JPS62270627A - 新規な含硫黄ポリマ−およびその製造方法 - Google Patents
新規な含硫黄ポリマ−およびその製造方法Info
- Publication number
- JPS62270627A JPS62270627A JP61113172A JP11317286A JPS62270627A JP S62270627 A JPS62270627 A JP S62270627A JP 61113172 A JP61113172 A JP 61113172A JP 11317286 A JP11317286 A JP 11317286A JP S62270627 A JPS62270627 A JP S62270627A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- containing polymer
- divinylbenzene
- sulfur
- benzenedithiol
- polymerization initiator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 26
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 14
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 14
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 title claims abstract description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 9
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 abstract description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- WYLQRHZSKIDFEP-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-dithiol Chemical compound SC1=CC=C(S)C=C1 WYLQRHZSKIDFEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract 1
- RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N thiophenol Chemical compound SC1=CC=CC=C1 RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- WEERVPDNCOGWJF-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(ethenyl)benzene Chemical compound C=CC1=CC=C(C=C)C=C1 WEERVPDNCOGWJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- JRNVQLOKVMWBFR-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzenedithiol Chemical compound SC1=CC=CC=C1S JRNVQLOKVMWBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAOHAQSLJSMLAT-UHFFFAOYSA-N 1-butylperoxybutane Chemical compound CCCCOOCCCC PAOHAQSLJSMLAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N AIBN Substances N#CC(C)(C)\N=N\C(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEQFTVQCIQJIQW-UHFFFAOYSA-N N-Phenyl-2-naphthylamine Chemical compound C=1C=C2C=CC=CC2=CC=1NC1=CC=CC=C1 KEQFTVQCIQJIQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N butyronitrile Chemical compound CCCC#N KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920006351 engineering plastic Polymers 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical group 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、下記の繰り返し単位を有する新規なポリマー
およびその製造法を提供することを本発明の化合物であ
る(1)の繰り返し単位を有するポリマーは、耐熱性、
難燃性に優れており、又高い屈折率を有する含硫黄ポリ
マーであり、高屈折率有機ガラスとしての利用が期待さ
れるが、従来公知の文献には記載の無い新規な化合物で
ある。
およびその製造法を提供することを本発明の化合物であ
る(1)の繰り返し単位を有するポリマーは、耐熱性、
難燃性に優れており、又高い屈折率を有する含硫黄ポリ
マーであり、高屈折率有機ガラスとしての利用が期待さ
れるが、従来公知の文献には記載の無い新規な化合物で
ある。
(問題を解決するための手段)
芳香族系含硫黄ポリマーは、耐熱性や耐薬品性に優れ、
高機能性エンジニアリングプラスチックとして有用であ
る。又硫黄のもつ大きな原子屈折より含硫黄ポリマーは
高い屈折率をもつことが予想され、高屈折率有機ガラス
用材料としても有用である。
高機能性エンジニアリングプラスチックとして有用であ
る。又硫黄のもつ大きな原子屈折より含硫黄ポリマーは
高い屈折率をもつことが予想され、高屈折率有機ガラス
用材料としても有用である。
本発明者らは、硫黄を含むポリマーの開発に鋭意研究の
結果、ジビニルベンゼンとP−ベンゼンジチオールを反
応させることにより(1)の繰り返し単位を有する新規
なポリマーが得られることを見出し、本発明に至った。
結果、ジビニルベンゼンとP−ベンゼンジチオールを反
応させることにより(1)の繰り返し単位を有する新規
なポリマーが得られることを見出し、本発明に至った。
本発明の要旨は、式(1)で表される繰り返し単位を有
するポリマ− びその2つの製造方法である。
するポリマ− びその2つの製造方法である。
第1の製法は、ジビニルベンゼンとP−ベンゼンジチオ
ールを含む溶液を紫外線照射下に反応させる方法であり
、溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等芳香
族炭化水素溶媒が用いられる。ジビニルベンゼンとP−
ベンゼンジチオールはいずれも精製後、使用するのが望
ましく、それらのモル比は等モル程度が好ましく、これ
以外のモル比では低分子量のものしか得られず収率も低
い。
ールを含む溶液を紫外線照射下に反応させる方法であり
、溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等芳香
族炭化水素溶媒が用いられる。ジビニルベンゼンとP−
ベンゼンジチオールはいずれも精製後、使用するのが望
ましく、それらのモル比は等モル程度が好ましく、これ
以外のモル比では低分子量のものしか得られず収率も低
い。
第2の製法は、ラジカル重合開始剤の存在下、溶媒中で
ジビニルベンゼンとP−ベンゼンジチオールを反応させ
ることにより重合物を得る方法である。
ジビニルベンゼンとP−ベンゼンジチオールを反応させ
ることにより重合物を得る方法である。
第2の製法で使用する溶媒は、第1の方法における溶媒
と同じ芳香族炭化水素系溶媒であり、ラジカル重合開始
剤とは、過酸化ベンゾイル、過酸化ジーtartブチル
等の過酸化物又は、2.2′アゾビスもイソ囁ブチロニ
トリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニル等のアゾ化
合物が用いられる。その使用量は、原料であるジビニル
ベンゼンに対し、0.1〜10モル%好ましくは、0.
5〜5.0モル%である。第2の方法においても第1の
方法の場合と同様ジビニルベンゼントP−ベンゼンジチ
オールのモル比は等モル程度が好ましく、これ以外のモ
ル比では低分子量の重合物しか得られず、収率も低い、
原料のジビニルベンゼンとしては、P−ジビニルベンゼ
ン、鵠−ジビニルベンゼン、0−ジビニルベンゼンの単
独あるいはそれらの混合物を用いてもよい。ただ得られ
た重合体の物性から判断するとP−ジビニルベンゼンを
用いた場合、好ましい結果が得られることが多い。
と同じ芳香族炭化水素系溶媒であり、ラジカル重合開始
剤とは、過酸化ベンゾイル、過酸化ジーtartブチル
等の過酸化物又は、2.2′アゾビスもイソ囁ブチロニ
トリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニル等のアゾ化
合物が用いられる。その使用量は、原料であるジビニル
ベンゼンに対し、0.1〜10モル%好ましくは、0.
5〜5.0モル%である。第2の方法においても第1の
方法の場合と同様ジビニルベンゼントP−ベンゼンジチ
オールのモル比は等モル程度が好ましく、これ以外のモ
ル比では低分子量の重合物しか得られず、収率も低い、
原料のジビニルベンゼンとしては、P−ジビニルベンゼ
ン、鵠−ジビニルベンゼン、0−ジビニルベンゼンの単
独あるいはそれらの混合物を用いてもよい。ただ得られ
た重合体の物性から判断するとP−ジビニルベンゼンを
用いた場合、好ましい結果が得られることが多い。
(実施例)
以下実施例を挙げて本発明の製造法とその方法により得
られた含硫黄ポリマーの物性について述べる。
られた含硫黄ポリマーの物性について述べる。
実施例1〜7 ・
減圧蒸留(42,5℃10.9罷Hg)により新しく精
製したP−ジビニルベンゼン0.65gと’4圧下(7
0’C10,5mml1g)で昇華させることにより精
製したP−ベンゼンジチオール0.71gを重合管内に
仕込んだ。管内を3回窒素置換した後、トルエン1゜f
f1lを加え凍結脱気した0反応部合液は75℃に加熱
し紫外線(英光社製、30囲高圧水銀灯)を所定の時間
照射した。N−フェニル−β−ナフチルアミンを含むメ
タノールを添加し、重合を停止した。
製したP−ジビニルベンゼン0.65gと’4圧下(7
0’C10,5mml1g)で昇華させることにより精
製したP−ベンゼンジチオール0.71gを重合管内に
仕込んだ。管内を3回窒素置換した後、トルエン1゜f
f1lを加え凍結脱気した0反応部合液は75℃に加熱
し紫外線(英光社製、30囲高圧水銀灯)を所定の時間
照射した。N−フェニル−β−ナフチルアミンを含むメ
タノールを添加し、重合を停止した。
重合物は、遠心分離により溶媒より分離し、乾燥する。
紫外線照射時間と重合物の収率は、以下の表−1のとお
りであった。
りであった。
表−1
÷cut−cut(互ΣCut−CI(z−3<回ΣS
十を繰り返し単位とすると計算値: 23.5%0核
磁気共鳴吸収スペクトル(CDIJz内部標準TMS)
−PPtT 6 2.5−3.3 (811,m) 6 6.8 (4+1. S)δ 7.0
(411,S)0赤外線吸収スペクトル(Kt
lr法)lll−1 2900,1900,1580,1510,1480,
1440,1420,1390,1100,1000,
800,540,500表−1,阻6の条件にて得られ
た重合物を170℃、35に+r/−に1分間加熱、加
圧してフィルムとな表−2 注 屈折率はデュク・ド・シッルヌス法による実施例8
〜12 実施例1と同様の原料を用い、下の表−3の仕込みにて
紫外線照射の代わりにラジカル重合開始剤として2.2
′−アゾビスイソブチロニトリルを用い、75℃に保持
し、5時間重合を行なった。その結果を表−3に示した
。
十を繰り返し単位とすると計算値: 23.5%0核
磁気共鳴吸収スペクトル(CDIJz内部標準TMS)
−PPtT 6 2.5−3.3 (811,m) 6 6.8 (4+1. S)δ 7.0
(411,S)0赤外線吸収スペクトル(Kt
lr法)lll−1 2900,1900,1580,1510,1480,
1440,1420,1390,1100,1000,
800,540,500表−1,阻6の条件にて得られ
た重合物を170℃、35に+r/−に1分間加熱、加
圧してフィルムとな表−2 注 屈折率はデュク・ド・シッルヌス法による実施例8
〜12 実施例1と同様の原料を用い、下の表−3の仕込みにて
紫外線照射の代わりにラジカル重合開始剤として2.2
′−アゾビスイソブチロニトリルを用い、75℃に保持
し、5時間重合を行なった。その結果を表−3に示した
。
表−3
注DvB:P−ジビニルベンゼン、BDT:P−ベンゼ
ンジチオールAIBN : 2.2′〜アゾビスイソブ
チロニトリル得られた重合物の赤外吸収スペクトルは、
実施例1で得た重合物のものと一致した。
ンジチオールAIBN : 2.2′〜アゾビスイソブ
チロニトリル得られた重合物の赤外吸収スペクトルは、
実施例1で得た重合物のものと一致した。
(発明の効果)
繰り返し単位を有する新規な含硫黄ポリマーを高収率で
取得することができる。このポリマーは高い屈折率をも
ち、耐熱性、難燃性などの優れた物性を備えているので
、有機ガラス材料としての広い用途が期待できる。
取得することができる。このポリマーは高い屈折率をも
ち、耐熱性、難燃性などの優れた物性を備えているので
、有機ガラス材料としての広い用途が期待できる。
Claims (3)
- (1)▲数式、化学式、表等があります▼ 繰り返し単位を有する新規な含硫黄ポリマー。
- (2)紫外線照射下、又はラジカル重合開始剤の存在下
で、ジビニルベンゼンとP−ベンゼンジチオールを反応
させることを特徴とする ▲数式、化学式、表等があります▼の繰り返 し単位を有する新規な含硫黄ポリマーの製造法。 - (3)ラジカル重合開始剤が2,2′−アゾビスイソブ
チロニトリルである特許請求の範囲(2)記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61113172A JPH0768351B2 (ja) | 1986-05-16 | 1986-05-16 | 新規な含硫黄ポリマ−およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61113172A JPH0768351B2 (ja) | 1986-05-16 | 1986-05-16 | 新規な含硫黄ポリマ−およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62270627A true JPS62270627A (ja) | 1987-11-25 |
JPH0768351B2 JPH0768351B2 (ja) | 1995-07-26 |
Family
ID=14605378
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61113172A Expired - Lifetime JPH0768351B2 (ja) | 1986-05-16 | 1986-05-16 | 新規な含硫黄ポリマ−およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0768351B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63277244A (ja) * | 1987-05-08 | 1988-11-15 | Seitetsu Kagaku Co Ltd | 新規な含硫黄ポリマ−およびその製造方法 |
JPH02289622A (ja) * | 1989-01-20 | 1990-11-29 | Toray Ind Inc | 光学用樹脂の製造方法 |
WO1998038146A2 (en) * | 1997-02-14 | 1998-09-03 | Sola International Holdings Ltd. | Cross-linkable polymeric composition |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61159476A (ja) * | 1984-12-29 | 1986-07-19 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 耐熱性フイルムと金属箔の接着用組成物 |
-
1986
- 1986-05-16 JP JP61113172A patent/JPH0768351B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61159476A (ja) * | 1984-12-29 | 1986-07-19 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 耐熱性フイルムと金属箔の接着用組成物 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63277244A (ja) * | 1987-05-08 | 1988-11-15 | Seitetsu Kagaku Co Ltd | 新規な含硫黄ポリマ−およびその製造方法 |
JPH02289622A (ja) * | 1989-01-20 | 1990-11-29 | Toray Ind Inc | 光学用樹脂の製造方法 |
WO1998038146A2 (en) * | 1997-02-14 | 1998-09-03 | Sola International Holdings Ltd. | Cross-linkable polymeric composition |
WO1998038146A3 (en) * | 1997-02-14 | 2000-04-06 | Sola Int Holdings | Cross-linkable polymeric composition |
US6391983B1 (en) | 1997-02-14 | 2002-05-21 | Sola International Holdings, Ltd. | Casting composition of aromatic polyvinyl monomer, polythiol and epoxy strain reducer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0768351B2 (ja) | 1995-07-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Tai et al. | Novel styrene polymers functionalized with phosphorus–nitrogen containing molecules: Synthesis and properties | |
Watanabe et al. | Preparation and properties of photocrosslinkable poly (2‐vinyloxyethyl cinnamate) | |
US3179640A (en) | Hydroxyfluoroalkyl-substituted styrenes, their polymers and their preparation | |
US2469154A (en) | Preparation of organo-silicon compositions containing rapidly polymerizable olefinicdouble bonds | |
EP0107895B1 (en) | Elimination process | |
US3875114A (en) | Amidomethylene modified aromatic carbocyclic polymers and methods for making the same | |
US3058953A (en) | Vinylbenzylhalophenylether and polymers and method of making the same | |
JPS62270627A (ja) | 新規な含硫黄ポリマ−およびその製造方法 | |
JP2868844B2 (ja) | ビニルフェニル化合物及びその製造方法 | |
JPS63150324A (ja) | 新規な含硫黄ポリマ−およびその製法 | |
JPS63150323A (ja) | 新規な含硫黄ポリマ−およびその製造法 | |
Norrish et al. | The formation and structure of polymers of the insoluble cross-linked type | |
JPS63277244A (ja) | 新規な含硫黄ポリマ−およびその製造方法 | |
US3010998A (en) | Phosphorus aromatic compounds | |
Nagasaki et al. | Reactivities of 4‐trimethylsilylmethylstyrene and 4‐bis (trimethylsilyl) methylstyrene | |
TWI840002B (zh) | 超高分子量脂環族聚碳酸酯之製備方法 | |
JPS63277243A (ja) | 新規な含硫黄ポリマ−およびその製造法 | |
JPS62287201A (ja) | 光学素子用樹脂 | |
JPS63277242A (ja) | 新規な含硫黄ポリマ−およびその製法 | |
Weidner et al. | Synthesis and characterization of 3‐aryl‐2‐(polystyryl) cyclopropenones via cyclopropenium ion substitution on polystyrene | |
US2370549A (en) | Vinyl ester and method of preparation thereof | |
Sadygova | COPOLYMERS ON THE BASIS OF (P-CHLOROPHENOXYCARBONYL)-CYCLOPROPYL STYRENE WITH STYRENE AND METHYL METHACRYLATE | |
US2671767A (en) | Condensation of 1-diazoalkanes | |
KR100387311B1 (ko) | 분지구조를갖는스티렌계열가소성수지및그제조방법 | |
JP2003155311A (ja) | 導光材料製造で使用可能な架橋性官能性ポリマー |