JPS62267914A - 薄膜ダブルアジマス磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁性薄膜をヘッドの磁気コアとして用いる薄
膜ダブルアジマス磁気ヘッドに関する。

〔従来技術〕

ＶＴＲ等に用いる薄膜ダブルアジマス磁気ヘッドとして
は、例えば特開昭５７−１４１００８号公報に記載のよ
うに、非磁性基板上に付着した磁性薄膜を磁気コアとし
、この磁性薄膜の膜厚をヘッドのトラック幅として用い
る磁気ヘッドにおいて、前記非磁性基板上に該基板面に
対し、頒°＋α°及び（３）°−α°のように、互いに
２α”（ｏ”＜α”＜９０”）異なるアジマス角を持つ
ように磁性薄膜を積層することによりギャップを形成し
たものが知られている。

ここで、薄膜磁気ヘッドの従来構造について説明する。

第５図は特開昭５８−１６１１２４号公報に記載された
従来技術によるシングルギャップ薄膜磁気ヘッドの斜視
図であって、１は非磁性基板、２αはサイド磁気コア、
３はギャップ材である非磁性材、５は巻線穴である。

同図に示された磁気ヘッドは、非磁性材３により形成さ
れるギャップラインと巻線穴５とが交鎖する構造であり
、磁気コアにショートリングはできない。

この巻線穴５は、磁気コアとなる磁性薄膜とギャップ材
となる非磁性材の形成後に、超音波加工等の機械加工に
より加工される。

また、実公昭４３−１３２５５号公報、特開昭５８−８
５９１６号公報に記載された薄膜８気ヘッドは、非磁性
体基板に巻線穴をあけておき、この上に磁性薄膜を形成
している。

第６図及び第７図はダブルアジマス薄膜磁気ヘッドの従
来例を説明するための斜視図であって、２ｂはセンター
磁気コアで、第５図き同一部分は同一符号を付しである
。

ＶＴＲ用のダブルアジマス薄膜磁気ヘッドは一般的には
静止画再生用であり、アジマス角の異なるヘッドによっ
て記録された隣り合った２本のトラック上にまたがる１
本のトラックの軌跡を２つのヘッドで同時にスキャンし
て静止画を再生しているため、そのギャップ間隔は３７
０μ痛から６００μｍと狭い。したがって、前記シング
ルギャップ薄膜磁気ヘッドのように、ギャップラインと
巻線穴５とが交叉する構造とするとセンター磁気コア２
ｂが狭くなって、この部分の磁気抵抗が増加するため、
第６図に示したように、巻線穴５はサイド磁気コア側に
切り込んだ形に形成しておき、第７図に示したように、
パターニング手法により、巻線穴５を含み、ギャップラ
インを切断するように磁性薄膜と非磁性材を除去して磁
気回路を形成し、磁気ヘッドとして動作するようにして
いる。

また、％開昭６０−１０６０１１号公報に記載の薄膜磁
気ヘッドは、磁気コアの両何面を補強板にて挟持し、磁
気コアの巻線穴と補強板に設ける巻線穴の形状を異なら
しめたものがある。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記従来技術の、第５図に示された薄膜磁気ヘッドは、
巻線穴の機械加工時の振動や発熱によって磁性薄膜の剥
離や、磁気特性の劣化を招くという問題がある。

また、実公昭４３−１３２５５号公報、特開昭５８−８
５９ｉ６号公報に記載された薄膜磁気ヘッドは、磁性薄
膜を形成する際に、非磁性体基板にあけた巻線穴の内側
に磁性薄膜が付着してショー）　ＩＪソングできてしま
うという問題がある。

さら番ζ、第６図及び第７図に示したダブルアジマス薄
膜磁気ヘッドは、巻線穴を含んでギャップラインを切断
するように磁性薄膜と非磁性材を除去するためのパター
ニングにおいて、一般に穴のあいた基板ではレジストが
尺の才わりで盛り上がるため、この穴の周辺部はさけて
レジストパターンを形成するが、このようにすると、磁
性薄膜で形成される磁気コアの内周は巻線穴よりも相幽
長くなり、磁路長が長くなってヘッド効率が低くなって
しまうという問題がある。

また、さらに、特開昭６０−１０６０１１号公報に記載
された薄膜磁気ヘッドは、磁気コアの巻線穴と補強板の
巻線穴の形状が異なり、コアの内側の形状は台形となっ
ているため、磁路長の長さは長くなってし才つという問
題がある。

不発明は、巻線穴を有する薄膜タプルアジマス磁気ヘッ
ドの磁気コアにショートリングができることをなくし、
磁路長を短縮したコア形状として、上記従来技術の諸問
題を解決して電磁変換特性を向上させた薄膜ダブルアジ
マス磁気ヘッドを提惧することを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

上記問題点は、巻線穴とその周辺部分の磁性薄膜と非磁
性材を、ギャップラインと交叉し、少くとも一部は巻線
穴と一致している様な線でギャップラインを切断するよ
うにパターニングで除去することにより解決される。

〔作用〕

磁性薄膜で形成される磁気コアにショートリングができ
ず、その磁路長が最小となり電磁変換特性が向上する。

〔発明の実施例〕 以下、図面を参照して本発明の実施例について説明する
。

第１図は本発明による薄膜ダブルアジマス磁気ヘッドの
一実施例を示す（α）斜視図、（ｂ）上面図でありて、
１は非磁性基板、２αはサイド磁気コア、２ｈはセンタ
ー磁気コア、３はギヤノブ形成用の非磁性材、４は磁性
薄膜及び非磁性材除去部分、５は巻線穴である。

同図において、非磁性基板１にはあらかじめ巻線穴５を
あけてあり、この基板上に磁性薄膜を形成して、２つの
ギャップをもつ２組の磁気コアを作り、巻線穴５とその
周辺部分の磁性薄膜及び非磁性材を、巻線穴を含み、ギ
ャップラインと交鎖し、少なくとも一部は巻線穴５と一
致するような線で、ギャップラインを切断するような形
状に、ホトリソグラフ等によるエツチングを用いたパタ
ーニングによって除去している。この除去部分４は、図
示のように、サイド磁気コア２ａとセンター磁気コア２
ｂとの間に介在させた非磁性材３が形成するギャップラ
インを切断するごとく、巻線穴５からセンター磁気コア
２ｈに切込んでいる。

これにより、磁気コアにショートリングが発生せず、ま
た磁路長が短絡される。

第２図は不発明による薄膜ダブルアジマス磁気ヘッドの
製造方法を説明する工程図であって、第１図（α）のＡ
−Ａ断面図で示しである。

同図において、第１図と同一符号は同一部分を示す。

先ず、工程（α）において、予めエツチング等により巻
線穴５を形成した非磁性基板１上に、トラック幅を膜厚
とする磁性薄膜２を、蒸着あるいはスパッタリング等に
より形成する。

工程（Ａ）において、センター磁気コアを形成する部分
の磁性薄膜２ｃをエツチングまたはダイサ、バイト等の
機械加工により除去してサイド磁気コア２α、２αを形
成する。

工程（ｃ）において、サイド磁気コア２α、２αを覆っ
てギャップ形成用の非磁性材３を蒸着又はスパッタ等に
より被着形成する。

工程（ｄ）において、非磁性材３の上にセンター出気コ
アきなる磁性薄膜２ｈを蒸着又はスパッタ等により被着
形成する。

工程（１）において、サイド磁気コア２α、２α上の不
要な磁性薄膜２ｄと不要な非磁性材３をエツチングまた
はダイサ、バイト等の機械加工により除去し、センター
磁気コア２ｈを形成する。

工程（ｆ）において、巻線穴５及びその周辺部分４の磁
性薄膜と非磁性材をエツチング等により除去する。

工程（、ｑ）において、ダイサ等でチップカットを行な
い、イオンエツチング、ケミカルエツチング等により巻
線穴に貫通孔を形成し、磁器を行なう。

以上の説明では、１チツプについてのみの製造方法を示
したが、実際には同一基板上にヘッドチップを多数配列
して製造する。

上記実施例における基板は、磁性薄膜形成面１こマーク
を設けることにより、磁気コアパターンと巻線穴の位置
合わせが可能である。　　　゛なお、上記実施例では、
あらかじめ巻線穴を設けた基板を用いたが、巻線穴のな
い非磁性基板上に磁性薄膜を積層し、巻線穴周辺部の磁
性薄膜と非磁性材をエツチング等により形成する方法で
も本発明の効果が得られることは明らかである。

第３図は本発明による薄膜ダブルアジマス磁気ヘッドの
他の実施例を示す上面図であって、第１図と同一の符号
は同一部分を示す。

同図に示す磁気ヘッドは、巻線穴５と磁性薄膜及び非磁
性材の除去部分４のパターンを交鎖させることにより磁
路を短縮している。

このように、磁性薄膜と非磁性材を除去するパターンは
任意である。

第４図は磁路長とヘッド出力との関係を示す特性図であ
って、横軸に磁路長を、縦軸に出力をとっである。

同図において、Ａ点は第３図に示した本発明による破気
ヘンドの磁路長１．５ｎに対応する出力を示す点であり
、Ｂ点は前記第７図に示した従来技術による磁気ヘッド
の出動長２．０Ｈに対応する出力を示す点である。

同図かられかるように、第３図に示した本発明による磁
気ヘッドの出力は、第７図に示した従来技術による磁気
ヘッドの出力に比べて約３ｄＢ向上している。

本発明は、ダブルアジマスギャップの薄膜磁気ヘッドの
みでなく、シングルギャップ薄膜磁気ヘッドあるいは３
つ以上のマルチギャップの薄膜磁気ヘッドにも適用でき
る。

〔発明の効果〕

本発明によれば、巻線穴を有する薄膜磁気ヘッドにおい
て、巻線穴及びその周辺部分の磁性膜と非磁性材を、ギ
ャップラインと交鎖し、巻線穴を含み少くとも一部は巻
線穴と一致するか交鎖する様な葱で、ギャップラインを
切断するような形状に、パターニング手法で除去して磁
気コアを形成するので、巻線穴加工のための磁性膜に対
する機械的、熱的負荷を小さくでき、またショートリン
グができず、磁路長最小の磁気コアが形成でき、電磁変
換特性の良好な薄膜磁気ヘッドを得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による薄膜ダブルアジマス磁気ヘッドの
一実施例を示す（α）斜視図、（ｈ）上面図、第２図は
本発明による薄膜ダブルアジマス磁気ヘッドの製造方法
を説明する工程図、第３図は不発明による薄膜ダブルア
ジマス磁気ヘッドの他の実施例を示す上面図、第４図は
磁路長とヘッド出力との関係を示す特性図、第５図、第
６図及び第７図は従来技術による薄膜磁気ヘッドの斜視
図である。 １・・・非磁性基板　　　　２α・・・サイド磁気コア
２ｈ・・・センター磁気コア ３・・・非磁性材 ４・・・磁性膜及び非磁性材除去部分 ５・・・巻線穴 第　１　図 （Ａ　） 第　３　図 菊　４　図 Ｅ六　酪　＋　（ｈ−１１−１−ｔ　）窮５図　　　第
６図 第７　図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、巻線穴を有する非磁性基板上に非磁性材を介在させ
   て分離形成した磁性薄膜により磁気回路を形成する薄膜
   ダブルアジマス磁気ヘッドにおいて、前記巻線穴を前記
   非磁性材の介在部分で形成されるギャップラインとは交
   鎖しない位置に設け、前記巻線穴の周辺の前記磁性薄膜
   及び前記非磁性材を前記ギャップラインを切断する形状
   にパターニングにより除去することによって、磁性薄膜
   で形成された磁気コアにショートリングができず、かつ
   磁路長を短縮するように構成したことを特徴とする薄膜
   ダブルアジマス磁気ヘッド。