JPS6226485A - 熱間等方圧プレス装置 - Google Patents

熱間等方圧プレス装置

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JPS6226485A
JPS6226485A JP16504385A JP16504385A JPS6226485A JP S6226485 A JPS6226485 A JP S6226485A JP 16504385 A JP16504385 A JP 16504385A JP 16504385 A JP16504385 A JP 16504385A JP S6226485 A JPS6226485 A JP S6226485A
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JP
Japan
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chamber
pressure vessel
processed
cooling
room
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Pending
Application number
JP16504385A
Other languages
English (en)
Inventor
角田 啓二
多田 正
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IHI Corp
Original Assignee
IHI Corp
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Publication date
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Publication of JPS6226485A publication Critical patent/JPS6226485A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B30PRESSES
    • B30BPRESSES IN GENERAL
    • B30B11/00Presses specially adapted for forming shaped articles from material in particulate or plastic state, e.g. briquetting presses, tabletting presses
    • B30B11/001Presses specially adapted for forming shaped articles from material in particulate or plastic state, e.g. briquetting presses, tabletting presses using a flexible element, e.g. diaphragm, urged by fluid pressure; Isostatic presses
    • B30B11/002Isostatic press chambers; Press stands therefor

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、熱間等方圧プレス(Hot l5ostat
icP ress0以下、略称「HIP」という。)装
置に関するものである。
本発明の装置は、 (a)粉末冶金やファインセラミックスにおける粉末の
圧密や加圧焼結、 (b)金属粉末やファインセラミックスの焼結晶や金属
の鋳造品、鍛造品などの欠陥除去、(c)同種、異種材
料の拡散接合、゛ (d)?jt合材料における含浸処理、などを行う分野
で利用される。
[従来の技術] 第6図及び第7図に、従来の最も一般的なHIP装置の
例を示す。
図中1は圧力容器であり、この中には、断熱フードによ
り覆われた加熱炉(図示せず)が設けられている。圧力
容器l・は、円筒状の容器本体2、上h3、円筒状の容
器本体2の下端内周に固定されたボトムリング4、ボト
ムリング4にはまる下蓋5とからなり、被処理材は、圧
力容器lの下端開口部を開閉する前記下蓋5の上に乗せ
て装入シリンダ6により出し入れされる。圧力容器lは
、密閉した際、口字状の枠であるヨーク7により、上蓋
3及び下蓋5が押さえられ、高圧に耐えるように保持さ
れる。このため、ヨーク7は図示の位置から矢印(イ)
の如く前進できるようになっている。
この)IIP装置では、被処理材の準備−圧力容器lへ
の材料の装入−圧力容器I内の真空例−ガス置換−昇圧
−加熱昇温一温度圧カの保持−冷却−ガス回収−減圧−
圧力容器lの大気開放−被処理材の取り出し、をlサイ
クルとして操業が行なわれ、不活性ガス雰囲気下で行う
必要のある冷却工程は、圧力容器l内の加熱炉の中で行
われる。
第9図に、この装置におけるサイクルタイムを示す。
また、第8図に、別のHIP装置の例を示す。
この装置は、被処理材を、熱いうちに圧力容器l外に出
し、冷却を圧力容器1の外部で行って、圧力容器lの利
用回数を上げるようにした点に特徴を有する。すなわち
、この装置は、I−1I P処理後、直ちにガス回収、
減圧操作を行い、大気圧まで下がったら直ちに断熱フー
ドで覆われた加熱炉ごと被処理材を圧力容器l外に取り
出し、冷却室8に移送後、その内部で冷却を行わせるも
のであり、圧力容器lから被処理材を取り出した後、引
き続きHI Pの操業を行っていけるよう複数の加熱炉
が備えられている。
第1θ図に、この装置におけるサイクルタイムを示す。
この図かられかるように、圧力容器の利用時間が短縮さ
れ、被処理材取り出し後は、直ちに次のサイクルに移る
ことができる。
[発明が解決しようとする問題点] 上記のHIP装置のうち前者の装置においては、次のよ
うな問題がある。
圧力容器が水冷され熱を外部に放散しやすい構成になっ
ているが、圧力容器内で加熱炉及び断熱フードを介して
被処理材を冷却す、るので、非常に冷えにくく、第9図
に示すように冷却に長時間を要する。したがって、この
装置によれば、lサイクルが短くて8時間、長い場合二
昼夜にも及ぶことがあり、操業コストが高い。
また、後者の装置においては、次のような問題がある。
加熱炉を複数用意しなくてはならないから、設備費が高
くつく。また、加熱炉ごと冷却室に入れることから、断
熱フード内で冷却される点で、前者の装置と冷却時間そ
のものはあまり短くならない。加熱炉の構成材料並びに
被処理材の酸化による品質劣化、機能低下を来すので、
これを防止する工夫を要する。
本発明は、以上の事情に鑑み、被処理材を、高温のまま
裸で圧力容器外に取り出して直接冷却できるようにし、
それにより1サイクル当たりの圧力容器の利用時間を短
縮して、HIP装置本体の一日当たりの操業回数を増加
させ、操業コストを引き下げることができるようにする
ことを目的とする。
[問題点を解決するための手段] 本発明は、上記の問題点を解決するものであって、圧力
容器の開口部に設けられた蓋を開いて被処理材の出し入
れを行い、圧力容器内で被処理材を熱間等方圧プレス処
理する装置本体と、この装置本体に関連づけて配置され
た直列接続の3つの室A、B、Cと、これらの室間及び
端部の室A2Cと外部との間に設けられ各室A、B、C
を気密に保つシール扉と、中央の室Bと前記圧力容器と
の間に適宜に配置され室Bと圧力容器の開口部を気密に
連絡・するシール筒と、前記各室間及び外部との間にお
いて被処理材を移送する搬送装置とを有し、前記室A及
びCをそれぞれ、装置本体に装入する被処理材を準備す
るための準備室と装置本体で処理した後の被処理材を冷
却する冷却室を兼用する室、また前記室Bを、被処理材
を装置本体内に装入する機構を備えた装入室としたこと
を特徴としている。
[作用コ 上記構成の装置で操業を行う場合に・5・て説明   
  :する。
圧力容器中で被処理材のHIP処理が終わったら、圧力
容器の開口部と装入室Bとの間にシール筒を配置して両
者を気密に連絡するとともに、装入室Bとその両わきの
室A1Gとの間のシール扉を閉め、装入室B及びシール
筒内をガス置換する。
その状態で、圧力容器の蓋をあけて被処理材を裸のまま
装入室B内に取り出す。ここで、室AとCはいずれか一
方を準備室、他方を冷却室としておき、冷却室とした方
の室、たとえば室Cを冷却室とした場合、その室Cは、
予めシール扉を閉じた状態で気密を保ちガス置換を行っ
ておく。そして、装入室Bと室C間のシール扉をあけて
、装入室B内に取り出された被処理材を室Cに入れ、同
シール扉を閉めて、室C内で被処理材を裸のまま直接冷
却する。この時点で、圧力容器は次のサイクルの操業の
ために解放される。
次のサイクルは、上記の工程と並行して、予め。
他方の室Aを準備室としであるので、その室Aの入口出
口のシール扉を閉じて、室A内で装入のための準備を行
うことから始まる。
室Aで準備した被処理材は、装入室B及びシール筒内が
ガス置換されている状態で、室Aと装入室8間のシール
扉をあけて、装入室Bに入れる。
そして、同シール扉を閉じて装入機構により圧力容器内
に被処理材を装入し、圧力容器の蓋を閉じてシール筒を
外しHIP処理を開始する。
このようにして、操業を行うことにより、lサイクル当
たりの圧力容器の利用時間が短縮され、圧力容器の利用
回数が増加する。
[実施例] 以下、本発明の一実施例を第1図〜第5図を参照して説
明する。
第1図は実施例のHIP装置の側断面図、第2図は同平
面図、第3図は圧力容器の詳細を示す側断面図である。
図中10で示すものはHIP装置本体であり、これは、
従来のものと同様に、圧力容器lと、ヨーク7及びヨー
ク移動台車11と、架台12とから構成されている。
圧力容器lは、第3図に示すように、円筒状の容器本体
2、上M3、円筒状の容器本体2の下端内周に固定され
フランジ4aを有するボトムリング4、ボトムリング4
にはまる下M5とからなり、圧力容器lの中には、断熱
フード13により覆われた加熱炉14が設けられ、加熱
炉14の中にはヒータ15が設けられている。
そして、このHIP装置本体10では、下M5を開いて
被処理材Wの出し入れが行われ、また圧力容器lを閉じ
てHI P処理を行う際、ヨーク7を圧力容器1の位置
まで前進させ、ヨーク7により上蓋3及び下蓋5を押さ
えることによって、圧力容器lが高圧に耐えるように保
持される。
このような構成の装置本体lOの下方には、3つの気密
の室A、B、Cが直列に連結されて配置されている。中
央の室Bは、被処理材を装置本体lO内に装入するため
の装入室、端の室A及びCはそれぞれ、装置本体IOに
装入する被処理材を準備するための準備室と装置本体1
0で処理した後の被処理材を冷却する冷却室を兼用する
室、としての機能を持つよう構成されている。
中央の装入室Bはちょうど圧力容器1の真下に位置して
おり、装入室Bの下部には、被処理材を下蓋5の上に乗
せたまま圧力容器Iの中に装入できるよう装入シリンダ
16が備えられている。
これらの室A−B間、また室B−C間、端部の室A、C
と外部との各間には、それぞれ各室A1B、Cを気密に
保つための横スライド式のシール扉17.18.19.
20が設けられている。
また、中央の室Bの上部に形成された開口部21には、
上下に昇降可能にシール筒22が気密的に取り付けられ
ている。このシール筒22は、上昇させられた際、図示
のようにその上端が圧力容器lのボトムリング4のフラ
ンジ4a下面にシール部材23を介して当接し、それに
より圧力容器lの開口部と装入室Bを気密に連絡し、そ
の状態で下M5を開いて下降させることができるように
する。また、シール筒22を下降させた状態で、ヨーク
7を圧力容器lの位置に前進させることを妨げないもの
である。図において、シール筒22の昇降駆動装置は省
略しである。
また、準備室A、冷却室Cの各内部、及び準備室Aの外
部、冷却室Cの外部には、それぞれ被処理材を移送する
ための搬送装置24.25.26.27が設けられ、室
A−B間、室B−C間、及び室Aと外部間、室Cと外部
間においてそれぞれ被処理材を移送できるようになって
いる。
次に、上記構成のHIP装置で操業を行う場合について
、第4図のフロー図を参照しながら説明する・ 連続運転中における一つの被処理材の流れにしたがって
説明する。なお、この場合は、室Aを準備室、室Cを冷
却室として機能させた場合を示す。
〈ベヘ備室A〉 (1)まず、準備室Aの入口側のシール扉19を開放す
る。このとき、準備室Aの出口側のシール扉17は閉鎖
している。
(2)準備室Aの外部にある搬送装置26により、被処
理材を準備室A内に移送する。
(3)$備室Aの入口側のシール扉19を閉鎖し、準備
室A内を気密の状態に保つ。
(4)準備室A内を真空に引き、ガス置換する。
そして、準備室A内で予め定められた所定の準備作業(
たとえば予熱)を行う。
(5)準備室Aの出口側のシール扉17を開放する。こ
のとき、)NIP装置本体10及び装入室13は後述す
る(20)の段階にある。
(6)準備室A内の搬送装置24により、準備室A内の
被処理材を装入室已に移送し、装入室B内の装入シリン
ダ16上に乗っている下蓋5の上に被処理材を乗せる。
(7)準備室Aの出口側のシール扉17を閉鎖する。
〈装入室B−HIP装置本体10> (8)装入シリンダ16を動作させることにより、下蓋
5を上昇させ、下蓋5上の被処理材をHIP装置本体!
0の圧力容器l中に装入し、下蓋5を閉じる。
(9)装入シリンダ16のロッド、及びシール筒22を
下降させ、ヨーク7が前進できるような状態にする。
(10)ヨーク7を圧力容器1の位置まで前進させ、上
M3及び下蓋5を高圧に耐えるように押さえる。
(+1)圧力容器l内を真空に引き、ガス置換する。
(12)圧ツノ容器l内を昇圧・昇温させて、圧力容器
1内のガスを高圧・高温状態に保持し、HIP処理を行
う。
(13)圧力容器l内でのHI P処理が終わったら、
圧力容器1内のガス圧を減じ、ガス回収を灯つ。
(14)その後、ヨーク7を図示の待機位置まで後退さ
せる。
(15)シール筒22を上昇させ、圧力容器lの開口部
と装入室Bを気密的に連絡するとともに、装入シリンダ
16を動作してロッドを上昇させる。
(16)装入室B1シール筒22内を真空に引き、デス
で漁オA− (17)下蓋5を開き、装入シリンダ16により下M5
に乗せた状態でHIP処理された被処理材を下降させ、
被処理材を裸のまま圧力容器lから装入室B内に取り出
す。このとき、冷却室Cはシール′扉18.20が閉じ
られ、内部がガス置換された状態にある。
(18)冷却室Cの人口側のシール扉!8を開放する。
(19)冷却室C内の搬送装置25により、装入室B内
(q取り出された被処理材を、冷却室C内に移送する。
(20)冷却室Cの入口側のシール扉18を閉鎖する。
く冷却室C〉 (21)冷却室C内で、裸のままの被処理材を直接冷却
する。この時点で、圧力容器l及び装入室Bは、次のサ
イクルの操業のために解放される。
(22)冷却室Cで冷却し終わったら、冷却室Cの出口
側のシール扉20を開放する。
(23)冷却室Cの外部の搬送装置27により、被処理
材を外部に移送する。
(24)冷却室Cの出口側のシール扉20を閉鎖する。
以上で一つの被処理材の操業サイクルを終了するが、こ
のHI P装置では、複数の被処理材を、前後に工程的
なずれを保ちながら順次連続的に処理することができる
たとえば、冷却室Cで前の被処理材を冷却しているとき
、次の被処理材を圧力容器1中でHIP処理することが
でき、準備室Aでは、さらにその次の被処理材の準備作
業を行うことができる。このため、HI P装置本体I
Oの1サイクル当たりの利用時間が短縮され、きわめて
効率のよい操業が実現される。
また、上のHIP装置においては、冷却室Cで、裸のま
まの被処理材を直接冷却するので、冷却速度がきわめて
早くなり、一つの被処理材の処理時間が短くなるという
利点も得られる。このことは、第5図に示すサイクルタ
イムからあきらかに理解される。
なお、上の説明で゛は、室Aを準備室、室Cを冷却室と
して機能させる場合を説明したが、室Aを冷却室、室B
を準備室として逆に機能させるようにしてもよい。また
、ある時間だけ画室とも準備室、あるいは冷却室として
機能させるようにしてもよい。このHI P装置は、こ
のように必要に応じて、室A及びCを冷却室、準備室と
に使い分けることかできる。
次に、上記の説明では触れなかった細かい点について述
べる。
上記のHIP装置において、被処理材を、断熱材28a
を上層に配した断熱パレット28 (第3図参照)上に
乗せて移動するようにすれば、搬送が簡便に行えるよう
になるとともに、被処理材の熱で下蓋5や搬送装置を傷
めるおそれがなくなるという利点が得られる。
また、シール筒22の内部に水冷ジャケットを設けて、
シール筒22を水冷するようにすれば、シール簡22自
体の傷みを軽減することができる。
また、シール筒22を伸縮自在の蛇腹状のもので構成す
ることもできるが、そのようにした場合、内部に断熱材
を配すれば、シール筒の温度上昇を抑えることができる
また、上記のHIP装置では、高温の被処理材を裸のま
ま圧力容器から取り出すようにしているので、ボトムリ
ングまたは圧力容器のガス導入孔、排出孔の周辺が高温
にさらされる。したがって、ボトムリングや圧力容器の
ガス導入孔、排出孔を水冷することが望ましい。
さらに、前記のシール扉に断熱材を施したり、シール扉
を水冷したり、あるいは準備・冷却兼用室に冷却用熱交
換機または冷却用ファンをつけたりする、というような
付加的な構成は任意に行うことが望ましい。
また、上記の実施例の説明では、室Aや室C内で、各1
個ずつ被処理材を処理する場合を述べたが、複数個を同
時に処理するようにしてもよい。
また、上記実施例では、室A及びCを1室ずつしか設け
ていないが、必要に応じて、複数室ずつ設けてもよい。
また、上記実施例では、圧力容器の下蓋を開いて被処理
材を出し入れする形式のものについて説明したが、本発
明は、それに限られるものではなく、上方から被処理材
を出し入れする形式のもの、側方から出し入れする形式
のもの等、任意の形式のものに適用できる。
また、上記実施例では、ヨークを備えたHIP装置の場
合を示したが、本発明はヨーク式でないものにも適用で
きる。
[発明の効果コ 以上の説明のように、本発、明によれば、次の効果を得
ることができる。
■シール筒を所定の場所にセットし、シール筒内及び装
入室内をガス置換することにより、外部と気密的に遮断
された状態で、圧力容器の蓋をあけて、被処理材を高温
のまま裸で圧力容器外に取り出すことができる。
そして、その裸のままの被処理材を、ガス置換した冷却
用の室に入れることにより、被処理材を重接冷却するこ
とができる。また、一方で空いた圧力容器に、準備用の
室側・から次の被処理材を装入することができる。この
ため、圧力容器をフルに活用できる。
■■で述べたように、被処理材を裸のまま冷却できるこ
とから、冷却時間を短縮することができ、1サイクル当
たりの圧力容器の利用時間を短縮することができる。し
たがって、HI P装置本体の一日当たりの操業回数を
増加させることができ、操業コス°トを引き下げ−るこ
とが可能となる。
■■で述べたように、課のまま外部に取り出して冷却で
きることから、加熱炉は圧力容器に備えた1個あれば足
りる。したがって、従来の外部冷却式に比して、加熱炉
の数が少なくてすみ、設備費の低減が図れ名。
■被処理材はもとより加熱炉も、高温の状態で外気にさ
らさなくてよいから、被処理材の酸化の問題は全く生じ
ず、また加熱炉を傷めることもない。
■また、このHIPIP装置室A°及び室Cを、冷却室
と準備室とに使い分けることができるので、応用がきき
、効率のよい操業を行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第5図は本発明の一実施例を説明するためのも
ので、第1図はHIPIP装置断面図、第2図は同平面
図、第3図は同HIP装置における圧力容器の側断面図
、第4図は同HIP装置の操業フロー図、第5図は同H
IP装置の操業サイクルタイムを示す図である。 また、第6図〜第1θ図は従来のHI P装置を説明す
るためのもので、第6図はI−(I P装置の一例を示
す側断面図、第7図は同平面図、第8図は他のHIPI
P装置す側断面図、第9図は第6図及び第7図に示した
!−(IP装置における操業サイクルタイムを示す図、
第10図は第8図に示したHIPIP装置ける操業サイ
クルタイムを示す図である。 !・・・・・・圧力容器、5・・・・・・下蓋1.7・
・・・・・ヨーク、10・・・・・・HIP装置本体、
16・・・・・・装入シリンダ、17〜20・・・・・
・シール扉、22・・・・・・シール扉、24〜27・
・・・・・搬送装置、A、C・・・・・・準備室兼冷却
室、B・・・・・・装入室。 出願人  石川島播磨重工業株式会社 第2図 第4図 第5図 時間(Hr)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  圧力容器の開口部に設けられた蓋を開いて被処理材の
    出し入れを行い、圧力容器内で被処理材を熱間等方圧プ
    レス処理する装置本体と、この装置本体に関連づけて配
    置された直列接続の3つの室A、B、Cと、各室間及び
    端部の室A、Cと外部との間に設けられ各室A、B、C
    を気密に保つシール扉と、中央の室Bと前記圧力容器と
    の間に適宜に配置され室Bと圧力容器の開口部を気密に
    連絡するシール筒と、前記各室間及び外部との間におい
    て被処理材を移送する搬送装置とを有し、前記室A及び
    Cは、それぞれ装置本体に装入する被処理材を準備する
    ための準備室と装置本体で処理した後の被処理材を冷却
    する冷却室を兼用する室とされ、また前記室Bは、被処
    理材を装置本体内に装入する機構を備えた装入室とされ
    ていることを特徴とする熱間等方圧プレス装置。
JP16504385A 1985-07-26 1985-07-26 熱間等方圧プレス装置 Pending JPS6226485A (ja)

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