である新規な化合物を提供す
ることにある。
〔問題点を解決する之めの手段〕
本発明によれば、上記の目的は、一般式(式中R1及び
R2はそれぞれ低級アルキル基金表わし、X及び2の一
方は水素原子を表わし、他方はYと一緒になって単結合
を形底していることを表わす) で示さnるヒドロキシルアミン誘導体をモノノ・ロゲン
化炭化水素と反応させることを特徴とする一般式 (式中XSY及び2は前記定義のとおりである)で示さ
れるシネ/ナールの製造方法を提供することによって連
取され、ま念上記一般式(n)で示されるヒドロキシル
アミン誘導体として、一般式(式中R1、R2、X、Y
及び2は前記定義のとおりである) で示されるアミン誘導体を有機過酸又は過酸化水素と反
応させ、得らnる生成物を加熱処理することにより製造
さn九ものを用いる一般式(1)で示されるシネンサー
ルの製造方法、さらには上記の一般式(I[I)で示さ
nるアミン誘導体として、一般式 (式中X、 Y及びzFi前記定義のとおりである)で
示さtしる塩化twJを一般式 (式中R1及び謬は前記定義のとおりである)で示され
る第2級アミンと反応させることにより製造されたもの
を用いる一般式(1)で示さnるシネンブールの製造万
at−提供することによつ°C達成さ3るっま友上記の
一般式(If)で示されるヒドロキシルアミン誘導体及
び一般式(I[[)で示されるアミン誘導体を提供する
ことによって本発明の目的は達成される。
上記の一般式中のR1及びR2がそれぞれ表わす低級ア
ルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソブチル基、ブチル基、イソブチル基などが例示される
一般式(It)で示されるヒドロキシルアミン誘導体と
反応させるモノハロゲン化炭化水素としては、例えば、
コラ化メチル、ヨウ化エチル、ヨウ化イソプロピル、臭
化メチル、臭化エチル、塩化メチルなどのハロゲン化ア
ルキル;ヨク化アリル、臭化アリル、塩化アリル、1−
クロロ−3−メチル−2−ブテンなどのアリル型ハロゲ
ン化物などが使用される。モノハロゲン化炭化水素は一
般式(n)で示されるヒドロキシルアミン誘導体の1モ
ルに対して約1〜30モルの量で使用するのが好ましい
。この反応は有機溶媒中で行なうのが好ましく、有機溶
媒としてはクロロホルム、塩化メチレン、1.2−ジク
ロロエタンなどの不活性なポリハロゲン化炭化水素;ヘ
キサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエンなどの脂肪族又
は芳香族炭化水素;ジエチルエーテル、シフチルエーテ
ル、シフチルエーテル、ジフェニルエーテルナトのエー
テルナトの反応に悪影響を及ぼさない溶媒が使用さnる
を次、モノハロゲン化炭化水Xを一般式(II)で示さ
れるヒドロキシルアミン誘導体に対して過剰量で使用す
ることによって、該モノハロゲン化炭化水素に有機溶媒
としての役割を兼ねさせることもできる。有機溶媒の使
用量は一般式(II)で示されるヒドロキシルアミン誘
導体の濃度が約0.1〜10モル/lとなる程度の量で
あることが好ましい。
反応は約20〜150℃の温度範囲内で行なうのが好適
である0また、反応系中にヨウ化第4級アンモニウムを
添加することにより反応を促進することができる。ヨウ
化第4級アンモニウムとしてはヨウ化テトラブチルアン
モニウム、ヨウ化ベンジルトリメチルアンモニウムなど
が使用される。ヨウ化第4級アンモニウムの使用量は一
般式(n)で示されるヒドロキシルアミン誘導体の1モ
ルに対して約0.01〜2モルの量が好ましい。
このようにして得られる一般式(1)で示さnるシネン
サールの反応混合物からの分離・精製は例えば次の方法
により行なうことができる。反応混合物を、例えば水と
混合しtのち、有機層を分離し、水層をジエチルエーテ
ル、ヘキサン、クロロホルム、酢酸エチルなどの溶媒で
抽出し、有機層を会し、無水硫酸マグネシウムなどの乾
燥剤を用いて乾燥させ、乾燥液から溶媒を留去し、次い
でその残渣全蒸留、カラムクロマトグラフィーなどの精
製操作に付することによって一般式(1)で示されるシ
ネンサールを取得することができる。
一般式(II)で示されるヒドロキシルアミン誘導体は
文献未載の新規化合物であり、例えば、前述の方法によ
り製造することができる。
一般式(III)で示されるアミン誘導体と反応させる
有機過酸としては、例えば過酢酸などの脂肪族の有機過
酸;過安息香酸、m−クロロ過安息香酸などの芳香族の
有機過酸などが使用さnる。ま次、過酸化水素はその水
溶液を使用することができ、例えば30%水溶液として
市販さnているものをそのまま使用するのが簡便である
。有機過酸及び過酸化水素の使用量は一般式(■)で示
されるアミン誘導体の1モルに対して通常約1〜2モル
の量であり、特に約1〜1.2モルの量が好ましい。一
般式<m>で示さnるアミン誘導体と有機過酸又は過酸
化水素との反応は有機溶媒の存在下又は不存在下におい
て行なわれるが、反応を制御し易くするためには有機溶
媒の存在下において行なうことが好ましい。かかる有機
溶媒としては、例えば、メタノール、エタノールなどの
低級脂肪族アルコール;酢酸メチル、酢酸エチル、プロ
ピオン酸メチルなどの低級脂肪族カルボン酸の低級アル
キルエステル;塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン
、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水゛
素ニジエテルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テト
ラヒドロフランなどの鎖状又は環状のエーテルなどの反
応を阻害しない有機溶媒を使用することができる。反応
温度は通常的−100℃〜約30℃の範囲であり、特に
約−70℃〜約20℃の範囲が好ましい。
このようにして得られる一般式(Ill)で示されるア
ミン誘導体と有機過酸又は過酸化水素との反応生成物の
反応混合物からの分離は例えば次の方法により行なうこ
とができる。反応混合物を、例えば炭酸水素ナトリウム
水溶液などの塩基性水溶液と混合し、酢酸エチル、塩化
メチレン、ジエチルエーテルなどで抽出し、抽出液から
溶媒を留去することによって目的とする生成物を取得す
ることができる。
一般式(I[[)で示されるアミン誘導体と有機過酸又
は過酸化水素との反応によって得られる生成物の加熱処
理は溶媒の存在下又は不存在下で行なわれ、溶媒として
は酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチルなどの
低級脂肪族カルボン酸の低級アルキルエステル;塩化メ
チレン、l、2−ジクロミニタン、クロロホルム、四塩
化炭素などの不活性なポリハロゲン化炭化水累などの加
熱処理に対して悪影響を及ぼさない有機溶媒が使用され
る。
この場合、一般式(III)で示されるアミン誘導体と
有機過酸又は過酸化水素との反応混合物から上記のよう
な有機溶媒で抽出することによって取得され次生成物を
含む抽出液を加熱処理に付することか実際的でるる。加
熱処理は通常約40〜150’Cの範囲の温度で行なわ
れる。
上記の方法によって得られた一般式(IN)で示される
ヒドロキシルアミン誘導体は、反応混合物を、例えば、
必要に応じてこれより溶媒を留去し次のち、カラムクロ
マトグラフィーなどの精製操作に付することにより分離
取得される。
一般式(Ill)で示されるアミン誘導体は文献未載の
新規化合物であり、例えば、前述の方法により製造する
ことができる。
一般式(IV)で示される塩化物を一般式(V)で示さ
れる第2級アミンと反応させるに際し、第2級アミンは
塩化物の1モルに対して通常1モル以上の量で使用され
る。反応温度は通常0’Cがら第2級アミンの沸点まで
の範囲から選ばれ、特に約20〜50℃の範囲が好まし
い。反応は溶媒の存在下又に不存在下に行なわれ、溶媒
としては水;メタノール、エタノールなどの低級脂肪族
アルコール;アセトニトリルなどのニトリル;N、N−
ジメチルホルムアミドなどのアミドなどの反応に悪影響
を及ぼさない溶媒を単独で又は混合して用いることがで
きる。ま九、第2級アミンを塩化物に対して大過剰とな
る量で使用することによって該第2級アミンに溶媒とし
ての役割t−兼ねさせることもできる。  ゛ このようにして得られ次一般式(1)で示されるアミン
誘導体の反応混合物からの分離・精製は例えば次の方法
により行なうことができる。反応混合物を、例えば、水
酸化す) IJウム水溶液などの塩基性水溶液と混合し
、ジエチルエーテル、酢酸エチル、ベンゼンなどの溶媒
を用いて抽出し、抽出液から溶媒を留去し、その残留物
をカラムクロマトグラフィーなどの精製操作に付するこ
とによって一般式(III)で示されるアミン誘導体を
取得丁慝ことができる。
一般式(1’/)で示される塩化物は、例えば、−絞入
より (式中X、Y及び2は前記定義のとおりである)で示さ
れる7アルネセンを次亜塩素酸、p−トルエンスルホニ
ルクロロアミドナトリウム(クロラミン−T)、[化イ
ソシアヌルなどの通常の二ン盟クロル化に使用される塩
素化剤と反応させることによって容易に得ることができ
る。
〔実施例〕
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれ
らの実施例により限定されるものではない0 参考例 (M) (式中X%Y及び2は前記定義のとδ゛シである)α−
ファルネセン(3,7,11−トリメチル−1゜3、6
.10−ドデカテトラエン)とβ−ファルネセン(7,
11−ジメチル−3−メチレン−1,6,10=ドデカ
トリエン)との混合物(モル比ニア2対28)4.0.
!i!及び塩化インシアヌル2.0.Ft−ヘキサン2
0atjと混合し、室温で36時間攪拌した。得られた
反応混合液からヘキサンを減圧下に留去することによっ
て、残渣として3−クロロ−2,6,10−トリメチル
−1,6,9,11−ドデカテトラエンと3−クロロ−
2,6−ジメチル−10〜メチレ/−1、6,11−ド
デカトリエンとの混合物(前者と後者)−i 層比ニア
2対28.純度:81%)を4.9g得た(収率:85
’%)。
11−1− NMR(Cα4 / T M S )δ:
 L、S 〜2.7(m) 12.5H,1,1〜1.
4 (m) 21(。
4゜24 (m) IH+ 4.6〜5.4 (m) 
6.5H。
6.15(dd)IH 実施例1 (JL)3−(ジメチルアミノ) −2,6,10−)
ジメチル−1,6,9,11−ドデカトリエンメチルア
ミノ) −2,6−シメチルー10−メチレン−1,6
,11−ドデカトリエンの製造・N(CH3)2   
  X  YZ (式中X、Y及び2は前記定義のとおシである)参考例
により得られた3−りo o −2,6,10−トリメ
チル−1,6,9,11−ドデカテトラエンと3−クロ
ロ−2,6−シメチルー10−メチレン−1゜6.11
−ドデカトリエンとの混合物4.0gをエタノール15
d及び50%ジメチルアミン水溶液50dと混合し、室
温で6日間攪拌した。得られた反応混合液から未反応の
ジメチルアミン及びエタノールを減圧下に留去し、残渣
を水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和したのち、エー
テルで抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥
させたのち、減圧下に濃縮した。濃縮物をシリカゲルカ
ラムグロマトグラフイーを用いて精製することによシ、
3−(ジメチルアミノ)−2,6,10−)ジメチル−
1,6,9,11−ドデカテトラエン1.66、li+
及び3−(ジメチルアミノ)−2,6−シメチルー10
−メチレン−1,6,11−ドデカトリエン0.641
を得た(収率;68チ)。
3−(ジメチルアミノ)−2,6,10−1リメチル−
1、6,9,11−ドデカテトラエン:”H−NMR(
Cα4 /TMS ) δ: 1.1へ1.4 (m) 2H; 1.63 (
bs) 9H;2.10(s)及び1.8〜2.5 (
m) IOH;2.7 (bt) IH; 4.5−.
5.3 (m) 6H;6.13 (dd) IH 3−(ジメチルアミノ)−2,6−シメチルー10−メ
チレン−1,6,11−ドデカトリエン:1H−NMR
(CC1a /TMS )δ: 1.1〜1.4 (m
) 2H; 1.60 (s)及び1.63 (s) 
6H;2.10(s)及び1.8へ2.3 (m) 1
2 H;2.5 ヘ2.7 (m) IH; 4.5〜
5.3 (m) 7H;6.15 (dd) I H (b)1−(ジメチルアミノオキン)−2,6,10−
トリメチル−2,6,9,11−ドデカテトラエンの製
造:N(CHs)2 3−(ジメチルアミノ) −2,6,10−トリメチル
ー1.6.9.11−ドデカテトラエンo、so、pを
塩化メチレン15m1に加えて得られた溶液に炭酸ナト
リウム0.24.9を加えた。この混合物に攪拌下、−
60℃の温度で40]i量−の過酢酸を含む酢酸水溶液
0.42 gを徐々に滴下した。滴下終了後、−60℃
の温度で30分間攪拌を継続したのち、温度を徐々に0
℃まで上昇させた。得られた反応混合物に飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液を加え、有機層を分離し、水層を酢酸
エチルで抽出した。有機層と抽出液とを合わせ、無水硫
酸マグネシウムで乾燥させた。
得られた乾燥液を50℃の温度で1時間加熱した。加熱
後、反応液を減圧下に濃縮し、濃縮物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーを用いて精製することによって1
−(ジメチルアミノオキシ)−2,6,10−)ジエチ
ル−2,6,9,11−ドデカテトラエフ0.37.i
ilを得た(収率ニア0%)。
IH−NMR(CCl4/TMS ) δ 1.60 (bs) 9H,1,8〜2.5 (m
) 6H,2,43(s) 6H。
3.90 (s) 2H,4,5〜5.3 (m) s
H,’ 6.1 s (dd) IH(C)α−ンネン
ブールの製造゛ 1−(ジメチルアミノオキシ) −2,6,10−トリ
メチル−2,6,9,11−ドデカテトラエン0.30
.9をクロロホルム8dKm解し、次いでヨウ化メチル
4 txlを加え、得られた混合液を2.5時間加熱還
流させた。得られた反応混合物を水に注ぎ、次いでジエ
チルエーテルで抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させ、これから溶媒を減圧下に留去した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて精製す
ることによってα−ンネン丈−ル0.24.9を得た(
収率・97%)。
IH−NMR(CQ’4 /TMS )δ: 1.64
 (a)及び1゜71 (s) 9H; 1.9〜2.
9 (m) 6H;4.5〜5.3 (m) 4H; 
5.9 ヘ6.5 (m) 2H;9.18 (s) 
I H 実施例2 (IL)1−(ジメチルアミノオキシ) −2,6−シ
メチルー10−メチレン−2,6,11−ドデカトリエ
ンの製造; N(CH3)2 実施例1(b)において3−(ジメチルアミノ)−2,
6,10−)ジエチル−1,6,9,11−ドデカテト
ラエンo、so、pに代えて実施例1(a)で得られた
3−(ジメチルアミノ)−2,6−シメチルー10−メ
チレン−1,6,11−ドデカトリエンo、 s o 
gを用いた以外は同様の操作を行なうことによって、1
−(ジメチルアミノオキ7)−2,6−シメチルー10
−メチレン−2,6,11−ドデカトリエン0.34I
iを得た(収率・64チ)。
’H−NMR(Cα4 /TMS ) δ: 1.60 (bs) 6H,1,8〜2.3(m
) 8H,2,43(8) 5)(。
4.5〜5.3 (m) 6H,6,15(dd) I
H(b)  β−7ネンサールの製造方法:実施例1 
(C)において1−(ジメチルアミノオキシ) −2,
6,10−トリメチル−2,6,9,11−ドデカテト
ラエン0.30Iiに代えて1−(ジメチルアミノオキ
シ)−2,6−シメチルー10−メチレン−2、6,1
1−ドデカトリエ10.2711を用い、かつクロロホ
ルムの便用量を84から7−に変更し、ヨウ化メチルの
使用量を4JE/から3゜511tlに変更した以外は
同様の操作を行なうことによって、β−シネンサール0
.20 、li+を得た(収率 90%)。
lH−NMR(Cα4 /TMS ) 61.60 (bs) 6H,1,8S2.3 (m)
 8H。
4.5〜5.3 (m) 5H,6,25(dd) I
H。
6.32 (t) LH,9,18(s) IH〔発明
の効果〕 本発明によれば、上記の実施例から明らかな吉おシ、安
価にかつ容易に入手できる工業原料から一般式(1)で
示されるアミン誘導体及び一般式(If)で示されるヒ
ドロキシルアミン誘導体を経由してシネンプールが容易
に製造される。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中R^1及びR^2はそれぞれ低級アルキル基を表
    わし、X及びZの一方は水素原子を表わし、他方はYと
    一緒になつて単結合を形成していることを表わす) で示されるヒドロキシルアミン誘導体をモノハロゲン化
    炭化水素と反応させることを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中X、Y及びZは前記定義のとおりである) で示されるシネンサールの製造方法。 2、一般式(II)で示されるヒドロキシルアミン誘導体
    が一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中R^1、R^2、X、Y及びZは前記定義のとお
    りである) で示されるアミン誘導体を有機過酸又は過酸化水素と反
    応させ、得られる生成物を加熱処理することにより製造
    されたものである特許請求の範囲第1項記載の製造方法
    。 3、一般式(III)で示されるアミン誘導体が一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中X、Y及びZは前記定義のとおりである) で示される塩化物を一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(V) (式中R^1及びR^2は前記定義のとおりである)で
    示される第2級アミンと反応させることにより製造され
    たものである特許請求の範囲第2項記載の製造方法。 4、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中R^1及びR^2はそれぞれ低級アルキル基を表
    わし、X及びZの一方は水素原子を表わし、他方はYと
    一緒になつて単結合を形成していることを表わす) で示されるヒドロキシルアミン誘導体。 5、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中R^1及びR^2はそれぞれ低級アルキル基を表
    わし、X及びZの一方は水素原子を表わし、他方はYと
    一緒になつて単結合を形成していることを表わす) で示されるアミン誘導体。
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