JPS62270424A - 超高純度石英ガラス粉末の製造法 - Google Patents
超高純度石英ガラス粉末の製造法Info
- Publication number
- JPS62270424A JPS62270424A JP10952386A JP10952386A JPS62270424A JP S62270424 A JPS62270424 A JP S62270424A JP 10952386 A JP10952386 A JP 10952386A JP 10952386 A JP10952386 A JP 10952386A JP S62270424 A JPS62270424 A JP S62270424A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silica
- quartz glass
- mineral acid
- glass powder
- silica gel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 59
- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims abstract description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 17
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M potassium hydroxide Substances [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 17
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000007865 diluting Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims abstract description 4
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 claims abstract description 4
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims abstract description 3
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 2
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 abstract description 11
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 abstract description 8
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N uranium(0) Chemical compound [U] JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 abstract description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- 238000001354 calcination Methods 0.000 abstract 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 abstract 1
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 abstract 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 K is 98ppm Substances 0.000 description 1
- DOBIZWYVJFIYOV-UHFFFAOYSA-N 7-hydroxynaphthalene-1,3-disulfonic acid Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C=C(S(O)(=O)=O)C2=CC(O)=CC=C21 DOBIZWYVJFIYOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000017284 Pometia pinnata Nutrition 0.000 description 1
- 240000007653 Pometia tomentosa Species 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000012264 purified product Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002195 soluble material Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/02—Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2203/00—Production processes
- C03C2203/20—Wet processes, e.g. sol-gel process
- C03C2203/24—Wet processes, e.g. sol-gel process using alkali silicate solutions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
］３、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は超高純度の石英ガラスの製造法、さらに詳しく
は半導体＋Ｂ結晶引Ｉ−げ用ろっほの製造用原料粉末及
び半導体大規模集積回路のパラ）１−ジ剤用充填物とし
て用いられるウランレベル０．１ｐρ］〕以下の超高純
度石英ガラス粉末の製造法に関する。
は半導体＋Ｂ結晶引Ｉ−げ用ろっほの製造用原料粉末及
び半導体大規模集積回路のパラ）１−ジ剤用充填物とし
て用いられるウランレベル０．１ｐρ］〕以下の超高純
度石英ガラス粉末の製造法に関する。
従来超高純度石英ガラス粉末は良質な水晶（天然産石英
ガラス）を微粉末にして製造されてきたが、水晶は資源
的に制限があるほか、近時技術の躍進に伴ない大規模集
積回路（Ｉ、ＳＴ）の封止剤の充填物として、さらにウ
ラニウムレベルで０１ｉｐｐｂ以下の超高純度のものが
望まれてきた。
ガラス）を微粉末にして製造されてきたが、水晶は資源
的に制限があるほか、近時技術の躍進に伴ない大規模集
積回路（Ｉ、ＳＴ）の封止剤の充填物として、さらにウ
ラニウムレベルで０１ｉｐｐｂ以下の超高純度のものが
望まれてきた。
その要望に応えるため、アルカリ金属の水酸化物又はア
ルカリ土類金属の水酸化物と反応するシリカ源をアルカ
リ金属の水酸化物又はアルカリ土類金属の水酸化物に溶
解し得られたアルカリ金属カギアルカリ土類金属のけい
酸塩と鉱酸の反応とをｒ、１１−Ｔ ］、 、 ５ 以
下で反応させて含水けい酸を沈でんさせ、該沈でん物を
洗条、乾燥、焼成して石英カラス粉末を得る方法が提案
された。（特開昭５９−５４ ｆ； ３２号公報） しかし、この方法で精製しても得られた石英ガラス粉に
はウラニウム分が１．、ｐｐｂ程度含有し、この高純度
石英ガラス粉末を用いて例えば２５６に以上のＩＣを製
作した場合には、該ＴＣカード中の超１．ＳＴの封止剤
用充填物としての超高純度石英ガラス粉末中の微量ウラ
ン不純物から放射されるα線が、デバイスにラフ１−エ
ラーをひきおこさせる欠点がある。
ルカリ土類金属の水酸化物と反応するシリカ源をアルカ
リ金属の水酸化物又はアルカリ土類金属の水酸化物に溶
解し得られたアルカリ金属カギアルカリ土類金属のけい
酸塩と鉱酸の反応とをｒ、１１−Ｔ ］、 、 ５ 以
下で反応させて含水けい酸を沈でんさせ、該沈でん物を
洗条、乾燥、焼成して石英カラス粉末を得る方法が提案
された。（特開昭５９−５４ ｆ； ３２号公報） しかし、この方法で精製しても得られた石英ガラス粉に
はウラニウム分が１．、ｐｐｂ程度含有し、この高純度
石英ガラス粉末を用いて例えば２５６に以上のＩＣを製
作した場合には、該ＴＣカード中の超１．ＳＴの封止剤
用充填物としての超高純度石英ガラス粉末中の微量ウラ
ン不純物から放射されるα線が、デバイスにラフ１−エ
ラーをひきおこさせる欠点がある。
本発明は超重、ＳＴの封止剤用充填物として使用した場
合α線を放射せず、また半導体単結晶引上げルツボ等の
製造用原料粉末として使用し得る超高純度石英ガラス粉
末を提供することを目的とする。
合α線を放射せず、また半導体単結晶引上げルツボ等の
製造用原料粉末として使用し得る超高純度石英ガラス粉
末を提供することを目的とする。
ｒ問題点を解決する手段〕
本発明者はこのような］］的を遂行した超高純度石英ガ
ラス粉末を製造する方法を提（１ξずべく研究した結果
、アルカリ金属の水酸化物と反応するシリカ源を水酸化
ナトリウムど反応させるか、又は炭酸ナトリウムとけい
酸源とを反応させて得られるけい酸すＩ・リウムを水で
希釈して得られたけい酸ナトリウム溶液を鉱酸で中和し
てシリカゲルを沈でんさせ、得られたシリカゲルを水酸
化カリウムで溶解し、得られたケイ酸カリウム溶液を鉱
酸１、＋ ｌコ添加しｐ Ｔ−Ｔ ’！ 、 ５ 以下
でシリカ分を沈でんさせ、得られた沈でん生成物をさら
にｐＨ１，，５以下で洗条し乾燥し焼成すればｔ、ｉ）
られる高純度石英ガラス粉末はウランレベルで０ 、１
ＰＰｂ以下の高度に精製されるとの知見を得て本発明
を完成するにいたった。
ラス粉末を製造する方法を提（１ξずべく研究した結果
、アルカリ金属の水酸化物と反応するシリカ源を水酸化
ナトリウムど反応させるか、又は炭酸ナトリウムとけい
酸源とを反応させて得られるけい酸すＩ・リウムを水で
希釈して得られたけい酸ナトリウム溶液を鉱酸で中和し
てシリカゲルを沈でんさせ、得られたシリカゲルを水酸
化カリウムで溶解し、得られたケイ酸カリウム溶液を鉱
酸１、＋ ｌコ添加しｐ Ｔ−Ｔ ’！ 、 ５ 以下
でシリカ分を沈でんさせ、得られた沈でん生成物をさら
にｐＨ１，，５以下で洗条し乾燥し焼成すればｔ、ｉ）
られる高純度石英ガラス粉末はウランレベルで０ 、１
ＰＰｂ以下の高度に精製されるとの知見を得て本発明
を完成するにいたった。
本発明の要旨はけい酸質原料を水酸化すｌ・リウ１１て
溶解し、得られたけい酸ナトリウム溶液、又はけい酸源
と炭酸ナトリウムとを反応させて得られるけい酸す１ヘ
リウムとを水で希釈して得られるけい酸ナトリウム溶液
を鉱酸と反応させてシリカゲルを沈でんさせ、このシリ
カゲルを水酸化カリウムで溶解し、得られたけい酸カリ
ウム溶液を鉱酸中に添加し Ｉ） ＨＬ 、 ５以下で
シリカ分を沈でんさせ、得−）れた沈でん生成物をｐ
Ｔ−Ｔ Ｉｌ、 、 ５ 以下でろ過し洗条しついで乾
燥、焼成して超Ｗｌｉ純ノ１“Ｖ石英ガラスを製造する
ものである。
溶解し、得られたけい酸ナトリウム溶液、又はけい酸源
と炭酸ナトリウムとを反応させて得られるけい酸す１ヘ
リウムとを水で希釈して得られるけい酸ナトリウム溶液
を鉱酸と反応させてシリカゲルを沈でんさせ、このシリ
カゲルを水酸化カリウムで溶解し、得られたけい酸カリ
ウム溶液を鉱酸中に添加し Ｉ） ＨＬ 、 ５以下で
シリカ分を沈でんさせ、得−）れた沈でん生成物をｐ
Ｔ−Ｔ Ｉｌ、 、 ５ 以下でろ過し洗条しついで乾
燥、焼成して超Ｗｌｉ純ノ１“Ｖ石英ガラスを製造する
ものである。
本発明に用いられるＧプい酸質ＪｉＫ料にはけい華など
のアルカリ可溶性のものが用いられる。
のアルカリ可溶性のものが用いられる。
鉱酸には硫酸、硝酸、塩酸等が示される。
洗条乾燥した後で精製物を焼成するには８００℃以−ｔ
： ］、、 ５００℃で慣用手段で行なわれる。
： ］、、 ５００℃で慣用手段で行なわれる。
本発明によれば天然産のシリカ源をウラニウｌルベルで
Ｑ、１．ｐｐｂ程度又はそれ以下に超高純度に精製し得
るので、本発明によって得られる超高純度石英ガラスを
例えば２５６Ｋ又はそれ以上のＩＣに使ＪＴＩ シた場
合でも石英ガラス粉末中の微量ウラン不純物から放射さ
れるα線がデバイスにソフｌ〜エラーをひきおこすこと
がない。
Ｑ、１．ｐｐｂ程度又はそれ以下に超高純度に精製し得
るので、本発明によって得られる超高純度石英ガラスを
例えば２５６Ｋ又はそれ以上のＩＣに使ＪＴＩ シた場
合でも石英ガラス粉末中の微量ウラン不純物から放射さ
れるα線がデバイスにソフｌ〜エラーをひきおこすこと
がない。
本発明の実施態様を実施例、比較例によって説明ずろ。
実施例
けい華（Ｓｉｎ２９５％、Ａ１□０３２．８％、−５＝
Ｆ’ｅ、、（’）３０．５％、 Ｉｇ、３ｏｓｓ ：
１．４％）３０ｇを塩化ビニル製ビーカーに計量して採
取し、これに当最の水酸化ナトリウム（４Ｎ−ＮａＯＨ
１２５０ｍＱ）を加え室温で超音波撹拌装置によって約
」時間撹拌した。
１．４％）３０ｇを塩化ビニル製ビーカーに計量して採
取し、これに当最の水酸化ナトリウム（４Ｎ−ＮａＯＨ
１２５０ｍＱ）を加え室温で超音波撹拌装置によって約
」時間撹拌した。
反応に用いたけい華はほぼ溶解して透明な液体（第一次
けい酸す１〜リウム溶液という）となった。
けい酸す１〜リウム溶液という）となった。
続いてこの第一次けい酸すｌ・リウム溶液中に３Ｎ−１
（２Ｓ０．５００ｍＱを加えて生成物を沈でんさせた。
（２Ｓ０．５００ｍＱを加えて生成物を沈でんさせた。
析出した生成物をろ過し、水洗した。
このようにして得た第一次生成物の成分はＮａ；３０５
０ｐｐｍ Ｋ；１．３０ｐｐｍ、 Ｆｅ；４１０ｐ
ｐｍ、 Ａ１．；−１１００ｐｐｍ、Ｔ−に４０ｐｐ
ｂであった。
０ｐｐｍ Ｋ；１．３０ｐｐｍ、 Ｆｅ；４１０ｐ
ｐｍ、 Ａ１．；−１１００ｐｐｍ、Ｔ−に４０ｐｐ
ｂであった。
つぎに第一次精製工程に準じて第一次生成物を水酸化カ
リウムで溶解し、得られたｌ″Ｊい酸カリウｊ１溶液を
碕１酸（３Ｎ−Ｈ２ＳＯ４５００ｍＱ）中で撹拌しなが
ら、滴下しｐ Ｈ１、５以下で反応を終了させ、ｐ Ｈ
，１、５以下の希硫酸、つづいて純水で水洗シ濾過し］
、 １． Ｏ０℃で焼成した。
リウムで溶解し、得られたｌ″Ｊい酸カリウｊ１溶液を
碕１酸（３Ｎ−Ｈ２ＳＯ４５００ｍＱ）中で撹拌しなが
ら、滴下しｐ Ｈ１、５以下で反応を終了させ、ｐ Ｈ
，１、５以下の希硫酸、つづいて純水で水洗シ濾過し］
、 １． Ｏ０℃で焼成した。
得た高純度石英ガラス粉の品持はＮ ａが０．２ＰＰｍ
ｙ Ｋは０．Ｉｉ’ｅはｉｐｐｍ、 ＵはＯ、０，１，
−ｐｐｂであった。
ｙ Ｋは０．Ｉｉ’ｅはｉｐｐｍ、 ＵはＯ、０，１，
−ｐｐｂであった。
比較例１
実施例となりけい酸アルカリ溶液中に鉱酸を添加した場
合についてのべる。
合についてのべる。
けい酸ソーダ溶液中に硫酸を加えて得られたシリカ粉３
０ ｇを水酸化カリ （４Ｎ−ＫＯＩＩ ２５０ｍＱ）
を加えて溶解し透明な溶液とした。
０ ｇを水酸化カリ （４Ｎ−ＫＯＩＩ ２５０ｍＱ）
を加えて溶解し透明な溶液とした。
この溶液に硫酸（２Ｎ−Ｈ２Ｓｏ４２５０ｍＲ）を加え
て沈でん物を生成させた。
て沈でん物を生成させた。
生成物をろ別しｌＮ−Ｈ２ＳＯ４で洗浄、つづいて純水
で洗浄、乾燥し１１００°Ｃに焼成した。
で洗浄、乾燥し１１００°Ｃに焼成した。
得られた石英ガラスの不純物はＮａが２２００ｐｐｍ、
Ｋは９８ｐｐｍ、Ｆ ｅが３１０ｐｐｍ、Ａ１は１
１００ｐｐｍ、ＴＪは８ｌ−ｐｐｂであった。
Ｋは９８ｐｐｍ、Ｆ ｅが３１０ｐｐｍ、Ａ１は１
１００ｐｐｍ、ＴＪは８ｌ−ｐｐｂであった。
Claims (1)
- （１）可溶性けい酸質原料を水酸化ナトリウムで溶解し
て得たけい酸ナトリウム溶液、又は炭酸ナトリウムとけ
い酸源を反応させて得られるけい酸ナトリウムを水で希
釈して得られるけい酸ナトリウム溶液を鉱酸と反応させ
てシリカゲルを沈でんさせ、ついで該シリカゲルを水酸
化カリウムで溶解し、得られたけい酸カリウム溶液を鉱
酸中に添加しｐＨ１．５以下でシリカ分を沈でんさせ、
得られた沈でん生成物をｐＨ１．５以下でろ過、洗条し
、ついで乾燥焼成して高純度石英ガラス粉末を製造する
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10952386A JPS62270424A (ja) | 1986-05-15 | 1986-05-15 | 超高純度石英ガラス粉末の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10952386A JPS62270424A (ja) | 1986-05-15 | 1986-05-15 | 超高純度石英ガラス粉末の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62270424A true JPS62270424A (ja) | 1987-11-24 |
Family
ID=14512414
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10952386A Pending JPS62270424A (ja) | 1986-05-15 | 1986-05-15 | 超高純度石英ガラス粉末の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62270424A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5686365A (en) * | 1992-01-16 | 1997-11-11 | United States Department Of Energy | Method for dissolution and stabilization of silica-rich fibers |
| WO2010037702A1 (de) * | 2008-09-30 | 2010-04-08 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur herstellung von hochreinem sio2 aus silikatlösungen |
| WO2010037705A1 (de) * | 2008-09-30 | 2010-04-08 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur herstellung von hochreinem sio2 aus silikatlösungen |
| CN112777600A (zh) * | 2021-03-12 | 2021-05-11 | 武汉理工大学 | 一种超高纯石英及其制备方法 |
-
1986
- 1986-05-15 JP JP10952386A patent/JPS62270424A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5686365A (en) * | 1992-01-16 | 1997-11-11 | United States Department Of Energy | Method for dissolution and stabilization of silica-rich fibers |
| WO2010037702A1 (de) * | 2008-09-30 | 2010-04-08 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur herstellung von hochreinem sio2 aus silikatlösungen |
| WO2010037705A1 (de) * | 2008-09-30 | 2010-04-08 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur herstellung von hochreinem sio2 aus silikatlösungen |
| CN112777600A (zh) * | 2021-03-12 | 2021-05-11 | 武汉理工大学 | 一种超高纯石英及其制备方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH072512A (ja) | 岩石から純粋な無定形シリカの製造方法 | |
| JPS6212608A (ja) | 高純度シリカ及びその製造方法 | |
| CN113353943B (zh) | 金属硅粉同时制备白炭黑和高模数水玻璃的方法及白炭黑 | |
| US5002749A (en) | Process for the manufacture of zirconium oxide hydrate from granular crystallized zirconium oxide | |
| JP2542797B2 (ja) | 高純度シリカの製造方法 | |
| US4041137A (en) | Method of producing aluminum fluoride | |
| JPS62270424A (ja) | 超高純度石英ガラス粉末の製造法 | |
| JP2823070B2 (ja) | 高純度オキシ塩化ジルコニウム結晶の製造方法 | |
| CN1555343A (zh) | 从含有钛的物料中回收钛 | |
| JPH055766B2 (ja) | ||
| JPS6335414A (ja) | 四ホウ酸ナトリウム五水塩の製法 | |
| JPS6321212A (ja) | 高純度シリカの製造方法 | |
| CN108557881B (zh) | 一种含铋物料生产高纯氧化铋的方法 | |
| JPS58502201A (ja) | 弗化アルミニウムの製造時に生成される廃棄物より有用生成物を回収する方法 | |
| US2431601A (en) | Production of sodium ferrocyanide | |
| US2531182A (en) | Process for the manufacture of boric acid | |
| JPS6117416A (ja) | 高純度シリカおよびその製造方法 | |
| JPH0516372B2 (ja) | ||
| US2493262A (en) | Process of preparing basic sai | |
| JPS60191016A (ja) | 高純度シリカゲル | |
| JP2769113B2 (ja) | 高純度シリカの製造方法 | |
| JPH0977517A (ja) | 高純度炭酸ストロンチウムの製造方法 | |
| JPS6259513A (ja) | 珪弗化マグネシウムの製造方法 | |
| US2859100A (en) | Process of extracting alumina from raw calcium aluminates | |
| JPS6242854B2 (ja) |