JPS62262039A - ハロゲン化銀写真材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真材料Info
- Publication number
- JPS62262039A JPS62262039A JP62104182A JP10418287A JPS62262039A JP S62262039 A JPS62262039 A JP S62262039A JP 62104182 A JP62104182 A JP 62104182A JP 10418287 A JP10418287 A JP 10418287A JP S62262039 A JPS62262039 A JP S62262039A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carbon atoms
- silver halide
- photographic
- halide emulsion
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- -1 Silver halide Chemical class 0.000 title claims description 50
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims description 44
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims description 42
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 6
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims description 75
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 39
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 16
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 11
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 8
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 8
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 7
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 7
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 1,3-selenazole Chemical compound C1=C[se]C=N1 ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 claims description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 3
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 125000004964 sulfoalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- AMTXUWGBSGZXCJ-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoselenazole Chemical compound C1=CC=C2C(N=C[se]3)=C3C=CC2=C1 AMTXUWGBSGZXCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2C(N=CS3)=C3C=CC2=C1 KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2C(N=CO3)=C3C=CC2=C1 WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004181 carboxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 2
- CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N thiazoline Chemical compound C1CN=CS1 CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 125000001054 5 membered carbocyclic group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000004008 6 membered carbocyclic group Chemical group 0.000 claims 2
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoselenazole Chemical compound C1=CC=C2[se]C=NC2=C1 AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000002504 iridium compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 claims 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 claims 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 42
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 9
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 9
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- 238000011161 development Methods 0.000 description 7
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 5
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K rhodium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Rh+3] SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 4
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021604 Rhodium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 4
- 241001648319 Toronia toru Species 0.000 description 4
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 description 4
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 4
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 4
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 4
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 3
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 3
- DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K trichloroiridium Chemical compound Cl[Ir](Cl)Cl DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 108091064702 1 family Proteins 0.000 description 2
- ITQTTZVARXURQS-UHFFFAOYSA-N 3-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CN=C1 ITQTTZVARXURQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTBDAFLSBDGPEA-UHFFFAOYSA-N 3-methylquinoline Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C)=CN=C21 DTBDAFLSBDGPEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LMYVCXSKCQSIEQ-UHFFFAOYSA-N 5-methylquinoline Chemical compound C1=CC=C2C(C)=CC=CC2=N1 LMYVCXSKCQSIEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLLOWHFKKIOINR-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-1,3-thiazole Chemical compound S1C=NC=C1C1=CC=CC=C1 ZLLOWHFKKIOINR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDYVCOSVYOSHOL-UHFFFAOYSA-N 7-methylquinoline Chemical compound C1=CC=NC2=CC(C)=CC=C21 KDYVCOSVYOSHOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRLTTZUODKEYDH-UHFFFAOYSA-N 8-methylquinoline Chemical compound C1=CN=C2C(C)=CC=CC2=C1 JRLTTZUODKEYDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021638 Iridium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001744 Polyaldehyde Polymers 0.000 description 2
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFMZWBIQTDUYBN-UHFFFAOYSA-N cobalt dinitrate Chemical compound [Co+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O UFMZWBIQTDUYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000000586 desensitisation Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 150000002344 gold compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000005065 mining Methods 0.000 description 2
- IHUHXSNGMLUYES-UHFFFAOYSA-J osmium(iv) chloride Chemical compound Cl[Os](Cl)(Cl)Cl IHUHXSNGMLUYES-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- INIOZDBICVTGEO-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) bromide Chemical compound Br[Pd]Br INIOZDBICVTGEO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N palladium(ii) nitrate Chemical compound [Pd+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3] YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000003378 silver Chemical class 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UUJOCRCAIOAPFK-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoselenazol-5-ol Chemical compound OC1=CC=C2[se]C=NC2=C1 UUJOCRCAIOAPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAHAKBXWZLDNAA-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazol-6-ol Chemical compound OC1=CC=C2N=COC2=C1 SAHAKBXWZLDNAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWSONZCNXUSTKW-UHFFFAOYSA-N 4,5-Dimethylthiazole Chemical compound CC=1N=CSC=1C UWSONZCNXUSTKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGTVICKPWACXLR-UHFFFAOYSA-N 4,5-diphenyl-1,3-thiazole Chemical compound S1C=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 BGTVICKPWACXLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFEPGHPDQJOYGG-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-1,3-benzothiazole Chemical compound ClC1=CC=CC2=C1N=CS2 IFEPGHPDQJOYGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIUXNZAIHQAHBY-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1,3-benzothiazole Chemical compound CC1=CC=CC2=C1N=CS2 PIUXNZAIHQAHBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRGCYOMCADXFJA-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-4,5-dihydro-1,3-thiazole Chemical compound CC1CSC=N1 SRGCYOMCADXFJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXCQDIWJQBSUJF-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-1,3-thiazole Chemical compound S1C=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1 KXCQDIWJQBSUJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWMQXAYLHOSRKA-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-1,3-benzoxazole Chemical compound ClC1=CC=C2OC=NC2=C1 VWMQXAYLHOSRKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEBIXVUYSFOUEL-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1,3-benzothiazole Chemical compound CC1=CC=C2SC=NC2=C1 SEBIXVUYSFOUEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKJSZXGYFJBYRQ-UHFFFAOYSA-N 6-chloroquinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC(Cl)=CC=C21 GKJSZXGYFJBYRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJAKVPMSAABZRX-UHFFFAOYSA-N 6-ethoxyquinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC(OCC)=CC=C21 AJAKVPMSAABZRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXEDQOMFMWCKFW-UHFFFAOYSA-N 7-chloro-1,3-benzothiazole Chemical compound ClC1=CC=CC2=C1SC=N2 RXEDQOMFMWCKFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUSMDMDNFUYZTM-UHFFFAOYSA-N 8-chloroquinoline Chemical compound C1=CN=C2C(Cl)=CC=CC2=C1 RUSMDMDNFUYZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000726103 Atta Species 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYSSNSIOLIJYRF-UHFFFAOYSA-H Cl[Ir](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl Chemical compound Cl[Ir](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl ZYSSNSIOLIJYRF-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229910021580 Cobalt(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000016649 Copaifera officinalis Species 0.000 description 1
- 239000004859 Copal Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910021639 Iridium tetrachloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000009421 Myristica fragrans Nutrition 0.000 description 1
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- PWHVEHULNLETOV-UHFFFAOYSA-N Nic-1 Natural products C12OC2C2(O)CC=CC(=O)C2(C)C(CCC2=C3)C1C2=CC=C3C(C)C1OC(O)C2(C)OC2(C)C1 PWHVEHULNLETOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021605 Palladium(II) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021120 PdC12 Inorganic materials 0.000 description 1
- 101000579646 Penaeus vannamei Penaeidin-1 Proteins 0.000 description 1
- 229910019891 RuCl3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000270708 Testudinidae Species 0.000 description 1
- XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N [Ag].Cl[IH]Br Chemical compound [Ag].Cl[IH]Br XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- UIZLQMLDSWKZGC-UHFFFAOYSA-N cadmium helium Chemical compound [He].[Cd] UIZLQMLDSWKZGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- 229940045032 cobaltous nitrate Drugs 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M ethanesulfonate Chemical compound CCS([O-])(=O)=O CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 229960002089 ferrous chloride Drugs 0.000 description 1
- 235000003891 ferrous sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011790 ferrous sulphate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N helium neon Chemical compound [He].[Ne] CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCKWXPBDKSOVOK-UHFFFAOYSA-H hexachlororuthenium Chemical compound Cl[Ru](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl WCKWXPBDKSOVOK-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- HTFVQFACYFEXPR-UHFFFAOYSA-K iridium(3+);tribromide Chemical compound Br[Ir](Br)Br HTFVQFACYFEXPR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical compound Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L iron(2+) sulfate (anhydrous) Chemical compound [Fe+2].[O-]S([O-])(=O)=O BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000359 iron(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002537 isoquinolines Chemical class 0.000 description 1
- 239000010985 leather Substances 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000001115 mace Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJLOMQIUPFZJAN-UHFFFAOYSA-N oxorhodium Chemical compound [Rh]=O SJLOMQIUPFZJAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005498 phthalate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 150000003283 rhodium Chemical class 0.000 description 1
- 150000003284 rhodium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910003450 rhodium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000006413 ring segment Chemical group 0.000 description 1
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 1
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 1
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N silver bromoiodide Chemical compound [Ag].IBr ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- BSGFBYZRPYAMRQ-UHFFFAOYSA-H tetrabromoplatinum(2+) dibromide Chemical compound Br[Pt](Br)(Br)(Br)(Br)Br BSGFBYZRPYAMRQ-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- QFJIELFEXWAVLU-UHFFFAOYSA-H tetrachloroplatinum(2+) dichloride Chemical compound Cl[Pt](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl QFJIELFEXWAVLU-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 150000003549 thiazolines Chemical class 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000010023 transfer printing Methods 0.000 description 1
- GPRLSGONYQIRFK-MNYXATJNSA-N triton Chemical compound [3H+] GPRLSGONYQIRFK-MNYXATJNSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
- G03C1/08—Sensitivity-increasing substances
- G03C1/10—Organic substances
- G03C1/12—Methine and polymethine dyes
- G03C1/22—Methine and polymethine dyes with an even number of CH groups
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
- G03C1/08—Sensitivity-increasing substances
- G03C1/09—Noble metals or mercury; Salts or compounds thereof; Sulfur, selenium or tellurium, or compounds thereof, e.g. for chemical sensitising
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はハロゲン化銀エマルジョンから成る写真要素に
関し、詳細にはコントラストの高いネが作用写真要素に
関する。
関し、詳細にはコントラストの高いネが作用写真要素に
関する。
高コントラスト写真要素は、像が半調Vットの形状で記
録されるグラフィック業界において特に利用されている
。露出は半調スクリーンを介してカメラ中で行われる。
録されるグラフィック業界において特に利用されている
。露出は半調スクリーンを介してカメラ中で行われる。
原型はパルスを与えられたキセノンまたは石英−ヨウ素
のような高強度光源によってカメラの複写ホード上に投
影される。高写真コントラストは、露出が完全応答また
はゼロ応答を生じることが望ましい半調像を精確に記録
するための要件である。
のような高強度光源によってカメラの複写ホード上に投
影される。高写真コントラストは、露出が完全応答また
はゼロ応答を生じることが望ましい半調像を精確に記録
するための要件である。
レーザー・スキャナーによる像形成のための写真要素は
、高強度光源からの光の極めて小さい点でフィルムを走
査する電子的に変調された高解像度のラスター・スキャ
ナーによって1象形成されるように設計されている。高
強度光源の例には、(1)がス・レーザー、具体的には
A 88 nmで放射するアルデン・イオン、633n
mで放射するヘリウム・ネオンまたは4 A 2nmで
放射するヘリウム・カドミウム; (II)750〜1
500nmの範囲の光を放射する近赤外(NIR)レー
ザー・ダイオード;および(tii )可視またはNI
Rの範囲で放射する発光ダイオード(LED )がある
。αでの場合に、点は極めて速く走査され写真要素の以
下なる部分での滞留時間も典型的には10−7〜10−
6秒間と短い。
、高強度光源からの光の極めて小さい点でフィルムを走
査する電子的に変調された高解像度のラスター・スキャ
ナーによって1象形成されるように設計されている。高
強度光源の例には、(1)がス・レーザー、具体的には
A 88 nmで放射するアルデン・イオン、633n
mで放射するヘリウム・ネオンまたは4 A 2nmで
放射するヘリウム・カドミウム; (II)750〜1
500nmの範囲の光を放射する近赤外(NIR)レー
ザー・ダイオード;および(tii )可視またはNI
Rの範囲で放射する発光ダイオード(LED )がある
。αでの場合に、点は極めて速く走査され写真要素の以
下なる部分での滞留時間も典型的には10−7〜10−
6秒間と短い。
ハロゲン化銀写真フィルムは通常は1〜100ミリ秒間
の時間の露出に応答してマイクロ秒間の露出では応答が
比較的悪くなり、1.Q loggまでの速度と50%
の平均コントラストを喪失する。
の時間の露出に応答してマイクロ秒間の露出では応答が
比較的悪くなり、1.Q loggまでの速度と50%
の平均コントラストを喪失する。
これは高強度相互作用不良(HIRF )の現象による
ものであり、欠のような関連した開祖をも生じる。(1
)多重焼き付けした短時間露出を分離する間隔がマイク
ロ秒からミリ抄以上に増加するので、これらの露出がま
すます大きく影響するようになる断続効果、 (II)若像継続であって、これによって露出と現像と
の間に具体的に(ま1時間以下の遅延時間がある場合に
はこの1習像がより強く現像された像を生じ、(+ii
)現像条件、例えば現像剤の消耗の状態に対する感度
が通常は高い。
ものであり、欠のような関連した開祖をも生じる。(1
)多重焼き付けした短時間露出を分離する間隔がマイク
ロ秒からミリ抄以上に増加するので、これらの露出がま
すます大きく影響するようになる断続効果、 (II)若像継続であって、これによって露出と現像と
の間に具体的に(ま1時間以下の遅延時間がある場合に
はこの1習像がより強く現像された像を生じ、(+ii
)現像条件、例えば現像剤の消耗の状態に対する感度
が通常は高い。
HIRFによって損なわれず且つjl出を行う形状がい
かに短くてもまたは細切れになっていてもこれらとは無
関係に所定量の4出に等しく応答する写真要素を作るこ
とによって、これら総ての問題点を解決することが望ま
しい。
かに短くてもまたは細切れになっていてもこれらとは無
関係に所定量の4出に等しく応答する写真要素を作るこ
とによって、これら総ての問題点を解決することが望ま
しい。
ある種の第■族の貴金属化合物を少惜含む写真エマルジ
ョンを調製することが知られている。こルらの金属化合
物はエマルジョンに対してことなる特性を付与し、ある
化合物ではHIRFが減少し、またたの化合物で)1コ
ントラストが増加する。例えば、米国特許第3,790
,390号および第6,147,542号明細書には、
少なくとも14類の第Vi族に属する化合物を特別な増
感染料と一確に含む写真エマルジョンが開示されている
。かかるr−プ剤はエマルジョン調製の結晶成長段階中
、すなわち初期沈澱中および/またけハロゲン化化合物
の物理的熟成の際に加えるのが有利である。ロジウムお
よびイリジウムのハロゲン化化合物は、この方法で最も
一般的に用いられるドープ剤である。かかるげ−ノ剤を
通常のネが処理写真エマルジョンに配合すると去には、
用いた特別な化合物によっである種の特殊な写真効果が
得られる。
ョンを調製することが知られている。こルらの金属化合
物はエマルジョンに対してことなる特性を付与し、ある
化合物ではHIRFが減少し、またたの化合物で)1コ
ントラストが増加する。例えば、米国特許第3,790
,390号および第6,147,542号明細書には、
少なくとも14類の第Vi族に属する化合物を特別な増
感染料と一確に含む写真エマルジョンが開示されている
。かかるr−プ剤はエマルジョン調製の結晶成長段階中
、すなわち初期沈澱中および/またけハロゲン化化合物
の物理的熟成の際に加えるのが有利である。ロジウムお
よびイリジウムのハロゲン化化合物は、この方法で最も
一般的に用いられるドープ剤である。かかるげ−ノ剤を
通常のネが処理写真エマルジョンに配合すると去には、
用いた特別な化合物によっである種の特殊な写真効果が
得られる。
例えば、式M3IrC16またはM2IrT16 (但
し、Mは第1族金属である)へキサクロロイリジウム酸
錯体塩をエマルソヨンr−パントとして配合すると、高
強度露出に対する感度が改良され、不感化の現象は通常
は機械的応力によって起こる。この現象は、例えば英国
特許第1,527,435号および第1.a i Q、
488号、米国特許第4,126.172号および第3
,847,621号西ドイツ国特許第3,115,27
4号およびフランス叫特許第2,296.204号の各
明a書に開示されている。
し、Mは第1族金属である)へキサクロロイリジウム酸
錯体塩をエマルソヨンr−パントとして配合すると、高
強度露出に対する感度が改良され、不感化の現象は通常
は機械的応力によって起こる。この現象は、例えば英国
特許第1,527,435号および第1.a i Q、
488号、米国特許第4,126.172号および第3
,847,621号西ドイツ国特許第3,115,27
4号およびフランス叫特許第2,296.204号の各
明a書に開示されている。
ロジウムのハロゲン化化合物のハロゲン化銀エマルジョ
ンに対する作用は、まったく界なっている。こnらの化
合物は、現像された像のコントラストを増す効果と共に
、エマルジョンの全般的な不感化を生じる。ロジウムド
ープ剤は多数の特許明細書に記載されており、例えば英
国特許2g775L97号明細書には三塩化ロジウム、
英国特許iA1,535.016号明細書にはへキサク
ロロロジウム酸ナトリウム、英国特許第1.395,9
23号明細書にはへキサクロロロジウム酸カリウム、英
国特許第2,109,576号および米国特許第3.5
31.289号明細書にはへキサクロロロジウム酸アン
モニウム、ドイツ国特許出願公開第2,632,202
号西ドイツ国特許第3.122,921号および特願昭
49/33781号の各明細書には塩化ロジウムまたは
三塩化ロジウムが開示されている。
ンに対する作用は、まったく界なっている。こnらの化
合物は、現像された像のコントラストを増す効果と共に
、エマルジョンの全般的な不感化を生じる。ロジウムド
ープ剤は多数の特許明細書に記載されており、例えば英
国特許2g775L97号明細書には三塩化ロジウム、
英国特許iA1,535.016号明細書にはへキサク
ロロロジウム酸ナトリウム、英国特許第1.395,9
23号明細書にはへキサクロロロジウム酸カリウム、英
国特許第2,109,576号および米国特許第3.5
31.289号明細書にはへキサクロロロジウム酸アン
モニウム、ドイツ国特許出願公開第2,632,202
号西ドイツ国特許第3.122,921号および特願昭
49/33781号の各明細書には塩化ロジウムまたは
三塩化ロジウムが開示されている。
第ν1族金属化合物をドープしたハロゲン化銀エマルジ
ョンは、劣化時の速度およびコントラストが不安定(′
こなる欠点を有する。米国特許第3.7188.709
号明細書には、ロゾウム含有ハロゲン化銀エマルジョン
に安定剤として力rミウム塩を添加することが開示され
ている。特公昭52/18310号明細書には、0.7
9 Vよりも大傘な酸化電圧(Box )を有する分光
増感染料と組合せたロジウム塩を含む安定なハロゲン化
銀エマルジョンが開示されている。分光増感染料の酸化
電圧は、それらの構造式の類似性から推定することは出
来ないことが記載されている。例えば、唯1個のill
換基だけが異なっても、酸化電圧はかなり界なることが
ある。それ故、当業界では、有機分子の型が分光増感染
料として有用であるといった示唆はなされていない。
ョンは、劣化時の速度およびコントラストが不安定(′
こなる欠点を有する。米国特許第3.7188.709
号明細書には、ロゾウム含有ハロゲン化銀エマルジョン
に安定剤として力rミウム塩を添加することが開示され
ている。特公昭52/18310号明細書には、0.7
9 Vよりも大傘な酸化電圧(Box )を有する分光
増感染料と組合せたロジウム塩を含む安定なハロゲン化
銀エマルジョンが開示されている。分光増感染料の酸化
電圧は、それらの構造式の類似性から推定することは出
来ないことが記載されている。例えば、唯1個のill
換基だけが異なっても、酸化電圧はかなり界なることが
ある。それ故、当業界では、有機分子の型が分光増感染
料として有用であるといった示唆はなされていない。
本発明者らは、ある種のクラスの構造的に関連1〜た化
合物が第■族金属化合物をr−デしたへロデ7([1エ
マルジヨンにおいて強力な増感剤でありエマルジョンに
良好な安定特性を付与することを見出だした。詳細には
、これらの染料は、拡散転写印刷プレートおよびレーザ
ー露出に好適なハロゲン化銀エマルジョンで有用である
ことが判明した。
合物が第■族金属化合物をr−デしたへロデ7([1エ
マルジヨンにおいて強力な増感剤でありエマルジョンに
良好な安定特性を付与することを見出だした。詳細には
、これらの染料は、拡散転写印刷プレートおよびレーザ
ー露出に好適なハロゲン化銀エマルジョンで有用である
ことが判明した。
それ故、本発明によれば、第■挨金属化合物および一般
式 (式中、nは0,1または2であり、 R1,11〜4個の炭素原子を有するアルキル基1〜4
個〕炭素原子を有するカル♂キシアルキル基または1〜
4個の炭素原子を有するスルホアルキル基であり、 R2およびR3は独立に1〜12個の炭素原子を有する
アルキル基2〜12個の炭素原子を有するアルケニル基
、15個以下の炭素原子を有するアリール基または15
個以下の炭素原子を有するアラールキル基であり、 領土の遊離結合は水素またはシアニン染料業界において
知られている句状萱換基、例えば1〜5個の炭素原子を
有する低板アルキル基、アリールおよび複累アリールブ
來によって飽和されてもよく、−または2四以上の@吠
1り換基がそれらが結合している炭素原子と共に5−ま
たはる−員のカルビ環状リング、例えばシクロにンチル
を形成してもよく、 Dは複素環状リング中に5または6個の原子を含む複素
環状咳を完成するのに套装な非金属原子であり、上記俵
ハシアニン染料業界に知られているように複素環状リン
グに情合してもよい置換基を任意に有する)を有する化
合物の増、盛量を含む写真用ハロゲン北東エマルジョン
を提供する。好まし2ぐシュ、ネ夏素環」犬リングはC
,N、OlSおよび89から、六式されるリング原子か
ら嘴成されている。複素環状核の例には、次のようなも
のがある。
式 (式中、nは0,1または2であり、 R1,11〜4個の炭素原子を有するアルキル基1〜4
個〕炭素原子を有するカル♂キシアルキル基または1〜
4個の炭素原子を有するスルホアルキル基であり、 R2およびR3は独立に1〜12個の炭素原子を有する
アルキル基2〜12個の炭素原子を有するアルケニル基
、15個以下の炭素原子を有するアリール基または15
個以下の炭素原子を有するアラールキル基であり、 領土の遊離結合は水素またはシアニン染料業界において
知られている句状萱換基、例えば1〜5個の炭素原子を
有する低板アルキル基、アリールおよび複累アリールブ
來によって飽和されてもよく、−または2四以上の@吠
1り換基がそれらが結合している炭素原子と共に5−ま
たはる−員のカルビ環状リング、例えばシクロにンチル
を形成してもよく、 Dは複素環状リング中に5または6個の原子を含む複素
環状咳を完成するのに套装な非金属原子であり、上記俵
ハシアニン染料業界に知られているように複素環状リン
グに情合してもよい置換基を任意に有する)を有する化
合物の増、盛量を含む写真用ハロゲン北東エマルジョン
を提供する。好まし2ぐシュ、ネ夏素環」犬リングはC
,N、OlSおよび89から、六式されるリング原子か
ら嘴成されている。複素環状核の例には、次のようなも
のがある。
チアゾ9−ル系、例えばチアゾール、t−メチルチア1
戸−ル、4−フェニルチア1戸−ル、5−メチルチアリ
”−ル、5−フェニルチアゾール、4.5−ジメチルチ
アゾール、4,5−ジフェニルチアゾール、A−C2−
fエニル)−チア・戸−ル、ベンゾチア・戸−ル系、例
えばペン・戸チア・戸−ル、4−クロロベンゾチアゾー
ル、5−クロロペン・戸チア1戸−ル、6−クロロペン
・戸チア・r−ル、7−クロロベンゾチアゾール、4−
メチルベンゾチアゾール、5−メチルベンゾチアゾール
、6−メチルペン・19チアゾール、5−ブロモペン・
戸チア・戸−”、6−iロモペンゾチア1)′−ル、4
−フェニルベンツチアテール、5−フェニルベンゾチア
・戸−ル、l−メトキシペン・戸チア・戸−ル5−メト
キシベンツ中チアリ9−ル、5−メトキシペン・rチア
・戸−ル、5−ヨウ「ベンゾチア・戸−ル、6−ヨ六ド
ペンデチア・戸−ル、4−エトキシペン・戸チア・7−
ル、5−エトキンベンゾチアゾール、テトラヒドロペン
デチアデール、5,6−ジメトキシ4フ〜戸チア・戸−
ル、5,6−シオキシメチレンベン・戸チアゾール、5
−ヒ「ロペンデチア・戸−ル、6−ヒげロベン1戸チア
ゾール、 ナフトチアゾール系、例えば、ナフ)(1,2]−チア
ゾール、ナフl(2,11チア・戸−ル、5−メトキシ
ナフト(?、 、 1 ]−チア・戸−ル、5−エトキ
シナフト(2,1)チアゾール、8−メトキシナフトc
i 、21チア・戸−ル、7−メトキシナフト(1,2
]チアゾール チアナフテノ−7’、 6’、 d 、 5−チアゾー
ル系、例えばl′−メトキシチアナフテノ−7’、6’
、A。
戸−ル、4−フェニルチア1戸−ル、5−メチルチアリ
”−ル、5−フェニルチアゾール、4.5−ジメチルチ
アゾール、4,5−ジフェニルチアゾール、A−C2−
fエニル)−チア・戸−ル、ベンゾチア・戸−ル系、例
えばペン・戸チア・戸−ル、4−クロロベンゾチアゾー
ル、5−クロロペン・戸チア1戸−ル、6−クロロペン
・戸チア・r−ル、7−クロロベンゾチアゾール、4−
メチルベンゾチアゾール、5−メチルベンゾチアゾール
、6−メチルペン・19チアゾール、5−ブロモペン・
戸チア・戸−”、6−iロモペンゾチア1)′−ル、4
−フェニルベンツチアテール、5−フェニルベンゾチア
・戸−ル、l−メトキシペン・戸チア・戸−ル5−メト
キシベンツ中チアリ9−ル、5−メトキシペン・rチア
・戸−ル、5−ヨウ「ベンゾチア・戸−ル、6−ヨ六ド
ペンデチア・戸−ル、4−エトキシペン・戸チア・7−
ル、5−エトキンベンゾチアゾール、テトラヒドロペン
デチアデール、5,6−ジメトキシ4フ〜戸チア・戸−
ル、5,6−シオキシメチレンベン・戸チアゾール、5
−ヒ「ロペンデチア・戸−ル、6−ヒげロベン1戸チア
ゾール、 ナフトチアゾール系、例えば、ナフ)(1,2]−チア
ゾール、ナフl(2,11チア・戸−ル、5−メトキシ
ナフト(?、 、 1 ]−チア・戸−ル、5−エトキ
シナフト(2,1)チアゾール、8−メトキシナフトc
i 、21チア・戸−ル、7−メトキシナフト(1,2
]チアゾール チアナフテノ−7’、 6’、 d 、 5−チアゾー
ル系、例えばl′−メトキシチアナフテノ−7’、6’
、A。
5−チア・戸−ル
オキサ・戸−ル糸、俸11えば乙−メチルオキサ1戸−
ル、5−メチレンオ* 01戸−ル、ルーフェニルオキ
サゾール、a、5+ゾフエニルオキサデール、4−エチ
ルオキサゾール、d、5−ジメチルオキサテール、5−
フェニルオキサ1戸−ル ペン・戸オキサ・戸−ル系、例えばペン・戸オキサゾー
ル、5−クロロペ/デオキサ1f−ル、5−メチルペン
・戸オキサ・t−ル、5−フェニルベンゾオキサ1戸−
ル、/1.5−ジメチル4フ1戸オキサ1戸−ル、5−
メトキシベンゾオキサゾール、5−エトキシベ71f
オキサ・7−ル、5−クロロベンゾオキサゾール、6−
メドキシベンデオキサ1戸−ル、5−ヒタロキシベン1
戸オキサゾール、6−ヒトロキクベンゾオキサゾール ナフトキサゾール系、例えばナンド[:1,2]−オキ
サゾール、ナフト(2,1〕オキサ−戸−ル、セレナゾ
ール系、例えばルーメチルセレナ・戸−ル、4−フェニ
ルセレナ1t−ル、 ペン・戸セレナゾール系、例1えばペン・戸セレナ・戸
−ル、S−クロロベンツ9セレナ1戸−ル、5−メチレ
ンペン1戸エートセレナ1戸−ル、5−メトキシベンデ
エートセレナデール、5−ヒドロキシベンゾセレナゾー
ル、テトラ上10ベンゾセレナゾール、ナフトセレナゾ
ール、例えばナフト(1,2]セレナゾール、ナフトl
:2.1〕セレナゾール、チアゾリン系、例えばチアゾ
リン、4−メチルチアゾリン、 ギノリン系、例えばキノリン、3−メチルキノリン、5
−メチルキノリン、7−メチルキノ11ン、8−メチル
キノリン、6−クロロキノリン、8−クロロキノリン、
6−メドキシキノリン、6−エトキシキノリン、6−ヒ
Pロキシキノリン、8−ヒドロキシギノリン、 イソキノリン系、例えばイソキノリン、6./i−ジヒ
ドロイソキノリン、 ベンガイミ々9ゾール系、例えば1.3−ジxチルベン
−y、+ イミfゾール、1−エチル−3−フェニル°
ベンズイミダゾール、 3.3−ジアルキルインルニン系、例、7ハ3゜6ジメ
チルインドレニン、3,3.5−)リメチルインルニン
、3 + 3 p 7− ト”メチルインドレニン、 ピリジン系、例えばピリジンおよび5−メチルビリジン
。
ル、5−メチレンオ* 01戸−ル、ルーフェニルオキ
サゾール、a、5+ゾフエニルオキサデール、4−エチ
ルオキサゾール、d、5−ジメチルオキサテール、5−
フェニルオキサ1戸−ル ペン・戸オキサ・戸−ル系、例えばペン・戸オキサゾー
ル、5−クロロペ/デオキサ1f−ル、5−メチルペン
・戸オキサ・t−ル、5−フェニルベンゾオキサ1戸−
ル、/1.5−ジメチル4フ1戸オキサ1戸−ル、5−
メトキシベンゾオキサゾール、5−エトキシベ71f
オキサ・7−ル、5−クロロベンゾオキサゾール、6−
メドキシベンデオキサ1戸−ル、5−ヒタロキシベン1
戸オキサゾール、6−ヒトロキクベンゾオキサゾール ナフトキサゾール系、例えばナンド[:1,2]−オキ
サゾール、ナフト(2,1〕オキサ−戸−ル、セレナゾ
ール系、例えばルーメチルセレナ・戸−ル、4−フェニ
ルセレナ1t−ル、 ペン・戸セレナゾール系、例1えばペン・戸セレナ・戸
−ル、S−クロロベンツ9セレナ1戸−ル、5−メチレ
ンペン1戸エートセレナ1戸−ル、5−メトキシベンデ
エートセレナデール、5−ヒドロキシベンゾセレナゾー
ル、テトラ上10ベンゾセレナゾール、ナフトセレナゾ
ール、例えばナフト(1,2]セレナゾール、ナフトl
:2.1〕セレナゾール、チアゾリン系、例えばチアゾ
リン、4−メチルチアゾリン、 ギノリン系、例えばキノリン、3−メチルキノリン、5
−メチルキノリン、7−メチルキノ11ン、8−メチル
キノリン、6−クロロキノリン、8−クロロキノリン、
6−メドキシキノリン、6−エトキシキノリン、6−ヒ
Pロキシキノリン、8−ヒドロキシギノリン、 イソキノリン系、例えばイソキノリン、6./i−ジヒ
ドロイソキノリン、 ベンガイミ々9ゾール系、例えば1.3−ジxチルベン
−y、+ イミfゾール、1−エチル−3−フェニル°
ベンズイミダゾール、 3.3−ジアルキルインルニン系、例、7ハ3゜6ジメ
チルインドレニン、3,3.5−)リメチルインルニン
、3 + 3 p 7− ト”メチルインドレニン、 ピリジン系、例えばピリジンおよび5−メチルビリジン
。
式(11)の好ましい染料は、
(式中 R1、R2およびR3(ま上記定義の通りであ
り、 YはS 、 O、CH=CH、NR7、SsまたはC’
R8R9、好ましくはS、OまたはCR”R9であり、
R7は置保していてもよい1〜4個の炭素原子を有する
アルキル基、例えばアセトキシアルキルであり、 R8およびR9は独立に1〜4個の炭素原子を有する低
級アルキルであり、 R20およびR21け独立に水素また4ハロゲン原子、
例えば塩素、臭素また社ヨウ素、1〜5個の炭素原子を
有する低級アルキル基例えばメチルまたはエチル、1〜
5個の炭素原子を有するアルコキシ基例えばメトキシま
たはエトキシ、7個以下の炭素原子を有する了り−ル基
例えばフェニルおよび7個以下の炭素原子を有するアリ
ールオキシ基例えばフェノキシであり、または R20およびR21は一緒になって芳香族ま九は不飽和
あるいは飽和の5拳あるいけろ員のカルボ環状または複
素環状リング、例えばメチレンジオキシリングを形成す
るのに必要な原子を表わす)を有するものである。
り、 YはS 、 O、CH=CH、NR7、SsまたはC’
R8R9、好ましくはS、OまたはCR”R9であり、
R7は置保していてもよい1〜4個の炭素原子を有する
アルキル基、例えばアセトキシアルキルであり、 R8およびR9は独立に1〜4個の炭素原子を有する低
級アルキルであり、 R20およびR21け独立に水素また4ハロゲン原子、
例えば塩素、臭素また社ヨウ素、1〜5個の炭素原子を
有する低級アルキル基例えばメチルまたはエチル、1〜
5個の炭素原子を有するアルコキシ基例えばメトキシま
たはエトキシ、7個以下の炭素原子を有する了り−ル基
例えばフェニルおよび7個以下の炭素原子を有するアリ
ールオキシ基例えばフェノキシであり、または R20およびR21は一緒になって芳香族ま九は不飽和
あるいは飽和の5拳あるいけろ員のカルボ環状または複
素環状リング、例えばメチレンジオキシリングを形成す
るのに必要な原子を表わす)を有するものである。
式(1)の好ましい染料は、式
(式中 R4は1〜4個の炭素原子を有するアルキル基
または1〜4個の炭素原子を有するカルボアルキル基ま
たは1〜4個の炭素原子を有するスルホアルキル基であ
り、 R5およびR6は独立に水素、1〜5個の炭素原子を有
するアルキル基および7個以下の炭素原子を有する了り
−ル基全表わすか、゛またはR5およびR6は一緒にな
ってカルボ環状芳香族リングであって、上記定義の詮換
基R20およびp、21を有するものを表わし、 XuS、NR7、−CH= CH−またはSeであり、
二二二は亀結合または二重結合を表わす)を有するもの
である。
または1〜4個の炭素原子を有するカルボアルキル基ま
たは1〜4個の炭素原子を有するスルホアルキル基であ
り、 R5およびR6は独立に水素、1〜5個の炭素原子を有
するアルキル基および7個以下の炭素原子を有する了り
−ル基全表わすか、゛またはR5およびR6は一緒にな
ってカルボ環状芳香族リングであって、上記定義の詮換
基R20およびp、21を有するものを表わし、 XuS、NR7、−CH= CH−またはSeであり、
二二二は亀結合または二重結合を表わす)を有するもの
である。
好ましいXはSであり、式
%式%
本発明の写真用エマルジョンは、汽<はどの良好な長期
安定性を有し、増感染料は予想されなかったほどの良好
な感度を与える。これらの増感染料は、従来の写真エマ
ルジョンに用いられる多数の染料の中でも当業界に知ら
れているものであり、例えば英国特許第555,936
号、第786.169号、第789,136号および米
用特許第2,078,233号、第2,165.338
号、2,170,803号、第3.519.0 [11
号、第2,5 A 8,571号、第2,860.98
1号および第2,860,982号の各明細書に開示さ
れているが、本発明に用いられる染料が第)1族金属化
合物をドープした高コン゛トラストエマルジョンに上記
のような特に有効な増感および安定性特性を付与するこ
とは当業界では示唆されてはいない。これまでは、本発
明に用いられる染料は、かかるエマルジョンに用いられ
たということは仰られていない。
安定性を有し、増感染料は予想されなかったほどの良好
な感度を与える。これらの増感染料は、従来の写真エマ
ルジョンに用いられる多数の染料の中でも当業界に知ら
れているものであり、例えば英国特許第555,936
号、第786.169号、第789,136号および米
用特許第2,078,233号、第2,165.338
号、2,170,803号、第3.519.0 [11
号、第2,5 A 8,571号、第2,860.98
1号および第2,860,982号の各明細書に開示さ
れているが、本発明に用いられる染料が第)1族金属化
合物をドープした高コン゛トラストエマルジョンに上記
のような特に有効な増感および安定性特性を付与するこ
とは当業界では示唆されてはいない。これまでは、本発
明に用いられる染料は、かかるエマルジョンに用いられ
たということは仰られていない。
本発明に用いられる写真用エマルジョンは、従来のハロ
ゲン化銀の如何なるもの、例えば塩化銀、臭化銀、塩臭
化銀、ヨウ臭化銀、塩ヨウ臭化銀等から構成さルていて
もよい。少なくとも30モル%の塩化銀を含むエマルジ
ョンが好ましく、少なくとも60%の塩化物を含むエマ
ルジョンが最も好ましい。好ましくは、エマルジョンは
塩臭(t[である。銀塩は、立方晶系または六方晶系の
ft1粒子または微細粒子の形状であってもよく、また
はこ几ら24類の結晶系の混合物であってもよく、ある
いはその他の結晶系のものであってもよい。
ゲン化銀の如何なるもの、例えば塩化銀、臭化銀、塩臭
化銀、ヨウ臭化銀、塩ヨウ臭化銀等から構成さルていて
もよい。少なくとも30モル%の塩化銀を含むエマルジ
ョンが好ましく、少なくとも60%の塩化物を含むエマ
ルジョンが最も好ましい。好ましくは、エマルジョンは
塩臭(t[である。銀塩は、立方晶系または六方晶系の
ft1粒子または微細粒子の形状であってもよく、また
はこ几ら24類の結晶系の混合物であってもよく、ある
いはその他の結晶系のものであってもよい。
写真用エマルジョンは、通常の方法、例えば単一ジェッ
ト法また灯二重ジェット法によって沈澱によって余々に
形成する。エマルジョンは均−名粒子形状のものであっ
てもよく、広範囲の粒度分布を有することができ、また
は2 、fi 頃以上のエマルジョンの混合I(勿から
成っていてもよい。ハロゲン化1エマルジヨンの11M
法は、例えばシー・イー・ケイ、メース(C,E、に、
Mees )著の「ザ・セオリー・オプ・ザ・フォト
グラフィック・プロセス(Ths Theory of
the Photographic ProcsSs
)、1966年、第6版、61〜44頁、マクミラン・
カンパニー (MacMillan Co、 )、ニュ
ー ・E −p、ピー・グラフキラで(P、 Glaf
kidss )著、「ChlrniePhotogra
phique J、1967年、第2版、251〜30
8 頁、フォトシネマ・ボール・モンテル(Photo
rinsma Paul Montel )、パリなど
に開示さルでいる。
ト法また灯二重ジェット法によって沈澱によって余々に
形成する。エマルジョンは均−名粒子形状のものであっ
てもよく、広範囲の粒度分布を有することができ、また
は2 、fi 頃以上のエマルジョンの混合I(勿から
成っていてもよい。ハロゲン化1エマルジヨンの11M
法は、例えばシー・イー・ケイ、メース(C,E、に、
Mees )著の「ザ・セオリー・オプ・ザ・フォト
グラフィック・プロセス(Ths Theory of
the Photographic ProcsSs
)、1966年、第6版、61〜44頁、マクミラン・
カンパニー (MacMillan Co、 )、ニュ
ー ・E −p、ピー・グラフキラで(P、 Glaf
kidss )著、「ChlrniePhotogra
phique J、1967年、第2版、251〜30
8 頁、フォトシネマ・ボール・モンテル(Photo
rinsma Paul Montel )、パリなど
に開示さルでいる。
周iv1律表の第■族金属には、鉄、コバルト、ニッヶ
ル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、
イリジウムおよび白金がある。これらの化合物の作用の
様式は、常に予想できるとは限らない。あるものはコン
トラストを増し、またあるものはHIRFを良好に制御
する。本発明に最も好ましく用いられるこれらの金属を
含む化合物はルテニウム、銖、イリジウムおよびロジウ
ム化合物であり、最も好−ましくはルテニウムとロジウ
ムである。本発明に有用な第vi埃金属化合物の例には
、硫酸第一9J PdC04・5H20、塩化第一鉄F
13C13、ヘキサシアノ第一鉄(It)ffカリウム
に4Fe(CN)5B3H20%へキサシアノ紀二鉄(
ill) vカ’) ラムに3Fs(CN) 6、塩化
第一コパル) CoCl2 、硝酸第一コバルトCo(
NQz)+・6!(20、ヘキサシアノコバルト(II
I) 酸カリウムに3CO(CN)6、塩化ニッケル(
11) NiC1+・6H20、硝酸−” ツケル(1
) Ni(NO3)2・6H201塩化ルテニウム([
1) RuCl3 、ヘキサクロロルテニウム(IT)
mカリウムに2 RuC16、アクオペンタクロロル
テニウム酸カリウムに2Ruc15・H2O、塩化ロジ
ウム(III) RhCl3・乙H20、ヘキサクロロ
ロジウム(Ill)酸アンモニウム(NH3)3RhC
16、ヘキサクロロロジウム(III) (’f9ff
カリウムQ 3RhC16’ 12 O20、塩化パラ
ジウム(■)PdC12、硝酸パラジウム(lI)Pd
(No、)2、臭化パラジウムPdBr2、ヘキサクロ
ロパラジウム(IV) El 力+) ラムx2pa(
cNs)、、塩化オスミウム(TI)O8C12、塩化
イリジウム(III) IrCl3、塩化イリジウム(
IV) IrCl4、臭化イリジウム(+lr) Ir
Br34H20゜臭化イリジウム(1v) IrBr、
、ヘキサクロロイリジウム(il[)酸カリウムに3
I r C16、ヘキサクロロイリジウム(1%’)e
、!1′カリウムに21rC16、ヘキサクロロ白金(
IV)酸アンモニウム(NH,)、picl、、ヘキサ
クロロ白金(IV)酸カリウムに2PtC16、ヘキサ
ブロモ白金(lV)+’FZアンモニウム(NH,)z
ptBr6などがある。
ル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、
イリジウムおよび白金がある。これらの化合物の作用の
様式は、常に予想できるとは限らない。あるものはコン
トラストを増し、またあるものはHIRFを良好に制御
する。本発明に最も好ましく用いられるこれらの金属を
含む化合物はルテニウム、銖、イリジウムおよびロジウ
ム化合物であり、最も好−ましくはルテニウムとロジウ
ムである。本発明に有用な第vi埃金属化合物の例には
、硫酸第一9J PdC04・5H20、塩化第一鉄F
13C13、ヘキサシアノ第一鉄(It)ffカリウム
に4Fe(CN)5B3H20%へキサシアノ紀二鉄(
ill) vカ’) ラムに3Fs(CN) 6、塩化
第一コパル) CoCl2 、硝酸第一コバルトCo(
NQz)+・6!(20、ヘキサシアノコバルト(II
I) 酸カリウムに3CO(CN)6、塩化ニッケル(
11) NiC1+・6H20、硝酸−” ツケル(1
) Ni(NO3)2・6H201塩化ルテニウム([
1) RuCl3 、ヘキサクロロルテニウム(IT)
mカリウムに2 RuC16、アクオペンタクロロル
テニウム酸カリウムに2Ruc15・H2O、塩化ロジ
ウム(III) RhCl3・乙H20、ヘキサクロロ
ロジウム(Ill)酸アンモニウム(NH3)3RhC
16、ヘキサクロロロジウム(III) (’f9ff
カリウムQ 3RhC16’ 12 O20、塩化パラ
ジウム(■)PdC12、硝酸パラジウム(lI)Pd
(No、)2、臭化パラジウムPdBr2、ヘキサクロ
ロパラジウム(IV) El 力+) ラムx2pa(
cNs)、、塩化オスミウム(TI)O8C12、塩化
イリジウム(III) IrCl3、塩化イリジウム(
IV) IrCl4、臭化イリジウム(+lr) Ir
Br34H20゜臭化イリジウム(1v) IrBr、
、ヘキサクロロイリジウム(il[)酸カリウムに3
I r C16、ヘキサクロロイリジウム(1%’)e
、!1′カリウムに21rC16、ヘキサクロロ白金(
IV)酸アンモニウム(NH,)、picl、、ヘキサ
クロロ白金(IV)酸カリウムに2PtC16、ヘキサ
ブロモ白金(lV)+’FZアンモニウム(NH,)z
ptBr6などがある。
これらの第1′ll族金4化合物は、一般的にはハロゲ
ン化tQ1モル当タリi o−9モル−10−”モルの
量で、独立にまたはこれらの化合物の2種類以上の組合
せで用いられる。金化合物を第1・1族金属のこれら化
合物のいずれかとの組合せでのこのエマルジョンに好ま
1−り添加する1−とがで去る。こルらの化合物の添7
J+]は、ハロゲン化銀粒子の形成時、エマルジョンの
Qff時tたはハロゲン化銀エマルジョンの製造におけ
るこれらの経過において適性に行われる。
ン化tQ1モル当タリi o−9モル−10−”モルの
量で、独立にまたはこれらの化合物の2種類以上の組合
せで用いられる。金化合物を第1・1族金属のこれら化
合物のいずれかとの組合せでのこのエマルジョンに好ま
1−り添加する1−とがで去る。こルらの化合物の添7
J+]は、ハロゲン化銀粒子の形成時、エマルジョンの
Qff時tたはハロゲン化銀エマルジョンの製造におけ
るこれらの経過において適性に行われる。
本発明に用いられる増・柊染料は、一般的に蝶・・ロダ
ン化銀エマルジョンにふ<inるハci e ン化銀1
モル当たり10−5〜10−2モルの量で、別々にまた
はそれらの2種類以上の組合せで用いられる。エマルジ
ョンへの増感染料の添加は、上記金属化合物の場合と@
I様に行われる。それらは、上記金属化合物と同時にエ
マルジョンに添加してもよく、または1須序は無関係に
独立に添加1〜でもよい。
ン化銀エマルジョンにふ<inるハci e ン化銀1
モル当たり10−5〜10−2モルの量で、別々にまた
はそれらの2種類以上の組合せで用いられる。エマルジ
ョンへの増感染料の添加は、上記金属化合物の場合と@
I様に行われる。それらは、上記金属化合物と同時にエ
マルジョンに添加してもよく、または1須序は無関係に
独立に添加1〜でもよい。
本発明の写真甲エマルジョンを不透明または透明な基材
にコーティングして、レーデ−像形成およびグラフィッ
ク技術のカメラ・スピード(graphic art
camsra 5pssd )応用に使用するのに好適
な白点写真要素を提供することができる。
にコーティングして、レーデ−像形成およびグラフィッ
ク技術のカメラ・スピード(graphic art
camsra 5pssd )応用に使用するのに好適
な白点写真要素を提供することができる。
基材の例は、プラスチックフィルム例えばぼりエステル
フィルム、二〇F’rE伸ポリエチレン−テレフタレー
トフィルム、小胞状ポリエステルフィルム、二酸化チタ
ン顔料で着色したフィルムおよび写真グレードの基材紙
例えばバリタコ−ティングした紙である。
フィルム、二〇F’rE伸ポリエチレン−テレフタレー
トフィルム、小胞状ポリエステルフィルム、二酸化チタ
ン顔料で着色したフィルムおよび写真グレードの基材紙
例えばバリタコ−ティングした紙である。
これらのエマルジョンは、感光性印判プレートに訃ける
感光性媒質としても使用される。感光性印刷プレートの
例¥′i、米国特許第、i、361,635号明細書に
開示されており、ハロゲン化銀拡散転写系から成ってい
る。銀塩の拡散転写現像が可能fi写Aシートは、ハロ
ケ9ン化銀エマルジョン層トこのエマルジョン層の上方
の受容体す、4とから成っており、受容体層は高分子量
の親水性ポリマーであってその主便比率がポリアルデヒ
ドであるものと銀塩拡散転写現像の触媒核とから戎って
いる。
感光性媒質としても使用される。感光性印刷プレートの
例¥′i、米国特許第、i、361,635号明細書に
開示されており、ハロゲン化銀拡散転写系から成ってい
る。銀塩の拡散転写現像が可能fi写Aシートは、ハロ
ケ9ン化銀エマルジョン層トこのエマルジョン層の上方
の受容体す、4とから成っており、受容体層は高分子量
の親水性ポリマーであってその主便比率がポリアルデヒ
ドであるものと銀塩拡散転写現像の触媒核とから戎って
いる。
通常の露出および拡散転写現r↑の後、受容体層はその
上に金属製銀像部分であってインキ受容性であり且つ平
板印刷法のプレートとしての構造に使用することができ
るものを含む。一般式(I)の染料は、レーザー露出に
よる拡散転写処方に特に有用であることが明らかになっ
た。
上に金属製銀像部分であってインキ受容性であり且つ平
板印刷法のプレートとしての構造に使用することができ
るものを含む。一般式(I)の染料は、レーザー露出に
よる拡散転写処方に特に有用であることが明らかになっ
た。
感光性エマルジョンハ@、速アクセス現順剤(rapi
daccsss dsvelopers )で現像して
、その後通常の方法で定着することができる。次いで、
それらを洗浄して乾燥してもよい。加工は、90秒間で
行うことがで傘る。
daccsss dsvelopers )で現像して
、その後通常の方法で定着することができる。次いで、
それらを洗浄して乾燥してもよい。加工は、90秒間で
行うことがで傘る。
本発明に使用する好ましい増感染料には、次のようなも
のがある。
のがある。
染料1
染料2
染料3
染料4
染料5
その他の本発明の染料は、以下の表−1にまとめである
。
。
染料の調製に好適な合成経路は、英国特許第555,9
36号明細書および米国特許第2.&!l/1.981
号、第2,5乙8,571号および第2,170.80
3号明細書に開始されている。
36号明細書および米国特許第2.&!l/1.981
号、第2,5乙8,571号および第2,170.80
3号明細書に開始されている。
米国特許第2,493,748号明細書に開示されてい
る下記の聞知の染料を、実施例における皮革として用い
た。
る下記の聞知の染料を、実施例における皮革として用い
た。
染料A
〔実施例〕
本発明を、以下の実施例によって説明する。
実施例1
2、Ii−ジメチルチアゾールA 8 g(0,Aモル
)おヨヒトルエンルースルホン酸エチル80 g(0,
4モル)を混合して、油浴中で140°Cで4〜6時間
加熱した。冷却すると、第四級塩が固化した。
)おヨヒトルエンルースルホン酸エチル80 g(0,
4モル)を混合して、油浴中で140°Cで4〜6時間
加熱した。冷却すると、第四級塩が固化した。
2−アセトアニリノ−1,1−ジシアノエチレン8、i
g(0,!1モル)オよびエタノール2リツトルを加え
て、混合物を蒸気浴上で加熱して、溶液を得た。
g(0,!1モル)オよびエタノール2リツトルを加え
て、混合物を蒸気浴上で加熱して、溶液を得た。
トリチルエチルアミン56−を徐々に加えて、混合物を
30分間@流した。混合物を冷ハ償中で少なくとも20
時間冷却して、濾過し、45〜50gの染料を集めた。
30分間@流した。混合物を冷ハ償中で少なくとも20
時間冷却して、濾過し、45〜50gの染料を集めた。
染料をエタノール(1,5〜2リツトル)から再結晶さ
せ、染料を一晩結晶化させたところ、染料の収ターは4
0Fであった。
せ、染料を一晩結晶化させたところ、染料の収ターは4
0Fであった。
特性決定
黄色/褐色の針伏結晶であり、青色を反射。融点=15
6℃。λmax(メタノール)=ad9nm。
6℃。λmax(メタノール)=ad9nm。
ε=5.8X10’。Eox=+1.1v0実施例2
用いたハロゲン化銀は、平均粒度が約0.2μの64%
塩化物/36%臭化物であって、」制御されたpAg条
件下で二面ジェット乳化によって調製したものであった
。ハロゲン化親1モルに対して、0.5マイクロモルの
ロジウムげ−デ剤DTa3RhC16・12 H2O)
を乳化の膳に結晶に配合して、迅速接近加工条件下で高
コントラスト’6付与しt0化学増感はil;jfi弄
および金増感剤の組合せ(Ag1モル当たりNa2S+
03・5 H2O1,25X 1ロ一’モルbよびAg
1モル当たりNaAuC14・2 H2O8X 10″
″5モル)を用いて行い、エマルジョンをテトラアゾイ
ンマン安定剤で安定化した。
塩化物/36%臭化物であって、」制御されたpAg条
件下で二面ジェット乳化によって調製したものであった
。ハロゲン化親1モルに対して、0.5マイクロモルの
ロジウムげ−デ剤DTa3RhC16・12 H2O)
を乳化の膳に結晶に配合して、迅速接近加工条件下で高
コントラスト’6付与しt0化学増感はil;jfi弄
および金増感剤の組合せ(Ag1モル当たりNa2S+
03・5 H2O1,25X 1ロ一’モルbよびAg
1モル当たりNaAuC14・2 H2O8X 10″
″5モル)を用いて行い、エマルジョンをテトラアゾイ
ンマン安定剤で安定化した。
増感染料を、溶媒としてメタノールまたはメタノール/
ジメチルホルムアミド混合物を用いて0.2%心液とし
て加えた。界面活性剤(トライトン(Tri↑on )
X −200、ローム・アy F −ハース社より市
販)訃よびホルムアルデヒド(硬化剤)を重加して、p
Hを5.5に・周基して、下塗した& +7エステルフ
イルム基材にこのエマルジョンをコーティングして、至
りコーティング重帯を497m2とした。エマルジョン
層を、保護ゼラチン層でオーバーコーテイングした。
ジメチルホルムアミド混合物を用いて0.2%心液とし
て加えた。界面活性剤(トライトン(Tri↑on )
X −200、ローム・アy F −ハース社より市
販)訃よびホルムアルデヒド(硬化剤)を重加して、p
Hを5.5に・周基して、下塗した& +7エステルフ
イルム基材にこのエマルジョンをコーティングして、至
りコーティング重帯を497m2とした。エマルジョン
層を、保護ゼラチン層でオーバーコーテイングした。
このコーティングをA F39 nmのバンドを通過す
る干渉フィルター卦よび0〜乙の連続p!!全通してキ
セノン・フラッシュ・チューブ(ブラウン(Braun
) F 91 Qプロフェッショナル・フラッシュ−
ユニット(Professional F1a5h T
Jnit ) )を用いて、5ミリ秒間の露出時間で露
出した。
る干渉フィルター卦よび0〜乙の連続p!!全通してキ
セノン・フラッシュ・チューブ(ブラウン(Braun
) F 91 Qプロフェッショナル・フラッシュ−
ユニット(Professional F1a5h T
Jnit ) )を用いて、5ミリ秒間の露出時間で露
出した。
Xl出の後、コーティングを31(型RDC■迅速接近
現像装置(ミネソタ・マイニング・アンド・マニュファ
クチアリング・カンパニー(MinnesotaMin
ing & Manufacturing Compa
ny )から市販されている)で/10°Cで20抄間
現家して、3MRF定着装置(ミネソタ・マイニング・
アンr・マニュファクチアリングーカンパニー(Min
ns−sota Mining & Manufact
uring Cornpany )から市販されている
)中で乙0°Cで20秒間定着した後、洗浄して、乾燥
した。加工時間は90砂間であつ之。
現像装置(ミネソタ・マイニング・アンド・マニュファ
クチアリング・カンパニー(MinnesotaMin
ing & Manufacturing Compa
ny )から市販されている)で/10°Cで20抄間
現家して、3MRF定着装置(ミネソタ・マイニング・
アンr・マニュファクチアリングーカンパニー(Min
ns−sota Mining & Manufact
uring Cornpany )から市販されている
)中で乙0°Cで20秒間定着した後、洗浄して、乾燥
した。加工時間は90砂間であつ之。
エマルジョンコーティングの感度、ピーク感度(λma
x)の波長および周囲保存条件下で老化安定性を評価し
た。コーティングの安定性はり。i。
x)の波長および周囲保存条件下で老化安定性を評価し
た。コーティングの安定性はり。i。
の変化、相対感度(1ogs ) (Dminの上方0
.1で測定)および老化期間中に起こったコントラスト
(CON ; D、i、の上方0.5〜2.5で測定)
の変化を測定することによって評価した。結果を表−2
に記録している。
.1で測定)および老化期間中に起こったコントラスト
(CON ; D、i、の上方0.5〜2.5で測定)
の変化を測定することによって評価した。結果を表−2
に記録している。
これらの結果は、本)¥囮の染料が対照染料AよりもD
mよ。、感度および老化時のコントラストの変化かかな
り小さく、こ1らの染料が高コントラストのネがの迅速
接近平板印刷フィルムを生成させることかで舟、感度は
かなりの朝間に亘って安定であることを明らかに示して
いる。
mよ。、感度および老化時のコントラストの変化かかな
り小さく、こ1らの染料が高コントラストのネがの迅速
接近平板印刷フィルムを生成させることかで舟、感度は
かなりの朝間に亘って安定であることを明らかに示して
いる。
ロジウムをドープしたエマルジョンと同様に、ルテニウ
ム(K2RuC15・He0 ) k ドープしたエマ
ルジョンを増感するとキに、同様に好都合な結果がこれ
らの染料で得られた。
ム(K2RuC15・He0 ) k ドープしたエマ
ルジョンを増感するとキに、同様に好都合な結果がこれ
らの染料で得られた。
実施例3
的増感
2j1類のエマルジョン試料を調製した。
試料A110ジウムr−プ剤として0.1マイクロモル
(D Na5RhC16・12H20ヲ用い、エマルジ
ョンを染料5(1モルのAg当たり1.38 X I
Q−3モル)で分光的に増感したことを除いて、実施例
2に記載したのと同じであった。
(D Na5RhC16・12H20ヲ用い、エマルジ
ョンを染料5(1モルのAg当たり1.38 X I
Q−3モル)で分光的に増感したことを除いて、実施例
2に記載したのと同じであった。
試料Bは、r−デFzllカi%ルのAg当たり0.1
マイクOモ/L’のNa5RhC1,・12 He0お
よび0.5マイクロモルのに3IrC16の組合せから
成ることを除いて、試料Aと同じであった。
マイクOモ/L’のNa5RhC1,・12 He0お
よび0.5マイクロモルのに3IrC16の組合せから
成ることを除いて、試料Aと同じであった。
試料AおよびBのエマルジョンケNa2S2O3・5H
e0C≠社ホ母(1モルのAg当たり2 X 10−5
モル)およびNaAuC14・2 He0で化学的だ増
感した。
e0C≠社ホ母(1モルのAg当たり2 X 10−5
モル)およびNaAuC14・2 He0で化学的だ増
感した。
これらのエマルジョンヲ、少なくとも約500nmで吸
収する防眩染料を含むゼラチン層全裏地材料とする下塗
したポリエステル基材にコーティングした。こnらの試
料を、実施例2と同様に処理した後全調子領域に亘って
良質の半調ドツトを生成するヘル(He11)DC35
0スキャナーおよびクロスフィールド・マブナスキャン
(CrosfieldMagnascan ) 640
I E上で1象形成させた。処理したフィルムには視
認し得るほどの着色は見られなかった。
収する防眩染料を含むゼラチン層全裏地材料とする下塗
したポリエステル基材にコーティングした。こnらの試
料を、実施例2と同様に処理した後全調子領域に亘って
良質の半調ドツトを生成するヘル(He11)DC35
0スキャナーおよびクロスフィールド・マブナスキャン
(CrosfieldMagnascan ) 640
I E上で1象形成させた。処理したフィルムには視
認し得るほどの着色は見られなかった。
クロスフィールげ・スキャナー上で688 nmで露出
した試料についてのり。、。、Dエエおよびレーザー出
力を次の表に示す。このスキャナーは32段階の露出範
囲を用い、光源の強度は段階16が50%ドツトを表わ
すように調整した。レーザー出力は、この条件に適合す
る計算出力である。
した試料についてのり。、。、Dエエおよびレーザー出
力を次の表に示す。このスキャナーは32段階の露出範
囲を用い、光源の強度は段階16が50%ドツトを表わ
すように調整した。レーザー出力は、この条件に適合す
る計算出力である。
・−の実施例は、本発明の材料をレーザー像形成用途へ
の使用、史に具体的には電子ドツト発生(ED() )
による連続トーン厚壁から半・q像を生成する電子スキ
ャナーによる1゛夕形成を示している。
の使用、史に具体的には電子ドツト発生(ED() )
による連続トーン厚壁から半・q像を生成する電子スキ
ャナーによる1゛夕形成を示している。
フィルム’−’> fi!7大感度と188 nmのレ
ーザー放射とのん、■昶・1この応用での号も■(要な
点であり、染料1.3、/iおよび5のピーク感度はン
ーヂー故身寸と特に良好に調木口する。
ーザー放射とのん、■昶・1この応用での号も■(要な
点であり、染料1.3、/iおよび5のピーク感度はン
ーヂー故身寸と特に良好に調木口する。
実施例4
材料は、ハロゲン化銀エマルジョン層と高分子量の親水
性ポリマーおよび銀塩拡散転写現像様の触媒的核から成
る上記層の上に横たわる受容層から成っている。像様露
出したプV−)を現像溶液と接触させると、露出したハ
ロダン化銀粒子は通常の現像の聯合と同様に懐金属に還
元される。露出されなかった粒子は千オ硫酸銀の4体の
ような可溶性銀錯体を形成して現像剤に溶解し、受容体
層に拡散する。可溶性銀錯体が受容体層にふくまれる現
像核と接触すると、銀が金属的沈7穀物へと4元される
。この沈、穀物は、次いで平板印刷法の印刷プレートの
インキ受容性像部分を形成することができる。
性ポリマーおよび銀塩拡散転写現像様の触媒的核から成
る上記層の上に横たわる受容層から成っている。像様露
出したプV−)を現像溶液と接触させると、露出したハ
ロダン化銀粒子は通常の現像の聯合と同様に懐金属に還
元される。露出されなかった粒子は千オ硫酸銀の4体の
ような可溶性銀錯体を形成して現像剤に溶解し、受容体
層に拡散する。可溶性銀錯体が受容体層にふくまれる現
像核と接触すると、銀が金属的沈7穀物へと4元される
。この沈、穀物は、次いで平板印刷法の印刷プレートの
インキ受容性像部分を形成することができる。
ロジウム分ドープしたハロゲン化銀エマルジョン成分は
、平均粒度が約0.35μであることを除いて実施例2
にささいしたものと本質的に同じでアッタ。エマルジョ
ンを染料1および染料2を用いて分光的に増Iハさせ、
米国特許第4.361.635号明細書に記載の平板印
判法のプレート構造体中に配分した。
、平均粒度が約0.35μであることを除いて実施例2
にささいしたものと本質的に同じでアッタ。エマルジョ
ンを染料1および染料2を用いて分光的に増Iハさせ、
米国特許第4.361.635号明細書に記載の平板印
判法のプレート構造体中に配分した。
光平板印刷法のプレートを、イーストマン・コダック(
Eastman Kodak ) 101センシトメー
ターで188nmの狭通過干渉フィルターを通して32
00°にの色温度で走査されるタングステン・ランプに
よって4出し念。染料1および3で分光的に増感した平
板印刷法のプレートの(相対対数露出単位での)感度を
下記に示す。
Eastman Kodak ) 101センシトメー
ターで188nmの狭通過干渉フィルターを通して32
00°にの色温度で走査されるタングステン・ランプに
よって4出し念。染料1および3で分光的に増感した平
板印刷法のプレートの(相対対数露出単位での)感度を
下記に示す。
染料6で分光的に増感し念プレートを1゛20”F(1
9”c)で4日間インキュベートしたところ、0.1密
度単位Dmi。の像かおよび0.11対数露出単位の感
度増加を示した。
9”c)で4日間インキュベートしたところ、0.1密
度単位Dmi。の像かおよび0.11対数露出単位の感
度増加を示した。
実施例5
使用したハロゲン化銀は、二重ジェット乳化によって制
御されたpAg条件下で調製した平均粒度が0.25μ
の64モル%の塩化物736モル%の臭化物であった。
御されたpAg条件下で調製した平均粒度が0.25μ
の64モル%の塩化物736モル%の臭化物であった。
1モルのハロゲン化銀当たり0.29マイクロそルのル
テニウムドープ剤(: K、Rucl、・(H2O)
]とイリジウムドープ剤(K3IrC16) t−乳化
の際に結晶中に配合した。エマルジョンを硫黄および金
増感剤の組合せを用いて化学的に増感し、テトラゾイン
デン安定剤を用いて安定化した。
テニウムドープ剤(: K、Rucl、・(H2O)
]とイリジウムドープ剤(K3IrC16) t−乳化
の際に結晶中に配合した。エマルジョンを硫黄および金
増感剤の組合せを用いて化学的に増感し、テトラゾイン
デン安定剤を用いて安定化した。
エマルジョンを、1モルのハロゲン化111当り!11
250 JI9の染料5を用いて分光的に増感した。界
面活性剤() 5 イ) y (TRITON ) X
−2Q Q、ローム・アンド+ ハース(ROhm
l HaFls )社から市販されている)とホルムア
ルデヒドとを添加して、pat−5,5に調゛婆し、エ
マルジョンを、下塗したポリエステルフィルム基材にコ
ーティングして、銀コーティング重惜を3−99 /
m”とした。エマルジョン層を保護ゼラチン層でオーバ
ーコーテイングした。500 nmで吸収する染料を含
むゼラチン防眩層を、ポリエステル基材のエマルジョン
層から離れた側に塗布した。
250 JI9の染料5を用いて分光的に増感した。界
面活性剤() 5 イ) y (TRITON ) X
−2Q Q、ローム・アンド+ ハース(ROhm
l HaFls )社から市販されている)とホルムア
ルデヒドとを添加して、pat−5,5に調゛婆し、エ
マルジョンを、下塗したポリエステルフィルム基材にコ
ーティングして、銀コーティング重惜を3−99 /
m”とした。エマルジョン層を保護ゼラチン層でオーバ
ーコーテイングした。500 nmで吸収する染料を含
むゼラチン防眩層を、ポリエステル基材のエマルジョン
層から離れた側に塗布した。
コーティングした材料(試tc)をイージー・アンド・
ジー・カンパニー (EG and G Compan
y )のフラッシュ・センシトメーターによってイース
トマン・コダック・ラットン・ナンバー(Eastma
nKodak Wrattsn Number ) A
フィルターを用いて露出して、実施例2に記載した試
薬および条件を用いて加工した。Dmin、Dmax
’ Dminの上方1.0および2.5の密度で測定し
念(相対対a露出単位での)感度および0.07および
0.17の間および1.6および6.0の間(C’ON
2 >で測定したコントラストの値を以下に示す。
ジー・カンパニー (EG and G Compan
y )のフラッシュ・センシトメーターによってイース
トマン・コダック・ラットン・ナンバー(Eastma
nKodak Wrattsn Number ) A
フィルターを用いて露出して、実施例2に記載した試
薬および条件を用いて加工した。Dmin、Dmax
’ Dminの上方1.0および2.5の密度で測定し
念(相対対a露出単位での)感度および0.07および
0.17の間および1.6および6.0の間(C’ON
2 >で測定したコントラストの値を以下に示す。
90 ’F’ (32℃)の@度で5ケ月間保存した試
料Cの標本を、冷4条件下で保存した試料Cの標本とセ
ンシトメトリーについて比較した。冷鞭した試料に対す
るI)、、D の上方2.5の密度でmin
min のスピードおよび密度1.6とd、0との間のコントラ
ストの差ヲ、以下の表に示す。
料Cの標本を、冷4条件下で保存した試料Cの標本とセ
ンシトメトリーについて比較した。冷鞭した試料に対す
るI)、、D の上方2.5の密度でmin
min のスピードおよび密度1.6とd、0との間のコントラ
ストの差ヲ、以下の表に示す。
この実施例は、イリジウムとルテニウム固体の九1合せ
でドープしたエマルジョンを増感するために本発明の染
料を用いて、安定で高コントラストの緑色に感受性を有
する材料を生成することを示す。
でドープしたエマルジョンを増感するために本発明の染
料を用いて、安定で高コントラストの緑色に感受性を有
する材料を生成することを示す。
Claims (17)
- (1)1種類以上の第VIII族金属化合物を含む写真用ハ
ロゲン化銀エマルジョンであって、該エマルジョンが、
一般式▲数式、化学式、表等があります▼( I ) または▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、nは0、1または2であり、 R^1は1〜4個の炭素原子を有するアルキル基1〜4
個の炭素原子を有するカルボキシアルキル基または1〜
4個の炭素原子を有するスルホアルキル基であり、 R^2およびR^3は独立に1〜12個の炭素原子を有
するアルキル基2〜12個の炭素原子を有するアルケニ
ル基、15個以下の炭素原子を有するアリール基または
15個以下の炭素原子を有するアラールキル基であり、 鎖上の遊離結合は水素またはシアニン染料業界において
知られている鎖状置換基によって飽和されてもよく、ま
たは2個以上の鎖状置換基がそれらが結合している炭素
原子と共に5−または6−員のカルボ環状リングを形成
してもよく、 Dは複素環状リング中に5または6個の原子を含む複素
環状核を完成するのに必要な非金属原子であり、上記核
は複素環状リングに融合してもよい置換基を任意に有す
る)を有する化合物のハロゲン化銀1モルに対して10
^−^5〜10^−^2モルの範囲の増感量を含むこと
を特徴とする、写真用ハロゲン化銀エマルジョン。 - (2)nが1または2である、特許請求の範囲第1項記
載の写真用ハロゲン化銀エマルジョン。 - (3)R^1が1〜4個の炭素原子を有するアルキル基
である、特許請求の範囲第1項または第2項記載の写真
用ハロゲン化銀エマルジョン。 - (4)Dが、チアゾール、ベンゾチアゾール、ナフトチ
アゾール、チアナフテノ−7’,6’,4,5−チアゾ
ール、オキサゾール、ベンゾキサゾール、ナフトキサゾ
ール、セレナゾール、ベンゾセレナゾール、ナフトセレ
ナゾール、チアゾリン、キノリン、イソキノリン、ベン
ズイミダゾール、3,3−ジアルキルインドレニンまた
はピリジン核を完成するのに必要な原子を表わす、特許
請求の範囲第1〜3項のいずれか1項に記載の写真用ハ
ロゲン化銀エマルジョン。 - (5)化合物が、式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2およびR^3は特許請求の範囲
第1項に記載の通りであり、 YはS、O、CH=CH、NR^7、SeまたはCR^
8R^9であり、 R^7は置換していてもよい1〜4個の炭素原子を有す
るアルキル基であり、 R^8およびR^9は独立に1〜4個の炭素原子を有す
る低級アルキルであり、 R^2^0およびR^2^1は独立に水素またはハロゲ
ン原子、1〜5個の炭素原子を有する低級アルキル基、
1〜5個の炭素原子を有するアルコキシ基、7個以下の
炭素原子を有するアリール基、7個以下の炭素原子を有
するアリールオキシ基であり、R^2^0およびR^2
^1は一緒になって芳香族または不飽和あるいは飽和の
5員あるいは6員のカルボ環状または複素環状リング、
例えばメチレンジオキシリングを形成するのに必要な原
子を表わす)または▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^4は1〜4個の炭素原子を有するアルキル
基または1〜4個の炭素原子を有するカルボアルキル基
または1〜4個の炭素原子を有するスルホアルキル基で
あり、 R^5およびR^6は独立に水素、1〜5個の炭素原子
を有するアルキル基および7個以下の炭素原子を有する
アリール基を表わすか、または R^5およびR^6は一緒になってカルボ環状芳香族リ
ングであって、上記定義の置換基R^2^0およびR^
2^1を有するものを表わし、 XはS、NR^7、−CH=CH−またはSeであり、
−−−−−−−は単結合または二重結合を表わす)を有
するものである、特許請求の範囲第1項記載の写真用ハ
ロゲン化銀エマルジョン。 - (6)化合物が、式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^4およびR^6は特許請求の範囲第6項記
載の通りである)を有するものである、特許請求の範囲
第5項記載の写真用ハロゲン化銀エマルジョン。 - (7)化合物が下記のものから選択される、特許請求の
範囲第1項記載の写真用ハロゲン化銀エマルジョン。▲
数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表
等があります▼▲数式、化学式、表等があります▼▲数
式、化学式、表等があります▼ - (8)ハロゲン化銀エマルジョンが少なくとも60モル
%の塩化銀を含む、特許請求の範囲第1項〜第7項のい
ずれか1項記載の写真用ハロゲン化銀エマルジョン。 - (9)ハロゲン化銀エマルジョンが塩臭化銀エマルジョ
ンである、特許請求の範囲第1項〜第8項のいずれか1
項記載の写真用ハロゲン化銀エマルジョン。 - (10)第VIII族金属化合物がロジウム、ルテニウムお
よびイリジウム化合物またはそれらの混合物から選択さ
れる、特許請求の範囲第1項〜第9項のいずれか1項記
載の写真用ハロゲン化銀エマルジョン。 - (11)第VIII族金属化合物がハロゲン化銀1モル当た
り10^−^9モル〜10^−^3モルの量で存在する
、特許請求の範囲第1項〜第10項のいずれか1項記載
の写真用ハロゲン化銀エマルジョン。 - (12)上記特許請求の範囲のいずれ1項記載の写真用
エマルジョンの層をコーティングした基材から成る写真
用要素。 - (13)基材が不透明または透明材料から成っている、
特許請求の範囲第12項記載の写真要素。 - (14)写真要素が感光性印刷プレートの形状をしてい
る、特許請求の範囲第12項記載の写真要素。 - (15)写真用エマルジョンがリセプター層と共同して
銀塩拡散転写系を形成させる、特許請求の範囲第14項
記載の写真要素。 - (16)特許請求の範囲第12項〜第15項のいずれか
1項記載の写真要素を像様露出して現像することから成
る、像の記録法。 - (17)ハーフ・トーンの像を高強度からの光の小さい
点で走査して記録し、上記要素のいずれかの部分での光
の滞在時間が10^−^7〜10^−^6秒間である、
特許請求の範囲第16項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB868610382A GB8610382D0 (en) | 1986-04-28 | 1986-04-28 | Silver halide photographic materials |
GB8610382 | 1986-04-28 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62262039A true JPS62262039A (ja) | 1987-11-14 |
JP2515325B2 JP2515325B2 (ja) | 1996-07-10 |
Family
ID=10596990
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62104182A Expired - Lifetime JP2515325B2 (ja) | 1986-04-28 | 1987-04-27 | ハロゲン化銀写真材料 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4857450A (ja) |
EP (1) | EP0244200B1 (ja) |
JP (1) | JP2515325B2 (ja) |
DE (1) | DE3774166D1 (ja) |
GB (1) | GB8610382D0 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB8704680D0 (en) * | 1987-02-27 | 1987-04-01 | Minnesota Mining & Mfg | Indicator elements for autoclaves |
JPH07111554B2 (ja) * | 1988-11-04 | 1995-11-29 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JP2670842B2 (ja) * | 1989-03-31 | 1997-10-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 直接ポジ用ハロゲン化銀写真感光材料 |
US5252456A (en) * | 1990-04-26 | 1993-10-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photographic material |
US5208336A (en) * | 1990-10-19 | 1993-05-04 | Sterling Drug Inc. | Selenomerocyanines and processes for preparation and methods of use and compositions thereof |
US5342732A (en) * | 1991-02-20 | 1994-08-30 | Eastman Kodak Company | Photographic high contrast silver halide materials |
WO1993009063A1 (en) * | 1991-10-30 | 1993-05-13 | Eastman Kodak Company | Recovery of rhodium values |
JP2779737B2 (ja) * | 1992-08-27 | 1998-07-23 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2078233A (en) * | 1934-09-14 | 1937-04-27 | Eastman Kodak Co | Photographic emulsion |
US2448060A (en) * | 1945-08-30 | 1948-08-31 | Eastman Kodak Co | Photographic emulsions sensitized with salts of metals of group viii of the periodicarrangement of the elements |
BE476363A (ja) * | 1945-08-30 | |||
GB789136A (en) * | 1955-07-20 | 1958-01-15 | Ici Ltd | Photographic emulsions |
GB789436A (en) * | 1956-02-02 | 1958-01-22 | Raimann G M B H B | Improvements in or relating to conveyor feed means for sawing machines |
BE557660A (ja) * | 1956-05-21 | |||
BE560805A (ja) * | 1956-09-13 | |||
DE1522390A1 (de) * | 1966-07-16 | 1969-07-24 | Agfa Gevaert Ag | Sensibilisierung photographischer Halogensilberschichten fuer das Silberfarbbleichverfahren |
JPS4914265B1 (ja) * | 1970-12-30 | 1974-04-06 | ||
US4160669A (en) * | 1975-03-17 | 1979-07-10 | Teiji Habu | Argon laser flash exposure of spectrally sensitized silver halide photographic material |
JPS51139323A (en) * | 1975-05-27 | 1976-12-01 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Silver halide photographic emulsifier for scintilation exposure |
DE3274159D1 (en) * | 1981-12-19 | 1986-12-11 | Konishiroku Photo Ind | Light-sensitive silver halide color photographic material |
US4520098A (en) * | 1984-05-31 | 1985-05-28 | Eastman Kodak Company | Photographic element exhibiting reduced sensitizing dye stain |
JP3135968B2 (ja) * | 1992-02-04 | 2001-02-19 | 株式会社日立製作所 | 半導体集積回路装置の製造方法 |
-
1986
- 1986-04-28 GB GB868610382A patent/GB8610382D0/en active Pending
-
1987
- 1987-04-27 US US07/043,172 patent/US4857450A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-04-27 JP JP62104182A patent/JP2515325B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1987-04-28 EP EP87303738A patent/EP0244200B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-04-28 DE DE8787303738T patent/DE3774166D1/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2515325B2 (ja) | 1996-07-10 |
EP0244200A2 (en) | 1987-11-04 |
US4857450A (en) | 1989-08-15 |
GB8610382D0 (en) | 1986-06-04 |
EP0244200B1 (en) | 1991-10-30 |
DE3774166D1 (de) | 1991-12-05 |
EP0244200A3 (en) | 1989-02-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2533441A1 (de) | Photographische silberhalogenidemulsion | |
JPS62262039A (ja) | ハロゲン化銀写真材料 | |
JPH024241A (ja) | ハロゲン化銀熱現像型写真乳剤 | |
US3955996A (en) | Method for spectrally sensitizing photographic light-sensitive emulsion | |
US4959294A (en) | Infra-red sensitising dyes for silver halide | |
JPH0310931B2 (ja) | ||
US4965182A (en) | Silver halide photographic emulsion containing infrared sensitizing dyes and supersensitizing compounds | |
JPS585420B2 (ja) | 直接ポジ用ハロゲン化銀写真感光材料 | |
US5041550A (en) | Infra-red sensitizing dyes for silver halide | |
US4097284A (en) | Method for supersensitizing silver halide photographic emulsions | |
US3765900A (en) | Spectrally sensitized silver halide emulsions | |
US3782957A (en) | Fogged,direct-positive silver halide emulsion layer containing a cyanine dye and a compound containing a metal of group viii of the periodic table | |
US4273862A (en) | Direct-positive silver halide photographic sensitive materials | |
JPH0731386B2 (ja) | 直接ポジ型ハロゲン化銀写真感光材料 | |
US4599300A (en) | Direct positive silver halide photographic emulsions | |
JPS63159841A (ja) | 熱現像感光材料 | |
US4082554A (en) | Direct-positive silver halide emulsions | |
US3963494A (en) | Photographic multilayer direct-positive silver halide element | |
KR790000865B1 (ko) | 할로겐화은 사진유제 | |
US4021251A (en) | Silver halide photographic emulsions | |
JPS581768B2 (ja) | チヨクセツポジハロゲンカギンニユウザイ | |
US4097285A (en) | Direct-positive photographic silver halide emulsion containing novel dye | |
JPS63259666A (ja) | 平版印刷版の製版方法 | |
US4395483A (en) | Direct positive type silver halide photosensitive material | |
JP2649850B2 (ja) | 直接ポジ型ハロゲン化銀写真感光材料 |